JP2002162649A - 表示装置およびその製造方法 - Google Patents
表示装置およびその製造方法Info
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Abstract
近での微粒子の凝集を防ぎ、開口率の低下を防止する。 【解決手段】 透明な第1の基板と、第1の基板に対し
て所定のギャップを介して対向配置された第2の基板
と、両基板間に挟持された分散媒と、分散媒中に分散す
る多数の微粒子と、第1の基板の一表面上に形成された
複数の電極と、第1の基板と前記第2の基板との対向面
のうち少なくともいずれか一方の表面であって、隣接す
る電極のいずれか一方の電極の近傍の第1の領域または
第1の領域とほぼ対向する第2の基板表面の第2の領域
のうちの少なくともいずれか一方に形成され、微粒子を
収容することができる複数の収容部とを含む。
Description
の製造方法に関し、特に微粒子分散型表示装置及びその
製造方法に関する。
置の一般的な構造を示す断面図である。一対の基板10
1、103間に液体を充填できる空セルを形成し、一対
の基板101、103のうちの一方の基板、例えば基板
103の下面に電極105a、105bを設ける。電極
はさらに多数形成しても良い。他方の基板101の上面
に光吸収体113を形成する。空セル内に微粒子115
を多数分散させた分散媒111を充填する。微粒子11
5を用いた表示装置Xを形成することができる。電極1
05a、105b間に表示領域116が形成される。
極105a、105b間に分散させると、基板103の
外側から入射した光が微粒子115により反射し、表示
領域116において白表示となる。微粒子115を一方
の電極(105a)近傍に集めると、入射光は光吸収体
113により吸収されるため、表示領域116において
黒表示となる。図13(A)は黒表示の状態を示してい
る。
の表面電荷による電気泳動を利用する方法の他、分散媒
の流動現象により微粒子を移動させる方法などもある。
装置の構造を示す断面図である。この表示装置Yでは、
分散媒111は色素により着色されている。対向する一
対の基板101、103のうち一方の基板(図では基板
103)の内面に、多数の電極105(105a、10
5b、・・・)が形成されている。他方の基板101の
内面上に、共通電極107が形成され、その上に光吸収
体113が形成されている。
107を接地し、電極105aが負になる電圧を印加す
る。微粒子115の表面が正に帯電していれば、電極1
05aの方向(縦方向)に移動する。微粒子115を観
察者側の電極、例えば電極105a側に移動させると、
電極105a、105b間の表示部116が微粒子11
5で覆われる。入射光が微粒子により散乱(反射)され
るため、白表示となる(図6(B)に示す状態が白表示
である。)。
通電極107との間に電極105aが正になる電圧を印
加すると、微粒子115が観察者側の電極とは反対の電
極、例えば電極107側に移動する。基板103側であ
って電極105a、105b間の表示部116に存在し
ていた微粒子115が基板101側に移動するため、色
素の色が出射光の波長に影響を与え、カラー表示に寄与
する。
きには、微粒子115が光を反射して白表示となる。粒
子が基板101側に存在すると、色素が光のうちの一部
の波長域の光を吸収し、カラー表示を行う。色素が黒色
であれば、黒表示を行う。
いた表示装置を製造する過程において、以下に述べるよ
うな問題点があった。
して説明する。
3と、それらの間に挟持されている分散媒111と、に
より形成されているセル中に微粒子を注入する工程を示
した図である。セル中の分散媒111と同じ分散媒11
1中に予め微粒子115を分散させておく。
注入口121からセル中に注入すると、微粒子はセル中
に入っていくが、微粒子115が注入口121付近に凝
集しやすい。微粒子115の粒径に対して注入口121
の口径を十分に大きくしても、注入時間の経過とともに
微粒子115の凝集は起こる。一旦注入口121付近で
微粒子115の凝集が生じると、微粒子115をセル中
に分散させることが難しくなる。微粒子115が注入口
付近に凝集しても、分散媒111はそれとはほとんど関
係なくセルの奥に向けて侵入する。従って、セル内にお
いて微粒子115の分散密度にばらつきが生じてしま
う。
において明るい白表示を得るための方法としては、2つ
の方法がある。そのうちの一つは、微粒子として、例え
ば酸化チタンのような高屈折率微粒子を用いる方法であ
る。もう一つの方法は、中空粒子(中空体)を用いる方
法である。
する微粒子を用いると、明るい白表示が期待できる。酸
化チタンは比重が大きいため、分散媒の表面に浮遊させ
にくい。酸化チタンを分散媒中に分散させると、表面に
は浮かばずに分散媒中に分散する。微粒子を分散媒(屈
折率nが1.5程度)の表面上において空気(屈折率n
=1.0)と接するように浮遊させた場合と比べてそれ
ほど明るい白表示が得にくい。
ば、中空の微粒子を分散媒の表面上に浮かせることがで
きるため、明るい白表示が期待できる。ところが、真空
注入法を用いて空セル内に分散媒を注入すると、セル内
に気泡は残留しにくいが、圧力の影響で中空の微粒子が
破裂しやすいという問題が生じる。
いて説明する。図14(B)は、微粒子を横方向に移動
させて表示の切り替えを行う表示装置の構造を示す。
bおよび105cが所定の距離だけ離れて配置される。
基板101の上面に光吸収体131が形成されている。
電極105aの左端部から電極105bの左端部までの
領域を第1の画素領域151と、電極105bに左端部
から電極105cの左端部までの領域を第2の画素領域
153と称することにする。第1の画素151のように
電極105aの近傍に微粒子115が引き寄せられてい
る状態が黒表示、第2の画素153のように、分散媒中
に微粒子がほぼ均一な密度で分散している状態が白表示
となる。
示を得るためには、分散媒111中における微粒子11
5の分散密度(単位体積当たりの微粒子数)を高くすれ
ば良い。ところが、微粒子115の分散密度を高くしす
ぎると、図14(B)の第1の画素151に示されるよ
うに、微粒子115が電極105a及びその近傍におい
て非常に密に分散する。分散しきれなかった微粒子11
5は、電極105aの右端部よりもさらに電極105b
側に分散することになり、黒表示を行うべき領域の面積
が小さくなってしまう。いわゆる開口率の低下が生じ
る。図では、開口率は(L101−L102)/L101で表さ
れる。ここで、L101は、電極間の距離(表示領域の長
さ)、L102は、電極下の領域に分散しきれなかった微
粒子が表示領域まではみ出している部分の長さである。
L102が大きくなると開口率が低下することがわかる。
において、注入口付近での微粒子の凝集を防ぐこと、真
空注入法を用いても中空の微粒子を破裂させることなく
分散媒中に微粒子を分散させること、表示領域の面積に
対して実際に黒表示に寄与する領域の面積の割合の低
下、すなわち開口率の低下を防止することである。
ば、透明な第1の基板と、該第1の基板に対して所定の
ギャップを介して対向配置された第2の基板と、前記第
1の基板と前記第2の基板との間に挟持された分散媒
と、前記分散媒中に分散する多数の微粒子と、前記第1
の基板の一表面上に形成された複数の電極と、前記第1
の基板と前記第2の基板との対向面のうち少なくともい
ずれか一方の表面であって、隣接する前記電極のいずれ
か一方の電極の近傍の第1の領域または該第1の領域と
ほぼ対向する前記第2の基板表面の第2の領域のうちの
少なくともいずれか一方に形成され、前記微粒子を収容
することができる複数の収容部とを含む表示装置が提供
される。
化させると、微粒子が前記収容部中に収容された状態
と、前記収容部から出て分散媒中に分散した状態とによ
り表示を切り換えることができる。
第1の基板と、該第1の基板に対して所定のギャップを
介して対向配置された第2の基板と、前記第1の基板と
前記第2の基板との間に挟持され着色された分散媒と、
前記分散媒中に分散する多数の微粒子と、前記第1の基
板の一表面上に形成された複数の電極と、前記第2の基
板の一表面上に形成された共通電極と、前記第1の基板
と前記第2の基板との対向面のうち少なくともいずれか
一方の表面であって、隣接する前記電極のいずれか一方
の電極の近傍の前記第1の基板表面の一部の第1の領域
又は該第1の領域とほぼ対面する前記第2の基板上の第
2の領域のうちの少なくともいずれかに形成され、前記
微粒子を収容することができる複数の収容部とを含む表
示装置が提供される。
により反射する場合とで、異なる表示を行うことができ
る。
透明な第1の基板の一表面上に複数の電極を形成する工
程と、(b)前記第1の基板又は該第1の基板とは異な
る第2の基板の対向面のうちのいずれか一方の表面であ
って、隣接する前記電極間のいずれか一方の近傍の前記
第1の基板の表面の一部の第1の領域または該第1の領
域とほぼ対向する前記第2の基板の表面の第2の領域の
うちの少なくともいずれか一方に微粒子を収容すること
ができる収容部を形成する工程と、(c)前記収容部に
微粒子を充填する工程と、(d)前記第1の基板と前記
第2の基板とを、所定のギャップを有した状態で前記収
容部が形成されている表面が他方の基板と向き合うよう
に対向配置する工程と、(e)前記ギャップ内に分散媒
を注入する工程とを含む表示装置の製造方法が提供され
る。
の後に分散媒を注入するため、微粒子を分散媒中に分散
させやすい。
散させて表示を行う表示装置を形成する際に、分散媒中
に分散させた微粒子を分散媒とともに空のセル内に注入
するのではなく、予め空セル内に微粒子を収容してお
き、その後に分散媒のみを空セル内に注入する方法を思
いついた。例えば、少なくとも片方の基板表面に微粒子
を充填することができる複数の溝を形成しておき、その
溝内に微粒子を充填した状態で2枚の基板を向き合わせ
て空セルを形成する。空セル内に分散媒のみを注入した
後、溝内に充填されている微粒子を分散媒中に分散させ
れば微粒子の凝集は起こりにくい。
実施の形態について説明する。
を用いた表示装置の製造工程を示す断面図である。
ラス基板)1の下面に、帯状に形成され所定の方向(図
1では紙面と垂直な方向)に延在する複数本の光吸収体
3(3a、3b、3c、・・・)を設ける。光吸収体3
は、ブラックCF(カラーフィルタ)を用いて形成し
た。左から順に、第1の光吸収体3a、第2の光吸収体
3b、第3の光吸収体3cと称する。
収体3と同じ方向に延びるライン状の電極5(5a、5
b、5c)を形成する。図1(A)においては、第1の
光吸収体3a上に第1の電極5aを、第2の光吸収体3
b上に第2の電極5bを、第3の光吸収体3c上に第3
の電極5cを形成している。電極5は、ITO(Ind
ium Tin Oxide)などの透明電極で形成して
も良いし、AlまたはMoなどの不透明な電極で形成し
ても良い。また、第1の基板1は、樹脂フィルムなどを
用いて形成しても良い。光吸収体3は第1の基板1の上
面に設けても良い。
は、SUS304を用いて形成した。
の上面に、一方向(紙面と垂直な方向)に延在する複数
本の溝部21(収容部)を形成する。溝部21は、第2
の基板11を表面から厚さ方向にエッチングすることに
より形成することができる。溝部21は、第2の基板1
1の表面に、ほぼ均等な間隔で形成すれば良い。例え
ば、溝部21の幅を50μmとし、深さを50μmとす
れば良い。溝部21の形成方法としては、ブラスト法な
どのメカニカルな加工方法を用いても良い。溝部は、隣
接する2つの電極5a、5b間の例えば一方の電極5a
近傍の領域(第1の領域)に形成すれば良い。図では、
溝部21と光吸収体3が露出している領域(電極が形成
されていない領域)とが対応している。
吸収体15を形成した。光吸収体15は、第2の基板1
1の表面上に例えばメッキ法により形成する。光吸収体
15は、ブラックカラーフィルタまたは金属膜により形
成すれば良い。光吸収体15を第2の基板11全面に形
成したが、溝部21が形成され、第1の基板1と第2の
基板11とを対向配置したときに第1の基板1に形成さ
れている電極5と向き合う領域には形成しなくても良
い。第2の基板11としては、ガラス基板又はフィルム
基板を用いても良い。
に、第2の基板11に形成されている溝部21内に微粒
子31を充填した。微粒子31としては、MH5055
(日本ゼオン製の中空体微粒子)を用いた。スキージ4
1を用いて、微粒子31を分散媒35中に分散させた状
態で分散媒35ごと微粒子31を移動させ、溝部21内
に微粒子31を充填する。溝部21内への微粒子31の
充填方法としては、散布器(ディスペンサ)を用いても
良いし、微粒子31を基板1上にのせた後に、基板11
を振動させて微粒子31を溝部21内に移動させる方
法、基板11を傾斜させて微粒子31を溝部21に移動
させる方法を用いることもできる。
外の基板11表面上に残っていても良いが、基板11の
表面上に微粒子31を残さない方が後に均一な表示がで
きる。
て用いる分散媒は、後に注入する分散媒(液晶材)と同
じ分散媒を用いれば良い。
する方向と電極5が延在する方向とが同じ方向になるよ
うに、第1の基板1と第2の基板11とを重ね合わせ
る。第1の基板1または第2の基板11のうちのいずれ
か一方の周囲に、例えばシール材(図示せず)を配し、
両基板1、11を近づける。シール材中に所定の径を有
するギャップコントロール材(GC材:図示せず)を多
数混ぜておけば、GC材の径により両基板1、11の距
離を規定することもできる。両基板1、11間の距離は
10μmとした。GC材は、基板面上に散布する方法を
用いて配置することもできる。後述するように、リブを
形成して基板間のギャップを制御することも可能であ
る。
の基板1に形成された光吸収体3と第2の基板11に形
成された溝部21とが対面するように位置合わせした。
上記の工程により、第1の電極5a、第2の電極5bの
右下の領域に溝部21が位置する。第1及び第2の基板
1、11とシール材とにより規定される空間を有する空
セルが形成される。空セルには、後に分散媒を注入する
ための注入口と分散媒の出口となる注出口も設けてお
く。
aの右端部と第2の光吸収体3bの左端部との間に第1
の表示部61aが形成されている。第2の光吸収体3b
の右端部と第3の光吸収体3cの左端部との間に第2の
表示部61bが形成されている。
散媒として液晶材41を注入口から注入した。液晶材4
1の注入方法としては、毛細管現象を利用した注入方法
を用いた。液晶材41を空セル内に注入して空セル内を
液晶材41で満たした後に、注入口と注出口とをエンド
シール材を用いて封止した。以上の工程により、液晶表
示装置が完成する。
に形成されているか、電極5を反射電極とし、反射電極
5aから5cが溝部21上を覆っている構造を形成して
も良い。
として毛細管現象を利用した方法を用いたが、溝部21
やセルの角部などに、特に気泡の残留は観察されなかっ
た。溝部21に充填されずに第2の基板11の上面に残
っていた微粒子31は、液晶材41を注入する際に動く
ものもあるが、溝部21内に充填されている微粒子は、
ほとんど動かない。
加圧するとともに注出口側を減圧する方法、注入口側を
加圧する方法、注出口側を減圧する方法のいずれかを用
いても良い。但し、注出口側を減圧する方法を用いる場
合には、あまり真空度を高くしすぎると中空体が破裂す
る恐れがあるので注意を要する。セル内の真空度として
は、大気圧の1/2から1/10程度に保つのが望まし
い。
電極5bは接続端子T4およびT5と、第3の電極5c
は接続端子T8と接続されている。端子T1と端子T4
との間に接続可能な第1の電圧印加手段51aが設けら
れている。第1の電圧印手段51aは、その負極から延
びる端子T2と、正極から延びる端子T3とを有してい
る。端子T1と端子T4と、端子T2と端子T3とが、
例えばスイッチをオンオフさせることにより接続できる
ようになっている。同様に、端子T5と端子T7との間
に接続可能な第2の電圧印加手段51bが設けられてい
る。端子T5と端子T8と、電圧印加手段51bの端子
T6と端子T7とが各々接続できるようになっている図
3(E)に示す表示装置は、溝部21内に充填されてい
る微粒子31を、液晶材41中に分散させることができ
る。微粒子31を分散させる方法としては、例えば隣接
する一対の電極5a、5b間に単極性矩形波を加えれば
良い。第1の電極5a、第2の電極5b間に印加する電
圧は、DC電圧もしくはオフセット電圧を有するAC電
圧でも良い。
する第1の電極5aの近傍に微粒子31を集めるように
電圧を印加する(電極5aに負の電圧、電極5bに正の
電圧を印加する)。微粒子31の表面が正に帯電してい
ると微粒子は電極5a近傍に引き寄せられ、最終的に溝
部21内又は溝部21上の分散媒中に分散する。微粒子
31が第1の表示部61a内の領域中に存在する確率は
非常に低い。従って、第1の表示部61aは、黒表示と
なる。微粒子31が負に帯電している場合は、印加電圧
を逆の極性に印加すれば良い。
に戻る。従って、表示部領域まで微粒子がはみ出る可能
性が少なく、開口率が向上する。
21の右側に位置する第3の電極5cの近傍に集めるよ
うに電圧を印加すると(電極5bに正の電圧、電極5c
に負の電圧を印加する)、第3の電極5cの左側には溝
部21が存在しないため、微粒子31は第3の電極5c
の左側の領域において分散媒中に分散する。従って、第
2の吸収体5bの右端部と第3の吸収体3cの左端部と
の間の領域に形成されている第2の表示部61bに示さ
れるように、その領域において高密度に分散している微
粒子によって入射光が散乱(反射)するため白表示とな
る。電圧を印加している時間が長いほど、微粒子が溝部
から多量に出て表示領域において高密度に分散するた
め、明るい白表示が得られる。微粒子31の移動の途中
で電圧の印加を停止すれば、中間階調の表示を得ること
もできる。移動の途中で電圧の印加を停止した場合、微
粒子31は、分散媒41との比重差により縦方向には多
少移動するが、横方向にはほとんど動かない。従って、
電圧をオフしたときの表示状態が保たれる、いわゆる表
示のメモリ効果がある。
の電極5b間、第2の電極5bと第3の電極5c間に印
加する電極の極性を図4に示す極性と逆にすれば、白黒
の表示を反転させることができる。
比率をどの程度にすればよいかについて図6を参照して
説明する。第1の基板1と第2の基板11との間の間隔
(正確には第1の基板1の下面と光吸収体15の上面と
の距離)をL1とし、溝部21の深さをL2とする。ま
た、表示部61aの幅をW1とし、溝部21の幅をW2
とする。溝部21内を含む溝部上の領域における容積
(分散媒を収容する)は、単位長さ当たりW2(L1+L
2)で表される。表示部61aの単位長さ当たりの容積
は、W1L1で表される。ここで、溝部21およびその上
の領域の容積が表示部の容積よりも大きいこと、すなわ
ち、W2(L1+L2)≧W1L1であることが望ましい。
さL2が大きい方が好ましい。白表示の時に表示部に分
散される微粒子が黒表示の時に溝部上の領域に全て収容
される方が開口率を高めるためには好ましいからであ
る。
置及びその製造方法によれば、予め微粒子を基板内の溝
部に収容しておき、後に分散媒を注入口から注入するた
め、特に注入口付近で生じやすい微粒子の凝集が起こら
ない。微粒子を表示装置内にほぼ均等に分散させること
もできる。真空注入法を用いて分散媒を注入しても、中
空の微粒子が破裂する可能性が低い。真空注入法を用い
れば、表示装置内に気泡が残留する可能性が少なくな
る。
特に微粒子を電極近傍に集めて表示部領域において非分
散状態にして黒表示を行う際に、微粒子を溝部内に収容
することができるため、黒表示の際の開口率を向上させ
ることができる。
かの変形例について以下に説明する。
aと第2の表示部61bとで、微粒子の色を変化させた
表示装置の例である。図7では、第1の表示部61a
(溝部21a)に青色の微粒子31aを、第2の表示部
61b(溝部21b)に赤色の微粒子31bを配置して
いる。図示されていない隣接する表示部には緑色の微粒
子を配置すれば、RGBの3原色によるフルカラー表示
を行うこともできる。もちろん、さらに多くの色の微粒
子を配置しても良い。1つの表示部において2種類以上
の微粒子を混ぜても良い。
よって変化させた例を示したが、色以外の特性、例えば
形状、比重などを表示部ごとに変えても良い。
1の基板1の下面に設けられている光吸収体3a、3b
間及び3b、3c間にカラーフィルタCF1、CF2を
設けている。例えば表示部61ごとにRGBの3色のカ
ラーフィルタのいずれかを選択して設ければフルカラー
表示が行える。第2の基板の表示部に対応する領域上に
選択反射膜を形成しておいても良い。選択反射膜は屈折
率の異なる領域が周期的に形成された多層膜により形成
されており、それぞれの領域においてある特定の波長の
光のみを反射するため、カラー表示を行うことができ
る。
上面上に光吸収体に代えて反射板15'を用いた例であ
る。微粒子31は黒色に着色されている。この場合は、
表示部の領域内に微粒子31が分散していない場合に白
表示となる。表示部61a、61b領域内に微粒子31
が分散している場合には、入射光が黒色微粒子により吸
収されるため黒表示となる。
置にも応用できる。黒色粒子を表示部61a、61bに
分散させると、透過光が遮られて黒表示となる。もちろ
ん、この場合には、反射板15'は不要である。
第2の基板11上に形成されている溝部21a、21
b、21cとほぼ対向する第1の基板1の下面の位置に
別の溝部22a、22b、22cが形成されている。第
1の基板1側の光吸収体3a、3b、3cを第1の基板
1の上面上に設けている。図9と同様に、電極間に電圧
を印加することができる電圧印加手段を設けても良い。
第1の表示部61aでは、電極5aに微粒子31が引き
付けられている。溝部21aと別の溝部22aとの2つ
の溝部内に微粒子31を収容することができるため、1
表示部当たりの微粒子の総数を多くすることができる。
従って、表示部61bのように白表示を行う場合の微粒
子の分散密度を高くすることができ、明るい白表示を得
ることが可能となる。
(B)は、第2の基板の上面に突起部を表示装置の設け
た変形例である。図11(A)に示す表示装置は、第2
の基板の上面に溝部を設ける代わりに、溝部を設けるべ
き位置の両端に、一対の突起部23a・23a、23b
・23b、・・・を設けている。一対の突起部23a・
23aと第2の基板11の上面とにより微粒子の収容部
24aが形成される。図9と同様に、電極間に電圧を印
加することができる電圧印加手段を設けても良い。
応する微粒子の収容部26a、26b以外の第2の基板
11の上面に突起部25a、25b、25cを設けてい
る例である。この表示装置においても、突起部が形成さ
れていない領域に収容部が形成され、収容部26a、2
6b内に微粒子を収容することができる。第2の基板を
加工せずに微粒子の収容部を形成できるため、加工工程
が簡単になる。
場所により変えて高さの高い突起部を一部に形成し、高
い突起部の先端部を対向基板の表面に当接させれば、第
1の基板1と第2の基板11とのギャップを規定するこ
とも可能である。
図12を参照して説明する。図12に示す構造は、図3
(E)に示す構造とほぼ同様の構造を有しているが、第
2の基板11の全上面に共通電極13が形成されている
点、電圧印加手段51aが第1の電極3aと共通電極1
3との間に設けられており、電圧印加手段51bが第2
の電極3bと共通電極13との間に接続されている点に
おいて異なる。この場合も左側の表示部を第1の表示部
61a、右側の表示部を第2の表示部61bと称する。
うに共通電極13に対して正の電圧を第1の電極5aに
印加すると、表面が正に帯電している微粒子31は、共
通電極13側に引き寄せられる。溝部21内にも微粒子
31が収容される。第1の表示部61a上の領域に分散
する微粒子数は少なくなり、黒表示となる。
ように共通電極13に対して負の電圧を第2の電極5b
及び第3の電極5cに印加すると、表面が正に帯電して
いる微粒子31は、第2の電極5bと第3の電極5cと
の間の領域側に引き寄せられる。第2の表示部61b上
の領域に分散する微粒子数が多くなり、白表示となる。
本実施の形態による表示装置技術も、第1の実施の形
態による表示装置技術と同様の利点を有する。
2変形例について、図15(A)および図15(B)を
参照して説明する。
例)は、透明な第1の基板1と、第1の基板1に対して
所定のギャップを介して対向配置された第2の基板11
とを有している。第1の基板1と第2の基板11との間
に分散媒(液晶材)41が充填されている。液晶材41
中には、多数の微粒子31が分散可能に混入されてい
る。第1の基板1の一表面上には、例えばITOからな
る透明な共通電極13が形成されている。
を収容することができる複数の収容部(溝部)21が形
成されている。収容部21内の底部又はそれを含む内壁
にそれぞれ電極5aが形成されている。別の収容部(2
1)内には、別の電極5bが、さらに別の収容部(2
1)内には別の電極5cが形成されている。共通電極1
3と、各電極5a、5b、5cとの間には電圧印加手段
が形成されている。図15(A)では、電圧印加手段と
して、符号51a、51bで示される電源が示されてい
るが、それぞれの電極5に対して電圧印加手段を設けて
も良い。尚、電極5aと対向する第1に基板1側表面に
は、ブラックマトリックス3a(光吸収体)が形成され
ている。他の電極の対向面にも他のブラックマトリック
スが形成されている。ブラックマトリックスで覆われて
いない領域が表示部を形成する。この構造では、例え
ば、電圧印加手段51aによって、電極5aに正の電圧
を共通電極13に負の電圧を印加すると、微粒子31は
表示部の第1の基板1の表面に集まる。従って、白表示
を行うことができる。一方、例えば、電圧印加手段51
bによって、電極5cに負の電圧を共通電極13に正の
電圧を印加すると、微粒子31は収容部21内に収容さ
れる。従って、黒表示を行うことができる。この構造を
用いると、表示部の全面を微粒子31で覆うことが容易
になる。
は、ストライプ状の共通電極83a、83b、83cを
形成している。各ストライプが表示部61a、61b、
61cに対応する。この構造では、表示部の中央付近の
領域に収容部21が形成されており、微粒子31の収容
部21内への収容動作及び共通電極83側への移動が、
隣の表示部(画素)の電界の影響を受けにくい。表示機
構は第1変形例の場合と同様である。
たが、これらをドットマトリックス表示する場合には、
TFTやMIM等のアクティブ素子を用いても良い。そ
の他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは
当業者には自明であろう。
子ペーパー表示、電子新聞、電子ブックなど紙のように
薄く紙のようにクリアな表示のできる表示装置や、パー
ソナルコンピュータの表示部、プロジェクタ用の表示部
などのディスプレイを備えた製品全般に適用可能であ
る。
程で再現性良く微粒子をセル内に分散させることができ
る。真空注入法を用いて分散媒をセル内に注入する場合
でも、中空体の微粒子を用いることができる。表示部の
面積当たりの微粒子の数を多くすることができるため、
明るい白表示が可能になるとともに、中間調の表示も簡
単にできる。黒表示の際には、表示部に残る微粒子数を
少なくすることができるため、黒表示の場合の開口率を
上げることができる。
の形態による表示装置の製造工程を示す断面図である。
の形態による表示装置の製造工程を示す断面図である。
よる表示装置の製造工程を示す断面図である。
動作を説明するための原理図である。
動作を説明するための原理図である。
構造を説明するための模式的な図である。
第1変形例を示す断面図である。
第2変形例を示す断面図である。
第3変形例を示す断面図である。
の第4変形例を示す断面図である。
態による表示装置の第5変形例を示す断面図であり、図
11(B)は、第6変形例を示す断面図である。
を示す断面図である。
(A)は微粒子を横方向に移動させて表示を切り換える
表示装置の構造を示す断面図であり、図13(B)は、
微粒子を縦方向に移動させて表示を切り換える表示装置
の構造を示す断面図である。
(A)は、空セル内に分散媒を満たした後に微粒子を注
入する工程を示す図であり、図14(B)は、微粒子を
用いて表示の切り替えを行う表示装置の一例を示す断面
図である。
明の第2の実施の形態の第1および第2変形例による表
示装置を示す断面図である。
Claims (13)
- 【請求項1】 透明な第1の基板と、 該第1の基板に対して所定のギャップを介して対向配置
された第2の基板と、 前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された分
散媒と、 前記分散媒中に分散する多数の微粒子と、 前記第1の基板の一表面上に形成された複数の電極と、 前記第1の基板と前記第2の基板との対向面のうち少な
くともいずれか一方の表面であって、隣接する前記電極
のいずれか一方の電極の近傍の第1の領域または該第1
の領域とほぼ対向する前記第2の基板表面の第2の領域
のうちの少なくともいずれか一方に形成され、前記微粒
子を収容することができる複数の収容部とを含む表示装
置。 - 【請求項2】 前記収容部は、前記第1の領域または第
2の領域に形成されている溝部である請求項1に記載の
表示装置。 - 【請求項3】 前記収容部は、前記一部領域の両端から
突出する一対の突出部により形成されている請求項1に
記載の表示装置。 - 【請求項4】 前記複数の電極はストライプ状に形成さ
れ、前記収容部は前記電極に沿って形成されている請求
項1から3までのいずれか1項に記載の表示装置。 - 【請求項5】 さらに前記第1の基板上に、前記第1の
領域上又は前記第2の領域上を覆う光遮蔽膜が設けられ
ている請求項1から4までのいずれか1項に記載の表示
装置。 - 【請求項6】 前記光遮蔽膜が表示装置の非表示領域を
画定する請求項5に記載の表示装置。 - 【請求項7】 前記微粒子が中空構造を有している請求
項1から6までのいずれか1項に記載の表示装置。 - 【請求項8】 前記微粒子が着色された微粒子である請
求項1から7までのいずれか1項に記載の表示装置。 - 【請求項9】 さらに、前記複数の電極のうち隣接する
電極間に電圧を印加することができる電圧印加手段を含
む請求項1から8までのいずれか1項に記載の表示装
置。 - 【請求項10】 透明な第1の基板と、 該第1の基板に対して所定のギャップを介して対向配置
された第2の基板と、 前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持され着色
された分散媒と、 前記分散媒中に分散する多数の微粒子と、 前記第1の基板の一表面上に形成された複数の電極と、 前記第2の基板の一表面上に形成された共通電極と、 前記第1の基板と前記第2の基板との対向面のうち少な
くともいずれか一方の表面であって、隣接する前記電極
のいずれか一方の電極の近傍の前記第1の基板表面の一
部の第1の領域又は該第1の領域とほぼ対向する前記第
2の基板上の第2の領域のうちの少なくともいずれかに
形成され、前記微粒子を収容することができる複数の収
容部とを含む表示装置。 - 【請求項11】 (a)透明な第1の基板の一表面上に
複数の電極を形成する工程と、 (b)前記第1の基板又は該第1の基板とは異なる第2
の基板の対向面のうちのいずれか一方の表面であって、
隣接する前記電極のいずれか一方の近傍の前記第1の基
板の表面の一部の第1の領域または該第1の領域とほぼ
対向する前記第2の基板の表面の第2の領域のうちの少
なくともいずれか一方に微粒子を収容することができる
収容部を形成する工程と、 (c)前記収容部に微粒子を充填する工程と、 (d)前記第1の基板と前記第2の基板とを、所定のギ
ャップを有した状態で前記収容部が形成されている表面
が他方の基板と向き合うように対向配置する工程と、 (e)前記ギャップ内に分散媒を注入する工程とを含む
表示装置の製造方法。 - 【請求項12】 さらに、 (f)前記複数の電極のうち隣接する電極間に電圧を印
加して、前記収容部内に充填されていた前記微粒子を前
記分散媒中に分散させる工程を含む請求項11に記載の
表示装置の製造方法。 - 【請求項13】 透明な第1の基板と、 該第1の基板に対して所定のギャップを介して対向配置
された第2の基板と、 前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された分
散媒と、 前記分散媒中に分散する多数の微粒子と、 前記第1の基板の一表面上に形成された共通電極と、 前記第2の基板に形成され、前記微粒子を収容すること
ができる複数の収容部と、 前記収容部内の底部を含む領域にそれぞれ形成されてい
る電極と、を含む表示装置。
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