JP2002154156A - エンボスロール及びその製造方法並びに合わせガラス用中間膜 - Google Patents
エンボスロール及びその製造方法並びに合わせガラス用中間膜Info
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- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
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- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10559—Shape of the cross-section
- B32B17/10577—Surface roughness
- B32B17/10587—Surface roughness created by embossing
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- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 合わせガラス用中間膜の保管中に膜同士のブ
ロッキング発生が防止され、ガラス板と中間膜とを重ね
合わせる際の取扱い作業性がよく、これらを貼り合わせ
加工時の脱気性のよい中間膜を製造することができるエ
ンボスロール及びその製造方法、並びにこれを用いて得
られる合わせガラス用中間膜を提供する。 【解決手段】 本発明のエンボスロールは、金属ロール
の表面に彫刻ミル法またはエッチング法により凸条と凹
溝とからなるエンボスが形成され、該エンボス面にブラ
スト処理により微細な凹凸が形成され、エンボスを形成
する凸条に形成された微細な凸部の上部が半研磨されて
なることを特徴とする。
ロッキング発生が防止され、ガラス板と中間膜とを重ね
合わせる際の取扱い作業性がよく、これらを貼り合わせ
加工時の脱気性のよい中間膜を製造することができるエ
ンボスロール及びその製造方法、並びにこれを用いて得
られる合わせガラス用中間膜を提供する。 【解決手段】 本発明のエンボスロールは、金属ロール
の表面に彫刻ミル法またはエッチング法により凸条と凹
溝とからなるエンボスが形成され、該エンボス面にブラ
スト処理により微細な凹凸が形成され、エンボスを形成
する凸条に形成された微細な凸部の上部が半研磨されて
なることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合わせガラス用中
間膜の製造に用いるエンボスロール及びその製造方法、
並びに上記エンボスロールを用いて製造された合わせガ
ラス用中間膜に関する。
間膜の製造に用いるエンボスロール及びその製造方法、
並びに上記エンボスロールを用いて製造された合わせガ
ラス用中間膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱可塑性樹脂シートの表面に多数の微細
なエンボス（凹凸）が形成されたエンボス付き熱可塑性
樹脂シートは、合わせガラス用中間膜、その他の用途に
広く使用されている。例えば、合わせガラス用中間膜の
表面には、膜同士のブロッキング防止、ガラス板と中間
膜とを重ね合わせる際の取扱い作業性（ガラス板との滑
り性）、ガラス板との貼り合わせ加工時の脱気性をよく
するために、一般にエンボスロールを用いて多数の微細
なエンボスが形成されている。
なエンボス（凹凸）が形成されたエンボス付き熱可塑性
樹脂シートは、合わせガラス用中間膜、その他の用途に
広く使用されている。例えば、合わせガラス用中間膜の
表面には、膜同士のブロッキング防止、ガラス板と中間
膜とを重ね合わせる際の取扱い作業性（ガラス板との滑
り性）、ガラス板との貼り合わせ加工時の脱気性をよく
するために、一般にエンボスロールを用いて多数の微細
なエンボスが形成されている。
【０００３】中間膜にエンボスを形成するために用いら
れるエンボスロールは、一般に金属ロールの表面にブラ
スト処理、エッチング処理、彫金処理、彫刻ミル（マザ
ーミル）等の処理を施すことにより凹凸を形成する方法
により製造される。
れるエンボスロールは、一般に金属ロールの表面にブラ
スト処理、エッチング処理、彫金処理、彫刻ミル（マザ
ーミル）等の処理を施すことにより凹凸を形成する方法
により製造される。
【０００４】エッチング処理又は彫金処理又は彫刻ミル
処理だけで製造されたエンボスロールにより中間膜にエ
ンボスを転写すると、凸部の高さがほぼ揃ったエンボス
が形成され、凸部の高さのランダム性とシャープさが得
られず、特に扱き方式ではガラス板に対して中間膜の滑
り性が悪く、ずれの修正がし難いという取扱い作業性に
問題があった。
処理だけで製造されたエンボスロールにより中間膜にエ
ンボスを転写すると、凸部の高さがほぼ揃ったエンボス
が形成され、凸部の高さのランダム性とシャープさが得
られず、特に扱き方式ではガラス板に対して中間膜の滑
り性が悪く、ずれの修正がし難いという取扱い作業性に
問題があった。
【０００５】又、ブラスト処理で製造されたエンボスロ
ールは、エンボスの凹部がランダムに形成され、このエ
ンボスが転写されたシートは凸部がランダムに配置され
たものになるので、ガラス板に対して滑り性が悪く、取
扱いにくい。更に、ブラスト処理だけで形成されたエン
ボスには脱気性の問題がある。即ち、ブラスト処理する
とエンボス面に多くの過大ピーク（高さが不揃いの突出
した凸部）が生じる。
ールは、エンボスの凹部がランダムに形成され、このエ
ンボスが転写されたシートは凸部がランダムに配置され
たものになるので、ガラス板に対して滑り性が悪く、取
扱いにくい。更に、ブラスト処理だけで形成されたエン
ボスには脱気性の問題がある。即ち、ブラスト処理する
とエンボス面に多くの過大ピーク（高さが不揃いの突出
した凸部）が生じる。
【０００６】このような過大ピークが存在すると、それ
が中間膜表面に転写される際に深い窪みとなり、この窪
み内に空気が閉じ込められてガラス板と中間膜との密着
性が悪くなり、貼り合わせ加工時に脱気され難くなる。
特に、真空バッグ方式よりも扱きロール方式で脱気を行
う場合に空気の抜け方が悪く、得られる合わせガラスに
空気溜まりが発生し、このため合わせガラスとの密着不
良等が生じる。更に、シール不良による周辺微発泡が生
じる。
が中間膜表面に転写される際に深い窪みとなり、この窪
み内に空気が閉じ込められてガラス板と中間膜との密着
性が悪くなり、貼り合わせ加工時に脱気され難くなる。
特に、真空バッグ方式よりも扱きロール方式で脱気を行
う場合に空気の抜け方が悪く、得られる合わせガラスに
空気溜まりが発生し、このため合わせガラスとの密着不
良等が生じる。更に、シール不良による周辺微発泡が生
じる。
【０００７】一方、酸化アルミニウムや酸化硅素等のブ
ラスト材を吹き付けて微細なエンボスを形成するブラス
ト処理も行われている。ミル加工により筋状のエンボス
を形成した後、この面をブラストすることにより微細な
エンボスをランダムに形成する方法が考えられる。しか
しこの方法により製造されたエンボスロールには、ブラ
スト処理により空気を閉じ込める凹部が多数形成され
る。このエンボスが転写された中間膜をガラス板に積層
する際、真空減圧方式では脱気され易いが、扱き方式で
はガラス板との貼り合わせ周辺に空気が残り、密着不良
となる。更に、シール不良による周辺微発泡が生じる。
ラスト材を吹き付けて微細なエンボスを形成するブラス
ト処理も行われている。ミル加工により筋状のエンボス
を形成した後、この面をブラストすることにより微細な
エンボスをランダムに形成する方法が考えられる。しか
しこの方法により製造されたエンボスロールには、ブラ
スト処理により空気を閉じ込める凹部が多数形成され
る。このエンボスが転写された中間膜をガラス板に積層
する際、真空減圧方式では脱気され易いが、扱き方式で
はガラス板との貼り合わせ周辺に空気が残り、密着不良
となる。更に、シール不良による周辺微発泡が生じる。
【０００８】上記の問題点を解決するものとして、特公
昭５４−２１２０９号公報には、金属ロールに１０〜６
０メッシュの酸化アルミニウム粉を用いてブラスト処理
し、次に、比較的小さなガラスビーズを吹き付けるか、
又はラッピング材料を用いて半研磨することにより、過
大ピークのサイズ及び量を減少させて、中間膜に過大な
窪みを転写させないことにより、ブロッキングを防止
し、滑り性を改良した中間膜が記載されている。
昭５４−２１２０９号公報には、金属ロールに１０〜６
０メッシュの酸化アルミニウム粉を用いてブラスト処理
し、次に、比較的小さなガラスビーズを吹き付けるか、
又はラッピング材料を用いて半研磨することにより、過
大ピークのサイズ及び量を減少させて、中間膜に過大な
窪みを転写させないことにより、ブロッキングを防止
し、滑り性を改良した中間膜が記載されている。
【０００９】上記公報に記載のロールによると、ブラス
ト後のロール表面は面積比率で凹部凸部ともに約５０％
で構成されている。ここで研磨比率が小さいとロールの
凸部が多く、中間膜面の凹部が多くなってガラス面との
密着性が改良されない。そこでロールの凸部をほぼ無く
すには５０％以上を研磨する必要がある。しかし、研磨
比率を５０％以上にすると中間膜の平坦部分が増えてブ
ロッキングが起こり易くなるという問題がある。
ト後のロール表面は面積比率で凹部凸部ともに約５０％
で構成されている。ここで研磨比率が小さいとロールの
凸部が多く、中間膜面の凹部が多くなってガラス面との
密着性が改良されない。そこでロールの凸部をほぼ無く
すには５０％以上を研磨する必要がある。しかし、研磨
比率を５０％以上にすると中間膜の平坦部分が増えてブ
ロッキングが起こり易くなるという問題がある。
【００１０】上記の問題を解決する方法として、ブラス
ト処理したロール表面を半研磨し、更にブラスト処理を
少し行う（小ブラスト）ことでブロッキングを防止する
方法が考えられる。しかし、例え小ブラストであっても
多くの凹部が形成され、この凹部に空気が閉じ込められ
てガラスとの密着性が悪くなる。
ト処理したロール表面を半研磨し、更にブラスト処理を
少し行う（小ブラスト）ことでブロッキングを防止する
方法が考えられる。しかし、例え小ブラストであっても
多くの凹部が形成され、この凹部に空気が閉じ込められ
てガラスとの密着性が悪くなる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題点を解消し、合わせガラス用中間膜の保管中に膜同士
のブロッキング発生が防止され、ガラス板と中間膜とを
重ね合わせる際の取扱い作業性がよく、更に、これらを
貼り合わせ加工する際の脱気性に優れた中間膜を製造す
ることができるエンボスロール及びその製造方法、並び
にこれを用いて得られる合わせガラス用中間膜を提供す
ることを目的とする。
題点を解消し、合わせガラス用中間膜の保管中に膜同士
のブロッキング発生が防止され、ガラス板と中間膜とを
重ね合わせる際の取扱い作業性がよく、更に、これらを
貼り合わせ加工する際の脱気性に優れた中間膜を製造す
ることができるエンボスロール及びその製造方法、並び
にこれを用いて得られる合わせガラス用中間膜を提供す
ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明のエンボスロール
は、金属ロールの表面に彫刻ミル法またはエッチング法
により凸条と凹溝とからなるエンボスが形成され、該エ
ンボス面にブラスト処理により微細な凹凸が形成され、
エンボスを形成する凸条に形成された微細な凸部の上部
が半研磨されてなることを特徴とするものである。
は、金属ロールの表面に彫刻ミル法またはエッチング法
により凸条と凹溝とからなるエンボスが形成され、該エ
ンボス面にブラスト処理により微細な凹凸が形成され、
エンボスを形成する凸条に形成された微細な凸部の上部
が半研磨されてなることを特徴とするものである。
【００１３】本発明のエンボスロールの製造方法は、金
属ロールの表面に彫刻ミル法またはエッチング法により
凸条と凹溝とからなるエンボス加工を施し、該エンボス
面をブラスト処理することにより微細な凹凸を形成し、
エンボス加工により形成された凸部上部を半研磨するこ
とを特徴とする。
属ロールの表面に彫刻ミル法またはエッチング法により
凸条と凹溝とからなるエンボス加工を施し、該エンボス
面をブラスト処理することにより微細な凹凸を形成し、
エンボス加工により形成された凸部上部を半研磨するこ
とを特徴とする。
【００１４】また、本発明の合わせガラス用中間膜は、
本発明のエンボスロールを用いて製造されることを特徴
とするものである。
本発明のエンボスロールを用いて製造されることを特徴
とするものである。
【００１５】本発明のエンボスロールに使用される金属
ロールとしては、鏡面研磨加工されたチルド鉄ロールな
どが好適である。本発明では、先ず金属ロールの周方向
にミル加工又はエッチング加工によりによりエンボス加
工する。エンボス加工の目的は、これにより形成される
凸条部を被研磨面パターンとし、半研磨後は凹溝部に平
面部を残すためである。
ロールとしては、鏡面研磨加工されたチルド鉄ロールな
どが好適である。本発明では、先ず金属ロールの周方向
にミル加工又はエッチング加工によりによりエンボス加
工する。エンボス加工の目的は、これにより形成される
凸条部を被研磨面パターンとし、半研磨後は凹溝部に平
面部を残すためである。
【００１６】エンボス形状は、エンボスロールによりエ
ンボス加工された中間膜がガラス板に密着されるとき、
ガラス面との滑り性がよく、ガラス面との間の空気が抜
け易い形状とする必要がある。そのため、エンボスロー
ルの周方向に凸条と凹溝が並行して形成されたものとす
る。又、ガラスとの密着性をよくするためには凸条が格
子状に形成されたものも使用できる。凸条の幅、高さ、
ピッチ等は、脱気性及び自着性を調節するために、半研
磨部分即ち凸条の面積を小さく抑えつつ、その配置を空
気の抜けをよくするための各種パターンを選択すること
ができる。
ンボス加工された中間膜がガラス板に密着されるとき、
ガラス面との滑り性がよく、ガラス面との間の空気が抜
け易い形状とする必要がある。そのため、エンボスロー
ルの周方向に凸条と凹溝が並行して形成されたものとす
る。又、ガラスとの密着性をよくするためには凸条が格
子状に形成されたものも使用できる。凸条の幅、高さ、
ピッチ等は、脱気性及び自着性を調節するために、半研
磨部分即ち凸条の面積を小さく抑えつつ、その配置を空
気の抜けをよくするための各種パターンを選択すること
ができる。
【００１７】ブラスト処理で用いられるブラスト材は、
主として酸化アルミニウム（アルミナ）や鋼球を用い
る。鋼球は砕けた場合ロール表面に突き刺さったり、錆
が発生することがあるので、酸化アルミニウムを用いる
ことが好ましい。酸化アルミニウムの粒径は、一般的に
粒径がＪＩＳ規格の＃２０〜＃１２０が好ましく、より
好ましくは＃３０〜＃８０のものである。ブラストする
ときの吐出圧力は一般的に４０×１０4 〜１５×１０5
Ｐａであり、所望の表面粗さが得られるまでブラスト処
理する。上記ブラストによりシャープな形状の微細な凹
凸をランダムに形成することができ、脱気性が確保され
る。
主として酸化アルミニウム（アルミナ）や鋼球を用い
る。鋼球は砕けた場合ロール表面に突き刺さったり、錆
が発生することがあるので、酸化アルミニウムを用いる
ことが好ましい。酸化アルミニウムの粒径は、一般的に
粒径がＪＩＳ規格の＃２０〜＃１２０が好ましく、より
好ましくは＃３０〜＃８０のものである。ブラストする
ときの吐出圧力は一般的に４０×１０4 〜１５×１０5
Ｐａであり、所望の表面粗さが得られるまでブラスト処
理する。上記ブラストによりシャープな形状の微細な凹
凸をランダムに形成することができ、脱気性が確保され
る。
【００１８】本発明のエンボスロールの製造方法では、
ブラスト処理した後、該処理面に半研磨を行う。半研磨
とは金属ロールの表面に形成された多数の凸部の上部を
一様に研磨して平滑にすることをいう。半研磨の方法と
しては、金属ロールを回転させながらエンボス表面に研
磨砥石を押しつける方法、研磨砥石を回転させた状態で
エンボス表面に押圧し、金属ロールを回転させる方法等
がある。研磨砥石の押圧力は、一般的に２×１０4 〜１
０×１０5 Ｐａとされる。
ブラスト処理した後、該処理面に半研磨を行う。半研磨
とは金属ロールの表面に形成された多数の凸部の上部を
一様に研磨して平滑にすることをいう。半研磨の方法と
しては、金属ロールを回転させながらエンボス表面に研
磨砥石を押しつける方法、研磨砥石を回転させた状態で
エンボス表面に押圧し、金属ロールを回転させる方法等
がある。研磨砥石の押圧力は、一般的に２×１０4 〜１
０×１０5 Ｐａとされる。
【００１９】上記研磨砥石としては、一般にＪＩＳ規格
の＃２００〜＃２０００、好ましくは＃４００〜＃１０
００の酸化アルミニウムや炭化珪素が好適に用いられ
る。尚、研磨砥石としてサンドペーパーを用いることも
できる。
の＃２００〜＃２０００、好ましくは＃４００〜＃１０
００の酸化アルミニウムや炭化珪素が好適に用いられ
る。尚、研磨砥石としてサンドペーパーを用いることも
できる。
【００２０】半研磨の程度（半研磨面積比率）は、一般
的にＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される負荷長さ率（ｔ
ｐ）を用いて表わされる。即ち、半研磨後のエンボスロ
ールの粗さ曲線から、その平均線方向に基準長さだけ抜
き取り、この抜き取り部分の粗さ曲線の山頂線に平行な
レベルにおける切断長さの和の基準長さに対する比率
（半研磨面積比率）が、好ましくは２０〜６０％、より
好ましくは３０〜５０％となるように半研磨する。半研
磨面積比率が２０％未満では脱気性向上の効果が小さ
く、６０％を超えるとブロッキングが起こり易くなる。
的にＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される負荷長さ率（ｔ
ｐ）を用いて表わされる。即ち、半研磨後のエンボスロ
ールの粗さ曲線から、その平均線方向に基準長さだけ抜
き取り、この抜き取り部分の粗さ曲線の山頂線に平行な
レベルにおける切断長さの和の基準長さに対する比率
（半研磨面積比率）が、好ましくは２０〜６０％、より
好ましくは３０〜５０％となるように半研磨する。半研
磨面積比率が２０％未満では脱気性向上の効果が小さ
く、６０％を超えるとブロッキングが起こり易くなる。
【００２１】また、半研磨面積比率が大きい場合には、
上記半研磨したエンボス面に、例えば、粒径が５μｍ以
下の粒子を低い密度で分散ブラストすることにより、微
細な凸部に更に極微細な凹凸を形成してもよい。極微細
な凹凸は、それぞれが独立した凹凸であることが好まし
く、これにより、ガラス板との滑り性が維持され、更に
よいブロッキング防止効果が得られる。
上記半研磨したエンボス面に、例えば、粒径が５μｍ以
下の粒子を低い密度で分散ブラストすることにより、微
細な凸部に更に極微細な凹凸を形成してもよい。極微細
な凹凸は、それぞれが独立した凹凸であることが好まし
く、これにより、ガラス板との滑り性が維持され、更に
よいブロッキング防止効果が得られる。
【００２２】半研磨の後で上記分散ブラストした後、常
法によりエンボスの粗さや形状に沿ってクロムメッキ、
ニッケルメッキ、亜鉛メッキ等の金属メッキを施す。金
属メッキは電気メッキ、化学メッキのいずれで行っても
よいが、化学メッキによるとエンボスの粗さや形状に沿
って平滑で均一な厚みのメッキ層を形成できるので好ま
しい。
法によりエンボスの粗さや形状に沿ってクロムメッキ、
ニッケルメッキ、亜鉛メッキ等の金属メッキを施す。金
属メッキは電気メッキ、化学メッキのいずれで行っても
よいが、化学メッキによるとエンボスの粗さや形状に沿
って平滑で均一な厚みのメッキ層を形成できるので好ま
しい。
【００２３】金属メッキの厚さはエンボスの粗さや形状
を維持する点で薄い方が好ましく、一方、耐薬品性や防
錆効果の点では厚い方が好ましい。これら両方を考慮す
ると５〜２０μｍの範囲が好ましい。最終的に得られる
エンボスの粗さはＪＩＳ Ｂ０６０１で定義される十点
平均粗さで２０〜５０μｍとするのが好ましい。
を維持する点で薄い方が好ましく、一方、耐薬品性や防
錆効果の点では厚い方が好ましい。これら両方を考慮す
ると５〜２０μｍの範囲が好ましい。最終的に得られる
エンボスの粗さはＪＩＳ Ｂ０６０１で定義される十点
平均粗さで２０〜５０μｍとするのが好ましい。
【００２４】次に、上記のようにして得られたエンボス
ロールを用いて製造された合わせガラス用中間膜につい
て説明する。合わせガラス用中間膜の材料としては、従
来より安全ガラス用中間膜の樹脂として用いられている
ポリビニルアセタール樹脂が好適であり、特に、ブチラ
ール化度６０〜７０モル％、重合度１０００〜２０００
のポリビニルブチラール樹脂が最適である。
ロールを用いて製造された合わせガラス用中間膜につい
て説明する。合わせガラス用中間膜の材料としては、従
来より安全ガラス用中間膜の樹脂として用いられている
ポリビニルアセタール樹脂が好適であり、特に、ブチラ
ール化度６０〜７０モル％、重合度１０００〜２０００
のポリビニルブチラール樹脂が最適である。
【００２５】上記合わせガラス用中間膜に用いられる可
塑剤としては、例えば、トリエチレングリコールジ−２
−エチルブチレート、トリエチレングリコールジ−ヘプ
タノエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘ
キサノエート、テトラエチレングリコールジ−２−エチ
ルブチレート、テトラエチレングリコールジ−ヘプタノ
エート、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキ
サノエート等のグリコール系；ジヘキシルアジペート、
ジオクチルアジペート等のアジペート系；ジベンジルフ
タレート等のフタル酸系などのものを単独又は２種以上
併用して用いることができる。本発明の合わせガラス用
中間膜における可塑剤の添加量は、ポリビニルアセター
ル樹脂１００重量部に対して２０〜６０重量部の範囲と
するのが好ましい。
塑剤としては、例えば、トリエチレングリコールジ−２
−エチルブチレート、トリエチレングリコールジ−ヘプ
タノエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘ
キサノエート、テトラエチレングリコールジ−２−エチ
ルブチレート、テトラエチレングリコールジ−ヘプタノ
エート、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキ
サノエート等のグリコール系；ジヘキシルアジペート、
ジオクチルアジペート等のアジペート系；ジベンジルフ
タレート等のフタル酸系などのものを単独又は２種以上
併用して用いることができる。本発明の合わせガラス用
中間膜における可塑剤の添加量は、ポリビニルアセター
ル樹脂１００重量部に対して２０〜６０重量部の範囲と
するのが好ましい。
【００２６】本発明の合わせガラス用中間膜には、紫外
線吸収剤、酸化防止剤、接着力調整剤等の種々の添加剤
が含有されていてもよい。
線吸収剤、酸化防止剤、接着力調整剤等の種々の添加剤
が含有されていてもよい。
【００２７】本発明の合わせガラス用中間膜は、前記本
発明のエンボスロールを用いてエンボス加工されたもの
であるから、ガラス板面との滑り性がよいので重ね合わ
せ作業し易く、脱気性に優れ、ガラス板との密着性に優
れたものである。
発明のエンボスロールを用いてエンボス加工されたもの
であるから、ガラス板面との滑り性がよいので重ね合わ
せ作業し易く、脱気性に優れ、ガラス板との密着性に優
れたものである。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を説明す
る。 （実施例１）鏡面研磨されたチルド鉄ロール（直径３５
０ｍｍ）を回転させながら、その表面の周方向にミル加
工により多数の凹溝と凸条を形成した。図１は上記ミル
加工された状態を拡大して示す斜視図であり、１は凹
溝、２は凸条である（Ｈ＝４０μｍ、Ｌ1 ＝４０μｍ、
Ｌ2 ＝８０μｍ、Ｌ3 ＝３２０μｍ）。次に、酸化アル
ミニウム（＃３６；飽和条件で６５μｍ粗さとなる条
件）からなるブラスト材を吐出圧力５０×１０4 Ｐａで
吐出してブラスト処理を行った。その後、研磨砥石を押
しつけて半研磨を行い、上記ブラスト処理によるランダ
ム形状部分が７０％、半研磨による平滑部が３０％であ
り、平滑部が回転方向（膜の流れ方向）に一定の幅を有
するエンボスロールが得られた。図２は半研磨された状
態を示す平面図であり、１は凹溝、３は半研磨による平
滑部である。
る。 （実施例１）鏡面研磨されたチルド鉄ロール（直径３５
０ｍｍ）を回転させながら、その表面の周方向にミル加
工により多数の凹溝と凸条を形成した。図１は上記ミル
加工された状態を拡大して示す斜視図であり、１は凹
溝、２は凸条である（Ｈ＝４０μｍ、Ｌ1 ＝４０μｍ、
Ｌ2 ＝８０μｍ、Ｌ3 ＝３２０μｍ）。次に、酸化アル
ミニウム（＃３６；飽和条件で６５μｍ粗さとなる条
件）からなるブラスト材を吐出圧力５０×１０4 Ｐａで
吐出してブラスト処理を行った。その後、研磨砥石を押
しつけて半研磨を行い、上記ブラスト処理によるランダ
ム形状部分が７０％、半研磨による平滑部が３０％であ
り、平滑部が回転方向（膜の流れ方向）に一定の幅を有
するエンボスロールが得られた。図２は半研磨された状
態を示す平面図であり、１は凹溝、３は半研磨による平
滑部である。
【００２９】（実施例２）鏡面研磨されたチルド鉄ロー
ル（直径３５０ｍｍ）の周方向に、ミル加工により図３
の拡大斜視図で示すような多数の凹溝１１及び凸条２、
凸条２１（Ｈ＝４０μｍ、Ｌ4 ＝８０μｍ、Ｌ5 ＝１２
０μｍ）を形成した。この鉄ロールに、半研磨面積比率
が５０％となるように半研磨したこと以外は実施例１と
同様にしてブラスト処理を行い、ランダム形状部分が５
０％であり、平滑部が回転方向（膜の流れ方向）に一定
の幅を有するエンボスロールを得た。図４はこのエンボ
スロールの表面状態を示す平面図であり、１１は凹部、
４は半研磨による平滑部である。
ル（直径３５０ｍｍ）の周方向に、ミル加工により図３
の拡大斜視図で示すような多数の凹溝１１及び凸条２、
凸条２１（Ｈ＝４０μｍ、Ｌ4 ＝８０μｍ、Ｌ5 ＝１２
０μｍ）を形成した。この鉄ロールに、半研磨面積比率
が５０％となるように半研磨したこと以外は実施例１と
同様にしてブラスト処理を行い、ランダム形状部分が５
０％であり、平滑部が回転方向（膜の流れ方向）に一定
の幅を有するエンボスロールを得た。図４はこのエンボ
スロールの表面状態を示す平面図であり、１１は凹部、
４は半研磨による平滑部である。
【００３０】（実施例３）鏡面研磨されたチルド鉄ロー
ル（直径３５０ｍｍ）の表面に、図５に示すように多数
の凹部１２と凸条２２をミル加工で格子状に形成した
（Ｈ＝４０μｍ、Ｌ 1＝７０μｍ、Ｌ2 ＝３０μｍ、Ｌ
3 ＝３２０μｍ）。図６はこのロール表面を示す平面図
である。酸化アルミニウム（＃３６番；飽和する条件で
６５μｍの粗さとなる条件）からなるブラスト材を用い
て吐出圧力５０×１０4 Ｐａでブラスト処理を行った。
この面に半研磨面積比率が５０％となるように半研磨し
た。図７は半研磨された表面の状態を示す平面図で、１
２は凹部であり、５は半研磨による平滑部である。この
ロール表面はブラストによるランダム形状部分が５０
％、半研磨による平滑部が５０％であり、平滑部が回転
方向（膜の流れ方向）に直角方向で一定の幅を有するも
のであった。
ル（直径３５０ｍｍ）の表面に、図５に示すように多数
の凹部１２と凸条２２をミル加工で格子状に形成した
（Ｈ＝４０μｍ、Ｌ 1＝７０μｍ、Ｌ2 ＝３０μｍ、Ｌ
3 ＝３２０μｍ）。図６はこのロール表面を示す平面図
である。酸化アルミニウム（＃３６番；飽和する条件で
６５μｍの粗さとなる条件）からなるブラスト材を用い
て吐出圧力５０×１０4 Ｐａでブラスト処理を行った。
この面に半研磨面積比率が５０％となるように半研磨し
た。図７は半研磨された表面の状態を示す平面図で、１
２は凹部であり、５は半研磨による平滑部である。この
ロール表面はブラストによるランダム形状部分が５０
％、半研磨による平滑部が５０％であり、平滑部が回転
方向（膜の流れ方向）に直角方向で一定の幅を有するも
のであった。
【００３１】（実施例４）図１と同様のミル加工した鉄
ロールに、実施例１と同様にブラスト処理を行った後、
半研磨面積比率が６０％となるように半研磨した。図８
はその状態を示す平面図であり、１３は凹部、６は平滑
部である。次に、上記半研磨面に酸化アルミニウム（＃
１５０番；飽和する条件で１０μｍ粗さとなる条件）で
表面の約２０％に凹部が生じるようにブラスト処理し
た。これにより、ブラスト処理によるランダム形状部分
が４０％、半研磨による平滑部分が６０％であるが、平
面部分が回転方向（膜の流れ方向）に直角方向で一定の
幅を有するエンボスロールが得られた。
ロールに、実施例１と同様にブラスト処理を行った後、
半研磨面積比率が６０％となるように半研磨した。図８
はその状態を示す平面図であり、１３は凹部、６は平滑
部である。次に、上記半研磨面に酸化アルミニウム（＃
１５０番；飽和する条件で１０μｍ粗さとなる条件）で
表面の約２０％に凹部が生じるようにブラスト処理し
た。これにより、ブラスト処理によるランダム形状部分
が４０％、半研磨による平滑部分が６０％であるが、平
面部分が回転方向（膜の流れ方向）に直角方向で一定の
幅を有するエンボスロールが得られた。
【００３２】（比較例１）ミル加工を行わなかったこと
以外は実施例１と同様にして、粗さ約６０μｍのブラス
ト処理により、ランダム形状部分が７０％、半研磨面の
面積比率が３０％であるエンボスロールを得た。このエ
ンボスロールは半研磨部分が不連続で空気の流れが阻害
される形状であり、脱気性に欠けるものであった。図９
はこのエンボスロールの表面状態を示す平面図であり、
１４は凹部、７は半研磨による平滑部である。
以外は実施例１と同様にして、粗さ約６０μｍのブラス
ト処理により、ランダム形状部分が７０％、半研磨面の
面積比率が３０％であるエンボスロールを得た。このエ
ンボスロールは半研磨部分が不連続で空気の流れが阻害
される形状であり、脱気性に欠けるものであった。図９
はこのエンボスロールの表面状態を示す平面図であり、
１４は凹部、７は半研磨による平滑部である。
【００３３】（比較例２）ミル加工を行わなかったこと
以外は実施例１と同様にして、粗さ約６０μｍのブラス
ト処理により、ランダム形状部分が５０％、半研磨面の
面積比率が５０％であるエンボスロールを得た。図１０
はこのエンボスロールの表面状態を示す平面図であり、
半研磨による平滑部８が不連続で空気の流れが阻害され
る形状であり、脱気性に欠けるものであった。
以外は実施例１と同様にして、粗さ約６０μｍのブラス
ト処理により、ランダム形状部分が５０％、半研磨面の
面積比率が５０％であるエンボスロールを得た。図１０
はこのエンボスロールの表面状態を示す平面図であり、
半研磨による平滑部８が不連続で空気の流れが阻害され
る形状であり、脱気性に欠けるものであった。
【００３４】（比較例３）ミル加工を行わず、酸化アル
ミニウム（＃２４番；飽和する条件で８０μｍの粗さと
なる条件）で、粗さ約８０μｍのブラスト処理したこと
以外は、実施例１と同様にして、ブラスト処理によるラ
ンダム形状部分が３５％、半研磨面の面積比率が６５％
であるエンボスロールを得た。このエンボスロールはロ
ール粗さが３７μｍであったが、成膜したものは転写し
難く、膜粗さは３０μｍとなった。図１１はこのエンボ
スロールの表面状態を示す平面図であり、平滑部９は連
続したものになったが、平滑部９の占める面積割合が大
きく、成膜したものは滑り性が悪くブロッキングが生じ
た。
ミニウム（＃２４番；飽和する条件で８０μｍの粗さと
なる条件）で、粗さ約８０μｍのブラスト処理したこと
以外は、実施例１と同様にして、ブラスト処理によるラ
ンダム形状部分が３５％、半研磨面の面積比率が６５％
であるエンボスロールを得た。このエンボスロールはロ
ール粗さが３７μｍであったが、成膜したものは転写し
難く、膜粗さは３０μｍとなった。図１１はこのエンボ
スロールの表面状態を示す平面図であり、平滑部９は連
続したものになったが、平滑部９の占める面積割合が大
きく、成膜したものは滑り性が悪くブロッキングが生じ
た。
【００３５】
【発明の効果】本発明のエンボスロールは、ガラス板と
中間膜とを重ね合わせる際の取扱い作業性がよく、これ
らを貼り合わせるための予備圧着工程での脱気性に優
れ、能率よく中間膜を製造することができる。又、本発
明の合わせガラス用中間膜は保管中に膜同士のブロッキ
ング発生が防止され、ガラス板との適当な滑り性を有す
るので貼り合わせ作業性に優れたものである。
中間膜とを重ね合わせる際の取扱い作業性がよく、これ
らを貼り合わせるための予備圧着工程での脱気性に優
れ、能率よく中間膜を製造することができる。又、本発
明の合わせガラス用中間膜は保管中に膜同士のブロッキ
ング発生が防止され、ガラス板との適当な滑り性を有す
るので貼り合わせ作業性に優れたものである。
【図１】ミル加工されたエンボスロール表面の拡大斜視
図。
図。
【図２】半研磨されたエンボスロールの表面の拡大斜視
図。
図。
【図３】ミル加工された他のエンボスロール表面の拡大
平面図。
平面図。
【図４】半研磨された他のエンボスロールの表面の拡大
斜視図。
斜視図。
【図５】格子状にミル加工されたエンボスロール表面の
拡大斜視図。
拡大斜視図。
【図６】図５の平面図。
【図７】図５のエンボスロール表面が半研磨された状態
を示す平面図。
を示す平面図。
【図８】半研磨された別のエンボスロールの表面の拡大
斜視図。
斜視図。
【図９】従来の方法で製造されたエンボスロール表面を
示す平面図。
示す平面図。
【図１０】従来の方法で製造された他のエンボスロール
表面を示す平面図。
表面を示す平面図。
【図１１】従来の方法で製造された更に他のエンボスロ
ール表面を示す平面図。
ール表面を示す平面図。
１，１１，１２，１３：凹溝 ２，２１，２２：凸条 ３，４，５，６，７，８，９：平滑部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F209 AF01 AG01 AG05 AJ02 PA03 PB02 PC01 PC05 PN06 PN20 PQ01 PW26 PW31 4G061 AA13 BA01 BA02 CA02 CB03 CB19 CD02 CD03 CD12 CD18 DA07 DA10 DA23
Claims (5)
- 【請求項１】 金属ロールの表面に彫刻ミル法またはエ
ッチング法により凸条と凹溝とからなるエンボスが形成
され、該エンボス面にブラスト処理により微細な凹凸が
形成され、エンボスを形成する凸条に形成された微細な
凸部の上部が半研磨されてなることを特徴とするエンボ
スロール。 - 【請求項２】 上部が半研磨された微細な凸部に、更に
極微細な凹凸が形成されてなることを特徴とする請求項
１記載のエンボスロール。 - 【請求項３】 金属ロールの表面に彫刻ミル法またはエ
ッチング法により凸条と凹溝とからなるエンボス加工を
施し、該エンボス面をブラスト処理することにより微細
な凹凸を形成し、エンボス面を半研磨することによりエ
ンボス面の凸条に形成された微細な凸部の上部を半研磨
することを特徴とするエンボスロールの製造方法。 - 【請求項４】 上部が半研磨された凸部にブラスト処理
により極微細な凹凸を形成することを特徴とする請求項
３記載のエンボスロールの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１又は２記載のエンボスロールを
用いて製造されることを特徴とする合わせガラス用中間
膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000352739A JP3953270B2 (ja) | 2000-11-20 | 2000-11-20 | エンボスロールの製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2000352739A JP3953270B2 (ja) | 2000-11-20 | 2000-11-20 | エンボスロールの製造方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2006210159A Division JP4324183B2 (ja) | 2006-08-01 | 2006-08-01 | エンボスロール及び合わせガラス用中間膜 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002154156A true JP2002154156A (ja) | 2002-05-28 |
| JP3953270B2 JP3953270B2 (ja) | 2007-08-08 |
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| JP2000296555A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Sekisui Chem Co Ltd | エンボスロール及びエンボス付き合わせガラス用中間膜の製造方法 |
-
2000
- 2000-11-20 JP JP2000352739A patent/JP3953270B2/ja not_active Expired - Fee Related
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