JP2002178639A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JP2002178639A JP2002178639A JP2000379610A JP2000379610A JP2002178639A JP 2002178639 A JP2002178639 A JP 2002178639A JP 2000379610 A JP2000379610 A JP 2000379610A JP 2000379610 A JP2000379610 A JP 2000379610A JP 2002178639 A JP2002178639 A JP 2002178639A
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Abstract
ニン色素を使用した光情報記録媒体の保存時の光劣化を
安定化ラジカルやクエンチャーを使用しなくても防止す
る。 【構成】ヒートモードによる記録用有機色素と特殊なア
ミニウム系化合物、アミニムウ塩及びジイモニウム塩の
少なくとも1種を併用する。 【効果】上記目的を達成する。
Description
CD−R等の波長領域のレーザー光により記録及び再生
が可能なヒートモードによる追記型の光情報記録媒体に
関する。
等のデータを記録し、再生する手段としてCD−Rがよ
く知られているが、現在のCD−Rは、例えばペンタメ
チン系シアニン色素を含有する記録層を有し、波長77
0〜830nmのレーザー光に対応した記録及び再生が
可能な光ディスクが用いられている。また、最近、この
CD−Rに使用のレーザー光より短波長の例えば600
〜700nmのレーザー光により高密度記録及び再生が
可能なDVD−R(デジタル・ビデオ・ディスク−レコ
ーダブル又はデジタルバーサタイル・ディスク−レコー
ダブル)等が次の時代を担うメディアとして用いられる
ようになっている。これらのCD−RやDVD−R等の
ヒートモードによる追記型光情報記録媒体には、シアニ
ンなどの有機色素を記録層として記録する光を照射する
ことにより穴を形成する穴形成型光ディスクが用いられ
ており、特にシアニン色素はスピンコート法という生産
性の高い方法が適用できること、耐酸化性に優れるこ
と、熱伝導性が低いので局所的加熱ができること等の優
れた点があり、特に半導体レーザの波長域に高い吸収
性、反射性を示すことから注目されている。
の光情報記録媒体は強いレーザーパワーで記録し、さら
に弱いレーザーパワーで再生するため、レーザーパワー
に対するしきい値が明確である必要があるが、有機色素
膜は無機薄膜に比べてこれらの明確なしきい値が得られ
難く、そのしきい値を確実に越えることができるいわば
過大なレーザーパワーを用いて記録や再生を行なうた
め、有機色素が劣化し易くなる。また、一般に有機色素
は太陽光に対する耐光性が十分とは言えず、その対応策
として、一般に半導体レーザ発振波長領域に吸収特性を
持つ例えばシアニン色素の主成分に対し、安定化ラジカ
ルを添加したり、シアニン色素カチオンとクエンチャー
アニオンの結合体を添加することにより、その色素を退
色させる原因となる太陽光により発生する一重項酸素を
その酸化作用のより穏やかな三重項酸素に変化させて、
CD−RやDVD−Rのシアニン色素含有層の耐光性を
改善することが行なわれてきたが、例えば百科事典のよ
うにその内容の記録を長期間保存したい場合には、それ
でも十分とは言えず、長期間に渡る保存時の光劣化を防
止するさらなる改善策が強く望まれている。従来、この
ような有機色素の光劣化を防止する化合物として、ジチ
オール系などの金属錯体、ニトロソ系化合物などの光安
定化剤を使用することが提案されており、また、本発明
で使用するアミニウム塩化合物とは異なるアミニウム系
化合物を使用する提案(特開平6−297855号公
報)もされているが、いずれも十分な光劣化防止効果が
得られていない。
越える過大なレーザーパワーによる記録、再生において
も光劣化を防止できる光情報記録媒体を提供することに
ある。本発明の第2の目的は、長期間に渡る保存時の太
陽光等の光劣化を防止でき、しかも記録及び再生の性能
を損なわない光情報記録媒体を提供することにある。本
発明の第3の目的は、本発明に係わる安定化剤以外の安
定化ラジカルやクエンチャーその他の光安定化剤を添加
しないでもよい光情報記録媒体を提供することにある。
本発明の第4の目的は、CD−RやDVD−Rの従来の
製造方法をその大きな変更なしにほぼ適用できる光情報
記録媒体を提供することにある。
を解決するために鋭意研究した結果、特殊なアミニウム
系化合物や、ジイモニウム系化合物を有機色素膜に含有
させることにより、光安定性の向上した光情報記録媒体
を提供できることを見いだし、本発明をするに至った。
したがって、本発明は上記課題を解決するために、
(1)、基板上に色素層を含む光干渉層を有する光情報
記録媒体において、該色素層がヒートモードによる記録
用有機色素を含有し、かつ該光干渉層が下記一般式〔化
1〕で表されるアミニウム系化合物、下記一般式〔化
2〕で表されるアミニウム塩化合物及び下記一般式〔化
3〕で表されるジイモニウム塩化合物の少なくとも1種
を含有する光情報記録媒体を提供するものである。
ずれかを表す。)
- はClO4 - 、BF 4 - 、ClO3 - 、PF6 - 及び
SbF6 - の群のなかから選択される陰イオンを表
す。)
- はClO4 - 、BF 4 - 、ClO3 - 、PF6 - 及び
SbF6 - の群のなかから選択される陰イオンを表
す。) また、本発明は、(2)、記録用有機色素がシアニン色
素である上記(1)の光情報記録媒体、(3)、シアニ
ン色素が下記一般式〔化4〕で示される化合物である上
記(2)の光情報記録媒体を提供するものである。
ずれかを表わし、
かを表わし、
し、D1 、D2 はそれぞれ水素原子、アルキル基、アル
コキシル基、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキシル基、ア
ルキルヒドロキシル基、アラルキル基、アルケニル基、
アルキルアミド基、アルキルアミノ基、アルキルスルホ
ンアミド基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフ
ァモイル基、アルキルスルホニル基、フェニル基、シア
ノ基、エステル基、スルホン基、アシル基、アリル基、
アリール基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、アルキ
ルカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アミノ基、
アルキルスルホン基、チオシアノ基、メルカプト基、ク
ロロスルホン基、アルキルアゾメチン基、アルキルアミ
ノスルホン基、ビニル基及びニトロ基の群のなかから選
択される置換基を表わし、同種であっても異種であって
もよく、p、qは置換基の数であってそれぞれ1又は複
数の整数を表わす。)、R、R' は置換又は非置換のア
ルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
アルキルカルボキシル基、アルコキシル基、アルキルヒ
ドロキシル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキル
アミド基、アルキルアミノ基、アルキルスルホンアミド
基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルファモイル
基、水酸基、ハロゲン原子、アルキルアルコキシル基、
ハロゲン化アルキル基、アルキルスルホニル基、金属イ
オン若しくはアルキル基と結合したアルキルカルボキシ
ル基若しくはアルキルスルホニル基、フェニル基、ベン
ジル基及びアルキルフェニル基の群から選択される置換
基を表わし、同種でも異種でもよく、X- はハロゲン原
子、PF6 - 、SbF6 - 、H3 PO4 、過塩素酸、ホ
ウフッ化水素酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、アルキルスルホン酸、ベンゼンカルボン酸、アル
キルカルボン酸、トリフルオロメチルカルボン酸、過ヨ
ウ素酸及びSCN- の陰イオンの群のなかから選択され
る陰イオンを表わし、Bは1、2又は3を表わす。〕
〜830nmの波長領域のレーザーにより記録及び再生
が可能になるように形成することができ、この場合には
光干渉層をCD−R用に使用することができるが、光波
長600nm〜700nmの波長領域のレーザー光によ
り記録及び再生が可能になるように形成することもで
き、この場合にはこの光干渉層をDVD−R用に使用す
ることができる。本発明において、光干渉層とは、有機
色素材料を含有する色素層その他の有機材料あるいは無
機材料からなる層から構成され、レーザー照射でピット
形成可能な単一層又は複数層の色素層を含む記録層や、
この記録層以外に光情報記録媒体の光学的物性を調整す
る目的で屈折率、膜厚を調整した例えば樹脂材料からな
るエンハンス層、さらには基板と色素層、色素層が複数
の場合にはその間、色素層の上等に設ける中間層等も含
まれ、これらを総称したものである。
用有機色素とは、その色素層が上記CD−R、DVD−
Rのそれぞれの記録用レーザー光の照射によりピットを
形成し、これにより記録を行うことができる有機色素は
いずれも含まれ、例えばシアニン色素、フタロシアニン
色素、アゾ金属化合物色素等が挙げられる。これらの内
でも、シアニン色素は太陽光に対する耐光性が弱いとさ
れているので、その改善を行う意義は極めて大きいが、
そのシアニン色素としては上記一般式〔化4〕で示され
る化合物が挙げられ、特に、Bが1の場合にはトリメチ
ン系シアニン色素であり、DVD−R用に有効であり、
Bが2、3の場合にはペンタメチン系シアニン色素、ヘ
プタメチン系シアニン色素であり、CD−R用に有効で
ある。
〔化2〕のアミニウム系化合物及び上記一般式〔化3〕
のジイモニウム塩化合物の少なくとも1種を上記のヒー
トモードによる記録用有機色素と併用するが、その記録
用有機色素層に含有させてもよく、光干渉層を形成する
その他の層に含有させてもよい。上記一般式〔化1〕の
アミニウム系化合物を光安定化剤として添加すると、有
機色素膜を光安定性に優れたものにすることができる
が、その安定化機構は、従来のエネルギー移動、一重項
酸素クエンチャーによる効果のほかに、電子移動による
効果が考えられる。すなわち、酸化還元電位測定におい
て多くの電子を授受できる方が安定化効果は大きいと考
えられるが、Sを上記一般式〔化1〕のアミニウム系化
合物の分子とすると、S+2⇔S+1⇔S⇔S-1で示される
ように、4つの電子構造をとることが分かっており、こ
の電子授受の多さが従来の安定化剤よりも大きな安定化
効果を示すと考えられる。また、上記一般式〔化2〕の
アミニウム塩化合物又は上記一般式〔化3〕のジイモニ
ウム塩化合物を光安定化剤として添加すると、有機色素
膜を光安定性に優れたものにすることができるが、その
安定化機構は、それぞれの一般式においてRが水素原子
(H)又はメチル基(CH3 )であることにより、それ
以外のものに比べてエネルギー移動効率が良いと考えら
れる。すなわち、RをH又はCH3とすることで、Rを
その他の置換基、例えばC3 H7 にした場合に比べ、そ
れぞれの安定化剤について膜状態での吸収スペクトルを
示した例えば図1(図中、Aは一般式〔化2〕において
R=CH3 、X=ClO4 である場合のアミニウム塩化
合物の吸収スペクトル、Bは一般式〔化2〕においてR
=C3 H7 、X=PF 6 である場合のアミニウム塩化合
物の吸収スペクトルである。)に見られるように、吸収
波長が短波長側にシフトするため、有機色素がレーザー
光や太陽光により励起されることにより生成される励起
色素のエネルギーを受け取り易くなり、その色素の分解
のためのエネルギーを軽減し易いためと考えられる。ま
た、図1から明らかのように、スペクトルが近赤外線領
域まで幅広く(ブロード)延びているため、酸素へのエ
ネルギー移動が起こり難く、有機色素を劣化させる原因
である一重項酸素を発生し難くするのではないかと考え
られる。また、上記一般式〔化1〕〜〔化3〕のいずれ
の化合物も、末端にアミノ基などの窒素原子を有するこ
とにより、塩基性を持つことができることから、有機色
素を含有する記録層にレーザーを照射することによりピ
ットを形成して記録した後の再生のレーザー光や、製品
保存中等における避けられない太陽光の照射により生じ
る分解物を捕捉し易く、分解物による酸素等との反応等
を抑える効果があり、ピットの劣化を抑制する効果も期
待される。さらに、上記一般式〔化2〕、〔化3〕のい
ずれの化合物も、対イオンのX-の種類を変更すること
で、溶剤に対する溶解性の改善を図ることができ、その
成膜をし易くすることができるとともに、波長の吸収性
などの色素物性を変化させることができ、光安定化効果
を調節し易くすることができる。
と上記一般式〔化1〕〜〔化3〕の化合物の少なくとも
1種との混合比は、前者100重量部に対して後者を
0.1〜50重量部、好ましくは1〜20重量部がよ
い。0.1重量部より少ないと、記録用有機色素のレー
ザー光や太陽光による退色劣化を抑制する効果が明確に
現れ難いことがあり、また、50重量部より多いと記録
用有機色素の濃度が希釈され、再生パワーが高くなった
り、反射率が高くとれなくなったりするので、好ましく
ない場合がある。
上記一般式〔化4〕で示されるシアニン色素等の記録用
有機色素を例えば上記一般式〔化1〕〜〔化3〕の化合
物の少なくとも1種とともに溶解した色素溶液を調製
し、これを透光性の基板に塗布する。このシアニン色素
の色素溶液にはクロロホルム、ジクロロエタン、フッ素
化アルコール等のフッソ系溶剤、メチルエチルケトン、
ジメチルホルムアミド、メタノール、トルエン、シクロ
ヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコー
ル、メチルセロソルブ等のセロソルブ類、ジオキサン等
を用いることができる。この場合のシアニン色素の混合
割合は1重量%〜10重量%が好ましい。また、本発明
に用いられる基板には、ガラスや、エポキシ樹脂、メタ
クリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂等のプラ
スチックスが例示される。この基板にはトラック溝ある
いはピットが形成されていてもよく、また、アドレス信
号に必要な信号を有するものでもよい。また、上記シア
ニン色素溶液を基板に塗布するにはスピンコート法を用
いることが好ましい。この場合乾燥後の塗布層の厚さは
従来用いられているものが適用できる。また、本発明に
おいて使用される上記一般式〔化1〕〜〔化3〕の化合
物の少なくとも1種の光安定化剤には、自動酸化防止
剤、紫外線吸収剤、過酸化物分解剤、スーパーオキシ
ド、クェンチャー等の他の化合物を併用してもよい。
よく、また、その反射層の上に保護層、さらには基板面
(レーザー光の入射側)に保護層を有する場合でもよ
い。反射層としては、蒸着、スパッタリング等により形
成したAu、Al、Ag、Cu、Pt、これらの各々そ
の他の合金、さらにはこれら以外の微量成分が添加され
た合金等の金属膜等の高反射率材料膜が挙げられ、保護
層としては光情報記録媒体の保護と耐候性の向上等の目
的で紫外線硬化型樹脂等の放射線硬化型樹脂の溶液をス
ピンコート法等により塗布し、硬化させた塗布層が挙げ
られる。
干渉層、反射層を設け、さらには保護層などが設けられ
た光ディスクが得られる。その光干渉層を少なくとも有
した他の同様な構成あるいは別の構成の光ディスクを貼
り合わせたり、あるいは基板そのものを対向させて貼り
合わせたりしてもよい。この貼り合わせのための材料、
方法としては、紫外線硬化樹脂、カチオン性硬化樹脂、
両面粘着シートや、ホットメルト法、スピンコート法、
ディスペンス法(押し出し法)、スクリーン印刷法、ロ
ールコート方式等が用いられる。
るが、本発明の実施の形態としては、以下の実施例を含
むその類似の範囲が含まれる。
3 H7 であり、かつX - がClO4 - であるアミニウム
系化合物と、下記〔化13〕で示されるトリメチン系シ
アニン色素(日本感光色素研究所製)を重量比で例えば
5:95の割合で混合し、これらをテトラフルオロプロ
パノール3mlに15g/lの濃度になるように溶解
し、その色素溶液をスピンコート法により厚さ0.6m
m、外径(直径)120mmφのポリカーボネート基板
上に塗布し、膜厚50nmの感光色素膜からなる光干渉
層を形成した。
φから117mmφの領域の全面にスパッタリング法に
より膜厚80nmのAu膜を成膜し、反射層を形成し
た。また、この反射層の上に紫外線硬化樹脂SD−21
1(大日本インキ化学工業社製)をスピンコートし、そ
の塗膜に紫外線を照射して硬化させ、膜厚5μmの保護
膜を形成した。さらに、この基板の保護膜及びその保護
膜が形成されていない光干渉層の上に紫外線硬化樹脂S
D−318(大日本インキ化学工業社製)を滴下した
後、上記と同様の他のポリカーボネート基板をその上に
置き、その間隙にスピンコート法により樹脂を拡散させ
た後、再度紫外線を重ねた基板側から照射して硬化さ
せ、当初からの基板の32mmφから120mmφの領
域に樹脂からなる厚さ25μmの接着層を形成すること
により重ねた基板を貼り合わせ、貼り合わせ型の光ディ
スクを作製した。このようにして作製された光ディスク
に、レーザー波長=635nmのDDU−1000(パ
ルステック社の記録機)により、線速3.5m/秒で記
録した。また、波長650nmのレーザー光により再生
したところ、ジッターは高くないことが確認された。こ
のようにして作製した光ディスクの記録部(jitte
r)と未記録部の耐光性を測定した結果を表1(記録部
耐光性)、図2(未記録部耐光性)に示す。なお、未記
録部耐光性は、得られた光ディスクをアトラス・エレク
トリック社製ウェーザーメータで露光し、その露光時間
(光照射時間(hr))に対する光ディスクの上記貼り
合わせた基板を介した感光色素膜について上記トリメチ
ン系シアニン色素の最大吸収波長λmax =600nmに
おける吸収率を測定し、その露光前の同様な吸収率に対
する百分率を求めたものである。また、記録部耐光性
は、得られた光ディスクを波長635nmのレーザー光
を使用して記録し、この記録した光ディスクをその初期
のものと、所定時間光照射させた後のもの(耐光性試験
40時間後)とを、線速3.5m/秒の波長650nm
レーザー光で再生し、特性を評価した。特性は波長65
0nmでのジッターについて評価した。
化剤として下記〔化14〕で示されるPA1006(三
井東圧社製)を使用したこと以外は実施例1と同様にし
て光ディスクを作製し、実施例1と同様に光ディスクの
記録部(jitter)と未記録部の耐光性を測定した
結果を表1(記録部耐光性)、図2(未記録部耐光性)
に示す。
ディスクでは、未記録状態及び記録後での基板を介した
感光色素膜の耐光性は、いずれも露光時間が長くなるに
つれてその差が大きくなり、実施例のものは比較例に比
べて耐光性が顕著に向上していることがわかる。
化剤として上記一般式〔化2〕に属する、RがCH
3 で、X- がClO4 - であるアミニウム塩を使用した
こと以外は実施例1と同様にして光ディスクを作製し、
実施例1と同様に光ディスクの記録部(jitter)
と未記録部の耐光性を測定した結果を表1(記録部耐光
性)、図3(未記録部耐光性)に示す。
化剤として上記一般式〔化2〕において、Rの定義に含
まれず、同式に属さない、RがC3 H7 で、X - がPF
6 - であるアミニウム塩を使用したこと以外は実施例1
と同様にして光ディスクを作製し、実施例2と同様に光
ディスクの記録部(jitter)と未記録部の耐光性
を測定した結果を表1(記録部耐光性)、図3(未記録
部耐光性)に示す。
ディスクでは、未記録状態及び記録後での基板を介した
感光色素膜の耐光性は、いずれも露光時間が長くなるに
つれてその差が大きくなり、実施例のものは比較例に比
べて耐光性が顕著に向上していることがわかる。
化剤として上記一般式〔化3〕に属する、RがCH
3 で、X- がClO4 - であるジイモニウム塩を使用し
たこと以外は実施例1と同様にして光ディスクを作製
し、実施例1と同様に光ディスクの記録部(jitte
r)と未記録部の耐光性を測定した結果を表1(記録部
耐光性)、図4(未記録部耐光性)に示す。
化剤として上記一般式〔化3〕において、Rの定義に含
まれず、同式に属さない、RがC3 H7 で、X - がPF
6 - であるジイモニウム塩を使用したこと以外は実施例
3と同様にして光ディスクを作製し、実施例1と同様に
光ディスクの記録部(jitter)と未記録部の耐光
性を測定した結果を表1(記録部耐光性)、図4(未記
録部耐光性)に示す。
ディスクでは、未記録状態及び記録後での基板を介した
感光色素膜の耐光性は、いずれも露光時間が長くなるに
つれてその差が大きくなり、実施例のものは比較例に比
べて耐光性が顕著に向上していることがわかる。
ン色素を用いたが、メチン鎖がさらに長いペンタメチン
である以外は同じであるペンタメチン系シアニン色素を
用いること以外は同様にして作製したCD−R用光ディ
スクについも、これらの実施例のそれぞれに対応するほ
ぼ同様の結果が得られることが確認できた。
録用有機色素と、上記一般式〔化1〕〜〔化3〕の少な
くとも1種の化合物を併用したので、しきい値を越える
レーザーパワーによる記録、再生においても光劣化を防
止できるとともに、長期間に渡る保存時の光劣化を防止
でき、しかも記録及び再生の性能を損なわず、別の安定
化ラジカルやクエンチャーを添加しないでもよく、CD
−RやDVD−Rの従来の製造方法をその大きな変更な
しにほぼ適用できる光情報記録媒体を提供することがで
きる。
と、この一般式のRの置換基が異なるこの一般式に属さ
ない化合物の吸収スペクトルを示すグラフである。
未記録部の耐光性の測定結果を示すグラフである。
未記録部の耐光性の測定結果を示すグラフである。
未記録部の耐光性の測定結果を示すグラフである。
Claims (3)
- 【請求項1】 基板上に色素層を含む光干渉層を有する
光情報記録媒体において、該色素層がヒートモードによ
る記録用有機色素を含有し、かつ該光干渉層が下記一般
式〔化1〕で表されるアミニウム系化合物、下記一般式
〔化2〕で表されるアミニウム塩化合物及び下記一般式
〔化3〕で表されるジイモニウム塩化合物の少なくとも
1種を含有する光情報記録媒体。 【化1】 (ただし、Rは水素及び炭素数1〜6のアルキル基のい
ずれかを表す。) 【化2】 (ただし、Rは水素及びメチル基のいずれかを表し、X
- はClO4 - 、BF 4 - 、ClO3 - 、PF6 - 及び
SbF6 - の群のなかから選択される陰イオンを表
す。) 【化3】 (ただし、Rは水素及びメチル基のいずれかを表し、X
- はClO4 - 、BF 4 - 、ClO3 - 、PF6 - 及び
SbF6 - の群のなかから選択される陰イオンを表
す。) - 【請求項2】 記録用有機色素がシアニン色素である請
求項1記載の光情報記録媒体。 - 【請求項3】 シアニン色素が下記一般式〔化4〕で示
される化合物である請求項2に記載の光情報記録媒体。 【化4】 〔ただし、Aは下記一般式〔化5〕ないし〔化8〕のい
ずれかを表わし、 【化5】 、 【化6】 、 【化7】 、 【化8】 、A’は下記一般式〔化9〕ないし〔化12〕のいずれ
かを表わし、 【化9】 、 【化10】 、 【化11】 、 【化12】 、AとA’は同種であっても異種であってもよく(ただ
し、D1 、D2 はそれぞれ水素原子、アルキル基、アル
コキシル基、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキシル基、ア
ルキルヒドロキシル基、アラルキル基、アルケニル基、
アルキルアミド基、アルキルアミノ基、アルキルスルホ
ンアミド基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフ
ァモイル基、アルキルスルホニル基、フェニル基、シア
ノ基、エステル基、スルホン基、アシル基、アリル基、
アリール基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、アルキ
ルカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アミノ基、
アルキルスルホン基、チオシアノ基、メルカプト基、ク
ロロスルホン基、アルキルアゾメチン基、アルキルアミ
ノスルホン基、ビニル基及びニトロ基の群のなかから選
択される置換基を表わし、同種であっても異種であって
もよく、p、qは置換基の数であってそれぞれ1又は複
数の整数を表わす。)、R、R' は置換又は非置換のア
ルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
アルキルカルボキシル基、アルコキシル基、アルキルヒ
ドロキシル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキル
アミド基、アルキルアミノ基、アルキルスルホンアミド
基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルファモイル
基、水酸基、ハロゲン原子、アルキルアルコキシル基、
ハロゲン化アルキル基、アルキルスルホニル基、金属イ
オン若しくはアルキル基と結合したアルキルカルボキシ
ル基若しくはアルキルスルホニル基、フェニル基、ベン
ジル基及びアルキルフェニル基の群から選択される置換
基を表わし、同種でも異種でもよく、X- はハロゲン原
子、PF6 - 、SbF6 - 、H3 PO4 、過塩素酸、ホ
ウフッ化水素酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、アルキルスルホン酸、ベンゼンカルボン酸、アル
キルカルボン酸、トリフルオロメチルカルボン酸、過ヨ
ウ素酸及びSCN- の陰イオンの群のなかから選択され
る陰イオンを表わし、Bは1、2又は3を表わす。〕
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---|---|---|---|
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Publications (2)
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