JP2002005168A - 静圧気体軸受 - Google Patents

静圧気体軸受

Info

Publication number
JP2002005168A
JP2002005168A JP2001067180A JP2001067180A JP2002005168A JP 2002005168 A JP2002005168 A JP 2002005168A JP 2001067180 A JP2001067180 A JP 2001067180A JP 2001067180 A JP2001067180 A JP 2001067180A JP 2002005168 A JP2002005168 A JP 2002005168A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas bearing
gas
pad
guide shaft
mating surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001067180A
Other languages
English (en)
Inventor
Takuma Tsuda
拓真 津田
Shinji Shinohara
慎二 篠原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
Priority to JP2001067180A priority Critical patent/JP2002005168A/ja
Publication of JP2002005168A publication Critical patent/JP2002005168A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】真空環境下においても、真空圧力を上昇させる
ことなく、利用することができる静圧気体軸受を提供す
る。特に、小型で、真空環境内で利用可能で、かつ軸受
外部への気体リーク量を低減した静圧気体軸受を提供す
る。 【解決手段】静圧気体軸受の移動部分の合わせ面内部に
気体排出用の合わせ面内排気溝を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、主に半導体露光装
置内の軸受として用いられる静圧気体軸受に関するもの
である。特に、真空環境下で使用される静圧気体軸受に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】現在、主に半導体露光装置内の軸受とし
て用いられる静圧気体軸受は、その高精度な運動性能か
ら、今後登場する次世代の半導体露光装置についても引
き続き採用されていくものと思われる。静圧気体軸受は
気体の圧力により移動部分を固定部分から浮上させて運
動するため、従来は気体を軸受外部に放出しながら利用
されていた。ところが次世代の半導体露光装置に用いら
れる光源の一つとして考えられている電子ビームは、大
気圧の環境においては利用できず、高真空の環境中に限
られるため、従来のような気体を外部に放出しながら運
動する静圧気体軸受は次世代の半導体露光装置内では利
用できない。そこで、真空中で静圧気体軸受を利用可能
とするために、図2に示したようにエアーパッド5の周
囲にラビリンス機構を設けることで気体を回収し、外部
に流出させない構造にすることで真空中で利用可能な静
圧気体軸受が開発され、採用されている。ところが、図
2に示したようなラビリンス機構の配置では、移動部分
2の内面全てにラビリンス機構のパッド周囲排気溝6が
配置されているためにガイド軸の断面は巨大化してしま
うという問題がある。この問題の解決方法としては、図
3のようなラビリンス機構の配置が考案されている。こ
のような配置ならば、ガイド軸1の断面は大気中で使用
される従来の静圧気体軸受とほとんど代わらない大きさ
で設計することが可能である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが図3に示した
ようなラビリンス機構の配置では、先述のように軸受の
小型化が実現できるものの、真空環境内で動作中、設計
値よりも気体のリーク量が増加してしまい超高真空の環
境内では軸受が利用できなくなるという問題が発生し
た。以下、図面を基にその問題が発生した理由を説明す
る。
【0004】図1に、本発明の対象となる静圧気体軸受
の外観を示した。同図のように静圧気体軸受のガイド軸
1断面が四角形の場合、それを取り囲む移動部分2は天
板2a、側板2b、底板2cの四枚の板により取り囲む
構造とする必要があり、移動部分2は四枚の板をそれぞ
れの合わせ面7にてネジ止めにより固定することで形成
されている。
【0005】ネジ止めにより固定された前記合わせ面7
は、合わせ面7の加工精度の限界から部分的に1μm程
度の隙間が空いているため、軸受内部においてこの隙間
部分に気体圧力がかかるような構造だと、前記合わせ面
7の隙間を通って気体が流出してしまう。即ち、図3に
示したラビリンス機構の配置において気体のリーク量が
増加してしまった原因は、エアーパッドから噴出した気
体がラビリンス機構のパッド周囲排気溝6に回収される
前、即ち高圧の状態で前記合わせ面7の隙間に流入し、
隙間を通過した気体が軸受外部の真空チャンバーへ流出
することである。
【0006】これを防止する方法としては、例えば前記
合わせ面7を接着することで固定する方法も考えられる
が、移動部分2とガイド軸1との間に形成される浮上隙
間11の調整が困難なため、現実的でない。
【0007】よって結局、高真空で静圧気体軸受を利用
する場合のラビリンス機構の配置は、巨大化というデメ
リットはあるものの図2に示したような構造とし、前記
移動部分2の合わせ面7にかかる気体の圧力が低くなる
ようにする必要があった。
【0008】本発明の目的は、真空環境下においても、
真空圧力を上昇させることのない静圧気体軸受を提供す
ることである。特に、図2に示したようにラビリンス機
構を配置することで静圧気体軸受を小型化しながら、か
つ静圧気体軸受外部への気体リーク量を低減した静圧気
体軸受を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、静圧気体軸受の移動部分2の合わせ面7内
部に、気体排出用の合わせ面内排気溝10を形成するこ
ととした。
【0010】上記構成にすることにより、静圧気体軸受
内部において前記合わせ面7に気体の圧力がかかり合わ
せ面7の隙間に気体が流入しても、合わせ面内排気溝1
0にて気体を回収し、静圧気体軸受外部への流出を防ぐ
ことが可能となる。
【0011】本発明の好ましい形態は、移動部分2の内
部にエアーパッド5を形成し、かつ、この移動部分2の
両端内部にラビリンス機構を形成し、さらに、この移動
部分2を形成している前記天板2aと前記側板2bとの
合わせ面7の内部、及び前記底板2cと前記側板2bと
の合わせ面7の内部に、気体排出用の合わせ面内排気溝
10を形成することとした。
【0012】上記構成にすることにより、移動部分を小
型化することができるとともに、静圧気体軸受内部にお
いて前記合わせ面7に気体の圧力がかかり合わせ面7の
隙間に気体が流入しても、合わせ面内排気溝10にて気
体を回収し、静圧気体軸受外部への流出を防ぐことが可
能となる。
【0013】本発明の好ましい形態は、合わせ面内排気
溝10とパッド周囲排気溝6とが接続されていることで
ある。
【0014】上記構成にすることにより、合わせ面内排
気溝10に流入した気体を排気する流路を移動部分2内
部に新たに設ける必要が無くなり、静圧気体軸受装置の
構成を単純化することができる。
【0015】本発明の好ましい形態は、前記ラビリンス
機構が複数段の前記パッド周囲排気溝6を有し、更に前
記パッド周囲排気溝6と同数の前記合わせ面内排気溝1
0を有し、複数の前記パッド周囲排気溝6と複数の前記
合わせ面内排気溝10とがそれぞれ一対一で接続されて
いることである。
【0016】上記構成にすることにより、エアーパッド
5周囲の排気と同様に合わせ面7内部の排気も段階的に
行われることとなるため、合わせ面7部の隙間を通過す
る気体の回収を効率的に行うことが可能となる。
【0017】
【発明の実施の形態】これより解説する本発明の実施例
である静圧気体軸受の外観は、図1に示した従来の静圧
気体軸受と同様である。この静圧気体軸受は、ガイド軸
1からなる固定部分と、ガイド軸1を取り囲むように配
置された天板2a、両側板2b、底板2cとからなる移
動部分2とによって構成されている。この移動部分2
は、天板2a、両側板2b、底板2cの四枚の板をそれ
ぞれの合わ面7を合わせて、ネジ穴8からネジでネジ止
めすることにより固定している。この静圧気体軸受への
気体の供給は移動部分2の天板2aに接続された気体供
給外部配管4より行われ、図11に示したように移動部
分2の内部に設けられた移動部分内部給気配管12を通
じて各エアーパッド5へと供給される。また、本実施例
におけるラビリンス機構の配置も、図2や図3に示した
ような従来型の配置と同様であり、移動部分2の内部に
エアーパッド5とその周囲にラビリンス機構を形成した
パッド周囲排気溝6(パッド周囲内側排気溝6a、パッ
ド周囲外側排気溝6b)を設けた構成としている。そし
て、この静圧気体軸受は、パッド周囲排気溝6(もしく
はパッド周囲外側排気溝6b)からの排気をガイド軸排
気配管3より回収する構成となっている。特に、図3
は、前記移動部分の内部にエアーパッド5を形成し、か
つ、この移動部分2の両端内部にラビリンス機構を形成
している。なお、図9は、ガイド軸1である。このガイ
ド軸1の中央部分に排気穴9が設けられており、この排
気穴9からパッド周囲排気溝6に流れ込んでくる気体を
回収し、ガイド軸排気配管3を介して外部に気体を排出
することができるようになっている。
【0018】本実施例の構造が従来のものと異なるの
は、移動部分2の合わせ面7内部の構造である。この合
わせ面7内部の構造を説明するため、図4に、従来の静
圧気体軸受における移動部分2の天板2aに形成された
エアーパッド5及びラビリンス機構の配置を示した。ま
た、図5には底板2c、図6には側板2bにおけるエア
ーパッド5及びラビリンス機構の配置を示している。こ
れらの図で明らかなように、点線で示した合わせ面7の
境界部にはエアーパッド5部から噴出した気体が流入
し、合わせ面7部の隙間を通過してしまう。
【0019】図7に、本発明による静圧気体軸受の一実
施例における移動部分2の天板2aに形成されたエアー
パッド5及びラビリンス機構の配置を示した。また、図
8には底板2cにおけるエアーパッド5及びラビリンス
機構の配置を示している。側板2bの構造は図6に示し
た従来のものと同様である。
【0020】これらの図に示したように、天板2a及び
底板2cの合わせ面7内部には、気体排出用の合わせ面
内排気溝10が形成されており、点線で示した合わせ面
7の境界部を通過した気体は前記合わせ面内排気溝10
に流入する。本実施例においては、前記合わせ面内排気
溝10は二段にて構成されており、それぞれパッド周囲
内側排気溝6a及びパッド周囲外側排気溝6bへと接続
されているため、前記合わせ面内排気溝10へ流入した
気体は全て回収され、ガイド軸1の排気穴9からガイド
軸排気配管3を通じて、図示されない真空排気ポンプへ
と排気される。
【0021】図10、図11には、静圧気体軸受の断面
図をそれぞれ示している。図10は、ガイド軸1の中央
に移動部分2が位置している場合の断面図である。断面
図で示すように、このガイド軸1の中央部分に設けられ
た排気穴9からパッド周囲排気溝6に流れ込んでくる気
体を回収し、ガイド軸排気配管3を介して外部に気体を
排出することができるようになっている。なお、このパ
ッド周囲排気溝6により回収できなかった気体が、たと
え合わせ面7の隙間を通って外部に流れ出ようとして
も、合わせ面内排気溝10により回収されるため、合わ
せ面7の隙間から外部に気体が流れ出て気圧を上昇させ
て真空環境を悪化させることはない。図11は、エアー
パッド5の部分の断面図である。気体供給外部配管4よ
り各エアパッド5に気体を供給している。この気体が移
動部分2とガイド軸1との隙間に供給され、非接触の状
態となり移動部分2がガイド軸1に沿って抵抗なく移動
することができる。そして、供給された気体をパッド周
囲排気溝6により回収するが、回収できなかった気体
が、たとえ合わせ面7の隙間を通って外部に流れ出よう
としても、合わせ面内排気溝10により回収されるた
め、合わせ面7の隙間から外部に気体が流れ出て気圧を
上昇させて真空環境を悪化させることはない。
【0022】
【発明の効果】本発明は上記構成により、従来、合わせ
面7の隙間を通過して軸受外部へ流出していた気体のリ
ーク量を大幅に低減することが可能となった。そのた
め、真空環境下においても、真空圧力を上昇させること
なく、静圧気体軸受を利用することができる。特に、本
発明の構成にすることにより、真空環境下で使用される
静圧気体軸受を小型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の対象となる静圧気体軸受の外観を示し
た斜視図である。
【図2】従来の静圧気体軸受における移動部分の、側板
と底板との接合部分を示す斜視図である。
【図3】従来の静圧気体軸受における移動部分の、側板
と底板との接合部分を示す斜視図である。
【図4】従来の静圧気体軸受における移動部分の天板に
形成されたエアーパッド及びラビリンス機構の配置を示
す図である。
【図5】従来の静圧気体軸受における移動部分の底板に
形成されたエアーパッド及びラビリンス機構の配置を示
す図である。
【図6】従来の静圧気体軸受における移動部分の側板に
形成されたエアーパッド及びラビリンス機構の配置を示
す図である。
【図7】本発明による静圧気体軸受の、移動部分の天板
に形成されたエアーパッド及びラビリンス機構の配置を
示す図である。
【図8】本発明による静圧気体軸受の、移動部分の底板
に形成されたエアーパッド及びラビリンス機構の配置を
示す図である。
【図9】本発明による静圧気体軸受の、ガイド軸を示す
斜視図である。
【図10】本発明による静圧気体軸受を、ガイド軸中央
の排気穴部にて切断した断面図である。
【図11】本発明による静圧気体軸受を、エアーパッド
にて切断した断面図である。
【符号の説明】
1…ガイド軸 2…移動部分 2a…天板 2b…側板 2c…底板 3…ガイド軸排気配管 4…気体供給外部配管 5…エアーパッド 6…パッド周囲排気溝 6a…パッド周囲内側排気溝 6b…パッド周囲外側排気溝 7…合わせ面 8…ネジ穴 9…排気穴 10…合わせ面内排気溝 11…浮上隙間 12…移動部分内部給気配管

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガイド軸からなる固定部分と、ガイド軸
    を取り囲むように配置された天板、底板、側板からなる
    移動部分とによって構成され、前記移動部分の内部にエ
    アーパッドとその周囲にラビリンス機構を形成した静圧
    気体軸受において、 前記天板と前記側板との合わせ面内部、及び前記底板と
    前記側板との合わせ面内部に、気体排出用の合わせ面内
    排気溝が形成されていることを特徴とする静圧気体軸
    受。
  2. 【請求項2】 ガイド軸からなる固定部分と、ガイド軸
    を取り囲むように配置された天板、底板、側板からなる
    移動部分とによって構成された静圧気体軸受において、 前記移動部分の内部にエアーパッドを形成し、かつ、こ
    の移動部分の両端内部にラビリンス機構を形成し、 さらに、この移動部分を形成している前記天板と前記側
    板との合わせ面内部、及び前記底板と前記側板との合わ
    せ面内部に、気体排出用の合わせ面内排気溝が形成され
    ていることを特徴とする静圧気体軸受。
  3. 【請求項3】 エアーパッドの周囲にラビリンス機構を
    形成し、真空中で利用可能とした請求項1又は2記載の
    静圧気体軸受において、前記ラビリンス機構の一部であ
    るパッド周囲排気溝と、前記合わせ面内排気溝とが接続
    されていることを特徴とする静圧気体軸受。
  4. 【請求項4】 前記ラビリンス機構が複数段の前記パッ
    ド周囲排気溝を有し、更に前記パッド周囲排気溝と同数
    の前記合わせ面内排気溝を有し、複数の前記パッド周囲
    排気溝と複数の前記合わせ面内排気溝とがそれぞれ一対
    一で接続されていることを特徴とする請求項3記載の静
    圧気体軸受。
JP2001067180A 2000-04-18 2001-03-09 静圧気体軸受 Pending JP2002005168A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001067180A JP2002005168A (ja) 2000-04-18 2001-03-09 静圧気体軸受

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000116725 2000-04-18
JP2000-116725 2000-04-18
JP2001067180A JP2002005168A (ja) 2000-04-18 2001-03-09 静圧気体軸受

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002005168A true JP2002005168A (ja) 2002-01-09

Family

ID=26590315

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001067180A Pending JP2002005168A (ja) 2000-04-18 2001-03-09 静圧気体軸受

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002005168A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151578A (ja) * 2000-08-18 2002-05-24 Nikon Corp 真空中で使用するエアベアリングリニアガイド
JP2005155658A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Canon Inc 静圧気体軸受装置およびそれを用いたステージ装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151578A (ja) * 2000-08-18 2002-05-24 Nikon Corp 真空中で使用するエアベアリングリニアガイド
JP2005155658A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Canon Inc 静圧気体軸受装置およびそれを用いたステージ装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7394076B2 (en) Moving vacuum chamber stage with air bearing and differentially pumped grooves
EP1260720B1 (en) Hydrostatic bearing and stage apparatus using same
KR100488400B1 (ko) 스테이지장치, 노광장치 및 디바이스제조방법과이동안내방법
KR20070091437A (ko) 바이폴라 전극 패턴이 형성된 정전 척
KR20100109489A (ko) 가스 유로 구조체 및 기판 처리 장치
JP2001210576A (ja) 荷重キャンセル機構、真空チャンバ結合体、露光装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2005155658A (ja) 静圧気体軸受装置およびそれを用いたステージ装置
JP2002005168A (ja) 静圧気体軸受
JP2002257138A (ja) 静圧流体軸受装置、およびこれを用いたステージ装置、露光装置ならびにデバイス製造方法
EP1398521B1 (en) Shock absorbing apparatus and use thereof in a positioning apparatus
WO1999066221A1 (fr) Palier a gaz sous pression statique, etage mettant en oeuvre ce palier, et dispositif optique dote de cet etage
US20020034345A1 (en) Static pressure air bearing
KR19980032893A (ko) 홀더구동장치
US6467960B1 (en) Air bearing linear guide for use in a vacuum
JP4455004B2 (ja) 流体軸受装置およびそれを用いたステージ装置
JP2001143984A (ja) 位置決め装置
JP3621605B2 (ja) 真空用気体軸受
JP2011247405A (ja) 案内装置
JP2001173654A (ja) 静圧軸受装置及びそれを用いた光学装置
JPS62180114A (ja) 静圧気体直線案内装置
JP2001189374A (ja) 基板処理装置及び荷電粒子線露光装置
JP2002106562A (ja) 静圧気体直線案内装置
JP2002070861A (ja) 静圧気体軸受スピンドル
JP3961996B2 (ja) 基板処理装置
JP4314648B2 (ja) ステージ装置およびそれを備えた光学装置