JP2002158446A - フレキシブル基板素片、及び、多層フレキシブル配線板 - Google Patents

フレキシブル基板素片、及び、多層フレキシブル配線板

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JP2002158446A JP2000355276A JP2000355276A JP2002158446A JP 2002158446 A JP2002158446 A JP 2002158446A JP 2000355276 A JP2000355276 A JP 2000355276A JP 2000355276 A JP2000355276 A JP 2000355276A JP 2002158446 A JP2002158446 A JP 2002158446A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】信頼性の高い多層フレキシブル配線板を得る。 【解決手段】本発明のフレキシブル基板素片10、30
のカバーフィルム16、36の開口19、39内には、
導電性接着剤18、38が配置されており、これらの開
口19、39内に挿入された他のフレキシブル基板素片
70のバンプ74は、この導電性接着剤によって開口1
9、39底面に位置する金属配線15、35に電気的に
接続される。導電性接着剤18、38は熱硬化性を有し
ているため、フレキシブル基板素片10、30、70の
貼り合わせの工程で、金属配線15、35とバンプ1
4、74との接続を維持した状態で硬化し、再加熱した
場合も溶融しないので、これらのフレキシブル基板素片
10、30、70から成る多層フレキシブル配線板1の
接続信頼性は高い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はフレキシブル基板の
技術分野にかかり、特に、多層フレキシブル配線板を製
造する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、所望の回路パターンを印刷し
たフレキシブル基板は多用されており、近年では、単層
構造のフレキシブル基板素片を複数枚接続して成る多層
フレキシブル配線板が用いられている。
【0003】図14を用いて従来技術の多層フレキシブ
ル配線板を作成する工程を説明する。図14(a)の符
号110と、符号120と、符号130はそれぞれ単層
構造の第一、第二、第三のフレキシブル基板素片を示し
ている。
【0004】第一、第二、第三のフレキシブル基板素片
110、120、130は、ベースフィルム111、1
21、131と、ベースフィルム111、121、13
1表面に配置された金属配線115、125、135
と、ベースフィルム111、121、131の金属配線
115、125、135の形成された面に配置されたカ
バーフィルム116、126、136とをそれぞれ有し
ている。
【0005】これらのベースフィルム111、121、
131と、カバーフィルム116、126、136に
は、それぞれ金属配線115、125、135の位置す
る部分に開口113、123、133、119、12
9、139がそれぞれ形成されており、カバーフィルム
116、126、136の開口119、129、139
底面には金属配線115、125、135がそれぞれ露
出している。
【0006】これらのうち、第一のフレキシブル基板素
片110の、ベースフィルム111の開口113の底面
には、金属配線115が露出している。他方、第二、第
三のフレキシブル基板素片120、130のベースフィ
ルム121、131の開口123、133内には、金属
配線125、135の表面に形成されたバンプ124、
134が配置されており、そのバンプ124、134の
先端部分がベースフィルム121、131の表面から突
き出されている。これらのバンプ124、134のベー
スフィルム121、131より突き出された部分の表面
には、半田メッキ被膜127、137が形成されてい
る。
【0007】このような第一、第二、第三のフレキシブ
ル基板素片110、120、130を接続し、多層フレ
キシブル配線板とするには、先ず、図14(a)に示し
たように、第一のフレキシブル基板素片110をカバー
フィルム116を上側に向けて配置し、第一のフレキシ
ブル基板素片110の上方に、第二、第三のフレキシブ
ル基板素片120、130をそれぞれバンプ124、1
34が形成された側の面を下に向けて配置する。
【0008】次いで、互いに向かい合うバンプ124、
134とカバーフィルム116、126の開口119、
129とを互いに位置合わせし、バンプ124、134
の先端部分を開口119、129内に挿入する。
【0009】この状態で、全体を押圧しながら加熱する
と、半田メッキ被膜127、137が溶融する。溶融し
た半田メッキ被膜127、137は、金属配線115、
125とバンプ124、134の両方に接触した状態で
固化するので、半田メッキ被膜127、137を介して
金属配線115、125とバンプ124、134とが接
続され、各フレキシブル基板素片110、120、13
0が半田メッキ被膜127、137を介して電気的に接
続される。
【0010】図14(b)の符号100は、第一、第
二、第三のフレキシブル基板素片110、120、13
0が接続されて成る多層フレキシブル配線板を示してい
る。この多層フレキシブル配線板100では、最上層に
位置する第三のフレキシブル基板素片130のカバーフ
ィルム136の開口139内と、最下層に位置する第一
のフレキシブル基板素片110のベースフィルム111
の開口113内には、それぞれ金属配線115、135
が露出しており、金属配線115、135が露出した部
分をランドとして用い、他の電気部品との接続に用いる
ことができる。
【0011】このように、単純な構造のフレキシブル基
板素片110、120、130を複数枚接続させること
で、複雑な構造の多層フレキシブル配線板100を容易
に作成することができる。
【0012】しかしながら、上記のような多層フレキシ
ブル配線板100を、他の電気部品と半田金属を介して
接続させるような場合、接続に用いる半田金属を溶融さ
せるために、全体をリフロー炉内で加熱する必要がある
が、加熱の工程で、各フレキシブル基板素片110、1
20、130を電気的に接続する半田メッキ被膜12
7、137が再溶融し、開口119、129内で広がっ
てしまうことがある。
【0013】特に、多層フレキシブル配線板100中の
バンプ124、134の高さにばらつきがあり、図14
(b)に示したように、高さの低いバンプ134が金属
配線125に当接されない部分150では、溶融した半
田メッキ被膜137が開口129内で広がると、バンプ
134と半田メッキ被膜137との接触が維持されなく
なり、接続不良が生じる場合がある。
【0014】また、フレキシブル基板素片のバンプを他
のフレキシブル基板素片の金属配線に当接させた状態
で、超音波を印加すれば、バンプと金属配線の当接した
部分が接合されるので、半田メッキ被膜を介さずに、フ
レキシブル基板素片を電気的に接続することができる。
【0015】しかしながら、超音波を用いる方法では、
一回の超音波接続で、一組のフレキシブル基板素片を接
続することしかできないので、例えば、三枚のフレキシ
ブル基板素片を張り合わせるような場合では、先ず、一
枚目のフレキシブル基板素片と二枚目のフレキシブル基
板素片とを重ね合わせ、超音波接続を行った後、更に、
三枚目のフレキシブル基板素片を重ね合わせ、再び超音
波接続を行う必要がある。
【0016】このように、超音波接続を複数回に分けて
行うと、工程が複雑になるだけでは無く、超音波が繰り
返し印加されることによって、対向するバンプと金属配
線の位置ずれが生じたり、得られる多層フレキシブル配
線板に歪みなどの変形が生じる場合がある。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の不都合を解決するために創作されたものであり、その
目的は、接続信頼性が高く、変形などの歪みも無い多層
フレキシブル配線板を作成することである。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、第一の金属配線と、前記第
一の金属配線の一表面側に配置され、前記第一の金属配
線が位置する部分に開口が形成された第一のカバーフィ
ルムとを有するフレキシブル基板素片であって、前記第
一のカバーフィルムの開口内には、導電性粒子と、熱硬
化性樹脂とを有し、前記第一金属配線と電気的に接続さ
れた導電性接着剤が配置されたフレキシブル基板素片で
ある。請求項2記載の発明は請求項1記載のフレキシブ
ル基板素片であって、前記第一のカバーフィルムの開口
内に配置された前記導電性接着剤の体積が、前記第一の
カバーフィルムの開口の容積よりも小さいフレキシブル
基板素片である。請求項3記載の発明は、請求項1記載
のフレキシブル基板素片であって、前記第一のカバーフ
ィルムが、熱硬化性樹脂を有し、加熱されると接着性を
発現する接着剤から成るフレキシブル基板素片である。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれ
か1項記載のフレキシブル基板素片であって、前記第一
の金属配線の前記第一のカバーフィルムが配置された面
とは反対側の表面には、開口を有する第一のベースフィ
ルムが配置され、前記第一のベースフィルムの開口の底
面には前記第一の金属配線が露出されたフレキシブル基
板素片である。請求項5記載の発明は、請求項1乃至請
求項3のいずれか1項記載のフレキシブル基板素片であ
って、前記第一の金属配線の前記第一のカバーフィルム
が配置された面とは反対側の表面には、開口を有する第
一のベースフィルムが配置され、前記第一のベースフィ
ルムの開口内には、前記第一の金属配線上に形成され、
その先端部分が前記第一のベースフィルム表面から突き
出された第一のバンプが配置されたフレキシブル基板素
片である。請求項6記載の発明は、第二のベースフィル
ムと、前記第二のベースフィルム表面に配置された第二
の金属配線と、前記第二のベースフィルムの裏面に配置
され、前記第二の金属配線と電気的に接続された第三の
金属配線と、前記第二のベースフィルムの表面に位置
し、前記第二の金属配線の位置する部分に開口が形成さ
れた第二のカバーフィルムと、前記第二のベースフィル
ムの裏面に位置し、前記第三の金属配線の位置する部分
に開口が形成された第三のカバーフィルムとを有するフ
レキシブル基板素片であって、前記第二、第三のカバー
フィルムの一方、又は、両方に形成された前記開口に
は、導電性粒子と、熱硬化性樹脂とを有し、前記第二の
金属配線、又は、前記第三の金属配線と電気的に接続さ
れた導電性接着剤が配置されたフレキシブル基板素片で
ある。請求項7記載の発明は、多層フレキシブル配線板
であって、第四の金属配線と、前記第四の金属配線上に
形成された第二のバンプとを有するフレキシブル基板素
片と、請求項4記載のフレキシブル基板素片とを有し、
前記第一のカバーフィルムの開口内には前記第二のバン
プの先端部分が配置され、前記第一のカバーフィルムの
開口内に配置された前記導電性接着剤が、前記第一の金
属配線と前記第二のバンプの両方に電気的に接続された
状態で硬化された多層フレキシブル配線板である。請求
項8記載の発明は、請求項7記載のフレキシブル基板素
片であって、前記第四の金属配線が、前記第一の金属配
線であり、前記第二のバンプが前記第一のバンプである
多層フレキシブル配線板である。請求項9記載の発明は
多層フレキシブル配線板であって、第四の金属配線と、
前記第四の金属配線上に形成された第二のバンプとを有
する前記フレキシブル基板素片と、請求項5記載のフレ
キシブル基板素片とを少なくとも有し、前記第一のカバ
ーフィルムの開口内には前記第二のバンプの先端部分が
配置され、前記第一のカバーフィルムの開口内に配置さ
れた前記導電性接着剤が、前記第一の金属配線と前記第
二のバンプの両方に電気的に接続された状態で硬化され
た多層フレキシブル配線板である。請求項10記載の発
明は、請求項9記載の多層フレキシブル配線板であっ
て、前記第四の金属配線が、前記第一の金属配線であ
り、前記第二のバンプが前記第一のバンプである多層フ
レキシブル配線板である。請求項11記載の発明は、多
層フレキシブル配線板であって、前記第四の金属配線
と、前記第四の金属配線に形成された前記第二のバンプ
とを有するフレキシブル基板素片を少なくとも2枚と、
請求項6記載のフレキシブル基板素片を少なくとも1枚
有し、前記第二、第三のカバーフィルムの開口内には前
記第二のバンプの先端部分がそれぞれ配置され、前記第
二、第三のカバーフィルムの開口内に配置された前記導
電性接着剤が、前記金属配線と前記バンプの両方に電気
的に接続された状態で硬化された多層フレキシブル配線
板である。請求項12記載の発明は、請求項10記載の
多層フレキシブル配線板であって、前記少なくとも2枚
のフレキシブル基板素片のうち、少なくとも一方のフレ
キシブル基板素片が請求項5記載のフレキシブル基板素
片である多層フレキシブル配線板である。
【0019】本発明は上記のように構成されており、開
口内に配置された導電性接着剤は、第一の金属配線の開
口の位置する部分と電気的に接続されているので、他の
フレキシブル基板素片のバンプ(第二のバンプ)の先端
部分を第一のカバーフィルムの開口内に挿入した状態
で、全体を押圧しながら加熱すると、開口内の導電性接
着剤が加熱によって軟化し、第二のバンプの先端部分が
軟化した導電性接着剤に潜り込み、導電性接着剤を介し
て第二のバンプと第一の金属配線の開口の位置する部分
とが接続される。
【0020】従って、第二のバンプの高さにばらつきが
あり、第二のバンプの導電性接着剤に潜り込んだ先端部
分が、第一の金属配線に当接されない場合でも、導電性
接着剤を介して第二のバンプと第一の金属配線とが電気
的に接続されるので、本発明のフレキシブル基板素片を
他のフレキシブル基板素片とを接続させて得られる多層
フレキシブル配線板には、接続不良の部分が生じない。
【0021】導電性接着剤は熱硬化性樹脂を有してお
り、導電性接着剤を第二のバンプと第一の金属配線の両
方に接触した状態で加熱によって硬化させれば、硬化さ
れた導電性接着剤によって第二のバンプが固定されるの
で、第二のバンプの位置ずれが防止される。
【0022】このように、本発明のフレキシブル基板素
片と他のフレキシブル基板素片とは、加熱押圧によって
接続されるので、三枚以上のフレキシブル基板素片を接
続させる場合に、各フレキシブル基板素片同士の電気的
接続を複数回に分けて行う必要が無く、一回の加熱押圧
で接続することができるので、得られる多層フレキシブ
ル配線板に歪みや変形が生じ難い。
【0023】第一のカバーフィルムの開口の容積をV
a、第二のバンプの開口内に挿入される部分の体積をV
b、開口内に位置する導電性接着剤の体積をVcとした
場合に、導電性接着剤の体積Vcが下記式(1)で示さ
れる範囲にあることが好ましい。 式(1):Vc≦Va−Vb 開口内の導電性接着剤の体積が上記式(1)に示す範囲
にある場合には、バンプの先端部分を開口内に挿入した
場合に、導電性接着剤が開口の外へ溢れないので、他の
金属配線がその開口に隣接配置されている場合でも、金
属配線の開口に位置する部分と、他の金属配線とが短絡
することが無い。
【0024】また、上記の加熱押圧の工程の際に、他の
フレキシブル基板素片のベースフィルムと第一のカバー
フィルムとを密着させておけば、加熱によって第一のカ
バーフィルムが接着性を発現するので、本発明のフレキ
シブル基板素片と他のフレキシブル基板素片は、第一の
カバーフィルムを介して機械的にも接続される。
【0025】また、本発明のフレキシブル基板素片に
は、2つの金属配線(第二、第三の金属配線)を有する
ものが含まれており、このようなフレキシブル基板素片
と他のフレキシブル配線板とを接続すれば、金属配線の
数がより多い多層フレキシブル配線板を得ることができ
る。
【0026】
【発明の実施の形態】本発明を図面を用いて説明する。
図1(a)〜(e)、図2(a)〜(f)はそれぞれ本発明のフ
レキシブル基板素片の第一例、第二例の製造工程図であ
る。
【0027】図1(a)の符号20と、図2(a)の符
号25は、それぞれベースフィルム(第一のベースフィ
ルム)11、31と、ベースフィルム11、31表面に
密着配置された金属配線15、35(第一の金属配線)
とから成る積層体を示している。
【0028】これらの積層体20、25のベースフィル
ム11、31には、それぞれ金属配線15、35の位置
する部分に、金属配線15、35の幅よりも径の小さい
開口13、33が形成されている。
【0029】これらのうち、図2(a)に示したベース
フィルム31の開口33の底面には、金属配線35が露
出している。ここでは、厚さ12μmの銅箔をエッチン
グし、残った厚さ12μmの部分からその金属配線35
を構成した。他方、図1(a)に示したベースフィルム
11の開口13内には、金属配線15の表面に形成され
たバンプ14(第一のバンプ)が配置されている。
【0030】ここでは、厚さ50μmの銅箔表面にレジ
スト層を形成し、所定形状のマスクを通してレジスト層
に紫外線を照射し、レジスト層を所定形状にパターニン
グした後、パターニングされたレジスト膜が配置されて
いない部分の銅箔を深さ38μmだけエッチングした
後、このエッチング工程で残った12μmの部分を更に
エッチングにより分離し、二回のエッチングの工程で残
った厚さ12μの部分を金属配線15とした。また、最
初のエッチング工程でレジスト膜によって保護され、2
回目のエッチング工程でもエッチングされなかった厚さ
50μmの部分をバンプとした。
【0031】これらの積層体20、25を用いて本発明
のフレキシブル基板素片を作成するには、先ず、剥離フ
ィルム17、37表面に熱硬化性樹脂が含有された絶縁
性の接着剤から成るカバーフィルム16、36を形成し
て、剥離フィルム17、37とカバーフィルム16、3
6とから成る接着フィルム12、32を作成し、この接
着フィルム12、32のカバーフィルム16、36を、
積層体20、25の金属配線15、35の形成された側
の表面に密着させる。
【0032】この状態で、全体を押圧しながらカバーフ
ィルム16、36に含まれる熱硬化性樹脂の硬化温度よ
りも低い温度で加熱すると、カバーフィルム16、36
が軟化し、押圧によって金属配線15、35間の間隙が
絶縁性の接着剤から成るカバーフィルム16、36で充
填される(図1(b)、図2(b))。
【0033】次いで、接着フィルム12、32の剥離フ
ィルム17、37表面の金属配線15、35が位置する
部分の所望位置にレーザー光を照射し、接着フィルム1
2、32の剥離フィルム17、37とカバーフィルム1
6、36に開口を形成する。
【0034】図1(c)の符号23と、図2(c)の符
号28は、剥離フィルム17に形成された開口をそれぞ
れ示しており、図1(c)の符号19と、図2(c)の
符号39はカバーフィルム16、36に形成された開口
をそれぞれ示している。各開口23、28、19、39
の直径は、金属配線15、35の幅よりも小さくされて
おり、カバーフィルム16、36の開口19、39の底
面には金属配線15、35のみが露出している。ここで
は、直径が100μmの開口23、28、19、39を
それぞれ形成した。
【0035】次に、導電性粒子と、熱硬化性樹脂と、有
機溶剤とを混合して導電性接着剤を用意する。ここで
は、導電性粒子として銀粒子を、熱硬化性樹脂として、
エポキシ樹脂を主成分とし、カバーフィルム16、36
に用いた熱硬化性樹脂よりも硬化温度の低いものを用
い、導電性粒子80重量部に対して、熱硬化性樹脂を2
0重量部と、有機溶剤であるトルエン30重量部とを添
加し、これらを十分に混合して導電性接着剤とした。
【0036】次いで、この導電性接着剤をスクイジーを
用いて図1(c)、図2(c)に示した状態の剥離フィ
ルム17、37の表面に押し広げると、剥離フィルム1
7、37の開口23、28とカバーフィルム16、36
の開口19、39内にそれぞれ導電性接着剤が充填され
る(スクリーン印刷)。
【0037】図1(d)、図2(d)の符号18、38
は、それぞれカバーフィルム16、36と剥離フィルム
17、37の開口19、23、28、39内に充填され
た導電性接着剤を示しており、これらの導電性接着剤1
8、38は、カバーフィルム16、36の開口19、3
9底面に位置する金属配線15、35の表面に密着して
いる。この状態では、導電性接着剤18、38の一部は
剥離フィルム17、37表面に残留している。
【0038】剥離フィルム17、37とカバーフィルム
16、36との接着力は、カバーフィルム16、36と
ベースフィルム11、31との接着力に比べて小さいの
で、図1(d)、図2(d)に示した状態で、剥離フィ
ルム17、37を剥離すると、剥離フィルム17、37
がカバーフィルム16、36から剥離され、カバーフィ
ルム16、36がベースフィルム11、31表面に貼付
された状態で残る。
【0039】このとき、剥離フィルム17、37の開口
23、28内に充填された導電性接着剤18、38と、
剥離フィルム17、37表面に残留する導電性接着剤1
8、38は、剥離フィルム17、37と共に除去され、
カバーフィルム16、36の開口19、39内に充填さ
れた導電性接着剤18、38のみが残る。
【0040】この状態では、カバーフィルム16、36
の開口19、39内に残った導電性接着剤18、38の
表面の高さと、カバーフィルム16、36の表面の高さ
は略等しくなっており、それらの開口19、39内の導
電性接着剤18、38の体積が、各開口19、39の容
積と略等しくなっている。
【0041】図1(e)、図2(e)はその状態を示し
ており、ベースフィルム11、31上に残った接着フィ
ルム12、32のカバーフィルム16、36が後述する
本発明第一例、第二例のフレキシブル基板素片のカバー
フィルム(第一のカバーフィルム)となる。
【0042】次に、全体を加熱乾燥炉を通過させ、導電
性接着剤18、38に含まれる熱硬化性樹脂の硬化温度
より低い温度(ここでは80℃)で所定時間加熱乾燥す
る。この導電性接着剤18、38には塗布工程を容易に
するために、有機溶剤が多量に添加されており、この有
機溶媒が加熱乾燥によって蒸発すると導電性接着剤1
8、38の表面が凹み、その体積がカバーフィルム1
6、36の開口19、39の容積よりも小さくなる。
【0043】図1(f)、図2(f)の符号10、30
は、加熱乾燥された後の状態の、本発明第一例、第二例
のフレキシブル基板素片を示している。次に、上記のよ
うな第一例、第二例のフレキシブル基板素片10、30
と他のフレキシブル基板素片とを接続し、多層フレキシ
ブル配線板を作成する工程を説明する。
【0044】図3(a)の符号70は、導電性接着剤を
有しない従来技術のフレキシブル基板素片を示してお
り、このフレキシブル基板素片70は、ベースフィルム
71と、ベースフィルム71表面に配置された金属配線
75(第四の金属配線)と、ベースフィルム71の金属
配線75が形成された面に配置されたカバーフィルム7
6とを有している。
【0045】これらのベースフィルム71とカバーフィ
ルム76とはそれぞれポリイミド樹脂から成り、金属配
線75の位置する部分にそれぞれ開口73、79が形成
されている。
【0046】これらのうち、カバーフィルム76に形成
された開口79の底面には、金属配線75が露出してい
る。他方、ベースフィルム71の開口73内には、金属
配線75表面に直立するバンプ74(第二のバンプ)が
配置されており、そのバンプ74の先端はベースフィル
ム71表面から突き出されている。
【0047】符号70で示すフレキシブル基板素片と本
発明第一例、第二例のフレキシブル基板素片10、30
とを接続するには、先ず、本発明第二例のフレキシブル
基板素片30を、導電性接着剤38の配置された開口3
9を上側に向けて配置し、第二例のフレキシブル基板素
片30の上方に、一枚目、二枚目、三枚目の第一例のフ
レキシブル基板素片10を、それぞれバンプ14が突き
出された面を下側に、導電性接着剤18が配置された開
口19を上側に向けて配置し、更に最上層に位置する部
分に符号70に示すフレキシブル基板素片を、バンプ7
4が形成された面を下側に、開口79底面に金属配線7
5が露出する面を上側に向けて配置する。
【0048】次いで、互いに向かい合うバンプ14、7
4と開口19、39をそれぞれ位置合わせをし(図3
(a))、バンプ14、74の先端部分を対向する開口
19、39に挿入し、カバーフィルム16、36とベー
スフィルム11、71とを互いに密着させる。
【0049】このとき、開口19、39内に位置する導
電性接着剤18、38は、バンプ14、74の先端部分
周囲に押し退けられるが、導電性接着剤18、38の体
積は開口19、39の容積よりも小さいので、導電性接
着剤18、38が開口19、39から溢れ出ず、開口1
9、39内に留まる。
【0050】この状態では、導電性接着剤18、38は
開口19、39内で金属配線15、35とバンプ14、
74の両方に接触しているので、この導電性接着剤1
8、38を介してバンプ14、74と金属配線15、3
6が電気的に接続される。
【0051】次に、全体をカバーフィルム16、36に
含まれる熱硬化性樹脂の硬化温度以上の温度に加熱しな
がら押圧すると、バンプ14、74と金属配線15、3
5との接続を維持した状態で導電性接着剤18、38が
硬化する。ここでは180℃、1時間の条件で加熱押圧
を行った。
【0052】また、第一例、第二例のフレキシブル基板
素片10、30のカバーフィルム16、36を構成する
接着剤は、加熱されると接着性を発現するので、これら
のカバーフィルム16、36を介して各フレキシブル基
板素片10、30、70が貼り合わされる。
【0053】従って、5枚のフレキシブル基板素片1
0、30、70が一回の加熱押圧の工程で貼り合わさ
れ、本発明第一例の多層フレキシブル配線板1となる
(図3(b))。第一例の多層フレキシブル配線板1で
は、各フレキシブル基板素片10、30、70がカバー
フィルム16、36を介して機械的に接続されているだ
けでは無く、硬化した導電性接着剤18、38によって
電気的にも接続されている。
【0054】また、導電性接着剤18、38は絶縁性を
有するカバーフィルム16、36の開口19、39内に
のみ存しているので、開口19、39の位置する部分に
ある金属配線15、35、75と、その金属配線15、
35、75と隣接する金属配線15、35、75とが短
絡することが無い。
【0055】第一例の多層フレキシブル配線板1の最下
層に位置するフレキシブル基板素片30のベースフィル
ム31の開口33底面と、最上層に位置するフレキシブ
ル基板素片70のカバーフィルム76の開口79の底面
には、それぞれ金属配線35、75が露出している。
【0056】次に、本発明第一例の多層フレキシブル配
線板1に半導体素子などの電気部品を搭載する工程につ
いて説明する。図4の符号91は、集積回路素子等の半
導体素子を示している。この半導体素子91は素子本体
92と、素子本体92の表面に直立して設けられた導電
性バンプ93とを有しており、この導電性バンプ93の
表面には半田メッキ被膜94が形成されている。
【0057】この半導体素子91を第一例の多層フレキ
シブル配線板1に搭載するには、先ず、第一例の多層フ
レキシブル配線板1の最上層に位置するフレキシブル基
板素片70のカバーフィルム76と、半導体素子91の
導電性バンプ93が設けられた面とを向かい合わせて配
置し、カバーフィルム76の開口79と、半導体素子9
1の導電性バンプ93とが互いに向かい合うよう位置合
わせした後(図4(a))、導電性バンプ93表面に形
成された半田メッキ被膜94を開口79底面に露出する
金属配線75表面に当接する。
【0058】この状態で、全体を押圧しながら加熱する
と、半田メッキ被膜94が溶融し、溶融した半田メッキ
被膜94を介して導電性バンプ93と、金属配線75と
が接続され、半導体素子91と多層フレキシブル配線板
1とが電気的に接続される。
【0059】このとき、第一例の多層フレキシブル配線
板1の導電性接着剤18、38と、カバーフィルム1
6、16は、加熱によって再溶融せずに硬化した状態が
維持されるので、各フレキシブル基板素片10、30、
70の機械的、電気的接続が維持される。
【0060】図4(b)は多層フレキシブル配線板に半
導体素子91が搭載された状態を示しており、半導体素
子91と多層フレキシブル配線板1とは、半田メッキ被
膜94を介して電気的にも機械的にも接続されている。
【0061】以上は、符号70に示すフレキシブル基板
素片と、本発明第二例のフレキシブル基板素片30の間
に、本発明第一例のフレキシブル基板素片10を複数枚
配置し、多層フレキシブル配線板1を作成する場合につ
いて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは無
い。
【0062】例えば、図5に示したように、最下層に位
置する第二例のフレキシブル基板素片30と、最上層に
位置する符号70に示すフレキシブル基板素片の間に、
第一例のフレキシブル基板素片10を1枚だけ配置した
状態で、上記図3(a)、(b)に示した工程で、三枚
のフレキシブル基板素片10、30、70から成る多層
フレキシブル配線板(本発明第二例の多層フレキシブル
配線板2)を作成しても良い。
【0063】この場合も、最下層、もしくは最上層に位
置するフレキシブル基板素片30、70の開口33、7
9底面に露出する金属配線75、35に、他の電気部品
のバンプを当接させ、第二例の多層フレキシブル配線板
2に、電気部品を搭載することができる。
【0064】また、これとは逆に、第二例のフレキシブ
ル基板素片30と第一のフレキシブル基板素片70との
間に3枚以上の第一例のフレキシブル基板素片10を配
置し、5枚以上のフレキシブル基板素片から成る多層フ
レキシブル配線板を得ることもできる。
【0065】以上は、本発明のフレキシブル基板素片と
して、それぞれ金属配線15、35(第一の金属配線)
を一つ有するフレキシブル基板素片(第一例、第二例の
フレキシブル基板素片10、30)について説明した
が、本発明はこれに限定されるものでは無い。例えば、
2つ以上の金属配線を有するフレキシブル基板素片も本
発明には含まれる。
【0066】図6の符号40は、本発明の第三例のフレ
キシブル基板素片を示しており、このフレキシブル基板
素片40は、ポリイミドから成るベースフィルム41
(第二のベースフィルム)と、ベースフィルム41の表
面と裏面にそれぞれ形成された2つの金属配線45、5
5(第二、第三の金属配線)と、ベースフィルム41の
表面と裏面にそれぞれ配置された2つのカバーフィルム
46、56(第二、第三のカバーフィルム)とを有して
いる。
【0067】ベースフィルム41には、2つの金属配線
45、55が相対して位置する部分に、スルーホール4
7が形成されている。このスルーホール47内には、導
電性接着剤57が充填されており、ベースフィルム41
の表面と裏面にそれぞれ配置された2つの金属配線1
5、35のうち、スルーホール47の位置する部分はこ
の導電性接着剤57にそれぞれ接触している。従って、
スルーホール47内の導電性接着剤57を介して2つの
金属配線45、55が電気的に接続されている。
【0068】ベースフィルム41の表面に位置するカバ
ーフィルム46には、ベースフィルム41表面の金属配
線45が位置する部分に開口49が形成されている。ま
た、ベースフィルム41の裏面に位置するカバーフィル
ム56にも同様に、ベースフィルム41の裏面の金属配
線55が位置する部分に開口59が形成されている。
【0069】これらのカバーフィルム46、56は、上
述した本発明第一例、第二例のフレキシブル基板素片1
0、30のカバーフィルム(第一のカバーフィルム)1
6、36と同じ工程で作成されており、カバーフィルム
46、56の開口49、59内には、図1(d)〜
(f)、図2(d)〜(f)に示した工程で、開口4
9、59の容積よりも少ない体積の導電性接着剤48、
58が配置されている。
【0070】図7の符号3は上述した第三例のフレキシ
ブル基板素片40を用いて作成した多層フレキシブル配
線板の一例(本発明第三例の多層フレキシブル配線板)
を示している。第三例の多層フレキシブル配線板3は、
2枚の本発明第一例のフレキシブル基板素片10と、2
枚の符号70に示すフレキシブル基板素片と、1枚の本
発明第三例のフレキシブル基板素片40とを有してお
り、各フレキシブル基板素片10、40、70が図3
(a)、(b)に示した工程で互いに接続されている。
【0071】第三のフレキシブル基板素片40の2つの
カバーフィルム46、56にそれぞれ形成された開口4
9、59には、それぞれ別の第一例のフレキシブル基板
素片10のバンプ14の先端部分が挿入されており、こ
れらの第一例のフレキシブル基板素片10の導電性接着
剤18が配置された開口19内には、それぞれ別の符号
70に示すフレキシブル基板素片のバンプ74が挿入さ
れている。
【0072】このように、第三例の多層フレキシブル配
線板3は、5枚のフレキシブル基板素片10、40、7
0からなるが、第三例のフレキシブル基板素片40が2
つの金属配線45、55を有しているため、第三例の多
層フレキシブル配線板3の金属配線15、45、55、
75は6層になっている。従って、第三例のフレキシブ
ル基板素片を用いれば、第一例、第二例のフレキシブル
基板素片のみを用いた場合に比べて、多層フレキシブル
配線板の金属配線の数をより多くすることができる。
【0073】第三例のフレキシブル基板素片40との接
続に用いられるフレキシブル基板素片は、バンプを有し
ていれば良く、例えば、図8に示したように、第三例の
フレキシブル基板素片40と、他の例のフレキシブル基
板素片70のみを用いて多層フレキシブル配線板(本発
明第四例の多層フレキシブル配線板)4を作成しても良
い。
【0074】また、以上は、カバーフィルム16、3
6、46、56の開口19、39、49、59内にのみ
導電性接着剤18、38、48、58を配置する場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
無く、例えば、ベースフィルムの開口内にも同様の導電
性接着剤を配置しても良い。
【0075】図13の符号60は本発明第四例のフレキ
シブル基板素片を示しており、このフレキシブル基板素
片60は、本発明第一例、第二例のフレキシブル基板素
片10、30と同じベースフィルム(第一のベースフィ
ルム)61、金属配線(第一の金属配線)65、カバー
フィルム(第一のカバーフィルム)66を有している。
【0076】これらベースフィルム61、カバーフィル
ム66には、それぞれ金属配線65が位置する部分に開
口63、69が形成されている。これらの開口63、6
9内には、本発明第一例〜第三例のフレキシブル基板素
片10、30、40に用いたものと同じ導電性接着剤6
8がそれぞれ配置されており、導電性接着剤68は開口
63、69底面に位置する金属配線65にそれぞれ接触
している。また、これらの導電性接着剤68の体積は、
カバーフィルム66、ベースフィルム61の各開港6
3、69の容積よりも少なくされている。
【0077】第四例のフレキシブル基板素片60には、
上記第三例のフレキシブル基板素片30と同様に、その
両面に位置する開口63、69に他のフレキシブル基板
素片のバンプを挿入させることができる。
【0078】以上は、本発明のフレキシブル基板素片1
0、30、40との接続に用いられる従来技術のフレキ
シブル基板素片70として、金属配線(第四の金属配
線)35の一方の表面のみにバンプ(第二のバンプ)が
形成されたものを用いる場合について説明したが、本発
明はこれに限定されるものでは無い。
【0079】図9の符号80は本発明のフレキシブル基
板素片10、30、40との接続に用いられる従来技術
のフレキシブル基板素片の他の例を示している。符号8
0に示すフレキシブル基板素片は、ベースフィルム81
と、ベースフィルム81の一表面に配置された金属配線
(第四の金属配線)85と、ベースフィルム81の金属
配線85が形成された面に位置するカバーフィルム86
とを有している。
【0080】これらのベースフィルム81とカバーフィ
ルム86には、それぞれ金属配線85の位置する部分に
開口83、89が形成されている。これらのうち、ベー
スフィルム81の開口83内には、金属配線85の表面
に形成されたバンプ(第二のバンプ)84が配置されて
おり、そのバンプ84の先端部分がベースフィルム81
の表面から突き出されている。また、カバーフィルム8
6の開口89内には、金属配線85の裏面に形成された
バンプ88(第二のバンプ)が配置されており、そのバ
ンプ88の先端部分がカバーフィルム86表面より突き
出されている。
【0081】図10の符号5は、1枚の符号80に示す
従来技術のフレキシブル基板素片と、二枚の第二例のフ
レキシブル基板素片30とを用いて、図3(a)、
(b)の工程で作成された本発明第五例の多層フレキシ
ブル配線板を示しており、二枚の第二例のフレキシブル
基板素片30のうち、一方の第二例のフレキシブル基板
素片30が最下層に配置され、他方の第二例のフレキシ
ブル基板素片30が最上層に配置されている。
【0082】最下層に配置された第二例のフレキシブル
基板素片30の導電性接着剤38が配置された開口39
には、符号80に示すフレキシブル基板素片の金属配線
85の表面に形成されたバンプ84が挿入されている。
また、符号80に示すフレキシブル基板素片の金属配線
85裏面に形成されたバンプ88は、他の第二例のフレ
キシブル基板素片30の導電性接着剤38が配置された
開口39に挿入されている。
【0083】第五例の多層フレキシブル配線板5では、
それぞれ最下層と最上層に位置する第二例のフレキシブ
ル基板素片30のベースフィルム31の開口33底面に
金属配線35がそれぞれ露出しており、この金属配線3
5の露出した部分を介して第五例の多層フレキシブル配
線板5と他の電気部品とを接続することができる。
【0084】以上は、符号80に示す従来技術のフレキ
シブル基板素片と、本発明第二例のフレキシブル基板素
片30のみから成る多層フレキシブル配線板5について
説明したが、本発明はこれに限定されるものでは無く、
例えば、符号80に示すフレキシブル基板素片と本発明
第一例、第二例のフレキシブル基板素片10、30とを
有する多層フレキシブル配線板や、符号80に示すフレ
キシブル基板素片と、本発明第一例〜第三例のフレキシ
ブル基板素片10、30、40を有する多層フレキシブ
ル配線板も本発明には含まれる。
【0085】これらのうち、図11の符号6は、1枚の
符号80に示すフレキシブル基板素片を1枚と、それぞ
れ2枚の本発明第一例、第二例のフレキシブル基板素片
10、30とを、図3(a)、(b)に示す工程で接続
して作成した本発明第六例の多層フレキシブル配線板を
示している。
【0086】第六例の多層フレキシブル配線板6では、
一枚目の第二例のフレキシブル基板素片30の導電性接
着剤38が配置された開口39に、一枚目の第一例のフ
レキシブル基板素片10のバンプ14の先端部分が挿入
され、一枚目の第一例のフレキシブル基板素片10の導
電性接着剤18が配置された開口19に、符号80に示
すフレキシブル基板素片の金属配線85表面に形成され
たバンプ84の先端部分が挿入されている。また、符号
80に示すフレキシブル基板素片の金属配線85裏面に
形成されたバンプ88の先端部分が、二枚目の第一例の
フレキシブル基板素片10の導電性接着剤18が配置さ
れた開口19内に挿入され、二枚目の第一の基板素片1
0のバンプ14先端部分が、二枚目の第二例のフレキシ
ブル基板素片30の導電性接着剤38が配置された開口
39内に挿入されている。
【0087】第六例の多層フレキシブル配線板6では、
それぞれ最下層と最上層に位置する第二例のフレキシブ
ル基板素片30のベースフィルム31の開口33底面に
金属配線35が露出している。
【0088】また、図12の符号7は、符号80に示す
従来技術のフレキシブル基板素片と、符号70に示す従
来技術のフレキシブル基板素片と、本発明第一例〜第三
例のフレキシブル基板素片10、30、40とをそれぞ
れ一枚ずつ有し、これらのフレキシブル基板素片10、
30、40、70、80が図3(a)、(b)の工程で
接続されてなる本発明第七例の多層フレキシブル配線板
を示している。
【0089】第七例の多層フレキシブル配線板7の最下
層には、第二例のフレキシブル基板素片30が配置され
ており、第二例のフレキシブル基板素片30の導電性接
着剤38が配置された開口39内に、第一例のフレキシ
ブル基板素片10のバンプ14先端部分が挿入され、第
一例のフレキシブル基板素片10の導電性接着剤18が
配置された開口19には、符号80に示すフレキシブル
基板素片の金属配線85表面に形成されたバンプ84の
先端部分が挿入されている。また、符号80に示すフレ
キシブル基板素片の金属配線85裏面に形成されたバン
プ88の先端部分が第三例のフレキシブル基板素片40
の2つのカバーフィルム46、56のうち、一方のカバ
ーフィルム46に形成された開口49内に配置されてお
り、更に、第三例のフレキシブル基板素片40の他方の
カバーフィルム56の開口59には、符号70に示すフ
レキシブル基板素片のバンプ74が挿入されている。
【0090】第七例の多層フレキシブル配線板7では、
最上層に位置し、符号70に示されるフレキシブル基板
素片のカバーフィルム76の開口79と、最下層に位置
する第二例のフレキシブル基板素片30のベースフィル
ム31の開口33には、それぞれの底面に金属配線3
5、75が露出している。
【0091】以上に述べたように、本発明の第一例〜第
四例のフレキシブル基板素片10、30、40、60を
用いれば、信頼性の高い多層フレキシブル配線板を得る
ことができる。また、以上に述べた本発明第一〜第七の
多層フレキシブル配線板1〜7以外にも、本発明のフレ
キシブル基板素片と従来技術のフレキシブル基板素片を
組み合わせることによって種々の形状の多層フレキシブ
ル配線板を得ることができる。
【0092】以上は、スクリーン印刷法によってカバー
フィルム16、36、46、56の開口19、39、4
9、59内に導電性接着剤18、38、48、58した
後、加熱乾燥で導電性接着剤18、38、48、58の
有機溶剤を蒸発させ、各開口19、39、49、59の
容積よりも少ない体積の導電性接着剤18、38、4
8、58を配置する方法について説明したが、本発明は
これに限定されるものでは無く、例えば、カバーフィル
ムの各開口内に、ディスペンサーを用いて導電性接着剤
を直接注入しても良い。
【0093】この場合は、剥離フィルムを用いて余分な
導電性接着剤を除去する必要が無く、また、注入する導
電性接着剤の体積を、開口の容積より少なくすれば、導
電性接着剤の有機溶剤を蒸発させる工程も不要になる。
【0094】また、以上はカバーフィルムを加熱によっ
て接着性を発現する接着剤で構成する場合について説明
したが、本発明はこれに限定されるものでは無く、接着
剤を用いずに、例えば、ベースフィルムと同様のポリイ
ミド樹脂等を用いてカバーフィルムを作成しても良い。
【0095】上記のように接着性を有しないカバーフィ
ルムを有するフレキシブル基板素片を他のフレキシブル
基板素片と接続させる場合は、これらのフレキシブル基
板素片の間に接着性を有する樹脂フィルムを配置した状
態で、全体を加熱押圧すれば、その樹脂フィルムを介し
てフレキシブル基板素片同士を機械的に接続することが
可能である。
【0096】また、カバーフィルムの開口の形成方法
も、レーザーによる方法に限定されるものでは無く、例
えば、所望形状にパターニングされたマスクフィルムを
カバーフィルムの表面に貼付し、化学的エッチングを行
い、開口を形成しても良い。
【0097】導電性接着剤に用いられる導電性粒子も銀
粒子に限定されるものではなく、例えば、銀−鉛合金粉
末、銅粉末、カーボン粉末、グラファイト粉末等種々の
ものを用いることができる。
【0098】導電性接着剤に用いる熱硬化性の樹脂はエ
ポキシ樹脂に限定されず、例えば、エポキシ−アクリル
混合樹脂等種々のものを用いることができる。カバーフ
ィルムに用いる熱硬化性樹脂もエポキシ樹脂に限定され
ることは無く、アクリル樹脂、アクリル−エポキシ混合
樹脂等種々のものを用いることができる。また、カバー
フィルムに用いる熱硬化性樹脂としては、160℃以上
200℃の温度範囲で1時間程度加熱を行った場合に硬
化するものを用いることが好ましい。
【0099】いずれの場合も、熱硬化性樹脂と硬化剤と
を併用することができ、導電性接着剤やカバーフィルム
に用いることのできる硬化剤としては各種イミダゾー
ル、酸無水物、三級アミン等種々のものを用いることの
できる。また、導電性接着剤やカバーフィルムには、カ
ップリング剤、老化防止剤、充填剤などの種々の添加剤
を添加することができる。
【0100】導電性接着剤に用いられる有機溶剤は、ト
ルエンに限定されるものでは無く、例えば、MEK(メ
チルエチルケトン)等、種々のものを用いることができ
る。導電性接着剤に含まれる有機溶剤と熱硬化性樹脂の
配合比率は、熱硬化性樹脂3重量部に対して有機溶剤が
7重量部以下、又は、熱硬化性樹脂6重量部に対して有
機溶剤が4重量部以上の割合にあることが好ましい。ま
た、ベースフィルム31の開口33に露出する金属配線
35の表面や、バンプ14の先端部分に、金やニッケル
等から成る金属被膜を形成しても良い。
【0101】また、本発明のフレキシブル基板素片1
0、30、70に用いるベースフィルム11、31、4
1、金属配線15、35、45、55、カバーフィルム
16、36、46、56はそれぞれ可撓性を有している
ので、これらのベースフィルム11、31、41、金属
配線15、35、45、55、カバーフィルム16、3
6、46.56から成る本発明のフレキシブル基板素片
10、30、40はそれぞれ可撓性を有している。
【0102】従って、本発明のフレキシブル基板素片1
0、30、40のみからなる多層フレキシブル配線板
や、可撓性を有する他のフレキシブル基板素片70、8
0と、本発明のフレキシブル基板素片10、30、40
とから成る多層フレキシブル配線板は可撓性を有する。
【0103】また、以上は、50μmの厚さの銅箔をエ
ッチングし、金属配線15とバンプ14とを一体成形す
る場合について説明したが、本発明はこれに限定される
ものでは無い。例えば、金属配線、若しくは、金属箔の
表面に電解メッキ法によりバンプを形成しても良い。
【0104】
【発明の効果】複数のフレキシブル基板素片を一度の加
熱押圧の工程で接続し、多層フレキシブル配線板を得る
ことができる。また、本発明の多層フレキシブル配線板
は、リフロー炉内で再加熱した場合も、各フレキシブル
基板素片の電気的接続が破壊されることが無く、接続信
頼性が高い。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)〜(f):本発明の第一例のフレキシブル基
板素片の製造工程図
【図2】(a)〜(f):本発明の第二例のフレキシブル基
板素片の製造工程図
【図3】(a)、(b):本発明第一例の多層フレキシブル
配線板の製造工程図
【図4】(a)、(b):本発明第一例の多層フレキシブル
配線板に半導体素子を搭載する工程を説明するための図
【図5】本発明第二例の多層フレキシブル配線板を説明
するための図
【図6】本発明の第三例のフレキシブル基板素片を説明
するための図
【図7】本発明第三例の多層フレキシブル配線板を説明
するための図
【図8】本発明第四例の多層フレキシブル配線板を説明
するための図
【図9】本発明のフレキシブル基板素片との接続に用い
られる従来技術のフレキシブル基板素片の他の例を説明
するための図
【図10】本発明第五例の多層フレキシブル配線板を説
明するための図
【図11】本発明第六例の多層フレキシブル配線板を説
明するための図
【図12】本発明第七例の多層フレキシブル配線板を説
明するための図
【図13】本発明第四例のフレキシブル基板素片を説明
するための図
【図14】(a)、(b):従来技術の多層フレキシブル配
線板を製造する工程を説明するための図
【符号の説明】
1〜7……多層フレキシブル配線板(本発明第一例〜第
七例の多層フレキシブル配線板) 10、30、40、60……フレキシブル基板素片(本
発明第一例〜第四例のフレキシブル基板素片) 11、31、61……第一のベースフィルム 13、33、63……第一のベースフィルムの開口 16、36、66……第一のカバーフィルム 18、38、48、58、68……導電性接着剤 19、39、69……第一のカバーフィルムの開口 15、35、65……第一の金属配線 41……第二のベースフィルム 45……第二の金属配線 46……第二のカバーフィルム 49……第二のカバーフィルムの開口 55……第三の金属配線 56……第三のカバーフィルム 59……第三のカバーフィルムの開口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E317 AA01 AA24 BB03 BB11 BB18 BB22 CC13 CC51 CD21 CD31 GG16 5E346 AA12 AA15 AA16 AA17 AA22 AA35 AA43 BB01 BB16 CC02 CC08 CC31 CC40 CC42 DD02 DD32 EE02 EE06 EE42 FF35 FF36 FF41 GG28

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第一の金属配線と、前記第一の金属配線の
    一表面側に配置され、前記第一の金属配線が位置する部
    分に開口が形成された第一のカバーフィルムとを有する
    フレキシブル基板素片であって、 前記第一のカバーフィルムの開口内には、導電性粒子
    と、熱硬化性樹脂とを有し、前記第一金属配線と電気的
    に接続された導電性接着剤が配置されたフレキシブル基
    板素片。
  2. 【請求項2】前記第一のカバーフィルムの開口内に配置
    された前記導電性接着剤の体積が、前記第一のカバーフ
    ィルムの開口の容積よりも小さい請求項1記載のフレキ
    シブル基板素片。
  3. 【請求項3】前記第一のカバーフィルムが、熱硬化性樹
    脂を有し、加熱されると接着性を発現する接着剤から成
    る請求項1記載のフレキシブル基板素片。
  4. 【請求項4】前記第一の金属配線の前記第一のカバーフ
    ィルムが配置された面とは反対側の表面には、開口を有
    する第一のベースフィルムが配置され、前記第一のベー
    スフィルムの開口の底面には前記第一の金属配線が露出
    された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のフレ
    キシブル基板素片。
  5. 【請求項5】前記第一の金属配線の前記第一のカバーフ
    ィルムが配置された面とは反対側の表面には、開口を有
    する第一のベースフィルムが配置され、前記第一のベー
    スフィルムの開口内には、前記第一の金属配線上に形成
    され、その先端部分が前記第一のベースフィルム表面か
    ら突き出された第一のバンプが配置された請求項1乃至
    請求項3のいずれか1項記載のフレキシブル基板素片。
  6. 【請求項6】第二のベースフィルムと、前記第二のベー
    スフィルム表面に配置された第二の金属配線と、前記第
    二のベースフィルムの裏面に配置され、前記第二の金属
    配線と電気的に接続された第三の金属配線と、 前記第二のベースフィルムの表面に位置し、前記第二の
    金属配線の位置する部分に開口が形成された第二のカバ
    ーフィルムと、 前記第二のベースフィルムの裏面に位置し、前記第三の
    金属配線の位置する部分に開口が形成された第三のカバ
    ーフィルムとを有するフレキシブル基板素片であって、 前記第二、第三のカバーフィルムの一方、又は、両方に
    形成された前記開口には、導電性粒子と、熱硬化性樹脂
    とを有し、前記第二の金属配線、又は、前記第三の金属
    配線と電気的に接続された導電性接着剤が配置されたフ
    レキシブル基板素片。
  7. 【請求項7】第四の金属配線と、前記第四の金属配線上
    に形成された第二のバンプとを有するフレキシブル基板
    素片と、請求項4記載のフレキシブル基板素片とを有
    し、 前記第一のカバーフィルムの開口内には前記第二のバン
    プの先端部分が配置され、 前記第一のカバーフィルムの開口内に配置された前記導
    電性接着剤が、前記第一の金属配線と前記第二のバンプ
    の両方に電気的に接続された状態で硬化された多層フレ
    キシブル配線板。
  8. 【請求項8】前記第四の金属配線が、前記第一の金属配
    線であり、前記第二のバンプが前記第一のバンプである
    請求項7記載の多層フレキシブル配線板。
  9. 【請求項9】第四の金属配線と、前記第四の金属配線上
    に形成された第二のバンプとを有する前記フレキシブル
    基板素片と、請求項5記載のフレキシブル基板素片とを
    少なくとも有し、 前記第一のカバーフィルムの開口内には前記第二のバン
    プの先端部分が配置され、 前記第一のカバーフィルムの開口内に配置された前記導
    電性接着剤が、前記第一の金属配線と前記第二のバンプ
    の両方に電気的に接続された状態で硬化された多層フレ
    キシブル配線板。
  10. 【請求項10】前記第四の金属配線が、前記第一の金属
    配線であり、前記第二のバンプが前記第一のバンプであ
    る請求項9記載の多層フレキシブル配線板。
  11. 【請求項11】前記第四の金属配線と、前記第四の金属
    配線に形成された前記第二のバンプとを有するフレキシ
    ブル基板素片を少なくとも2枚と、請求項6記載のフレ
    キシブル基板素片を少なくとも1枚有し、 前記第二、第三のカバーフィルムの開口内には前記第二
    のバンプの先端部分がそれぞれ配置され、 前記第二、第三のカバーフィルムの開口内に配置された
    前記導電性接着剤が、前記金属配線と前記バンプの両方
    に電気的に接続された状態で硬化された多層フレキシブ
    ル配線板。
  12. 【請求項12】前記少なくとも2枚のフレキシブル基板
    素片のうち、少なくとも一方のフレキシブル基板素片が
    請求項5記載のフレキシブル基板素片である請求項10
    記載の多層フレキシブル配線板。
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