JP2002166671A - 平版印刷用原板 - Google Patents

平版印刷用原板

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JP2002166671A
JP2002166671A JP2000365205A JP2000365205A JP2002166671A JP 2002166671 A JP2002166671 A JP 2002166671A JP 2000365205 A JP2000365205 A JP 2000365205A JP 2000365205 A JP2000365205 A JP 2000365205A JP 2002166671 A JP2002166671 A JP 2002166671A
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JP2000365205A
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English (en)
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Kazuo Maemoto
一夫 前本
Hidekazu Ohashi
秀和 大橋
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 デジタル信号に基づいた走査露光後、処理を
行うことなくそのまま印刷機に装着して印刷可能な平版
印刷用原板であって、良好な機上現像性を有し、しかも
高耐刷な平版印刷用原板を提供する。 【解決手段】 支持体上に、熱融着性ポリマーを含有す
る画像形成層を有する平版印刷用原版であって、露光前
の該熱融着性ポリマーが微粒子を融着させた形態である
ことを特徴とする平版印刷用原板。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、支持体上に親水性
の画像形成層を有するネガ型の平版印刷用原板に関す
る。より詳しくは、デジタル信号に基づいた赤外線走査
露光による画像記録が可能であり、画像記録したものは
そのまま印刷機に装着して機上現像による製版が可能な
平版印刷用原板に関する。
【0002】
【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用刷版については、多数の研究が
なされている。その中で、一層の工程合理化と廃液処理
問題の解決を目指すものとして、露光後、現像処理する
ことなしにそのまま印刷機に装着して印刷できる平版印
刷用原板が研究され、種々の方法が提案されている。
【0003】処理工程をなくす方法の一つに、露光済み
の印刷用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリンダ
ーを回転しながら湿し水とインキを供給することによっ
て、印刷用原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれ
る方法がある。すなわち、印刷用原版を露光後、そのま
ま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完了す
る方式である。このような機上現像に適した平版印刷用
原板は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を有し、し
かも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した
明室取り扱い性を有することが必要とされる。
【0004】例えば、特許第2938397号公報に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設け
た平版印刷用原板が開示されている。この公報には、該
平版印刷用原板において、赤外線レーザー露光して熱可
塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体(融着)させ
て画像形成した後、印刷機シリンダー上に版を取付け、
湿し水および/またはインキにより機上現像できること
が記載されている。この平版印刷用原板は感光域が赤外
線域であることにより、明室取り扱い適性も有してい
る。
【0005】また、特開平9−127683号公報およ
びWO99−10186号公報にも熱可塑性微粒子を熱
による合体後、機上現像により印刷版を作製することが
記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような親水性バインダーポリマー中に分散独立した微粒
子を露光によって生ずる熱で融着させる画像形成方法
は、高耐刷が得にくい問題があった。本発明の目的は、
この問題を解決することである。すなわち、良好な機上
現像性を有し、しかも高耐刷な平版印刷用原板を提供す
ることである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、画像形成層の熱融着性ポリマーを、露光前に予め
熱融着性ポリマー微粒子の表面の一部が隣接する熱融着
性ポリマー微粒子の表面の一部と部分的に融着した状態
にしておくことによって上記課題が解決できることを見
出し、本発明に至った。すなわち、本発明は、以下の通
りである。
【0008】1.支持体上に、熱融着性ポリマーを含有
する画像形成層を有する平版印刷用原版であって、露光
前の該熱融着性ポリマーが微粒子を融着させた形態であ
ることを特徴とする平版印刷用原板。
【0009】2.支持体上に、親水性層および熱融着性
ポリマーを含有する画像形成層をこの順に有する平版印
刷用原版であって、露光前の該熱融着性ポリマーが微粒
子を融着させた形態であることを特徴とする平版印刷用
原板。
【0010】3.親水性層がシリカ微粒子を含有するこ
とを特徴とする前記2記載の平版印刷用原版。
【0011】ここで、微粒子を融着させた形態とは、ポ
リマー微粒子が隣接するポリマー微粒子と融着すること
によって、独立分散した形態ではなく連続した形態にな
っていることをいう。すなわち、「高分子ラテックスの
化学」(室井宗一著、(株)高分子刊行会昭和45年発
行)第255頁に記載されている「第2種の閉じた構
造」を意味する(図1参照)。この状態は画像形成層の
断面を走査型電子顕微鏡(SEM)観察することで確認
できる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。
【0013】〔画像形成層〕本発明の画像形成層は熱融
着性ポリマーを含有し、該熱融着性ポリマーは微粒子を
融着させた形態、すなわち第2種の閉じたラテックスフ
ィルム構造を有している。
【0014】本発明に用いるこの第2種の閉じた構造を
形成する元の熱融着性微粒子としては、熱融着性ポリマ
ー微粒子が好適である。
【0015】かかる微粒子を形成するポリマーの具体例
としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、ビニルカルバゾール等のモノマーからのホモポリマ
ーまたはコポリマーもしくはそれらの混合物を挙げるこ
とができる。この中でもより好ましいものとして、ポリ
スチレン、ポリメタアクリル酸メチルを挙げることがで
きる。
【0016】これらの微粒子は乳化重合法、懸濁重合
法、ポリマーを有機溶剤に溶解し水に乳化分散した後に
溶剤を蒸発させる方法(溶剤蒸発法)、機械的に分散す
る方法等により作製可能である。
【0017】本発明に用られる熱融着性ポリマーを形成
するためのポリマー微粒子として、熱により反応する官
能基(熱反応性基)を有するポリマー微粒子を用いるこ
ともできる。熱反応性基を有するポリマー微粒子の方
が、強固な画像を形成する点でより好ましい。
【0018】上記熱反応性基としては、重合反応を行う
エチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基等)、付加反応を行う
イソシアナート基もしくはそのブロック体およびその反
応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、ア
ミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等)、同じく
付加反応を行うエポキシ基およびその反応相手であるア
ミノ基、カルボキシル基もしくはヒドロキシル基、縮合
反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基もしくはア
ミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基もしく
はヒドロキシル基等を挙げることができる。しかし、化
学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能
基でも良い。
【0019】これらの熱反応性基のポリマー粒子への導
入は、微粒子ポリマーの重合時に行ってもよいし、微粒
子ポリマーの重合後に高分子反応を利用して行ってもよ
い。
【0020】微粒子ポリマーの重合時に導入する場合
は、これらの熱反応性基を有するモノマーを乳化重合ま
たは懸濁重合することが好ましい。そのような官能基を
有するモノマーの具体例として、アリルメタクリレー
ト、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジ
ルアクリレート、2−イソシアネートエチルメタクリレ
ートもしくはそのアルコール等によるブロックイソシア
ナート、2−イソシアネートエチルアクリレートもしく
はそのアルコール等によるブロックイソシアナート、2
−アミノエチルメタクリレート、2−アミノエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−
ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、無水マレイン酸、2官能アクリレート、2官能メ
タクリレート等を挙げることができるが、これらに限定
されない。
【0021】これらの熱反応性基を有するモノマーを重
合時に導入する場合は、熱反応性基をもたないモノマー
を上記の熱反応性基を有するモノマーと共重合すること
もできる。このような共重合可能な熱反応性基をもたな
いモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアク
リレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリ
ル、酢酸ビニル等を挙げることができるが、熱反応性基
をもたないモノマーであれば、これらに限定されない。
【0022】熱反応性基の導入をポリマー微粒子の重合
後に行う場合に用いる高分子反応としては、例えば、W
O96−34316号公報に記載されている高分子反応
を挙げることができる。
【0023】以上にあげた熱反応性基を有していないポ
リマー微粒子および熱反応性基を有しているポリマー微
粒子ともに重量平均分子量は2,000〜1,000,
000の範囲であってよい。
【0024】上記のポリマー微粒子の平均粒径は、0.
01〜20μmが好ましいが、中でも0.03〜1.0
0μmがさらに好ましく、特に0.05〜0.40μm
が最適である。この範囲内で画像形成性と機上現像性を
両立させることができる。
【0025】これらのポリマー微粒子には光熱変換剤が
含まれている方が露光時の熱効率が良く画像形成上好ま
しい。このような光熱変換剤を含有する微粒子は、上記
溶媒蒸発法でポリマーを非水溶性の有機溶剤に溶解する
場合、光熱変換剤を一緒に溶解することにより得られ
る。
【0026】本発明の平版印刷版用原版の画像形成層に
は親水性樹脂を添加することができる。親水性樹脂を添
加することにより機上現像性が良好となるばかりか、画
像形成層自体の皮膜強度も上がる。親水性樹脂としては
3次元架橋していないものが機上現像性が良好で好まし
い。
【0027】親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル
基、カルボキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシ
プロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピ
ル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するものが好
ましい。
【0028】親水性樹脂の具体例として、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、ソヤガム、ヒド
ロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロースおよびその塩、セルロースアセテ
ート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸
コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポ
リアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類
およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアク
リレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシ
プロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマ
ー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーお
よびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホ
モポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリ
レートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレン
グリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリ
ビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも
60重量%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分
解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルア
ミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミ
ドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアク
リルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸およびその
塩等を挙げることができる。
【0029】親水性樹脂の画像形成層中への添加量は、
画像形成層固形分の2〜40重量%が好ましく、3〜3
0重量%がさらに好ましい。この範囲内で良好な機上現
像性と高耐刷性が得られる。
【0030】ポリマー微粒子を用いて画像形成層中に本
発明の特徴である融着した形態の熱溶融性ポリマーを生
成させる方法としては、画像形成層塗布液を親水性基板
上に塗布する際に、ポリマー微粒子の軟化温度より高い
温度で乾燥する方法がある。また、画像形成層塗布液に
可塑剤を添加することにより、ポリマー微粒子の軟化温
度より低い温度で乾燥させても、本発明の融着した形態
の熱溶融性ポリマーを生成させることもできる。さら
に、画像形成層の塗布溶剤である水に水可溶性の有機溶
剤を添加することにより、微粒子の軟化温度より低い温
度で乾燥させて本発明の融着した形態の熱溶融性ポリマ
ーを生成させることもできる。
【0031】上記の可塑剤とはポリマー微粒子の軟化温
度を下げる化合物を言い、具体例として、ポリエチレン
グリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、
フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオ
クチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン
酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、
アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー等が上げら
れる。これらの可塑剤の画像形成層中の含有量は30重
量%以下が好ましく、25重量%以下がより好ましい。
【0032】ポリマー微粒子自体の軟化温度より低い乾
燥温度でポリマー微粒子を融着させた形態を作るための
有機溶剤としては、具体的にはメチルエチルケトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−
2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチルラクトン等を挙げることができるがこれ
に限定されるものではない。かかる有機溶剤は、ポリマ
ー微粒子が塗布液中で凝集しない範囲の添加量で用いら
れる。
【0033】塗布液中の画像形成層固形分の濃度は、好
ましくは2〜20重量%であり、さらに好ましくは5〜
15重量%である。この範囲内で、塗布液中での微粒子
の良好な分散性と、画像形成層に塗布し乾燥した場合の
ポリマー微粒子の良好な融着が得られる。
【0034】本発明においては、支持体と画像形成層の
間に親水層を設けることができる。好適な親水層は、3
次元架橋しており、水および/またはインキを使用する
平版印刷で湿し水に溶けない層であり、下記のコロイド
を含有することが好ましい。
【0035】ベリリウム、マグネシウム、アルミニウ
ム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジル
コニウム、鉄、バナジウム、アンチモンまたは遷移金属
の酸化物または水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロ
イドである。さらに、これらの元素の複合体からなるコ
ロイドであっても良い。これらのコロイドは、上記の元
素が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に未
結合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これらが
混在した構造となっている。
【0036】コロイドの粒子の粒径は、一般的には2〜
500nmで、シリカの場合5〜100nmの球形のも
のが本発明では好適である。アルミニウムのコロイドの
ように100×10nmのような羽毛状のものも有効で
ある。更には、10〜50nmの球状粒子が50〜40
0nmの長さに連なったパールネックレス状のコロイド
も用いることができる。
【0037】コロイドはそのもの単独で用いてもよく、
更には親水性の樹脂と混合して用いることも可能であ
る。また、架橋を促進させるために、コロイドの架橋剤
を添加しても良い。通常、コロイドは安定剤によって安
定化されている場合が多い。カチオンに荷電しているコ
ロイドではアニオン基を有する化合物、逆にアニオンに
荷電しているコロイドではカチオン基を有する化合物が
安定剤として添加されている。例えば、ケイ素のコロイ
ドではアニオンに荷電しているので、安定剤としてアミ
ン系の化合物が添加され、アルミニウムのコロイドでは
カチオンに荷電しているので、塩酸や酢酸等の強酸が添
加されている。この様なコロイドを基板上に塗布する
と、常温で透明な皮膜を形成するものが多いが、コロイ
ドの溶媒が蒸発しただけではゲル化は不完全で、安定剤
を除去できる温度に加熱することによって、強固な3次
架橋を行い、本発明に好ましい親水層となる。
【0038】上記のような安定化剤を用いずに、出発物
質(例えば、ジ、トリおよび/またはテトラアルコキシ
シラン)から直接加水分解縮合反応を行わせ、適当なゾ
ル状態を作りだしそのまま基板上に塗布し、乾燥させ反
応を完了させて親水層を作製しても良い。この場合は、
安定化剤を含む場合よりも低温で三次元架橋させること
ができる。
【0039】この他、適当な加水分解縮合反応物を有機
溶媒に分散安定化させたコロイドも本発明には好適であ
る。溶媒が蒸発するだけで、三次元架橋した皮膜が得ら
れる。これらの溶媒にはメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルーエテルやメ
チルエチルケトンのような低沸点の溶媒を選択すると、
常温での乾燥が可能となる。特に本発明では、メタノー
ルやエタノール溶媒のコロイドが低温での硬化が容易で
あり有用である。
【0040】本発明の親水層には上記のコロイドと共に
親水性樹脂を用いることができる。好適な親水性樹脂と
しては、前記の画像形成層に用いることができる親水性
樹脂と同じ樹脂を挙げることができる。それらの中で特
に好ましい親水性樹脂は、水溶性でない水酸基含有ポリ
マーで、具体的にはヒドロキシエチルメタクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマーとヒドロキシエチルアク
リレートのコポリマーである。
【0041】これらの親水性樹脂はコロイドと共に用い
られるが、その添加割合は親水性樹脂が水溶性の場合、
親水層の全固形分の40重量%以下が好ましく、水溶性
でない親水性樹脂の場合は全固形分の20重量%以下が
好ましい。
【0042】これらの親水性樹脂はそのまま用いること
もできるが、印刷時の耐刷力を増加さる目的で、コロイ
ド以外の親水性樹脂の架橋剤を添加してもよい。このよ
うな親水性樹脂の架橋剤としては、ホルムアルデヒド、
グリオキザール、ポリイソシアネートおよびテトラアル
コキシシランの初期加水分解縮合物、ジメチロール尿素
やヘキサメチロールメラミンを挙げることができる。
【0043】本発明の親水層には、コロイドの架橋を促
進する架橋剤を添加してもよい。そのような架橋剤とし
てはテトラアルコキシシランの初期加水分解縮合物、ト
リアルコキシシリルプロピル−N,N,N−トリアルキ
ルアンモニウムハライドもしくはアミノプロピルトリア
ルコキシシランが好ましい。その添加割合は親水層の全
固形分の5重量%以下であることが好ましい。
【0044】本発明の三次元架橋した親水層の塗布厚み
は0.1〜10μmであることが好ましい。より好まし
くは、0.5〜5μmである。この範囲内で、良好な親
水層の耐久性、より高い耐刷力、および良好な解像力が
得られる。
【0045】本発明の平版印刷用原板は、保存時の親油
性物質による汚染や取り扱い時の手指の接触による指紋
跡汚染等から親水性の画像形成層表面を保護するため、
画像形成層上に親水性オーバーコート層を設けることが
できる。
【0046】本発明に使用される親水性オーバーコート
層は印刷機上で容易に除去できるものであり、水溶性樹
脂、または水溶性樹脂を部分的に架橋した水膨潤性樹脂
から選ばれた樹脂を含有する。
【0047】かかる水溶性樹脂は、水溶性の天然高分子
および合成高分子から選ばれ、水溶性樹脂単独もしくは
架橋剤とともに用いて、塗布乾燥された皮膜がフィルム
形成能を有するものである。本発明に好ましく用いられ
る水溶性樹脂の具体例としては、天然高分子では、アラ
ビアガム、水溶性大豆多糖類、繊維素誘導体(例えば、
カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエチルセルロ
ーズ、メチルセルローズ等)、その変性体、ホワイトデ
キストリン、プルラン、酵素分解エーテル化デキストリ
ン等、合成高分子では、ポリビニルアルコール(ポリ酢
酸ビニルの加水分解率65%以上のもの)、ポリアクリ
ル酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアク
リル酸共重合体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン
塩、ポリメタクリル酸、そのアルカリ金属塩もしくはア
ミン塩、ビニルアルコール/アクリル酸共重合体および
そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリルア
ミド、その共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレー
ト、ポリビニルピロリドン、その共重合体、ポリビニル
メチルエーテル、ビニルメチルエーテル/無水マレイン
酸共重合体、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−
1−プロパンスルホン酸、そのアルカリ金属塩もしくは
アミン塩、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1
−プロパンスルホン酸共重合体、そのアルカリ金属塩も
しくはアミン塩、等を挙げることができる。また、目的
に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いること
もできる。しかし、本発明はこれらの例に限定されるも
のではない。
【0048】水溶性樹脂の少なくとも1種以上を部分架
橋し、親水層上にオーバーコート層を形成する場合、架
橋は、水溶性樹脂の有する反応性官能基を用いて架橋反
応することにより行われる。架橋反応は、共有結合性の
架橋であっても、イオン結合性の架橋であってもよい。
【0049】架橋により、オーバーコート層表面の粘着
性が低下して平版印刷用原板の取り扱い性がよくなる
が、架橋が進み過ぎるとオーバーコート層が親油性に変
化して、印刷機上におけるオーバーコート層の除去が困
難になるので、適度な部分架橋が好ましい。好ましい部
分架橋の程度は、25℃の水中に印刷用原板を浸したと
きに、30秒〜10分間では親水性オーバーコート層が
溶出せず残存しているが、10分以上では溶出が認めら
れる程度である。
【0050】架橋反応に用いられる化合物(架橋剤)と
しては、架橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げら
れ、ポリエポキシ化合物、ポリアミン化合物、ポリイソ
シアナート化合物、ポリアルコキシシリル化合物、チタ
ネート化合物、アルデヒド化合物、多価金属塩化合物、
ヒドラジン等が挙げられる。
【0051】架橋剤は単独または2種以上を混合して使
用することが可能である。架橋剤のうち特に好ましい架
橋剤は、水溶性の架橋剤であるが、非水溶性のものは分
散剤によって水に分散して使用することができる。
【0052】特に好ましい水溶性樹脂と架橋剤の組み合
わせとしては、カルボン酸含有水溶性樹脂/多価金属化
合物、カルボン酸含有水溶性樹脂/水溶性エポキシ樹
脂、水酸基含有樹脂/ジアルデヒド類を挙げられる。
【0053】架橋剤の好適な添加量は、水溶性樹脂の2
〜10重量%である。この範囲内で印刷機上でのオーバ
ーコート層の除去性を損なうことなく、良好な耐水性が
得られる。
【0054】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、0.05〜5重量%が好ましく、より好ましく
は1〜3重量%である。
【0055】本発明のオーバーコート層の厚みは、水溶
性樹脂が架橋されていない場合は、0.1μmから4.
0μmが好ましく、更に好ましい範囲は0.1μmから
1.0μmであり、水溶性樹脂が部分架橋されている場
合は、0.1〜0.5μmが好ましく、0.1〜0.3
μmがより好ましい。この範囲内で、印刷機上でのオー
バーコート層の除去性を損なうことなく、親油性物質に
よる親水層の汚染を防止できる。
【0056】本発明においては、赤外線の吸収効率を高
めて感度を向上させるため、赤外線を吸収して発熱する
光熱変換剤を、画像形成層、親水層、およびオーバーコ
ート層の少なくとも一つの層に含有させることが好まし
い。かかる光熱変換剤としては、700〜1200nm
の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であれば
よく、種々の顔料、染料および金属微粒子を用いること
ができる。
【0057】顔料としては、市販の顔料およびカラーイ
ンデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本
顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)に記載されている赤
外吸収性の顔料が利用できる。
【0058】これら顔料は、添加される層に対する分散
性を向上させるため、必要に応じて公知の表面処理を施
して用いることができる。表面処理の方法には、親水性
樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカゾル、ア
ルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、
イソシアナート化合物等)を顔料表面に結合させる方法
等が考えられる。親水性の層に添加する顔料は、水溶性
の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないように、
親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされたものが望
ましい。顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲にあ
ることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範囲に
あることが更に好ましい。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。特に好ましい顔料としては、カーボ
ンブラックを挙げることができる。
【0059】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の
「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市
場動向」第2章2.3項(1990)シーエムシー)も
しくは特許に記載されている公知の染料が利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロン
アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染
料、シアニン染料等の赤外線吸収染料が好ましい。
【0060】さらに、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭60−787
87号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−
173696号、特開昭58−181690号、特開昭
58−194595号等に記載されているメチン染料、
特開昭58−112793号、特開昭58−22479
3号、特開昭59−48187号、特開昭59−739
96号、特開昭60−52940号、特開昭60−63
744号等に記載されているナフトキノン染料、 特開
昭58−112792号等に記載されているスクワリリ
ウム染料、英国特許434,875号記載のシアニン染
料や米国特許第4,756,993号記載の染料、米国
特許第4,973,572号記載のシアニン染料、特開
平10−268512号記載の染料、特開平11−23
5883号記載のフタロシアニン化合物を挙げることが
できる。
【0061】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開
昭58−181051号、同58−220143号、同
59−41363号、同59−84248号、同59−
84249号、同59−146063号、同59−14
6061号に記載されているピリリウム系化合物、特開
昭59−216146号記載のシアニン染料、米国特許
第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩等や特公平5−13514号、同5−1970
2号公報に開示されているピリリウム化合物、エポリン
社製エポライトIII−178、エポライトIII−130、
エポライトIII−125等も好ましく用いられる。これ
らの中で、画像形成層の親水性樹脂中等の親水性マトリ
ックス中に添加するのに好ましい染料は水溶性染料で、
以下に具体例を示す。
【0062】
【化1】
【0063】
【化2】
【0064】本発明の画像形成層のマイクロカプセル中
等疎水性化合物中に添加する光熱変換剤としては、前記
の赤外線吸収染料であっても良いが、親油性の染料がよ
り好ましい。具体例として、以下の染料を挙げることが
できる。
【0065】
【化3】
【0066】
【化4】
【0067】上記の有機系の光熱変換剤は、画像形成層
中に30重量%まで添加することができる。好ましくは
5〜25重量%であり、特に好ましくは7〜20重量%
である。この範囲内で、良好な感度が得られる。
【0068】本発明の画像形成層等には、光熱変換剤と
して金属微粒子を用いることもできる。金属微粒子の多
くは、光熱変換性であって、かつ自己発熱性でもある。
好ましい金属微粒子として、Si、Al、Ti、V、C
r、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、
Mo、Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、
W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの単体または合金も
しくはそれらの酸化物、硫化物の微粒子が挙げられる。
これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好ましい金
属は、光照射によって熱融着し易い融点がおよそ100
0℃以下で赤外、可視または紫外線領域に吸収をもつ金
属、たとえばRe、Sb、Te、Au、Ag、Cu、G
e、PbおよびSnである。また、とくに好ましいの
は、融点も比較的低く、熱線に対する吸光度も比較的高
い金属の微粒子、例えばAg、Au、Cu、Sb、Ge
およびPbであり、とくに好ましい元素としてはAg、
AuおよびCuが挙げられる。
【0069】また、例えばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb、Sn等の低融点金属の微粒子と
Ti、Cr、Fe、Co、Ni、W、Ge等の自己発熱
性金属の微粒子を混合使用する等、2種以上の光熱変換
物質で構成されていてもよい。また、Ag、Pt、Pd
等微小片としたときに光吸収がとくに大きい金属種の微
小片と他の金属微小片を組み合わせて用いることは好ま
しい。
【0070】以上に述べた金属単体および合金の微粒子
は、表面を親水性化処理することによって、本発明の効
果がより発揮される。表面親水性化の手段は、親水性で
かつ粒子への吸着性を有する化合物、例えば界面活性剤
で表面処理したり、粒子の構成物質と反応する親水性基
を持つ物質で表面処理したり、保護コロイド性の親水性
高分子皮膜を設ける等の方法を用いることができる。特
に好ましいのは、表面シリケート処理であり、例えば鉄
微粒子の場合は、70℃のケイ酸ナトリウム(3%)水
溶液に30秒浸漬する方法によって表面を十分に親水性
化することができる。他の金属微粒子も同様の方法で表
面シリケート処理を行うことができる。
【0071】これらの粒子の粒径は、好ましくは10μ
m以下、より好ましくは0.003〜5μm、特に好ま
しくは0.01〜3μmである。この範囲内で、良好な
感度と解像力が得られる。
【0072】本発明において、これらの金属微粒子を光
熱変換剤として用いる場合、その添加量は、好ましくは
画像形成層固形分の10重量%以上であり、より好まし
くは20重量%以上、特に好ましくは30重量%以上で用
いられる。この範囲内で高い感度が得られる。
【0073】本発明の平版印刷用原板において前記画像
形成層を塗布可能な支持体としては、寸度的に安定な板
状物であり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネ
ートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、
銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロ
ース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは
蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられ
る。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムま
たはアルミニウム板が挙げられる。
【0074】該アルミニウム板は、純アルミニウム板お
よびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、さらにはアルミニウムまたはアルミニウム
合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているもの
である。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ
素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、
ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素
の含有量は高々10重量%以下である。また、DC鋳造
法を用いたアルミニウム鋳塊からのアルミニウム板で
も、連続鋳造法による鋳塊からのアルミニウム板であっ
ても良い。しかし、本発明に適用されるアルミニウム板
は、従来より公知公用の素材のアルミニウム板をも適宜
に利用することができる。
【0075】本発明で用いられる上記の基板の厚みは
0.05mm〜0.6mm、好ましくは0.1mm〜
0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.3mm
である。
【0076】アルミニウム板を使用するに先立ち、表面
の粗面化、陽極酸化等の表面処理をすることが好まし
い。表面処理により、親水性の向上および画像形成層と
の接着性の確保が容易になる。
【0077】アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々
の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。化学的方法としては、特開昭54−31187号
公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽
和水溶液に浸漬する方法が適している。また、電気化学
的な粗面化法としては塩酸または硝酸等の酸を含む電解
液中で交流または直流により行う方法がある。また、特
開昭54−63902号に開示されているように混合酸
を用いた電解粗面化方法も利用することができる。
【0078】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線平均粗さ(Ra)が0.2〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッ
チング処理がされ、さらに中和処理された後、所望によ
り耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。ア
ルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質として
は、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可
能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸もしくは
それらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電
解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条
件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し
得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶
液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電
圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば
適当である。形成される酸化皮膜量は、1.0〜5.0
g/m2、特に1.5〜4.0g/m2であることが好ま
しい。
【0079】本発明で用いられる支持体としては、上記
のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板その
ままでも良いが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、
断熱性等の一層の改良のため、必要に応じて、特願20
00−65219号や特願2000−143387号に
記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処
理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含
有する水溶液に浸漬する表面親水化処理等を適宜選択し
て行うことができる。上記親水化処理のための好適な親
水性化合物としては、ポリビニルホスホン酸、スルホン
酸基をもつ化合物、糖類化合物、クエン酸、アルカリ金
属珪酸塩、フッ化ジルコニウムカリウム、リン酸塩/無
機フッ素化合物等を挙げることができる。
【0080】本発明の支持体にポリエステルフィルム等
の非導電性のものを用いる場合、支持体の画像形成層側
または反対側、もしくは両側に、帯電防止層を設けるの
が好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設
けた場合には、親水性層の密着性向上にも寄与する。帯
電防止層としては、金属酸化物微粒子やマット剤を分散
したポリマー層が使用できる。
【0081】帯電防止層に用いられる金属酸化物粒子の
材料としては、SiO2、ZnO、TiO2、SnO2
Al23、In23、MgO、BaO、MoO3、V2
5およびこれらの複合酸化物、および/またはこれらの
金属酸化物に更に異種原子を含む金属酸化物を挙げるこ
とができる。これらは単独で用いてもよく、混合して用
いてもよい。より好ましい金属酸化物としては、SiO
2、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23
MgOが挙げられる。異種原子を少量含む例としては、
ZnOに対してAlもしくはIn、SnO2に対してS
b、Nbもしくはハロゲン元素、In23に対してSn
等の異種原子を30モル%以下、好ましくは10モル%
以下の量をドープしたものを挙げることができる。
【0082】金属酸化物粒子の粒子径は、平均粒子径が
0.001〜0.5μmの範囲が好ましい。ここでいう
平均粒子径とは、金属酸化物粒子の一次粒子径だけでな
く高次構造の粒子径も含んだ値である。金属酸化物粒子
は、帯電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれて
いることが好ましい。
【0083】帯電防止層に用いることができるマット剤
としては、、好ましくは平均粒径が0.5〜20μm、
より好ましくは平均粒径が1.0〜15μmの粒径を持
つ無機または有機の粒子が挙げられる。無機粒子として
は、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化チタン、酸
化亜鉛等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の金
属塩等が挙げられる。有機粒子としては、ポリメチルメ
タクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィンおよびそ
れらの共重合体の架橋粒子が挙げられる。マット剤は、
帯電防止層中に1〜30重量%の範囲で含まれているこ
とが好ましい。
【0084】帯電防止層に用いることができるポリマー
としては、例えば、ゼラチン、カゼイン等のタンパク
質、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、アセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物、デ
キストラン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の
糖類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリア
クリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリス
チレン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリ
メタクリル酸等の合成ポリマー等が挙げられる。
【0085】ポリマーは、帯電防止層中に10〜90重
量%の範囲で含まれていることが好ましい。帯電防止層
の厚みは、0.01〜1μmであることが好ましい。
【0086】本発明で使用する支持体は、ブロッキング
を防止する観点から、支持体の裏面の最大粗さ深度(R
t)が少なくとも、1.2μm以上であることが好まし
く、さらに、支持体の裏面(即ち、本発明の平版印刷用
原板の裏面)が本発明の平版印刷用原板の表面上を滑る
時の動摩擦係数(μk)が2.6以下であることが好ま
しい。
【0087】本発明の平版印刷用原板は熱により画像形
成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像
様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯
等の高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光等が用い
られるが、波長700〜1200nmの赤外線を放射す
る半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レ
ーザによる露光が好適である。
【0088】画像露光された本発明の平版印刷用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。
【0089】また、画像露光された本発明の平版印刷用
原板は、湿し水を用いない簡易な平版印刷の方式とし
て、例えば、特公昭49−26844号公報、特公昭4
9−27124号公報、特公昭49−27125号公
報、特開昭53−36307号公報、特開昭53−36
308号公報、特公昭61−52867号公報、特開昭
58−2114844号公報、特開昭53−27803
号公報、特開昭53−29807号公報、特開昭54−
146110号公報、特開昭57−212274号公
報、特開昭58−37069号公報、特開昭54−10
6305号公報等に記載のエマルジョンインクを用いた
平版印刷も可能である。
【0090】また、これらの平版印刷用原板は、日本特
許2938398号に記載されているように、印刷機シ
リンダー上に取りつけた後に、印刷機に搭載されたレー
ザーにより露光し、その後に機上現像することも可能で
ある。また、これらの平版印刷用原板は、水または適当
な水溶液を現像液とする現像をした後、印刷に用いるこ
ともできる。
【0091】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0092】 微粒子(1)の作製例[MMA-BMAラテックス溶液] 2000mlの三口フラスコに、ドデシル硫酸ナトリウ
ム2.26g、蒸留水882mlを秤取り、75℃、窒
素気流下にて10分間攪拌した。この溶液に、過硫酸カ
リウム0.462g、蒸留水11.3ml、および1.
0mol/lの炭酸水素ナトリウム水溶液3.5mlを
混合した溶液を加えた後、n−ブチルメタクリレート4
2.66gとメチルメタクリレート70.09gの混合
溶液を、3時間かけて滴下した。滴下終了後、更に過硫
酸カリウム0.462g、蒸留水143ml、および
1.0mol/lの炭酸水素ナトリウム水溶液3.5m
lを混合した溶液を加えて、3時間攪拌を続けた。得ら
れた反応混合物を、室温まで冷却し、グラスフィルター
で濾過して、ラテックス溶液を得た。こうして得たラテ
ックス溶液の固形分濃度は11重量%であり、ラテック
スの平均粒径は60nmであった。得られた微粒子を遠
心分離により沈降させ取り出した後、さらに真空乾燥
し、軟化温度(軟化し始める温度)を測定したところ8
5℃であった。
【0093】 微粒子(2)の作製例[ポリスチレンラテックス溶液] 微粒子の作製例(1)のn−ブチルメタクリレートとメ
チルメタクリレートの混合溶液の代わりにスチレン11
2.3gを用いた以外は微粒子の作製例(1)と同様の
操作でポリスチレンラテックス溶液を得た。このラテッ
クス溶液の固形分濃度は12重量%であり、ラテックス
の平均粒径は80nmであった。得られた微粒子を遠心
分離により沈降させ取り出した後、さらに真空乾燥し、
軟化温度(軟化し始める温度)を測定したところ100
℃であった。
【0094】微粒子(3)の作製例[フェノールノボラ
ック樹脂微粒子] 酢酸エチル12.0gおよびメチルエチルケトン6.0
gに、重量平均分子量1500のフェノールノボラック
樹脂(メタ/パラ比60/40)6.0g、光熱変換剤
(本明細書記載のIR−26)1.5g、アニオン界面
活性剤パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを
溶解し、油相を作製した。これに4%のポリビニルアル
コール(クラレ(株)製PVA205)水溶液36.0
gの水相を加え、ホモジナイザーで15000rpmで
15分間乳化させた。水24.0gを加えた後に、この
液を40℃で3時間、有機溶剤を飛ばしながら加熱し
た。固形分濃度を測定したところ13.0重量%であっ
た。平均粒径は0.25μmであった。得られた微粒子
を遠心分離により沈降させ取り出した後、さらに真空乾
燥し、軟化温度(軟化し始める温度)を測定したところ
120℃であった。
【0095】支持体(1)の製造例 99.5%以上のアルミニウムと、Fe 0.30%、
Si 0.10%、Ti0.02%、Cu 0.013%
を含むJIS A1050合金の溶湯を清浄化処理を施
し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素等の不要
なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチュ
ーブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はDC鋳造法で
行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から10
mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないよう
に550℃で10時間均質化処理を行った。 次いで、
400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃60秒
中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mm
のアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御
することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRa
を0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させる
ためにテンションレベラーにかけた。
【0096】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒
間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間
中和、スマット除去処理を行った。
【0097】次いで支持体と画像形成層の密着性を良好
にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表
面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1
%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を4
5℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間
接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティ
ー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/d
2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10
%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング
処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、
スマット除去処理を行った。
【0098】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うこと
で2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。この後印
刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケー
ト処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液
を70℃に保ちアルミニウムウェブの接触時間が15秒
となるよう通搬し、さらに水洗した。Siの付着量は1
0mg/m2であった。以上のように作製した支持体
(1)の中心線表面粗さRaは0.25μmであった。
【0099】支持体(2)の製造例 上記の支持体(1)にメタノール250g、水600g
の混合溶媒にアラビアガム1.0gを溶解し、ホワイラ
ーを用いて180rpmで塗布し、100℃で2分間乾
燥し支持体(2)を得た。親水層の塗布量は10mg/
2であった。
【0100】支持体(3)の製造例 メタノール20gに、メタノールシリカゾル(日産化学
工業(株)製:10〜20nmのシリカ粒子を30重量
%含有するメタノール溶液からなるコロイド)3.3
g、ポリ2−ヒドロキシエチルメタクリレート0.05
gを溶解した親水性層塗布液を調製し、先に得られたア
ルミニウム支持体(1)上にバー塗布を行った。オーブ
ンを用いて100度30秒の条件で乾燥させた。塗布量
は0.4g/m2であった。
【0101】支持体(4)の製造例 支持体(3)の製造例の親水性層塗布液に、光熱変換剤
(I−32)0.05gを加えた以外は支持体(3)の
製造例と同様にして親水性層の塗布を行った。塗布量は
0.4g/m2であった。
【0102】支持体(5)の製造例 厚さ175μmのポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムの両面に、コロナ放電処理を施し、さらに
両面に、下記の塗布液を塗布、加熱乾燥(180℃、3
0秒)し、乾燥塗布量0.5g/m2の帯電防止層を形
成した。
【0103】 (帯電防止層塗布液) アクリル樹脂水分散液(日本純薬(株)製ジュリマーET−410、 固形分20重量%) 20g 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 (平均粒径0.1μm、17重量%) 30g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル (三洋化成工業(株)製ノニポール100) 0.6g アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム塩水溶液 (三洋化成工業(株)製サンデットBL、濃度40重量%) 0.6g メラミン化合物(住友化学工業(株)製スミテックスレジンM−3、 有効成分濃度80重量%) 0.2g シリカゲル20%水分散液(日産化学工業(株)製スノーテックスC、 平均粒子径約10nm) 17g 水 42.4g
【0104】次いで、上記の帯電防止層を設けたPET
フィルムの片側に、支持体(3)の製造例で用いた親水
性層塗布液を塗布し、加熱乾燥(100℃、3分)する
ことにより、乾燥重量2g/m2の親水性層を形成し
た。
【0105】実施例1〜10および比較例1〜4 上記の製造例で得た支持体(1)〜(5)に、下記組成
の画像形成層塗布液(1)〜(6)を表1に示した組み
合わせと乾燥条件で塗布し、感熱性平版印刷用原板を作
製した。
【0106】 画像形成層塗布液(1) 水 30g 微粒子(固形分換算) 2.0g メガファックF−171 0.1g (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤)
【0107】 画像形成層塗布液(2) 水 30g 微粒子(固形分換算) 2.0g トリクレジルホスフェート 0.1g メガファックF−171 0.1g
【0108】 画像形成層塗布液(3) 水 27g N,N−ジメチルホルムアミド 3g 微粒子(固形分換算) 2.0g メガファックF−171 0.1g
【0109】 画像形成層塗布液(4) 水 30g 微粒子(固形分換算) 2.0g メガファックF−171 0.1g (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤) 光熱変換剤(本明細書記載のIR−10) 0.20g
【0110】このようにして得られた機上現像可能な平
版印刷用原板を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭
載したクレオ社製トレンドセッター3244VFSに
て、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エ
ネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの
条件で露光した後、処理することなく、ハイデルベルグ
社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取付け、湿し水を
供給したのち、インキを供給し、さらに紙を供給し印刷
を行った。すべての原板について問題なく機上現像する
ことができ、印刷可能であった。各原板をSEMにて観
察して得た画像形成層の状態、各原板で得られた印刷可
能枚数(耐刷枚数)、機上現像するのに必要な印刷枚
数、および汚れ難さのレベルを表1に記載した。
【0111】
【表1】
【0112】表−1の画像形成層の形態の欄で、「第2
種」は熱融着性ポリマーが隣接の微粒子と融着した第2
種の閉じた構造を有すことを示し、「第1種」は熱融着
性ポリマー微粒子が融着していないで微粒子のまま分散
されている第1種の閉じた構造であることを示してい
る。
【0113】上記の結果は、画像形成層の熱融着性微粒
子を予め融着させて第2種の閉じた構造にした印刷用原
板は、機上現像性を損なわず、しかも高耐刷であること
を示している。
【0114】
【発明の効果】本発明によれば、デジタル信号に基づい
た走査露光による製版が可能であり、良好な機上現像性
を有し、しかも高耐刷の平版印刷用原板を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】微粒子を融着させた形態である「第2種の閉じ
た構造」を示す概略図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AB03 AC08 AD01 CB14 CB16 DA36 FA10 2H096 AA00 AA07 BA20 CA05 EA04 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA04 DA08 DA15 DA25 DA26 DA35 DA46 DA48 DA52 DA56 DA59 DA73 DA78 EA01 EA03 FA16 GA03 GA05 GA06 GA09 GA34

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に、熱融着性ポリマーを含有す
    る画像形成層を有する平版印刷用原版であって、露光前
    の該熱融着性ポリマーが微粒子を融着させた形態である
    ことを特徴とする平版印刷用原板。
  2. 【請求項2】 支持体上に、親水性層および熱融着性ポ
    リマーを含有する画像形成層をこの順に有する平版印刷
    用原版であって、露光前の該熱融着性ポリマーが微粒子
    を融着させた形態であることを特徴とする平版印刷用原
    板。
  3. 【請求項3】 親水性層がシリカ微粒子を含有すること
    を特徴とする請求項2記載の平版印刷用原版。
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