JP2002151578A - 真空中で使用するエアベアリングリニアガイド - Google Patents
真空中で使用するエアベアリングリニアガイドInfo
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- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
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- F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
- F16C33/72—Sealings
- F16C33/74—Sealings of sliding-contact bearings
- F16C33/741—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid
- F16C33/748—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid flowing to or from the sealing gap, e.g. vacuum seals with differential exhaust
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70816—Bearings
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】真空装置内でステージに使用するエアベアリン
グからの真空チャンバ内への空気の漏れを低減させる。 【解決手段】エアベアリングから排出される空気を吸引
する複数の溝３１０，３１４，３１８をエアベアリング
の周囲に廻らせ、更に、溝と溝との間は流路を狭めて空
気の流出が少なくなるようにした。
グからの真空チャンバ内への空気の漏れを低減させる。 【解決手段】エアベアリングから排出される空気を吸引
する複数の溝３１０，３１４，３１８をエアベアリング
の周囲に廻らせ、更に、溝と溝との間は流路を狭めて空
気の流出が少なくなるようにした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は一般にはリソグラ
フィーに関し、詳細には、電子線リソグラフィーに使用
するステージに関する。
フィーに関し、詳細には、電子線リソグラフィーに使用
するステージに関する。
【0002】
【従来の技術】光露光プロセス等の露光プロセスは、ウ
エハ、つまり、半導体チップを製造するものである。従
来の露光システムは、光露光システムと電子線露光シス
テムを含んでいる。多くの光露光システム、電子線露光
システムはウエハ上に直接「描画する」プロセスを使用
するが、この直接描画するプロセスは比較的遅いプロセ
スである。ウエハに描く速度を上げるためには、電子線
露光システムは、光露光システムと同様に、限定された
領域のパターンを投影する方法がある。パターンは、一
般に、レチクル上にあり、レチクルはウエハのマスクと
しての役割を果たす。電子線露光システムでは、比較的
幅広の電子線が集光されレチクルに照射される。レチク
ルは、シリコンウエハでも良いし、ステンシルタイプの
ウエハでも良い。通常、パターンは電子線を吸収すると
いうよりは屈折させ、電子がウエハ上に焦点を結ばない
ようにしている。
エハ、つまり、半導体チップを製造するものである。従
来の露光システムは、光露光システムと電子線露光シス
テムを含んでいる。多くの光露光システム、電子線露光
システムはウエハ上に直接「描画する」プロセスを使用
するが、この直接描画するプロセスは比較的遅いプロセ
スである。ウエハに描く速度を上げるためには、電子線
露光システムは、光露光システムと同様に、限定された
領域のパターンを投影する方法がある。パターンは、一
般に、レチクル上にあり、レチクルはウエハのマスクと
しての役割を果たす。電子線露光システムでは、比較的
幅広の電子線が集光されレチクルに照射される。レチク
ルは、シリコンウエハでも良いし、ステンシルタイプの
ウエハでも良い。通常、パターンは電子線を吸収すると
いうよりは屈折させ、電子がウエハ上に焦点を結ばない
ようにしている。
【0003】図１は電子線露光システムの標準的レンズシス
テムを模式的に表したものである。一般に，レンズシス
テム１０は照明レンズ１２と投影レンズ１８を含む。電
子線は電子銃によって生成され、照明レンズ１２を透過
し、レチクルチャンバ１４内のレチクル１６を通過す
る。レチクルチャンバ１４は普通、真空になっている。
電子線がレチクル１６に照射されると、電子線の一部は
レチクル１６を通過する。一方で、電子線の他の部分は
真空のウエハチャンバ２０、つまり真空チャンバに備え
られたウエハ２２に焦点を結ばないように、散乱され
る。言葉を替えると、レチクル１６は電子線の一部を効
果的にマスクするものである。投影レンズ１８は電子線
のパターンをウエハ２２に投影するために設けられてい
る。
テムを模式的に表したものである。一般に，レンズシス
テム１０は照明レンズ１２と投影レンズ１８を含む。電
子線は電子銃によって生成され、照明レンズ１２を透過
し、レチクルチャンバ１４内のレチクル１６を通過す
る。レチクルチャンバ１４は普通、真空になっている。
電子線がレチクル１６に照射されると、電子線の一部は
レチクル１６を通過する。一方で、電子線の他の部分は
真空のウエハチャンバ２０、つまり真空チャンバに備え
られたウエハ２２に焦点を結ばないように、散乱され
る。言葉を替えると、レチクル１６は電子線の一部を効
果的にマスクするものである。投影レンズ１８は電子線
のパターンをウエハ２２に投影するために設けられてい
る。
【0004】一般に、ウエハ２２は、投影レンズ１８の下
で、ウエハ２２を動かすためのウエハステージ（図示せ
ず）の上に乗っている。電子線露光システムに用いるウ
エハステージの設計は複雑であるが、これは磁場を変化
させる作用のある、動いている磁石あるいは金属を含ま
ないようにするために生ずる。
で、ウエハ２２を動かすためのウエハステージ（図示せ
ず）の上に乗っている。電子線露光システムに用いるウ
エハステージの設計は複雑であるが、これは磁場を変化
させる作用のある、動いている磁石あるいは金属を含ま
ないようにするために生ずる。
【0005】分離した真空チャンバがレチクルとウエハを収
容するために用いられる場合もあるが、一般にレンズシ
ステムの全体は一つの真空チャンバに収められる。図２
は電子線露光システムの標準的レンズシステムの模式図
であり、これは、真空チャンバ内に収められている。図
１のレンズシステム１０のように、レンズシステム５０
は照明レンズ１２と投影レンズ１８を含む。電子線は照
明レンズ１２を通過するようになっており、照明レンズ
１２を通過すると、電子線の一部をマスクするレチクル
１６に照射される。レチクル１６を通過すると、電子線
の一部は投影レンズ１８を通過し、ウエハ２２の上に達
する。以上のように、照明レンズ１２、レチクル１６、
投影レンズ１８、ウエハ２２は真空チャンバ６０の中に
収納されている。
容するために用いられる場合もあるが、一般にレンズシ
ステムの全体は一つの真空チャンバに収められる。図２
は電子線露光システムの標準的レンズシステムの模式図
であり、これは、真空チャンバ内に収められている。図
１のレンズシステム１０のように、レンズシステム５０
は照明レンズ１２と投影レンズ１８を含む。電子線は照
明レンズ１２を通過するようになっており、照明レンズ
１２を通過すると、電子線の一部をマスクするレチクル
１６に照射される。レチクル１６を通過すると、電子線
の一部は投影レンズ１８を通過し、ウエハ２２の上に達
する。以上のように、照明レンズ１２、レチクル１６、
投影レンズ１８、ウエハ２２は真空チャンバ６０の中に
収納されている。
【0006】電子線露光システムの特徴は投影された像がス
テージの動きに動的に追従できることである。これは、
専門家には判ることであるが、光露光では可能ではない
ことである。更に、電子線露光システムでは、ステージ
の動きの小さな誤差を修正することができる。これは光
露光システムでは一般にできないことである。
テージの動きに動的に追従できることである。これは、
専門家には判ることであるが、光露光では可能ではない
ことである。更に、電子線露光システムでは、ステージ
の動きの小さな誤差を修正することができる。これは光
露光システムでは一般にできないことである。
【0007】電子線露光システム内では動くものがしばしば
必要とされる。例えば、ウエハは、投影コラムの下にウ
エハを位置決めするためのウエハステージ上に置かれ
る。真空内でウエハステージを動かすために、エアベア
リングを用いると、エアベアリングがガイドビーム上を
動いている時には、比較的高い剛性、実質的にはゼロの
摩擦、そしての低いノイズを得られる。しかしながら、
従来のエアベアリングでは周囲に空気を漏らすため、エ
アベアリングガイドからの真空チャンバ内への空気の漏
れは真空チャンバの真空のレベルを下げる。一般に、エ
アベアリングからの許容される空気の漏れは、真空ポン
プの能力だけでなく、真空チャンバの許容される真空レ
ベルによる。電子ビーム露光システムで望まれる真空レ
ベルはかなり高く、例えば、１×１０−６Torr程度の真
空度が望まれる。従来のエアベアリングでの漏れはこれ
より遥かに大きく電子線露光システムとしては許容され
ない。
必要とされる。例えば、ウエハは、投影コラムの下にウ
エハを位置決めするためのウエハステージ上に置かれ
る。真空内でウエハステージを動かすために、エアベア
リングを用いると、エアベアリングがガイドビーム上を
動いている時には、比較的高い剛性、実質的にはゼロの
摩擦、そしての低いノイズを得られる。しかしながら、
従来のエアベアリングでは周囲に空気を漏らすため、エ
アベアリングガイドからの真空チャンバ内への空気の漏
れは真空チャンバの真空のレベルを下げる。一般に、エ
アベアリングからの許容される空気の漏れは、真空ポン
プの能力だけでなく、真空チャンバの許容される真空レ
ベルによる。電子ビーム露光システムで望まれる真空レ
ベルはかなり高く、例えば、１×１０−６Torr程度の真
空度が望まれる。従来のエアベアリングでの漏れはこれ
より遥かに大きく電子線露光システムとしては許容され
ない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】それゆえ、必要とされ
るのは、電子線露光システムでウエハを効率的に位置決
めするのに必要な方法と装置である。即ち、望まれるの
は比較的高い真空レベルで使うのに好適なベアリングガ
イドである。
るのは、電子線露光システムでウエハを効率的に位置決
めするのに必要な方法と装置である。即ち、望まれるの
は比較的高い真空レベルで使うのに好適なベアリングガ
イドである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明は高い真空度の
装置に使われるのに適当なエアベアリングに関する。真
空環境中で使われるのに適当なエアベアリングガイドは
ガイドの端部を覆うことなくガイドの一部を実質的に覆
うようになっている。エアベアリングリニアガイドは、
内面を持つスリーブとスリーブの内面に配置されている
エアパッドを含んでいる。第１の島がスリーブの内面に
少なくとも部分的に第１のエアパッドの周囲に配置され
ており、例えば、島がエアパッドの周囲から実質的に離
れて配置されている。第１の島とエアパッドは第１のチ
ャンネルを構成し、それにより、非真空環境、つまり大
気圧環境にあるかのようにエアパッドが働くようになっ
ている。エアベアリングガイドはスリーブの内面を真空
環境から実質的にシールする第２の島を含んでいる。真
空環境からスリーブの内面をシールすること、つまり、
スリーブの端部とガイドビームとの間の距離を最小限に
することによりエアベアリングガイドからの真空環境中
への大きな漏れは防ぐことができる。一つの具体例とし
ては、第２の島は実質的にスリーブをガイドビームから
シールするようになっている。
装置に使われるのに適当なエアベアリングに関する。真
空環境中で使われるのに適当なエアベアリングガイドは
ガイドの端部を覆うことなくガイドの一部を実質的に覆
うようになっている。エアベアリングリニアガイドは、
内面を持つスリーブとスリーブの内面に配置されている
エアパッドを含んでいる。第１の島がスリーブの内面に
少なくとも部分的に第１のエアパッドの周囲に配置され
ており、例えば、島がエアパッドの周囲から実質的に離
れて配置されている。第１の島とエアパッドは第１のチ
ャンネルを構成し、それにより、非真空環境、つまり大
気圧環境にあるかのようにエアパッドが働くようになっ
ている。エアベアリングガイドはスリーブの内面を真空
環境から実質的にシールする第２の島を含んでいる。真
空環境からスリーブの内面をシールすること、つまり、
スリーブの端部とガイドビームとの間の距離を最小限に
することによりエアベアリングガイドからの真空環境中
への大きな漏れは防ぐことができる。一つの具体例とし
ては、第２の島は実質的にスリーブをガイドビームから
シールするようになっている。
【0010】他の実施例としては、第３の島が第１の島から
離れて配置され第２のチャンネルを形成し、これによ
り、ガスを比較的低い真空度で保つようにするものがあ
る。このような例では、スリーブの内面の第１領域、こ
れは第2チャンネルと通気しているが、更に、ガイドビ
ームと通気しているようになっている。
離れて配置され第２のチャンネルを形成し、これによ
り、ガスを比較的低い真空度で保つようにするものがあ
る。このような例では、スリーブの内面の第１領域、こ
れは第2チャンネルと通気しているが、更に、ガイドビ
ームと通気しているようになっている。
【0011】本発明の他の面に関して言えば、ガイドベアリ
ング、これはガイドビームに対向し、またガイドビーム
に対して動くものであるが、スリーブ、複数のエアパッ
ド、複数の凸部、第1および第2の島を含んだものであ
る。スリーブは真空に曝される外面と内面を持つもので
ある。エアパッドは内面上にあり、第1の高さに揃って
いる。それぞれの凸部は、凸部とそれに対応するエアパ
ッドの間にチャンネルを形成しており、その高さは第1
の高さとほぼ同じ高さとなっている。それぞれのチャン
ネルは大気圧環境下へ排気するようになっている。島は
凸部と他の島とにより、チャンネルを形成している。第
1の複数の島と凸部はチャンネルを形成し、比較的低い
真空度を保つ、一方、第2の複数の島と第1の島はチャン
ネルを形成し、比較的高い真空度を保つ。
ング、これはガイドビームに対向し、またガイドビーム
に対して動くものであるが、スリーブ、複数のエアパッ
ド、複数の凸部、第1および第2の島を含んだものであ
る。スリーブは真空に曝される外面と内面を持つもので
ある。エアパッドは内面上にあり、第1の高さに揃って
いる。それぞれの凸部は、凸部とそれに対応するエアパ
ッドの間にチャンネルを形成しており、その高さは第1
の高さとほぼ同じ高さとなっている。それぞれのチャン
ネルは大気圧環境下へ排気するようになっている。島は
凸部と他の島とにより、チャンネルを形成している。第
1の複数の島と凸部はチャンネルを形成し、比較的低い
真空度を保つ、一方、第2の複数の島と第1の島はチャン
ネルを形成し、比較的高い真空度を保つ。
【0012】本発明のもう一つの側面について言えば、ガイ
ドベアリングシステムはエアベアリングリニアガイドと
第1のガイドビームを含む。エアベアリングリニアガイ
ドはエアパッドを備えた内面を持つスリーブを持つ。エ
アパッドは第１の島からエアーパッドの周囲を囲む第１
領域により分離されている。第１領域は実質的に大気圧
に通じている。エアベアリングリニアガイドは一般に、
第１のガイドビームを覆い、ガイドビームに対してスラ
イドするようになっている。ガイドビームはエアベアリ
ングリニアガイドと通気している第１のダクトと第２の
ダクトを含んでいる。一例として、エアパッドの上表面
と第１のガイドビームの外面との間隙はエアベアリング
の浮上高とほぼ等しい。
ドベアリングシステムはエアベアリングリニアガイドと
第1のガイドビームを含む。エアベアリングリニアガイ
ドはエアパッドを備えた内面を持つスリーブを持つ。エ
アパッドは第１の島からエアーパッドの周囲を囲む第１
領域により分離されている。第１領域は実質的に大気圧
に通じている。エアベアリングリニアガイドは一般に、
第１のガイドビームを覆い、ガイドビームに対してスラ
イドするようになっている。ガイドビームはエアベアリ
ングリニアガイドと通気している第１のダクトと第２の
ダクトを含んでいる。一例として、エアパッドの上表面
と第１のガイドビームの外面との間隙はエアベアリング
の浮上高とほぼ等しい。
【0013】一例として、第１の島は第２領域により第２の
島から分離されており、第２領域は第１ダクトと通気で
きるようになっている。そのような場合、第２の島は第
２のダクトと通気がある第３領域により第３の島から分
離されていても良い。ガイドベアリングシステムは第１
領域と第２領域を含む第２のガイドビームを含んでも構
わない。第２のガイドビームはエアベアリングリニアガ
イドに係合しており、エアベアリングリニアガイドの第
１のトランスファポートは第２領域と第１領域と通気し
ており、エアベアリングリニアガイドの第２トランスフ
ァポートは第３領域及び第２部分と通気している。
島から分離されており、第２領域は第１ダクトと通気で
きるようになっている。そのような場合、第２の島は第
２のダクトと通気がある第３領域により第３の島から分
離されていても良い。ガイドベアリングシステムは第１
領域と第２領域を含む第２のガイドビームを含んでも構
わない。第２のガイドビームはエアベアリングリニアガ
イドに係合しており、エアベアリングリニアガイドの第
１のトランスファポートは第２領域と第１領域と通気し
ており、エアベアリングリニアガイドの第２トランスフ
ァポートは第３領域及び第２部分と通気している。
【0014】本発明における、上記及びその他の利点は以下
の詳細な記述を読み、図を見ることにより明らかになる
であろう。
の詳細な記述を読み、図を見ることにより明らかになる
であろう。
【0015】
【実施例】電子線露光システムに好適なウエハステージ
は、従来のエアベアリングでは周囲に空気が漏れるため
に、従来のエアベアリングを含まない方が好ましい。電
子線露光システムの真空チャンバへのエアベアリングか
らの空気の漏れは、真空チャンバの真空度を著しく減少
させる。それゆえ、電子線露光プロセスに悪い影響を与
えることになる。換言すれば、従来のエアベアリング
は、電子線露光システムとして許容される漏れ量よりも
遥かに多く漏れる。
は、従来のエアベアリングでは周囲に空気が漏れるため
に、従来のエアベアリングを含まない方が好ましい。電
子線露光システムの真空チャンバへのエアベアリングか
らの空気の漏れは、真空チャンバの真空度を著しく減少
させる。それゆえ、電子線露光プロセスに悪い影響を与
えることになる。換言すれば、従来のエアベアリング
は、電子線露光システムとして許容される漏れ量よりも
遥かに多く漏れる。
【0016】大量な漏れの無いベアリングリニアガイドは使
うのに好適である。そのようなベアリングリニアガイド
は、真空チャンバ内に放出されポンプで排出される気体
の量を減らすため、リニアガイドに配置される排気溝を
備えても構わない。そのようなリニアガイドの一例とし
ては、実質的に全体の真空度にほとんど影響を与えない
漏れしかないものが考えられる。エアベアリングリニア
ガイドのそれぞれのエアパッドは実質的に直接大気圧に
放出されるチャンネルによって囲まれている。エアパッ
ドを含むリニアガイドが真空中で作動していている間、
そのようなエアパッドは、非真空中に置かれているよう
に作動する。それゆえ、リニアガイドは、真空中で、無
視できるほどの摩擦と比較的高い剛性と低い騒音で動か
すことができる。
うのに好適である。そのようなベアリングリニアガイド
は、真空チャンバ内に放出されポンプで排出される気体
の量を減らすため、リニアガイドに配置される排気溝を
備えても構わない。そのようなリニアガイドの一例とし
ては、実質的に全体の真空度にほとんど影響を与えない
漏れしかないものが考えられる。エアベアリングリニア
ガイドのそれぞれのエアパッドは実質的に直接大気圧に
放出されるチャンネルによって囲まれている。エアパッ
ドを含むリニアガイドが真空中で作動していている間、
そのようなエアパッドは、非真空中に置かれているよう
に作動する。それゆえ、リニアガイドは、真空中で、無
視できるほどの摩擦と比較的高い剛性と低い騒音で動か
すことができる。
【0017】図３は複数のベアリングリニアガイドを含むウ
エハステージを三次元的に表したものであり、２軸方向
に動けるウエハテーブルとして本発明の実施例の好適な
例である。ウエハステージ１００はテーブル１１４の上
のウエハ１１２をX軸１３２とY軸１３４に沿って動かす
ように出来ている。専門家には理解されるが、実施例の
中で、ウエハ１１２はZ軸１３０に沿って、テーブル１
１４あるいは全体１００に装着されたサーボモータ（図
示せず）により動かされても良い。
エハステージを三次元的に表したものであり、２軸方向
に動けるウエハテーブルとして本発明の実施例の好適な
例である。ウエハステージ１００はテーブル１１４の上
のウエハ１１２をX軸１３２とY軸１３４に沿って動かす
ように出来ている。専門家には理解されるが、実施例の
中で、ウエハ１１２はZ軸１３０に沿って、テーブル１
１４あるいは全体１００に装着されたサーボモータ（図
示せず）により動かされても良い。
【0018】テーブル１１４はエアベアリングリニアガイド
１０４に係合されている。エアベアリングリニアガイド
１０４はスライダのようなものであるが、これは、ガイ
ドビーム１１０ｂの上を動くようになっている。そして
ガイドビーム１１０ｂは、エアベアリングリニアガイド
１０２ｂに係合している。エアベアリングリニアガイド
１０２ｂとガイドビーム１１０ｂは以下に夫々図４〜図
７で言及される。
１０４に係合されている。エアベアリングリニアガイド
１０４はスライダのようなものであるが、これは、ガイ
ドビーム１１０ｂの上を動くようになっている。そして
ガイドビーム１１０ｂは、エアベアリングリニアガイド
１０２ｂに係合している。エアベアリングリニアガイド
１０２ｂとガイドビーム１１０ｂは以下に夫々図４〜図
７で言及される。
【0019】エアベアリングリニアガイドはガイドビーム１
１０ｂに係合しており、更に、磁気トラック１１６ｂと
エアガイド１３３ｂを含むガイド部材１０６ｂ内を動く
拡張部材１１８に係合されている。ガイドビーム１１０
ｂはＺ軸１３０に沿って支えられ、拡張部材１１８とリ
ニアガイド１０２ｂとによりＹ軸１３４回りに回転可能
に支えられている。更に、ガイドビーム１１０ｂはＸ軸
１３２とＺ軸１３４回りには回転に制限が加えられてい
る。拡張部材１１８のコイル部分は磁気トラック１１６
ｂ内でリニアモータを構成し可動となっており、一方で
拡張部材１１８はエアガイド１３３ｂの中を可動になっ
ている。そのため、拡張部材１１８はガイド部材１０６
ｂ内で滑り、リニアガイド１０２ｂがガイドビーム１０
８ｂ上を動けるようになっている。
１０ｂに係合しており、更に、磁気トラック１１６ｂと
エアガイド１３３ｂを含むガイド部材１０６ｂ内を動く
拡張部材１１８に係合されている。ガイドビーム１１０
ｂはＺ軸１３０に沿って支えられ、拡張部材１１８とリ
ニアガイド１０２ｂとによりＹ軸１３４回りに回転可能
に支えられている。更に、ガイドビーム１１０ｂはＸ軸
１３２とＺ軸１３４回りには回転に制限が加えられてい
る。拡張部材１１８のコイル部分は磁気トラック１１６
ｂ内でリニアモータを構成し可動となっており、一方で
拡張部材１１８はエアガイド１３３ｂの中を可動になっ
ている。そのため、拡張部材１１８はガイド部材１０６
ｂ内で滑り、リニアガイド１０２ｂがガイドビーム１０
８ｂ上を動けるようになっている。
【0020】エアベアリングリニアガイド１０４はガイドビ
ーム１１０ａ上を動くクロスベアリング１２２に係合さ
れている。クロスベアリング１２２はガイドビーム１１
０ａ上にあり、ガイドビーム１１０ａはヨー回転、つま
り、Ｚ軸１３０回りの回転ができるようになっていても
良い。ガイドビーム１１０ａがヨー回転するためには、
クロスベアリング１２２は内側の二つの垂直面上にエア
パッドを含むことになる。これにより、ヨー回転の剛
性、つまり、Ｚ軸１３０回りの回転剛性は最小となる。
更に、クロスベアリング１２２内部の水平面上のエアパ
ッドによって剛性が増し、実質的にクロスベアリング１
２２とリニアガイド１０４よりのみからできているステ
ージはＸ軸１３２方向、Ｚ軸１３０方向、Ｘ軸１３２回
り、Ｙ軸１３４回り、Ｚ軸１３０回りに制限を受けてい
る。
ーム１１０ａ上を動くクロスベアリング１２２に係合さ
れている。クロスベアリング１２２はガイドビーム１１
０ａ上にあり、ガイドビーム１１０ａはヨー回転、つま
り、Ｚ軸１３０回りの回転ができるようになっていても
良い。ガイドビーム１１０ａがヨー回転するためには、
クロスベアリング１２２は内側の二つの垂直面上にエア
パッドを含むことになる。これにより、ヨー回転の剛
性、つまり、Ｚ軸１３０回りの回転剛性は最小となる。
更に、クロスベアリング１２２内部の水平面上のエアパ
ッドによって剛性が増し、実質的にクロスベアリング１
２２とリニアガイド１０４よりのみからできているステ
ージはＸ軸１３２方向、Ｚ軸１３０方向、Ｘ軸１３２回
り、Ｙ軸１３４回り、Ｚ軸１３０回りに制限を受けてい
る。
【0021】上に示したように、ガイドビーム１１０ａはエ
アベアリングリニアガイド１０２ａに係合されており、
ガイドビーム１０８ａ上を動くようになっている。１例
として、エアベアリングリニアガイド１０２ａはエアベ
アリングリニアガイド１０２ｂと同様の構造をもってお
り、一方で、ガイドビーム１０８ａはガイドビーム１０
８ｂと同様の構造をもっている。ガイドビーム１１０ｂ
と同様に、ガイドビーム１１０ａは、コイル１１６ａと
エアガイド１３３ａを含むガイド部材１０６ａ内を動く
ようになっている延長部材１１８を持っている。
アベアリングリニアガイド１０２ａに係合されており、
ガイドビーム１０８ａ上を動くようになっている。１例
として、エアベアリングリニアガイド１０２ａはエアベ
アリングリニアガイド１０２ｂと同様の構造をもってお
り、一方で、ガイドビーム１０８ａはガイドビーム１０
８ｂと同様の構造をもっている。ガイドビーム１１０ｂ
と同様に、ガイドビーム１１０ａは、コイル１１６ａと
エアガイド１３３ａを含むガイド部材１０６ａ内を動く
ようになっている延長部材１１８を持っている。
【0022】例えばムービングコイルと固定磁石トラック１
１６を含み、ウエハ１１２を動かすために用いられるリ
ニアモータは、固定磁石トラック１１６が実際上固定さ
れているように配置されているので、磁石が動くタイプ
で生じる問題を効率的に解決している。一方、リニアモ
ータコイルは比較的大きい導体であるが、リニアモータ
コイルは比較的電子線コラムから離れて置かれているた
め、リニアモータによる磁場からシールドされている。
更に、リニアモータコイルがスキャン中に比較的大きな
磁場を生じさせたとしても、加速するに必要な電流は小
さく、そのため、電子線にはほとんど影響を与えない。
１６を含み、ウエハ１１２を動かすために用いられるリ
ニアモータは、固定磁石トラック１１６が実際上固定さ
れているように配置されているので、磁石が動くタイプ
で生じる問題を効率的に解決している。一方、リニアモ
ータコイルは比較的大きい導体であるが、リニアモータ
コイルは比較的電子線コラムから離れて置かれているた
め、リニアモータによる磁場からシールドされている。
更に、リニアモータコイルがスキャン中に比較的大きな
磁場を生じさせたとしても、加速するに必要な電流は小
さく、そのため、電子線にはほとんど影響を与えない。
【0023】ウエハステージのそれぞれのリニアガイド、例
えば、リニアガイド１０２，１０４，１２２は実質的に
は同じように作動する。特に、リニアエアガイド１０
２、１０４の流路は実質的には同じであり、リニアエア
ガイド１２２の流路はリニアエアガイド１０２、１０４
のものと同様である。図４〜６を参照しつつ、本発明の
実施例におけるリニアエアガイド１０２ｂについて述べ
る。リニアガイド１０２ｂはエアベアリングリニアガイ
ドとして作用し、矩形状のスリーブ３００に含まれてい
る。一般に、スリーブ３００は適当な方法によって作製
されていても構わない。一例を挙げれば、スリーブ３０
０は図３のガイドビーム１０８ｂに合う４枚の板からリ
ニアガイド１０２ｂとガイドビームの間に望まれる間隙
が維持されるように作製される。望まれる間隙はリニア
ガイド１０２ｂ内のエアベアリングパッド３０４の浮上
高に相当する。一方、望まれる間隙の大きさは、電子ビ
ーム投影システム全般に必要事項によって大きく変わる
が、典型的には、訳５から７μｍ程度である。
えば、リニアガイド１０２，１０４，１２２は実質的に
は同じように作動する。特に、リニアエアガイド１０
２、１０４の流路は実質的には同じであり、リニアエア
ガイド１２２の流路はリニアエアガイド１０２、１０４
のものと同様である。図４〜６を参照しつつ、本発明の
実施例におけるリニアエアガイド１０２ｂについて述べ
る。リニアガイド１０２ｂはエアベアリングリニアガイ
ドとして作用し、矩形状のスリーブ３００に含まれてい
る。一般に、スリーブ３００は適当な方法によって作製
されていても構わない。一例を挙げれば、スリーブ３０
０は図３のガイドビーム１０８ｂに合う４枚の板からリ
ニアガイド１０２ｂとガイドビームの間に望まれる間隙
が維持されるように作製される。望まれる間隙はリニア
ガイド１０２ｂ内のエアベアリングパッド３０４の浮上
高に相当する。一方、望まれる間隙の大きさは、電子ビ
ーム投影システム全般に必要事項によって大きく変わる
が、典型的には、訳５から７μｍ程度である。
【0024】エアーパッド３０４は、３１００Torrから４３
００Torrの圧力で供給する空気供給源につながれてお
り、リニアガイド１０２ｂの内面にそれぞれ配置されて
いる。エアパッド２０４は、従来のポーラスエアベアリ
ングを含む、従来のエアベアリングと同じに設計されて
いても構わないことに注意を払うべきである。上記実施
例において、リニアガイド１０２ｂの側面、つまり、図
４、５のリニアガイド１０２ｂの側面には４つのエアパ
ッド３０４を含み、図６に示すように、リニアガイド１
０２ｂの上面、底面にはそれぞれ２つのエアパッド３０
４を含んでも構わない。しかしながら、リニアガイドの
なかで、エアパッド３０４の配置場所だけでなくエアパ
ッド３０４の数も大きく異なっても構わないことに注意
すべきである。
００Torrの圧力で供給する空気供給源につながれてお
り、リニアガイド１０２ｂの内面にそれぞれ配置されて
いる。エアパッド２０４は、従来のポーラスエアベアリ
ングを含む、従来のエアベアリングと同じに設計されて
いても構わないことに注意を払うべきである。上記実施
例において、リニアガイド１０２ｂの側面、つまり、図
４、５のリニアガイド１０２ｂの側面には４つのエアパ
ッド３０４を含み、図６に示すように、リニアガイド１
０２ｂの上面、底面にはそれぞれ２つのエアパッド３０
４を含んでも構わない。しかしながら、リニアガイドの
なかで、エアパッド３０４の配置場所だけでなくエアパ
ッド３０４の数も大きく異なっても構わないことに注意
すべきである。
【0025】エアパッド３０４は一般にリニアガイド１０２
ｂの長さ、例えば、Ｘ軸１３２に沿ってのリニアガイド
１０２ｂの長さを実質的に最小限にするように配置され
ている。リニアガイド１０２ｂの長さを最小限にするこ
とにより、ガイドビーム、例えば、図３のガイドビーム
１０８の長さも同様に実質上最小限にされる。最小限の
長さにされたガイドビームはねじれ剛性と曲げ剛性を増
大させる。上記の実施例で、Ｘ軸１３２に沿ったリニア
ガイド１０２ｂの長さは行程の合計、つまり、リニアガ
イド１０２ｂのストロークと、リニアガイド１０２ｂの
排気ポートの長さ、つまり、図３のガイドビーム１０８
ｂの排気ポートの長さと、リニアガイドスリーブ３００
の端での島とチャンネルの長さ、つまりシーリング用島
３４０との合計の長さになる。
ｂの長さ、例えば、Ｘ軸１３２に沿ってのリニアガイド
１０２ｂの長さを実質的に最小限にするように配置され
ている。リニアガイド１０２ｂの長さを最小限にするこ
とにより、ガイドビーム、例えば、図３のガイドビーム
１０８の長さも同様に実質上最小限にされる。最小限の
長さにされたガイドビームはねじれ剛性と曲げ剛性を増
大させる。上記の実施例で、Ｘ軸１３２に沿ったリニア
ガイド１０２ｂの長さは行程の合計、つまり、リニアガ
イド１０２ｂのストロークと、リニアガイド１０２ｂの
排気ポートの長さ、つまり、図３のガイドビーム１０８
ｂの排気ポートの長さと、リニアガイドスリーブ３００
の端での島とチャンネルの長さ、つまりシーリング用島
３４０との合計の長さになる。
【0026】溝３１０、３１４，３１８は真空チャンバ中に
放出されるガスの量を減らすためにリニアガイド１０２
ｂに設けられている。エアパッド３０４の周囲を囲む溝
３１０は大気圧用溝で、絶対圧でおよそ８００Torr程度
の大気圧のガスを含んでいる。溝３１０により、エアパ
ッド３０４に大気圧環境を与えることができ、エアパッ
ド３０４は大気圧環境に囲まれているかのように効果的
に作動する。典型的には、溝３１０はポートとホース
（図示せず）を通してリニアガイド１０２ｂが駆動され
ている真空チャンバの外の大気圧に直接繋がっている。
放出されるガスの量を減らすためにリニアガイド１０２
ｂに設けられている。エアパッド３０４の周囲を囲む溝
３１０は大気圧用溝で、絶対圧でおよそ８００Torr程度
の大気圧のガスを含んでいる。溝３１０により、エアパ
ッド３０４に大気圧環境を与えることができ、エアパッ
ド３０４は大気圧環境に囲まれているかのように効果的
に作動する。典型的には、溝３１０はポートとホース
（図示せず）を通してリニアガイド１０２ｂが駆動され
ている真空チャンバの外の大気圧に直接繋がっている。
【0027】一例としては、溝３１０は低真空、例えば、お
よそ大気圧の半分の低い真空になっていても良い。これ
により、リニアガイド１０２ｂからのガスの放出が増大
しても構わない。低真空を溝３１０に接続されているホ
ースの一端にくわえても良い。これにより、溝３１０の
圧力は、大気圧あるいは１００〜８００Torrになり、流
れの抵抗を少なくすることができる。
よそ大気圧の半分の低い真空になっていても良い。これ
により、リニアガイド１０２ｂからのガスの放出が増大
しても構わない。低真空を溝３１０に接続されているホ
ースの一端にくわえても良い。これにより、溝３１０の
圧力は、大気圧あるいは１００〜８００Torrになり、流
れの抵抗を少なくすることができる。
【0028】島３３２により、溝３１０は低真空溝３１４か
ら分離される。一般に、島３３２はそれぞれ実質的に同
じ高さを持っている。一方、エアパッド３０４はガイド
ビーム、つまり、ガイドビーム１０８ｂと島３３２の間
の間隙が、エアベアリングの浮上高と実質的に同じにな
るようになっている。島３３２は図４〜６のガイドビー
ム１０８ｂの外面との間の隙間を作り、これが、溝３１
０から溝３１４への漏れを減らすのに役立っている。流
れ方向の島３３２の長さ、例えば、X軸１３２に沿った
溝３１０ａと３１４ａ間の島３３２ａの長さが、溝３１
０ａと３１４ａの間の流れ易さを決定し、最小限となる
ようにしても良い。
ら分離される。一般に、島３３２はそれぞれ実質的に同
じ高さを持っている。一方、エアパッド３０４はガイド
ビーム、つまり、ガイドビーム１０８ｂと島３３２の間
の間隙が、エアベアリングの浮上高と実質的に同じにな
るようになっている。島３３２は図４〜６のガイドビー
ム１０８ｂの外面との間の隙間を作り、これが、溝３１
０から溝３１４への漏れを減らすのに役立っている。流
れ方向の島３３２の長さ、例えば、X軸１３２に沿った
溝３１０ａと３１４ａ間の島３３２ａの長さが、溝３１
０ａと３１４ａの間の流れ易さを決定し、最小限となる
ようにしても良い。
【0029】溝３１４は低真空域３２２に通じており、低真
空域は低真空トランスファポート３４４に通じている。
低真空トランスファポート３０４は、図３のリニアガイ
ド１０４のためのビームガイドとして働くビーム１１０
ｂを通して配管されていても良い。上述の実施例では、
低真空トランスファポート３０４はビーム１１０ｂを通
して低真空開口３７０ａまで配管されていても良い。
空域は低真空トランスファポート３４４に通じている。
低真空トランスファポート３０４は、図３のリニアガイ
ド１０４のためのビームガイドとして働くビーム１１０
ｂを通して配管されていても良い。上述の実施例では、
低真空トランスファポート３０４はビーム１１０ｂを通
して低真空開口３７０ａまで配管されていても良い。
【0030】低真空域３２２は同様に、図３のガイドビーム
１０８ｂの低真空ポート通じている。これについては、
図８ａ、５ｂを参照しつつ以下に述べる。リニアガイド
１０２ｂがガイドビーム１０８ｂ上を動く時、低真空域
３２２は実質上常にガイドビーム１０８ｂの低真空ポー
トと通じるようになっている。低真空の流れを実質的に
最大限にし、スリーブ３００の内側に加わる力を実質的
に最小限にするように、一般に低真空域３２２の大きさ
は比較的大きくなっている。スリーブ３００の内側に加
わる力はスリーブ３００を押し広げ、ねじりを加える。
１０８ｂの低真空ポート通じている。これについては、
図８ａ、５ｂを参照しつつ以下に述べる。リニアガイド
１０２ｂがガイドビーム１０８ｂ上を動く時、低真空域
３２２は実質上常にガイドビーム１０８ｂの低真空ポー
トと通じるようになっている。低真空の流れを実質的に
最大限にし、スリーブ３００の内側に加わる力を実質的
に最小限にするように、一般に低真空域３２２の大きさ
は比較的大きくなっている。スリーブ３００の内側に加
わる力はスリーブ３００を押し広げ、ねじりを加える。
【0031】図５に示しているように、低真空域３２２は低
真空排気溝３２８とつながっている。低真空排気溝３２
８は図３のガイドビーム１０８ｂの低真空ポートと重な
るようになっており、低真空排気溝３２８の一部がスト
ローク、つまりリニアガイド１０２ｂの動いている間、
実質上低真空ポートを覆うようになっている。低真空排
気溝３２８の深さ、つまり、Ｙ軸１３４に沿っての低真
空排気溝３２８の深さは、一般には低真空域３２２の深
さより大きくなっており、５ｍｍから１０ｍｍの間で選
ばれる。そのような深さの範囲では、低真空排気溝３２
８と低真空ポートの間の十分な流れ易さが得られる。一
般に、低真空排気溝３２８により、リニアガイド１０２
ｂとガイドビーム１０８ｂの間の流れが得られる。これ
は図８ａと８ｂを参照しつつ、以下に述べる。
真空排気溝３２８とつながっている。低真空排気溝３２
８は図３のガイドビーム１０８ｂの低真空ポートと重な
るようになっており、低真空排気溝３２８の一部がスト
ローク、つまりリニアガイド１０２ｂの動いている間、
実質上低真空ポートを覆うようになっている。低真空排
気溝３２８の深さ、つまり、Ｙ軸１３４に沿っての低真
空排気溝３２８の深さは、一般には低真空域３２２の深
さより大きくなっており、５ｍｍから１０ｍｍの間で選
ばれる。そのような深さの範囲では、低真空排気溝３２
８と低真空ポートの間の十分な流れ易さが得られる。一
般に、低真空排気溝３２８により、リニアガイド１０２
ｂとガイドビーム１０８ｂの間の流れが得られる。これ
は図８ａと８ｂを参照しつつ、以下に述べる。
【0032】溝３１４は島３３６によって高真空溝３１８か
ら分離されている。島３３２のように、島３３６はエア
パッド３０４とほぼ同じ高さである。高真空溝は一般に
およそ１×１０−４Ｔｏｒｒの真空を保っている。実際
の圧力は様様な要因によって異なる。様様な要因には、
排気速度、流路の通り易さ、島３３２，３３６の相対的
な大きさ、ガイドビーム１０８ｂと島３３２，３３６間
の間隙の大きさ等があるが、これだけに限られるわけで
はない。溝３１８は図３のガイドビーム１０８ｂの高真
空ポートと重なる高真空排気溝３２６へ通じている。こ
れは、以下に図８ａと８ｂを参照しつつ述べる。高真空
排気溝３２６はまた、高真空トランスファポート３７４
に通じている。高真空トランスファポート３７４は高真
空排気溝３２６と図３のスライダ１０４との間をビーム
１１０ｂによってつなげるものである。ビーム１１０ｂ
は内部で２つのダクトに分かれており、１つは高真空を
保ち、高真空開口３７０ｂを持っており、もう１つは、
低真空を保ち、低真空開口３７０ａを持っている。これ
は、図７を参照しつつ以下で記述される。更に、それぞ
れのダクトはポンプにつながれており、即ち、高真空ダ
クトは高真空ポンプにつながれ、一方、低真空ダクトは
低真空ポンプにつながれていても良い。一般に、ポンプ
はガイドビーム１１０ｂにつながっているビームガイド
１０８の一つにつながれていても良い。
ら分離されている。島３３２のように、島３３６はエア
パッド３０４とほぼ同じ高さである。高真空溝は一般に
およそ１×１０−４Ｔｏｒｒの真空を保っている。実際
の圧力は様様な要因によって異なる。様様な要因には、
排気速度、流路の通り易さ、島３３２，３３６の相対的
な大きさ、ガイドビーム１０８ｂと島３３２，３３６間
の間隙の大きさ等があるが、これだけに限られるわけで
はない。溝３１８は図３のガイドビーム１０８ｂの高真
空ポートと重なる高真空排気溝３２６へ通じている。こ
れは、以下に図８ａと８ｂを参照しつつ述べる。高真空
排気溝３２６はまた、高真空トランスファポート３７４
に通じている。高真空トランスファポート３７４は高真
空排気溝３２６と図３のスライダ１０４との間をビーム
１１０ｂによってつなげるものである。ビーム１１０ｂ
は内部で２つのダクトに分かれており、１つは高真空を
保ち、高真空開口３７０ｂを持っており、もう１つは、
低真空を保ち、低真空開口３７０ａを持っている。これ
は、図７を参照しつつ以下で記述される。更に、それぞ
れのダクトはポンプにつながれており、即ち、高真空ダ
クトは高真空ポンプにつながれ、一方、低真空ダクトは
低真空ポンプにつながれていても良い。一般に、ポンプ
はガイドビーム１１０ｂにつながっているビームガイド
１０８の一つにつながれていても良い。
【0033】ビーム１１０ｂの延長部３８２には、エアパッ
ド３８４が含まれ、エアパッド３８４はエアガイドと対
向するようになっている。すなわち、図３のエアーガイ
ド１３３は、大気圧溝、低真空溝、高真空溝によって囲
まれていても良い。一例として、エアパッド３８４から
延長部３８２に関して逆側にある第２のエアパッド（図
示せず）を含んでいる。延長部３８２の対向する２面上
の単体のエアパッド３８４の代わりとして、２つまたは
それ以上のエアパッドを含んでも良いことは理解される
べきである。エアパッド３８４はエアパッド３０４似て
おり、エアパッド３０４同様大気圧溝に囲まれている。
エアーパッド３８４はエアガイド、例えば、図３のエア
ガイド１３３ｂ内で動くようになっており、図９を参照
しつつ以下に述べる。
ド３８４が含まれ、エアパッド３８４はエアガイドと対
向するようになっている。すなわち、図３のエアーガイ
ド１３３は、大気圧溝、低真空溝、高真空溝によって囲
まれていても良い。一例として、エアパッド３８４から
延長部３８２に関して逆側にある第２のエアパッド（図
示せず）を含んでいる。延長部３８２の対向する２面上
の単体のエアパッド３８４の代わりとして、２つまたは
それ以上のエアパッドを含んでも良いことは理解される
べきである。エアパッド３８４はエアパッド３０４似て
おり、エアパッド３０４同様大気圧溝に囲まれている。
エアーパッド３８４はエアガイド、例えば、図３のエア
ガイド１３３ｂ内で動くようになっており、図９を参照
しつつ以下に述べる。
【0034】島３４０、つまりシール用島は溝３１８をスリ
ーブ３００から分離している。言葉を替えれば、島３４
０は溝３１８を効果的にシールし、高真空の流れや他の
流れがにリニアガイド１０２ｂが使われている真空チャ
ンバ内に漏れるのを実質的に制限している。
ーブ３００から分離している。言葉を替えれば、島３４
０は溝３１８を効果的にシールし、高真空の流れや他の
流れがにリニアガイド１０２ｂが使われている真空チャ
ンバ内に漏れるのを実質的に制限している。
【0035】上述の実施例で、エアベアリングからの漏れは
大気圧溝３１０を通してリニアガイド１０２ｂが作動し
ている真空チャンバの外へつながれている可撓性ホース
へと排気されても良い。大気圧溝３１０からの漏れは低
真空溝３１４からポートを通してビーム１１０ｂの低真
空ダクトへ排気される。最終的には、低真空溝３１８か
らの漏れは高真空溝３１８からポートを通じてビーム１
１０ｂの高真空ダクトへ排気される。
大気圧溝３１０を通してリニアガイド１０２ｂが作動し
ている真空チャンバの外へつながれている可撓性ホース
へと排気されても良い。大気圧溝３１０からの漏れは低
真空溝３１４からポートを通してビーム１１０ｂの低真
空ダクトへ排気される。最終的には、低真空溝３１８か
らの漏れは高真空溝３１８からポートを通じてビーム１
１０ｂの高真空ダクトへ排気される。
【0036】先に述べたように、ビーム１１０ｂはリニアガ
イド１０２ｂに実質的に係合しており、２つのダクトを
持っている。図７は本発明による実施例のガイドビーム
１１０ｂの部分を模式的に示したものである。ガイドビ
ーム１１０ｂは低真空ダクト４０２と高真空ダクト４０
６を含んでいる。一般に、ガイドビーム１１０ｂは少な
くとも一つの低真空開口４０８と一つの高真空開口４１
０を含み、図３のスライダ１０４からリニアガイド１０
２ｂへ排気するためのものである。上述の実施例とし
て、図４に示したように、ガイドビーム１１０ｂは低真
空開口４０８と低真空開口３７０ａを含んでも良い。こ
れらは、ガイドビーム１１０ｂの対向する面にある。同
様に、図５に示したように、ガイドビーム１１０ｂは高
真空開口４１０と高真空開口３７０ｂを含んでも良い。
しかしながら、開口の数は大きく変わる可能性がある。
例えば、ガイドビーム１１０ｂは低真空開口３７０ａと
高真空開口３７０ｂだけを含んでも良い。開口の形状も
大きく変化することもある。例えば、ガイドビーム１１
０ｂは開口３７０ｂと開口４０８、あるいはガイドビー
ム１１０ｂは開口３７０ａと開口４１０のみを含むもの
でも構わない。
イド１０２ｂに実質的に係合しており、２つのダクトを
持っている。図７は本発明による実施例のガイドビーム
１１０ｂの部分を模式的に示したものである。ガイドビ
ーム１１０ｂは低真空ダクト４０２と高真空ダクト４０
６を含んでいる。一般に、ガイドビーム１１０ｂは少な
くとも一つの低真空開口４０８と一つの高真空開口４１
０を含み、図３のスライダ１０４からリニアガイド１０
２ｂへ排気するためのものである。上述の実施例とし
て、図４に示したように、ガイドビーム１１０ｂは低真
空開口４０８と低真空開口３７０ａを含んでも良い。こ
れらは、ガイドビーム１１０ｂの対向する面にある。同
様に、図５に示したように、ガイドビーム１１０ｂは高
真空開口４１０と高真空開口３７０ｂを含んでも良い。
しかしながら、開口の数は大きく変わる可能性がある。
例えば、ガイドビーム１１０ｂは低真空開口３７０ａと
高真空開口３７０ｂだけを含んでも良い。開口の形状も
大きく変化することもある。例えば、ガイドビーム１１
０ｂは開口３７０ｂと開口４０８、あるいはガイドビー
ム１１０ｂは開口３７０ａと開口４１０のみを含むもの
でも構わない。
【0037】次に、図８ａと８ｂを参照しつつ、ガイドビー
ム即ち図３のガイドビーム１０８ｂについて本発明の実
施例を説明する。ガイドビーム１０８ｂはＹ軸１３４に
沿って隣接する２つのダクト５０４を含んでいる。換言
すれば、ガイドビーム１０８ｂのダクト５０４はＹ軸１
３４に沿ってダクト５０４ａがダクト５０４ｂと隣接す
るように配置されている。ダクト５０４ａは高真空の流
れを、ダクト５０４ｂは低真空の流れを扱うものであ
る。
ム即ち図３のガイドビーム１０８ｂについて本発明の実
施例を説明する。ガイドビーム１０８ｂはＹ軸１３４に
沿って隣接する２つのダクト５０４を含んでいる。換言
すれば、ガイドビーム１０８ｂのダクト５０４はＹ軸１
３４に沿ってダクト５０４ａがダクト５０４ｂと隣接す
るように配置されている。ダクト５０４ａは高真空の流
れを、ダクト５０４ｂは低真空の流れを扱うものであ
る。
【0038】リニアガイド１０２ｂはガイドビーム１０８ｂ
の周囲を覆っており、リニアガイド１０２ｂがガイドビ
ーム１０８ｂ上を動く時に、低真空ポート５１２ｂは実
質的に常に低真空溝３２８にまたがっている。同様に、
リニアガイド１０２ｂのストローク範囲で、高真空排気
ポート５１２ａは実質的に常に高真空排気溝３２６にま
たがっている。図８ｂでは図示を簡単にするため、リニ
アガイド１０２ｂはエアパッドと溝を含んでいるが、そ
れらは図示されていないことに注意すべきである。
の周囲を覆っており、リニアガイド１０２ｂがガイドビ
ーム１０８ｂ上を動く時に、低真空ポート５１２ｂは実
質的に常に低真空溝３２８にまたがっている。同様に、
リニアガイド１０２ｂのストローク範囲で、高真空排気
ポート５１２ａは実質的に常に高真空排気溝３２６にま
たがっている。図８ｂでは図示を簡単にするため、リニ
アガイド１０２ｂはエアパッドと溝を含んでいるが、そ
れらは図示されていないことに注意すべきである。
【0039】リニアガイド１０２ｂがガイドビーム１０８ｂ
上をスライドする時、低真空ガスは低真空溝３２８とダ
クト５０４ｂ間で流れる。上記で図４を参照しつつ述べ
たように、低真空ガスは低真空排気溝３２８とビーム１
１０ｂの間を流れる。高真空ガスは高真空排気溝３２６
から排気ポート５１２ａへ、更にダクト５０４ａへと流
れる。
上をスライドする時、低真空ガスは低真空溝３２８とダ
クト５０４ｂ間で流れる。上記で図４を参照しつつ述べ
たように、低真空ガスは低真空排気溝３２８とビーム１
１０ｂの間を流れる。高真空ガスは高真空排気溝３２６
から排気ポート５１２ａへ、更にダクト５０４ａへと流
れる。
【0040】一例として、ダクト５０４ｂが低真空ポンプに
つながれているとき、ダクト５０４ａは高真空ポンプに
つながれていても構わない。ガイドビーム１０８ｂは一
般に固定されており、例えば、どの方向にも動くことは
なくポンプは可撓性ホース無しで直接ダクト５０４に接
続されていても良い。しかし、ガイドビーム１０８ｂと
図３のウエハステージ１００全体が、ある機器の上に載
せられてウエハステージ１００がＺ軸１３０に沿って動
く時には、ダクト５０４は可撓性ホースを用いてポンプ
に接続されていても構わない。可撓性ホースによりガイ
ドビーム１０８ｂはダクト５０４とポンプの接続に影響
を与えずに、Ｚ軸１３０に沿って動くことができる。
つながれているとき、ダクト５０４ａは高真空ポンプに
つながれていても構わない。ガイドビーム１０８ｂは一
般に固定されており、例えば、どの方向にも動くことは
なくポンプは可撓性ホース無しで直接ダクト５０４に接
続されていても良い。しかし、ガイドビーム１０８ｂと
図３のウエハステージ１００全体が、ある機器の上に載
せられてウエハステージ１００がＺ軸１３０に沿って動
く時には、ダクト５０４は可撓性ホースを用いてポンプ
に接続されていても構わない。可撓性ホースによりガイ
ドビーム１０８ｂはダクト５０４とポンプの接続に影響
を与えずに、Ｚ軸１３０に沿って動くことができる。
【0041】上述の如く、リニアガイドを動かすのにリニア
モータを用いても良い。例えば、図３のガイド部材１０
６ｂはコイル１１６ｂと延長部１１８を含むリニアモー
タが含まれている。図９を参照しつつ、本発明の実施例
によるガイド部材１０６ｂについて述べる。ガイド部材
１０６ｂはマグネットトラック１１６ｂとガイド１１３
ｂを含む。コイル６０２がマグネットトラック１１６ｂ
内で可動となっており、リニアモータを形成している。
延長部３８２は図４を参照しつつ上記で述べられたよう
に、少なくとも一つのエアパッドを含み、Ｘ軸１３２に
沿ってガイド１３３ｂ内を動く。延長部３８２のエアパ
ッドは、一般にエアパッドが実質的に大気圧溝、低真空
溝、高真空溝に囲まれるように配置されている。一例と
して、延長部３８２は四つのエアパッド、つまり、延長
部３８２の上面に２つのエアパッドと下面２つのエアパ
ッドを備えても良い。四つのエアパッドの使用により、
剛性、即ち、ガイドビーム１１０ｂとリニアガイド１０
２ｂに関してのＹ軸１３４回りのピッチング剛性が得ら
れる。延長部３８２の対向する面のエアパッドの使用に
より、相互にプリロードを与え、剛性を増大させる。
モータを用いても良い。例えば、図３のガイド部材１０
６ｂはコイル１１６ｂと延長部１１８を含むリニアモー
タが含まれている。図９を参照しつつ、本発明の実施例
によるガイド部材１０６ｂについて述べる。ガイド部材
１０６ｂはマグネットトラック１１６ｂとガイド１１３
ｂを含む。コイル６０２がマグネットトラック１１６ｂ
内で可動となっており、リニアモータを形成している。
延長部３８２は図４を参照しつつ上記で述べられたよう
に、少なくとも一つのエアパッドを含み、Ｘ軸１３２に
沿ってガイド１３３ｂ内を動く。延長部３８２のエアパ
ッドは、一般にエアパッドが実質的に大気圧溝、低真空
溝、高真空溝に囲まれるように配置されている。一例と
して、延長部３８２は四つのエアパッド、つまり、延長
部３８２の上面に２つのエアパッドと下面２つのエアパ
ッドを備えても良い。四つのエアパッドの使用により、
剛性、即ち、ガイドビーム１１０ｂとリニアガイド１０
２ｂに関してのＹ軸１３４回りのピッチング剛性が得ら
れる。延長部３８２の対向する面のエアパッドの使用に
より、相互にプリロードを与え、剛性を増大させる。
【0042】延長部３８２上のエアパッドにはホースを経由
して空気が供給される。延長部３８２はガイドビーム１
１０ｂに直接係合され、ガイドビーム１１０ｂに対して
は変位しないので、低真空、高真空から排気はガイドビ
ーム１１０ｂと延長部３８２の間で直接排気される。
して空気が供給される。延長部３８２はガイドビーム１
１０ｂに直接係合され、ガイドビーム１１０ｂに対して
は変位しないので、低真空、高真空から排気はガイドビ
ーム１１０ｂと延長部３８２の間で直接排気される。
【0043】本発明の２，３の実施例のみを記述したが、本
特許の趣旨から外れないで他の多くの実施形態があるこ
とを理解すべきである。例えば、エアベアリングリニア
ガイドを持つウエハステージは電子線投影システムにお
いて使われる真空チャンバに適当であると述べられてい
る。しかし、ウエハステージ、あるいはもっと一般的に
は、上に述べたエアベアリングリニアガイドはどのよう
な好適な真空環境において使われても良いことに注意す
べきである。好適な真空環境というのは、イオンビーム
リソグラフィ、紫外線リソグラフィを含むものである。
本発明のエアベアリングリニアガイドは非真空環境にお
いて使われても良い。例えば、純粋にガスのみの環境で
も構わない。
特許の趣旨から外れないで他の多くの実施形態があるこ
とを理解すべきである。例えば、エアベアリングリニア
ガイドを持つウエハステージは電子線投影システムにお
いて使われる真空チャンバに適当であると述べられてい
る。しかし、ウエハステージ、あるいはもっと一般的に
は、上に述べたエアベアリングリニアガイドはどのよう
な好適な真空環境において使われても良いことに注意す
べきである。好適な真空環境というのは、イオンビーム
リソグラフィ、紫外線リソグラフィを含むものである。
本発明のエアベアリングリニアガイドは非真空環境にお
いて使われても良い。例えば、純粋にガスのみの環境で
も構わない。
【0044】真空環境中で使われるエアベアリングリニアガ
イドの構成はエアパッドと流路のための様様なチャンネ
ルを含むものとして記述された。上記の如く記述された
エアベアリングリニアガイドの構成は比較的高い真空度
の環境下で使われるのに適当なエアベアリングリニアガ
イドの一例である。更に、エアベアリングリニアガイド
の設計は本発明の趣旨より外れない範囲で、上記に述べ
た設計からに大きく異なるものでも良い。例えば、エア
ベアリングリニアガイドのエアパッドの数は特定のシス
テムの要求に応じて大きく異なっても良い。更に、溝の
数、島の数は同様に異なっても良く、例えば、実施例に
よっては、高真空溝が無くなっても構わない。
イドの構成はエアパッドと流路のための様様なチャンネ
ルを含むものとして記述された。上記の如く記述された
エアベアリングリニアガイドの構成は比較的高い真空度
の環境下で使われるのに適当なエアベアリングリニアガ
イドの一例である。更に、エアベアリングリニアガイド
の設計は本発明の趣旨より外れない範囲で、上記に述べ
た設計からに大きく異なるものでも良い。例えば、エア
ベアリングリニアガイドのエアパッドの数は特定のシス
テムの要求に応じて大きく異なっても良い。更に、溝の
数、島の数は同様に異なっても良く、例えば、実施例に
よっては、高真空溝が無くなっても構わない。
【0045】エアベアリングリニアガイドはレチクルステー
ジをスキャンするのに適当と記述されたが、エアベアリ
ングリニアガイドは様様なステージに使われても構わな
い。様様なステージとは、レチクルとマスクステージを
含むものである。加えて、エアベアリングリニアガイド
は実質的にどのようなものに使っても良く、これはステ
ージでの使用に限らないということである。
ジをスキャンするのに適当と記述されたが、エアベアリ
ングリニアガイドは様様なステージに使われても構わな
い。様様なステージとは、レチクルとマスクステージを
含むものである。加えて、エアベアリングリニアガイド
は実質的にどのようなものに使っても良く、これはステ
ージでの使用に限らないということである。
【0046】一般に、リニアガイドはエアパッドが装着され
る内面と、外面を持つ矩形状をした形からなる。外面は
かなり高い真空に曝されている。例えば、電子線投影シ
ステムではおよそ１０−６Ｔｏｒｒ。その場合、内面は
エアベアリングの供給圧から１０−４Ｔｏｒｒ程度であ
る。リニアガイドの構成、より具体的にはスリーブは変
化しても良い。例えば、スリーブは４枚の板から組み立
てられ、スリーブのエアパッドを含む内面とガイドビー
ム間の望まれる間隙を保つようにガイドビームに合わせ
ても良い。スリーブの組み立ては、一般に組み立てれば
良く、例えば接着剤やねじを使って行っても良い。底板
と天板の端面が外に出るように、例えば、側板には接触
せず、側板の端面が底板と天板と接触するように４枚の
板を組み立てても良い。同様に、側板の端面が外にでる
ように、例えば、天板や底板に接触せず、天板と底板の
端面が側板に接触するように組み立てても良い。そのよ
うな組み立て方で問題が無くとも、スリーブの内面とガ
イドビーム間の間隙を調整することはできない。例え
ば、間隙の大きさを変化させるには、少なくとも幾つか
の板を変更する必要がある。
る内面と、外面を持つ矩形状をした形からなる。外面は
かなり高い真空に曝されている。例えば、電子線投影シ
ステムではおよそ１０−６Ｔｏｒｒ。その場合、内面は
エアベアリングの供給圧から１０−４Ｔｏｒｒ程度であ
る。リニアガイドの構成、より具体的にはスリーブは変
化しても良い。例えば、スリーブは４枚の板から組み立
てられ、スリーブのエアパッドを含む内面とガイドビー
ム間の望まれる間隙を保つようにガイドビームに合わせ
ても良い。スリーブの組み立ては、一般に組み立てれば
良く、例えば接着剤やねじを使って行っても良い。底板
と天板の端面が外に出るように、例えば、側板には接触
せず、側板の端面が底板と天板と接触するように４枚の
板を組み立てても良い。同様に、側板の端面が外にでる
ように、例えば、天板や底板に接触せず、天板と底板の
端面が側板に接触するように組み立てても良い。そのよ
うな組み立て方で問題が無くとも、スリーブの内面とガ
イドビーム間の間隙を調整することはできない。例え
ば、間隙の大きさを変化させるには、少なくとも幾つか
の板を変更する必要がある。
【0047】上述の実施例で組み立てられた矩形状のスリー
ブの接合部分は、領域３２２からウエハステージ全体を
収納する真空チャンバへの流れを制限するようになって
いる。加えて、図４の接合部３９２の長さ、つまり、島
３３２ａと島３３２ｆの接合部はほぼ大気圧の圧力を受
け、それゆえ、チャンバへの流れを制限するようになっ
ている。実質的に、島３３２に隣接する全ての接合部は
チャンバへの流れを制限するようになっていることに注
意すべきである。同様に、図４に示している島３３６ａ
の角にある接合部３９４は、同様に、チャンバへの流れ
を制限するようになっている。
ブの接合部分は、領域３２２からウエハステージ全体を
収納する真空チャンバへの流れを制限するようになって
いる。加えて、図４の接合部３９２の長さ、つまり、島
３３２ａと島３３２ｆの接合部はほぼ大気圧の圧力を受
け、それゆえ、チャンバへの流れを制限するようになっ
ている。実質的に、島３３２に隣接する全ての接合部は
チャンバへの流れを制限するようになっていることに注
意すべきである。同様に、図４に示している島３３６ａ
の角にある接合部３９４は、同様に、チャンバへの流れ
を制限するようになっている。
【0048】一例として、スリーブはそれぞれの板が曝され
た端面と他の板に接する端面をもっていても良い。スリ
ーブの４枚の板を組み立てるには、それぞれの板が曝さ
れた端面と他の面に接する端面を持つことにより、本発
明の趣旨から外れることなく、スリーブの内面とガイド
ビーム間の間隙を変化させることができる。
た端面と他の板に接する端面をもっていても良い。スリ
ーブの４枚の板を組み立てるには、それぞれの板が曝さ
れた端面と他の面に接する端面を持つことにより、本発
明の趣旨から外れることなく、スリーブの内面とガイド
ビーム間の間隙を変化させることができる。
【0049】一般に、更に低い真空度が必要な場合には、エ
アベアリングリニアガイドはどのような雰囲気の組み合
わせで設計しても良く、低真空排気溝、高真空溝はホー
スと内部ダクトのどのような組み合わせで使用しても構
わない。一方で、高い真空度が必要であれば、超高真空
用の排気溝とダクトを付加して排気しても良い。即ち、
エアベアリングリニアガイドを実際にデザインするに
は、特定のシステム、つまりステージシステムの要求に
より変更しても構わない。
アベアリングリニアガイドはどのような雰囲気の組み合
わせで設計しても良く、低真空排気溝、高真空溝はホー
スと内部ダクトのどのような組み合わせで使用しても構
わない。一方で、高い真空度が必要であれば、超高真空
用の排気溝とダクトを付加して排気しても良い。即ち、
エアベアリングリニアガイドを実際にデザインするに
は、特定のシステム、つまりステージシステムの要求に
より変更しても構わない。
【0050】本発明のガイドビームは、２部屋になってい
る。２部屋のビームの設計と大きさは大きく変更させて
も良い。例を挙げると、ビームの部屋あるいはダクトは
Ｙ軸に沿って並んでいると記述されたが、Ｚ軸に沿って
並ぶようにしても良い。従って、本実施例は一つの例と
して挙げたもので、これに限るものではなく、特許請求
の範囲の意図する範囲内で変更することができる。
る。２部屋のビームの設計と大きさは大きく変更させて
も良い。例を挙げると、ビームの部屋あるいはダクトは
Ｙ軸に沿って並んでいると記述されたが、Ｚ軸に沿って
並ぶようにしても良い。従って、本実施例は一つの例と
して挙げたもので、これに限るものではなく、特許請求
の範囲の意図する範囲内で変更することができる。
【0051】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
エアベアリングガイドからの真空チャンバ内への空気の
漏れは非常に少なくなり、真空チャンバの真空度を大き
く下げることが無くなる。つまり、従来では多くの場
合、真空チャンバ内では使用することが出来なかったエ
アベアリングガイドを真空チャンバ内で使用することが
できるようになり、しかもエアベアリングの特長である
比較的高い剛性、実質的にはゼロの摩擦、そしての低い
ノイズはいささかも失われることのない真空用高性能の
ステージを提供することができる。
エアベアリングガイドからの真空チャンバ内への空気の
漏れは非常に少なくなり、真空チャンバの真空度を大き
く下げることが無くなる。つまり、従来では多くの場
合、真空チャンバ内では使用することが出来なかったエ
アベアリングガイドを真空チャンバ内で使用することが
できるようになり、しかもエアベアリングの特長である
比較的高い剛性、実質的にはゼロの摩擦、そしての低い
ノイズはいささかも失われることのない真空用高性能の
ステージを提供することができる。
発明は以下の図面を参照しながら理解されるのが望まし
い。
い。
【図１】図１は電子線露光システムのレンズシステム構
成を模式的に表した図である。
成を模式的に表した図である。
【図２】図２は電子線露光システムの第二のレンズシス
テム構成を模式的に表した図である。
テム構成を模式的に表した図である。
【図３】図３は本発明による電子線露光システムの一部
として使用するのに好適なウエハステージを模式的に表
した図である。
として使用するのに好適なウエハステージを模式的に表
した図である。
【図４】図４は本発明の実施例を模式的に示すもので、
エアベアリングリニアガイドの第１部分、つまり、図３
のエアベアリングリニアガイド１０２ｂの部分を表した
図である。
エアベアリングリニアガイドの第１部分、つまり、図３
のエアベアリングリニアガイド１０２ｂの部分を表した
図である。
【図５】図５は本発明の実施例を模式的に示すもので、
エアベアリングリニアガイドの第２部分、つまり、図３
のエアベアリングリニアガイド１０２ｂの部分を表した
図である。
エアベアリングリニアガイドの第２部分、つまり、図３
のエアベアリングリニアガイド１０２ｂの部分を表した
図である。
【図６】図５は本発明の実施例を模式的に示すもので、
エアベアリングリニアガイドの第３部分、つまり、図３
のエアベアリングリニアガイド１０２ｂの部分を表した
図である。
エアベアリングリニアガイドの第３部分、つまり、図３
のエアベアリングリニアガイド１０２ｂの部分を表した
図である。
【図７】図７は本発明の実施例を模式的にを示すもの
で、ガイドビームの一部分、つまり、図３のガイドビー
ム１１０ｂの一部を表した図である。
で、ガイドビームの一部分、つまり、図３のガイドビー
ム１１０ｂの一部を表した図である。
【図８】図８ａは本発明の実施例を模式的にを示すもの
で、ガイドビームの一部分、つまり、図３のガイドビー
ム１０８ｂの一部を表した図である。図８ｂは本発明の
実施例を示すもので、エアベアリングリニアガイド内部
のガイドビーム、つまり図３のガイドビーム１０８ｂと
エアベアリングリニアガイド１０２ｂの断面を表した図
である。
で、ガイドビームの一部分、つまり、図３のガイドビー
ム１０８ｂの一部を表した図である。図８ｂは本発明の
実施例を示すもので、エアベアリングリニアガイド内部
のガイドビーム、つまり図３のガイドビーム１０８ｂと
エアベアリングリニアガイド１０２ｂの断面を表した図
である。
【図９】図９は本発明の実施例を示すもので、エアベア
リングリニアガイド内部のガイドビーム、つまり図３の
リニアガイド１０２ｂとガイドビームド１１０ｂを側方
から見た図である。
リングリニアガイド内部のガイドビーム、つまり図３の
リニアガイド１０２ｂとガイドビームド１１０ｂを側方
から見た図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3J102 AA02 BA05 CA05 EA02 EA23 GA19 5F031 CA02 CA07 HA53 KA06 KA07 KA08 LA03 LA08 MA27 NA05 5F056 EA14
Claims (26)
- 【請求項１】真空環境中で使用されるのに好適で、ガイ
ドビームの一部を覆うように設けられたエアベアリング
リニアガイドであって、内面を持つスリーブと、前記ス
リーブの内面上に第１のエアパッドと、前記スリーブの
内面上で少なくとも部分的に前記第１のエアパッドの周
囲に配置された第１の島とからなり、前記第１のエアパ
ッドと前記第１の島との間で形成される第１のチャンネ
ルが非真空環境に通じており、第２の島が真空環境から
前記スリーブの内面を実質的にシールすることを特徴と
するエアベアリングリニアガイド。 - 【請求項２】前記第２の島が前記エアベアリングリニア
ガイドに対して実質的にスリーブをシールすることを特
徴とする請求項１に記載のエアベアリングリニアガイ
ド。 - 【請求項３】前記第２の島が実質的に前記エアベアリン
グリニアガイドに密閉されており、前記第１の島と前記
エアベアリングリニアガイドとの間隙が前記エアパッド
の浮上高と実質的に同じであることを特徴とする請求項
２に記載のエアベアリングリニアガイド。 - 【請求項４】前記第１の島の高さと前記第１のエアパッ
ドの高さがほぼ等しいことを特徴とする請求項１に記載
のエアベアリングリニアガイド。 - 【請求項５】前記第１の島から離れて配置され少なくと
も部分的に比較的低い真空度の第２のチャンネルを形成
する第３の島を備えることを特徴とする請求項１に記載
のエアベアリングリニアガイド。 - 【請求項６】前記スリーブの内面上にある第１領域が前
記第２のチャンネルとつながり、更に前記ガイドビーム
と流路を持つことを特徴とする請求項５に記載のエアベ
アリングリニアガイド。 - 【請求項７】前記第１領域とガイドビームとの間の流路
となる第１の排気溝を持つことを特徴とする請求項６に
記載のエアベアリングリニアガイド。 - 【請求項８】少なくとも前記第３の島と前記第２の島の
間にあるものであり、比較的高い真空度を保つ第３のチ
ャンネルを含むことを特徴とする請求項５に記載のエア
ベアリングリニアガイド。 - 【請求項９】前記第３のチャンネルは前記ガイドビーム
とつながっていることを特徴とする請求項８に記載のエ
アベアリングリニアガイド。 - 【請求項１０】前記比較的低い真空度がおよそ０．１Ｔ
ｏｒｒからおよそ１Ｔｏｒｒであり、前記比較的高い真
空度がおよそ１０-４Ｔｏｒｒ台であることを特徴とす
る請求項８に記載のエアベアリングリニアガイド。 - 【請求項１１】ガイドビームと対向し、前記ガイドビー
ムに対して動くよう配置され、スリーブと複数のエアパ
ッドと複数の凸部と第１の複数の島と第２の複数の島と
を含むベアリングガイドであって、前記スリーブは、内
面と真空に曝される外面を持ち、前記複数のエアパッド
は、前記スリーブの前記内面上にそれぞれが第１の高さ
を持り、前記複数の凸部は、それぞれに対応するエアパ
ッド間でチャンネルを形成し、それぞれの前記チャンネ
ルは大気圧環境へ通じており、前記複数の凸部は第２の
高さを持ち実質的に第１の高さ同じであり、前記第１の
複数の島はそれぞれの島と対応する凸部とでチャンネル
を形成し、前記チャンネルは比較的低い真空ガスを保つ
ものであり、前記第２の複数の島はそれぞれの島と対応
する凸部とでチャンネルを形成し、チャンネルは比較的
高い真空ガスを保つものであることを特徴とするベアリ
ングガイド。 - 【請求項１２】前記第１の複数のそれぞれの凸部と前記
第１の複数の島の間で形成されるチャンネルとが、前記
第１の複数の島のそれぞれの島とそれに対応する凸部間
のチャンネル、及び前記第２の複数のそれぞれの島と前
記第１の複数のそれぞれの島との間のチャンネル間の流
れを共同して制限をするように配置されていることを特
徴とする請求項１１に記載のガイドベアリング。 - 【請求項１３】エアベアリングリニアガイドと第１のガ
イドビームからなるガイドベアリングシステムであっ
て、前記エアベアリングリニアガイドは、内面にエアパ
ッドを持つスリーブを含むものであり、前記エアパッド
は、前記エアパッドの周囲を囲み、そして実質的に大気
圧源に通じている第１領域により第１の島から隔てられ
ており、前記第１のガイドビームは、前記エアベアリン
グリニアガイドが前記第１のガイドビームの周囲を覆
い、前記第１のガイドビームに対してスライドするよう
に配置されており、前記第１のガイドビームは前記エア
ベアリングリニアガイドに通気している第１のダクトと
第２のダクトを含むものであることを特徴とするガイド
ベアリングシステム。 - 【請求項１４】前記第１の島は第１のダクトとつながっ
ている第２領域により第２の島から隔てられていること
を特徴とする請求項１３に記載のガイドベアリング。 - 【請求項１５】前記第２の島は第２のダクトとつながっ
ている第３領域により第３の島より隔てられていること
を特徴とする請求項１４に記載のガイドベアリング。 - 【請求項１６】前記第１のダクトに通じていて低真空ガ
スを排出する第１のポンプを備えたことを特徴とする請
求項１５に記載のガイドベアリングシステム。 - 【請求項１７】前記第２のダクトに通じていて高真空ガ
スを排出する第２のポンプを備えたことを特徴とする請
求項１６に記載のガイドベアリングシステム。 - 【請求項１８】前記第２ガイドビームは第１部分と第２
部分を持つもので、前記エアベアリングリニアガイドは
第１トランスファポートと第２トランスポートを持ち、
前記第１トランスファポートは前記第２領域と前記第１
部分とがつながっており、前記第２トランスファポート
は前記第３領域と前記第２部分とがつながっている第２
ガイドビームを備えたことを特徴とする請求項１５に記
載のガイドベアリングシステム。 - 【請求項１９】間隙がエアパッドの上面と前記第１のガ
イドビームの外面との間で決められることを特徴とする
請求項１３に記載のガイドベアリング。 - 【請求項２０】前記間隙は前記エアベアリングリニアガ
イドの浮上高とほぼ等しいことを特徴とする請求項１９
に記載のガイドベアリング。 - 【請求項２１】前記スリーブは前記第１のガイドビーム
に対して可動でしかもシールされていることを特徴とす
る請求項１３に記載のベアリングシステム。 - 【請求項２２】真空環境で用いるスリーブとエアパッド
含むガイドベアリングであって、前記スリーブは、内面
を持ち、エアパッドは、複数の溝と複数の島に囲まれ、
前記エアパッドは前記内面上に設けられ、前記複数の溝
のそれぞれは異なる圧力に排気され、前記異なる圧力は
前記エアパッドからの距離と共に下がり、前記複数の島
は前記複数の溝間の流れ易さを制限するものであること
を特徴とするガイドベアリング。 - 【請求項２３】前記複数の溝は大気圧溝、低真空溝、高
真空溝を含むことを特徴とする請求項２２に記載のガイ
ドベアリング。 - 【請求項２４】前記大気圧溝は低真空溝よりも前記エア
パッドに近く配置されており、前記低真空澪は前記高真
空溝よりも前記エアパッドに近く配置されていることを
特徴とする請求項２３に記載のガイドベアリング。 - 【請求項２５】前記低真空溝は第１の真空ポンプにつな
がれており、前記高真空溝は第２の真空ポンプにつなが
れていることを特徴とする請求項２４に記載のガイドベ
アリング。 - 【請求項２６】前記スリーブに少なくともねじれ剛性か
曲げ剛性のいずれか一つを与える複数のエアパッドを備
えたことを特徴とする請求項２２に記載のガイドベアリ
ング。
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