JP2002151542A - 半導体パッケージの製造方法および半導体パッケージ製造装置 - Google Patents
半導体パッケージの製造方法および半導体パッケージ製造装置Info
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体チップへの過剰な荷重印加による半導
体チップの破損を防止しつつ、ワイヤボンディングやダ
イボンディングを行なえるようにする。 【解決手段】 半導体パッケージの製造方法は、1以上
の半導体チップ2b,2cと必要に応じて設けられる他
の部材とを組み合わせたものである半導体チップ結合体
1に対して下向きの荷重を伴う処理を行なう有荷重工程
を含み、前記有荷重工程は、下方から、荷重検出手段と
してのロードセル8を含むプラテン7aを押し当てるこ
とで半導体チップ結合体1の下面を支持し、前記荷重検
出手段によって半導体チップ結合体1に加わる荷重を検
出しながら前記処理を行ない、かつ、前記荷重検出手段
で検出される荷重が所定の値を超える場合には前記処理
を停止するという条件下で行なう。
体チップの破損を防止しつつ、ワイヤボンディングやダ
イボンディングを行なえるようにする。 【解決手段】 半導体パッケージの製造方法は、1以上
の半導体チップ2b,2cと必要に応じて設けられる他
の部材とを組み合わせたものである半導体チップ結合体
1に対して下向きの荷重を伴う処理を行なう有荷重工程
を含み、前記有荷重工程は、下方から、荷重検出手段と
してのロードセル8を含むプラテン7aを押し当てるこ
とで半導体チップ結合体1の下面を支持し、前記荷重検
出手段によって半導体チップ結合体1に加わる荷重を検
出しながら前記処理を行ない、かつ、前記荷重検出手段
で検出される荷重が所定の値を超える場合には前記処理
を停止するという条件下で行なう。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、IC(Integrated
Circuit)チップなどといったチップ状の半導体装置
(以下、「半導体チップ」という。)を積層するなどし
て組み合わせた半導体パッケージを製造する際の製造方
法および製造装置に関するものである。
Circuit)チップなどといったチップ状の半導体装置
(以下、「半導体チップ」という。)を積層するなどし
て組み合わせた半導体パッケージを製造する際の製造方
法および製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】携帯電話などに用いられるいわゆる「小
型パッケージ」として、SRAM(Static Random Acce
ss Memory)やフラッシュメモリなどのような2種類以
上のICチップを上下に積層して一体形の製品としたパ
ッケージが近年実用化されている。
型パッケージ」として、SRAM(Static Random Acce
ss Memory)やフラッシュメモリなどのような2種類以
上のICチップを上下に積層して一体形の製品としたパ
ッケージが近年実用化されている。
【0003】本明細書では、こういったいわゆる小型パ
ッケージに例示されるように、用途に応じてパッド、フ
レーム、基板などに、1以上の半導体チップを搭載した
り、上下に積層するように搭載し、相互間の必要な電気
的接続を施し、パッケージとして完成した状態のもの
を、以下、「半導体パッケージ」というものとする。そ
の一例としての半導体パッケージ30を、図11に示
す。この半導体パッケージ30の例では、フレーム3に
半導体チップ2が積層するように搭載され、ワイヤ6で
接続が行なわれている。
ッケージに例示されるように、用途に応じてパッド、フ
レーム、基板などに、1以上の半導体チップを搭載した
り、上下に積層するように搭載し、相互間の必要な電気
的接続を施し、パッケージとして完成した状態のもの
を、以下、「半導体パッケージ」というものとする。そ
の一例としての半導体パッケージ30を、図11に示
す。この半導体パッケージ30の例では、フレーム3に
半導体チップ2が積層するように搭載され、ワイヤ6で
接続が行なわれている。
【0004】また、半導体パッケージを作製するため
に、パッド、フレーム、基板などの部材に、1以上の半
導体チップ2を上下に積層するように搭載したものの、
半導体パッケージとしては未完成のもの、またはその搭
載の途中の段階にあるものを「半導体チップ結合体」と
いうものとする。その一例としての半導体チップ結合体
1を、図12に示す。
に、パッド、フレーム、基板などの部材に、1以上の半
導体チップ2を上下に積層するように搭載したものの、
半導体パッケージとしては未完成のもの、またはその搭
載の途中の段階にあるものを「半導体チップ結合体」と
いうものとする。その一例としての半導体チップ結合体
1を、図12に示す。
【0005】半導体パッケージ30を作製するには、図
13(a),(b)に示すように、半導体チップ2を積
層して接着するダイボンディングを行なう。ダイボンデ
ィングでは、3次元NC制御によって移動可能なコレッ
ト14によって、新たに搭載すべき半導体チップ2aを
吸着保持して搬送し、図13(a)に示すように、半導
体チップ結合体の上の接着剤が塗布された所望位置に上
側から降下して、図13(b)に示すように設置する。
この設置の際に、コレット14の動作によって、半導体
チップ結合体および半導体チップ2aにある程度の荷重
が加わる。
13(a),(b)に示すように、半導体チップ2を積
層して接着するダイボンディングを行なう。ダイボンデ
ィングでは、3次元NC制御によって移動可能なコレッ
ト14によって、新たに搭載すべき半導体チップ2aを
吸着保持して搬送し、図13(a)に示すように、半導
体チップ結合体の上の接着剤が塗布された所望位置に上
側から降下して、図13(b)に示すように設置する。
この設置の際に、コレット14の動作によって、半導体
チップ結合体および半導体チップ2aにある程度の荷重
が加わる。
【0006】このようにして新たな半導体チップ結合体
1を形成した後、図14に示すように、半導体チップ結
合体1の半導体チップ2を加熱されたヒートブロックを
兼ねるプラテン7に接触させた状態で、ワイヤボンディ
ングを行なう。
1を形成した後、図14に示すように、半導体チップ結
合体1の半導体チップ2を加熱されたヒートブロックを
兼ねるプラテン7に接触させた状態で、ワイヤボンディ
ングを行なう。
【0007】ワイヤボンディングに際しては、ワイヤ6
の先端は、キャピラリとよばれる筒状の部材(キャピラ
リ5)に保持されて半導体チップ2cの所望の箇所に押
し当てられるが、このときキャピラリ5を通じて半導体
チップ結合体1全体にある程度の荷重が及ぼされる。
の先端は、キャピラリとよばれる筒状の部材(キャピラ
リ5)に保持されて半導体チップ2cの所望の箇所に押
し当てられるが、このときキャピラリ5を通じて半導体
チップ結合体1全体にある程度の荷重が及ぼされる。
【0008】上述のようにダイボンディングやワイヤボ
ンディングの際に加わる荷重が過大となると、半導体チ
ップ2を破損したり、半導体チップ2の変位や振動を引
起したりするおそれがある。したがって、荷重が過大に
ならないように監視し、過大である場合には、不良品の
生産を避けるために、設備を停止する必要がある。
ンディングの際に加わる荷重が過大となると、半導体チ
ップ2を破損したり、半導体チップ2の変位や振動を引
起したりするおそれがある。したがって、荷重が過大に
ならないように監視し、過大である場合には、不良品の
生産を避けるために、設備を停止する必要がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従来は、ワイヤボンデ
ィングやダイボンディングの最中に半導体チップにかか
る荷重を測定する手段がなかったため、作用している荷
重が過大か否かを判断することは困難であった。
ィングやダイボンディングの最中に半導体チップにかか
る荷重を測定する手段がなかったため、作用している荷
重が過大か否かを判断することは困難であった。
【0010】また、この場合、半導体チップ2bの表面
にプラテン7を直接接触させるため、図15に示すよう
に、半導体チップ2bの表面にシリコン屑などのように
高硬度の異物13があれば、図16に示すように、半導
体チップ2bとプラテン7との間に異物13をかみ込
み、半導体チップ2bを局所的に破損するおそれがあっ
た。
にプラテン7を直接接触させるため、図15に示すよう
に、半導体チップ2bの表面にシリコン屑などのように
高硬度の異物13があれば、図16に示すように、半導
体チップ2bとプラテン7との間に異物13をかみ込
み、半導体チップ2bを局所的に破損するおそれがあっ
た。
【0011】そこで、本発明では、半導体チップへの過
剰な荷重印加による半導体チップの破損を防止しつつ、
ワイヤボンディングやダイボンディングを行なえるよう
にする半導体パッケージの製造方法および半導体パッケ
ージ製造装置を提供することを目的とする。
剰な荷重印加による半導体チップの破損を防止しつつ、
ワイヤボンディングやダイボンディングを行なえるよう
にする半導体パッケージの製造方法および半導体パッケ
ージ製造装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に基づく半導体パッケージの製造方法の一つ
の局面では、1以上の半導体チップと必要に応じて設け
られる他の部材とを組み合わせたものである半導体チッ
プ結合体に対して下向きの荷重を伴う処理を行なう有荷
重工程を含み、上記有荷重工程は、下方から、荷重検出
手段を含むプラテンを押し当てることで上記半導体チッ
プ結合体の下面を支持し、上記荷重検出手段によって上
記半導体チップ結合体に加わる荷重を検出しながら上記
処理を行ない、かつ、上記荷重検出手段で検出される荷
重が所定の値を超える場合には上記処理を停止するとい
う条件下で行なわれるものである。
め、本発明に基づく半導体パッケージの製造方法の一つ
の局面では、1以上の半導体チップと必要に応じて設け
られる他の部材とを組み合わせたものである半導体チッ
プ結合体に対して下向きの荷重を伴う処理を行なう有荷
重工程を含み、上記有荷重工程は、下方から、荷重検出
手段を含むプラテンを押し当てることで上記半導体チッ
プ結合体の下面を支持し、上記荷重検出手段によって上
記半導体チップ結合体に加わる荷重を検出しながら上記
処理を行ない、かつ、上記荷重検出手段で検出される荷
重が所定の値を超える場合には上記処理を停止するとい
う条件下で行なわれるものである。
【0013】上記構成を採用することにより、荷重が所
定の値を超える場合にはその事実を荷重検出手段でいち
はやく察知し、処理を停止することができるので、過大
な荷重印加によって半導体チップを破損することなく、
ワイヤボンディングやダイボンディングなどの有荷重工
程を行なうことができる。
定の値を超える場合にはその事実を荷重検出手段でいち
はやく察知し、処理を停止することができるので、過大
な荷重印加によって半導体チップを破損することなく、
ワイヤボンディングやダイボンディングなどの有荷重工
程を行なうことができる。
【0014】上記発明において好ましくは、上記有荷重
工程は、ワイヤの少なくとも一端を上記半導体チップ結
合体の上面に接続することによってワイヤボンディング
を施す工程を含む。この構成を採用することにより、過
大な荷重印加によって半導体チップを破損することな
く、安定してワイヤボンディングを行なうことができ
る。
工程は、ワイヤの少なくとも一端を上記半導体チップ結
合体の上面に接続することによってワイヤボンディング
を施す工程を含む。この構成を採用することにより、過
大な荷重印加によって半導体チップを破損することな
く、安定してワイヤボンディングを行なうことができ
る。
【0015】上記発明において好ましくは、上記有荷重
工程は、上記半導体チップ結合体に含まれるいずれかの
半導体チップを他の部材に接着させるためのボンディン
グを行なう工程を含む。この構成を採用することによ
り、過大な荷重印加によって半導体チップを破損するこ
となく、安定してダイボンディングを行なうことができ
る。
工程は、上記半導体チップ結合体に含まれるいずれかの
半導体チップを他の部材に接着させるためのボンディン
グを行なう工程を含む。この構成を採用することによ
り、過大な荷重印加によって半導体チップを破損するこ
となく、安定してダイボンディングを行なうことができ
る。
【0016】また、上記目的を達成するため、本発明に
基づく半導体パッケージの製造方法の他の局面では、1
以上の半導体チップと必要に応じて設けられる他の部材
とを組み合わせたものである半導体チップ結合体の下面
に対して、下方から、気体を吹き付けるための噴出孔を
有するプラテンを接近させるプラテン接近工程と、上記
半導体チップ結合体の下面に対して、下方から、上記プ
ラテンを当接させるプラテン当接工程とを含み、上記プ
ラテン接近工程は、上記噴出孔から上記半導体チップ結
合体の下面に向けて空気を吹き付ける工程を含む。この
構成を採用することにより、半導体チップ結合体の下面
に付着する異物を吹き飛ばして除去することができる。
したがって、異物のかみ込みによる半導体チップの局所
的破壊を防止することができる。
基づく半導体パッケージの製造方法の他の局面では、1
以上の半導体チップと必要に応じて設けられる他の部材
とを組み合わせたものである半導体チップ結合体の下面
に対して、下方から、気体を吹き付けるための噴出孔を
有するプラテンを接近させるプラテン接近工程と、上記
半導体チップ結合体の下面に対して、下方から、上記プ
ラテンを当接させるプラテン当接工程とを含み、上記プ
ラテン接近工程は、上記噴出孔から上記半導体チップ結
合体の下面に向けて空気を吹き付ける工程を含む。この
構成を採用することにより、半導体チップ結合体の下面
に付着する異物を吹き飛ばして除去することができる。
したがって、異物のかみ込みによる半導体チップの局所
的破壊を防止することができる。
【0017】上記発明において好ましくは、上記プラテ
ン当接工程は、上記半導体チップ結合体の下面と上記プ
ラテンとが衝突する直前に、上記噴出孔から上記半導体
チップ結合体の下面に向けて空気を吹き付ける工程を含
む。この構成を採用することにより、空気の吹き付けに
よって抵抗力を生じさせ、半導体チップ結合体の下面と
プラテンとが衝突する相対速度を減じることができる。
したがって、衝突荷重を緩和することができる。
ン当接工程は、上記半導体チップ結合体の下面と上記プ
ラテンとが衝突する直前に、上記噴出孔から上記半導体
チップ結合体の下面に向けて空気を吹き付ける工程を含
む。この構成を採用することにより、空気の吹き付けに
よって抵抗力を生じさせ、半導体チップ結合体の下面と
プラテンとが衝突する相対速度を減じることができる。
したがって、衝突荷重を緩和することができる。
【0018】また、上記目的を達成するため、本発明に
基づく半導体パッケージ製造装置の一つの局面では、1
以上の半導体チップと必要に応じて設けられる他の部材
とを組み合わせたものである半導体チップ結合体に上方
から下方への荷重を伴う処理である有荷重処理を行なう
際に上記半導体チップ結合体の下面を下方から支えるた
めのプラテンを備え、上記プラテンは、荷重検出手段を
含む。この構成を採用することにより、荷重検出手段に
よって半導体チップ結合体に加わる荷重を検出しながら
有荷重処理を行なうことができる。したがって、過大な
荷重がかかる際にはそのことを検出することができ、過
大な荷重による半導体チップの破損を防止することが可
能となる。
基づく半導体パッケージ製造装置の一つの局面では、1
以上の半導体チップと必要に応じて設けられる他の部材
とを組み合わせたものである半導体チップ結合体に上方
から下方への荷重を伴う処理である有荷重処理を行なう
際に上記半導体チップ結合体の下面を下方から支えるた
めのプラテンを備え、上記プラテンは、荷重検出手段を
含む。この構成を採用することにより、荷重検出手段に
よって半導体チップ結合体に加わる荷重を検出しながら
有荷重処理を行なうことができる。したがって、過大な
荷重がかかる際にはそのことを検出することができ、過
大な荷重による半導体チップの破損を防止することが可
能となる。
【0019】上記発明において好ましくは、上記荷重検
出手段によって検出される荷重が所定の値以上になった
ときには上記有荷重処理を停止する、処理停止手段を備
える。この構成を採用することにより、所定値以上の荷
重となったときには処理停止手段によって有荷重処理を
停止することができるので、過大な荷重による半導体チ
ップの破損を防止することが可能となる。
出手段によって検出される荷重が所定の値以上になった
ときには上記有荷重処理を停止する、処理停止手段を備
える。この構成を採用することにより、所定値以上の荷
重となったときには処理停止手段によって有荷重処理を
停止することができるので、過大な荷重による半導体チ
ップの破損を防止することが可能となる。
【0020】上記発明において好ましくは、上記プラテ
ンは、上記半導体チップ結合体の下面に向けて気体を吹
き付けるための噴出孔を有する。この構成を採用するこ
とにより、空気などの気体を吹き付けて、半導体チップ
結合体の下面に付着した異物を吹き飛ばしたり、衝突荷
重を緩和したりすることが可能となる。したがって、か
み込みによる半導体チップの局所的破壊や衝突荷重によ
る破壊を防止することが可能となる。
ンは、上記半導体チップ結合体の下面に向けて気体を吹
き付けるための噴出孔を有する。この構成を採用するこ
とにより、空気などの気体を吹き付けて、半導体チップ
結合体の下面に付着した異物を吹き飛ばしたり、衝突荷
重を緩和したりすることが可能となる。したがって、か
み込みによる半導体チップの局所的破壊や衝突荷重によ
る破壊を防止することが可能となる。
【0021】上記発明において好ましくは、上記荷重検
出手段は歪みゲージを含む。この構成を採用することに
より、コンパクトな構造で荷重の検出を行なうことがで
きる。また、取り扱いも容易となる。
出手段は歪みゲージを含む。この構成を採用することに
より、コンパクトな構造で荷重の検出を行なうことがで
きる。また、取り扱いも容易となる。
【0022】また、上記目的を達成するため、本発明に
基づく半導体パッケージ製造装置の他の局面では、1以
上の半導体チップと必要に応じて設けられる他の部材と
を組み合わせたものである半導体チップ結合体に処理を
行なう際に上記半導体チップ結合体の下面を下方から支
えるためのプラテンを備え、上記プラテンは、上記半導
体チップ結合体の下面に向けて気体を吹き付けるための
噴出孔を有する。この構成を採用することにより、空気
などの気体を吹き付けて、半導体チップ結合体の下面に
付着した異物を吹き飛ばしたり、衝突荷重を緩和したり
することが可能となる。したがって、かみ込みによる半
導体チップの局所的破壊や衝突荷重による破壊を防止す
ることが可能となる。
基づく半導体パッケージ製造装置の他の局面では、1以
上の半導体チップと必要に応じて設けられる他の部材と
を組み合わせたものである半導体チップ結合体に処理を
行なう際に上記半導体チップ結合体の下面を下方から支
えるためのプラテンを備え、上記プラテンは、上記半導
体チップ結合体の下面に向けて気体を吹き付けるための
噴出孔を有する。この構成を採用することにより、空気
などの気体を吹き付けて、半導体チップ結合体の下面に
付着した異物を吹き飛ばしたり、衝突荷重を緩和したり
することが可能となる。したがって、かみ込みによる半
導体チップの局所的破壊や衝突荷重による破壊を防止す
ることが可能となる。
【0023】
【発明の実施の形態】(実施の形態1) (半導体パッケージ製造装置の構成)図1を参照して、
本発明に基づく実施の形態1における、半導体パッケー
ジ製造装置について説明する。この半導体パッケージ製
造装置は、半導体チップ結合体1に対して、ワイヤボン
ディングを行なうことによって、半導体パッケージ30
を製造するためのものである。処理すべき半導体チップ
結合体1は、そのフレーム3の周縁部をフレーム押さえ
4と押さえブロック15とによって保持される。半導体
チップ結合体1の下面、すなわち、半導体チップ結合体
1の最下層に位置する半導体チップ2bの下面に対して
は、下方からプラテン7aが当接することとなってい
る。プラテン7aはヒートブロックを兼ねており、半導
体チップ2bを加熱することができる。プラテン7aに
接する半導体チップ2bを通じて、半導体チップ結合体
1全体が、ワイヤボンディングに必要な温度まで加熱さ
れる。
本発明に基づく実施の形態1における、半導体パッケー
ジ製造装置について説明する。この半導体パッケージ製
造装置は、半導体チップ結合体1に対して、ワイヤボン
ディングを行なうことによって、半導体パッケージ30
を製造するためのものである。処理すべき半導体チップ
結合体1は、そのフレーム3の周縁部をフレーム押さえ
4と押さえブロック15とによって保持される。半導体
チップ結合体1の下面、すなわち、半導体チップ結合体
1の最下層に位置する半導体チップ2bの下面に対して
は、下方からプラテン7aが当接することとなってい
る。プラテン7aはヒートブロックを兼ねており、半導
体チップ2bを加熱することができる。プラテン7aに
接する半導体チップ2bを通じて、半導体チップ結合体
1全体が、ワイヤボンディングに必要な温度まで加熱さ
れる。
【0024】半導体チップ結合体1の上方からは、ワイ
ヤ6を導くキャピラリ5が接近し、半導体チップ2cに
接触してワイヤボンディングを行なうことができるよう
になっている。
ヤ6を導くキャピラリ5が接近し、半導体チップ2cに
接触してワイヤボンディングを行なうことができるよう
になっている。
【0025】ここで、プラテン7aを抽出した斜視図を
図2(a)に示し、断面図を図2(b)に示す。プラテ
ン7aの上面は、チップ接触面12であるが、その中央
には凹みがあり、荷重検出手段として、圧縮荷重を検出
できるタイプのロードセル8が埋め込まれている。ロー
ドセル8は、内部に歪みゲージを含んでおり、歪みゲー
ジで歪みを電気的に検出することができるようになって
いる。ロードセル8の上側の荷重検出部は、チップ接触
面12に半導体チップ2の下面が接したときに、同じく
半導体チップ2の下面に当接されるように高さ方向の位
置を調整されている。
図2(a)に示し、断面図を図2(b)に示す。プラテ
ン7aの上面は、チップ接触面12であるが、その中央
には凹みがあり、荷重検出手段として、圧縮荷重を検出
できるタイプのロードセル8が埋め込まれている。ロー
ドセル8は、内部に歪みゲージを含んでおり、歪みゲー
ジで歪みを電気的に検出することができるようになって
いる。ロードセル8の上側の荷重検出部は、チップ接触
面12に半導体チップ2の下面が接したときに、同じく
半導体チップ2の下面に当接されるように高さ方向の位
置を調整されている。
【0026】この半導体パッケージ製造装置は、ロード
セル8によって検出される荷重が所定の値以上になった
ときはワイヤボンディングを停止する処理停止手段(図
示省略)を備える。処理停止手段としては、たとえば、
コンピュータにおいて荷重を監視し、荷重の値によって
処理停止信号を送信するような制御を行なうことが考え
られる。
セル8によって検出される荷重が所定の値以上になった
ときはワイヤボンディングを停止する処理停止手段(図
示省略)を備える。処理停止手段としては、たとえば、
コンピュータにおいて荷重を監視し、荷重の値によって
処理停止信号を送信するような制御を行なうことが考え
られる。
【0027】(半導体パッケージの製造方法)上述の半
導体パッケージ製造装置を用いた場合、キャピラリ5は
ワイヤボンディングの際にワイヤ6を接続すべき半導体
チップ2cに当接するが、その際に、半導体チップ結合
体1全体として、下向きの荷重を受ける。この荷重は、
荷重検出手段としてプラテン7aの内部に埋め込まれた
ロードセル8によって検出される。ワイヤボンディング
の作業は、ロードセル8によって荷重を検出しながら行
なう。検出値は、図示しないコンピュータなどによって
監視される。荷重が所定の値を超える場合には、自動的
に、ワイヤボンディングの作業は停止されるように設定
されている。このような条件の下で、ワイヤボンディン
グを行なう。
導体パッケージ製造装置を用いた場合、キャピラリ5は
ワイヤボンディングの際にワイヤ6を接続すべき半導体
チップ2cに当接するが、その際に、半導体チップ結合
体1全体として、下向きの荷重を受ける。この荷重は、
荷重検出手段としてプラテン7aの内部に埋め込まれた
ロードセル8によって検出される。ワイヤボンディング
の作業は、ロードセル8によって荷重を検出しながら行
なう。検出値は、図示しないコンピュータなどによって
監視される。荷重が所定の値を超える場合には、自動的
に、ワイヤボンディングの作業は停止されるように設定
されている。このような条件の下で、ワイヤボンディン
グを行なう。
【0028】(作用・効果)上述のような半導体パッケ
ージの製造装置または製造方法を用いれば、キャピラリ
によって半導体チップに過大な荷重が加わるおそれのあ
るワイヤボンディングの処理の際には、荷重検出手段に
よって荷重を検出し、荷重が所定の値を超えた場合に
は、作業を停止できる条件の下で、ワイヤボンディング
を行なうことができるため、過大な荷重印加によって半
導体チップを破損することなく、ワイヤボンディングを
行なうことができる。
ージの製造装置または製造方法を用いれば、キャピラリ
によって半導体チップに過大な荷重が加わるおそれのあ
るワイヤボンディングの処理の際には、荷重検出手段に
よって荷重を検出し、荷重が所定の値を超えた場合に
は、作業を停止できる条件の下で、ワイヤボンディング
を行なうことができるため、過大な荷重印加によって半
導体チップを破損することなく、ワイヤボンディングを
行なうことができる。
【0029】なお、本実施の形態では、荷重検出手段と
して歪みゲージを内蔵したロードセルの例を挙げたが、
圧縮荷重を検出できるものであれば、他のタイプの荷重
センサであってもよい。
して歪みゲージを内蔵したロードセルの例を挙げたが、
圧縮荷重を検出できるものであれば、他のタイプの荷重
センサであってもよい。
【0030】(実施の形態2) (半導体パッケージ製造装置の構成)図3を参照して、
本発明に基づく実施の形態2における、半導体パッケー
ジ製造装置について説明する。この半導体パッケージ製
造装置は、ダイボンディングを行なうためのものであ
る。本実施の形態で示す例では、フレーム3を有する半
導体チップ結合体に対して半導体チップ2aを結合す
る、または、基板などに対して半導体チップ2を結合す
ることとしてもよい。処理すべき半導体チップ結合体
は、そのフレーム3の周縁部をフレーム押さえ4によっ
て保持される。半導体チップ結合体1の下面、すなわ
ち、半導体チップ結合体1の最下層に位置する半導体チ
ップ2bの下面に対しては、下方からプラテン7aによ
って支持することとなっている。プラテン7aの構造
は、実施の形態1で説明したものと同じである。
本発明に基づく実施の形態2における、半導体パッケー
ジ製造装置について説明する。この半導体パッケージ製
造装置は、ダイボンディングを行なうためのものであ
る。本実施の形態で示す例では、フレーム3を有する半
導体チップ結合体に対して半導体チップ2aを結合す
る、または、基板などに対して半導体チップ2を結合す
ることとしてもよい。処理すべき半導体チップ結合体
は、そのフレーム3の周縁部をフレーム押さえ4によっ
て保持される。半導体チップ結合体1の下面、すなわ
ち、半導体チップ結合体1の最下層に位置する半導体チ
ップ2bの下面に対しては、下方からプラテン7aによ
って支持することとなっている。プラテン7aの構造
は、実施の形態1で説明したものと同じである。
【0031】半導体チップ結合体の上方からは、半導体
チップ2aを吸着保持したコレット14が降下接近す
る。コレット14はそのまま半導体チップ2aを半導体
チップ結合体の上の接着剤が塗布された所望位置に、設
置する。
チップ2aを吸着保持したコレット14が降下接近す
る。コレット14はそのまま半導体チップ2aを半導体
チップ結合体の上の接着剤が塗布された所望位置に、設
置する。
【0032】コレット14が半導体チップ2aを設置す
る際には、コレット14と、半導体チップ2bの下面に
対して下方から当接するプラテン7aとによって挟まれ
る形となり、半導体チップ結合体および半導体チップ2
aに一定の圧力を加えることで、半導体チップ2aの接
着を確実にする。このようにして、ダイボンディングを
行なうことができる構造となっている。
る際には、コレット14と、半導体チップ2bの下面に
対して下方から当接するプラテン7aとによって挟まれ
る形となり、半導体チップ結合体および半導体チップ2
aに一定の圧力を加えることで、半導体チップ2aの接
着を確実にする。このようにして、ダイボンディングを
行なうことができる構造となっている。
【0033】(半導体パッケージの製造方法)上述の半
導体パッケージ製造装置を用いた場合、ダイボンディン
グの際にプラテン7aとコレット14とに挟まれて圧力
を加えられることで、半導体チップ結合体および半導体
チップ2aには、圧縮荷重が加わるが、この荷重は、荷
重検出手段としてプラテン7aの内部に埋め込まれたロ
ードセル8によって検出される。ダイボンディングの作
業は、ロードセル8によって荷重を検出しながら行な
う。検出値は、図示しないコンピュータなどによって監
視される。荷重が所定の値を超える場合には、自動的
に、ダイボンディングの作業は停止されるように設定さ
れている。このような条件の下で、ダイボンディングを
行なう。
導体パッケージ製造装置を用いた場合、ダイボンディン
グの際にプラテン7aとコレット14とに挟まれて圧力
を加えられることで、半導体チップ結合体および半導体
チップ2aには、圧縮荷重が加わるが、この荷重は、荷
重検出手段としてプラテン7aの内部に埋め込まれたロ
ードセル8によって検出される。ダイボンディングの作
業は、ロードセル8によって荷重を検出しながら行な
う。検出値は、図示しないコンピュータなどによって監
視される。荷重が所定の値を超える場合には、自動的
に、ダイボンディングの作業は停止されるように設定さ
れている。このような条件の下で、ダイボンディングを
行なう。
【0034】(作用・効果)上述のような半導体パッケ
ージの製造装置または製造方法を用いれば、上下のプラ
テンによって半導体チップに過大な荷重が加わるおそれ
のあるダイボンディングの処理の際には、荷重検出手段
によって荷重を検出し、荷重が所定の値を超えた場合に
は、作業を停止できる条件の下で、ダイボンディングを
行なうことができるため、過大な荷重印加によって半導
体チップを破損することなく、ダイボンディングを行な
うことができる。
ージの製造装置または製造方法を用いれば、上下のプラ
テンによって半導体チップに過大な荷重が加わるおそれ
のあるダイボンディングの処理の際には、荷重検出手段
によって荷重を検出し、荷重が所定の値を超えた場合に
は、作業を停止できる条件の下で、ダイボンディングを
行なうことができるため、過大な荷重印加によって半導
体チップを破損することなく、ダイボンディングを行な
うことができる。
【0035】なお、本実施の形態では、荷重検出手段と
して歪みゲージを内蔵したロードセルの例を挙げたが、
圧縮荷重を検出できるものであれば、他のタイプの荷重
センサであってもよい。
して歪みゲージを内蔵したロードセルの例を挙げたが、
圧縮荷重を検出できるものであれば、他のタイプの荷重
センサであってもよい。
【0036】実施の形態1,2では、ワイヤボンディン
グおよびダイボンディングの工程に本発明を適用する例
を順にそれぞれ説明したが、半導体チップ結合体に下向
きの荷重を及ぼす他の種類の処理においても、本発明は
適用可能である。
グおよびダイボンディングの工程に本発明を適用する例
を順にそれぞれ説明したが、半導体チップ結合体に下向
きの荷重を及ぼす他の種類の処理においても、本発明は
適用可能である。
【0037】(実施の形態3) (半導体パッケージ製造装置の構成)図4を参照して、
本発明に基づく実施の形態3における、半導体パッケー
ジ製造装置について説明する。この半導体パッケージ製
造装置は、フレーム3を有する半導体チップ結合体1に
対して、ワイヤボンディングを行なうことによって、半
導体パッケージ30を製造するためのものである。処理
すべき半導体チップ結合体1は、フレーム3をフレーム
押さえ4によって保持される。半導体チップ結合体1の
下面、すなわち、半導体チップ結合体1の最下層に位置
する半導体チップ2の下面に対しては、下方からプラテ
ン7bが当接することとなっている。プラテン7bはヒ
ートブロックを兼ねており、半導体チップ2を加熱する
ことができる。プラテン7bに接する半導体チップ2を
通じて、半導体チップ結合体1は、ワイヤボンディング
に必要な温度まで加熱される。
本発明に基づく実施の形態3における、半導体パッケー
ジ製造装置について説明する。この半導体パッケージ製
造装置は、フレーム3を有する半導体チップ結合体1に
対して、ワイヤボンディングを行なうことによって、半
導体パッケージ30を製造するためのものである。処理
すべき半導体チップ結合体1は、フレーム3をフレーム
押さえ4によって保持される。半導体チップ結合体1の
下面、すなわち、半導体チップ結合体1の最下層に位置
する半導体チップ2の下面に対しては、下方からプラテ
ン7bが当接することとなっている。プラテン7bはヒ
ートブロックを兼ねており、半導体チップ2を加熱する
ことができる。プラテン7bに接する半導体チップ2を
通じて、半導体チップ結合体1は、ワイヤボンディング
に必要な温度まで加熱される。
【0038】ここで、プラテン7bを抽出した斜視図を
図5に示し、断面図を図6に示す。プラテン7bの上面
は、チップ接触面12であるが、その中央には凹部10
がある。凹部10の底面には複数の噴出穴11が設けら
れている。図6の矢印に示すように、噴出穴11から
は、空気を吹き出させることが可能な構造となってい
る。
図5に示し、断面図を図6に示す。プラテン7bの上面
は、チップ接触面12であるが、その中央には凹部10
がある。凹部10の底面には複数の噴出穴11が設けら
れている。図6の矢印に示すように、噴出穴11から
は、空気を吹き出させることが可能な構造となってい
る。
【0039】(半導体パッケージの製造方法)ワイヤボ
ンディングに先立って、プラテン接近工程として、フレ
ーム押さえ4によって保持された半導体チップ結合体1
の下面に対して、プラテン7bが下方から接近する。こ
のとき、図7に示すように、半導体チップ結合体1の下
面に、シリコン屑などの異物13が付着している場合が
ある。このプラテン接近工程において、図8に示すよう
に、噴出孔11から空気を吹き付けることによって、異
物13を半導体チップ結合体1の下面から吹き飛ばす。
ンディングに先立って、プラテン接近工程として、フレ
ーム押さえ4によって保持された半導体チップ結合体1
の下面に対して、プラテン7bが下方から接近する。こ
のとき、図7に示すように、半導体チップ結合体1の下
面に、シリコン屑などの異物13が付着している場合が
ある。このプラテン接近工程において、図8に示すよう
に、噴出孔11から空気を吹き付けることによって、異
物13を半導体チップ結合体1の下面から吹き飛ばす。
【0040】次に、プラテン当接工程として、図9に示
すように、半導体チップ結合体1の下面にプラテン7b
を当接させる。ここで、好ましくは、プラテン当接工程
において、図10に示すように、衝突の直前に噴出孔1
1から空気を吹き付ける。「衝突の直前」とは、たとえ
ば、プラテン7bの移動を制御するプログラムの設定
上、プラテン7bが最も半導体チップ結合体1側に接近
することとなる、いわゆる下死点に到達する若干手前で
ある。具体的には、たとえば、プラテン7bの移動がN
C制御でなされているとき、NCの数パルス分手前とす
ることが望ましい。
すように、半導体チップ結合体1の下面にプラテン7b
を当接させる。ここで、好ましくは、プラテン当接工程
において、図10に示すように、衝突の直前に噴出孔1
1から空気を吹き付ける。「衝突の直前」とは、たとえ
ば、プラテン7bの移動を制御するプログラムの設定
上、プラテン7bが最も半導体チップ結合体1側に接近
することとなる、いわゆる下死点に到達する若干手前で
ある。具体的には、たとえば、プラテン7bの移動がN
C制御でなされているとき、NCの数パルス分手前とす
ることが望ましい。
【0041】このようにして、半導体チップ結合体1の
下面にプラテン7bを当接させ、ワイヤボンディングを
行なう。
下面にプラテン7bを当接させ、ワイヤボンディングを
行なう。
【0042】(作用・効果)上述のような半導体パッケ
ージの製造装置または製造方法を用いれば、半導体チッ
プ結合体の下面に異物が付着していたとしても、空気流
で吹き飛ばすことで除去することができる。その結果、
異物のかみ込みによる半導体チップの局所的破壊を防止
することができる。
ージの製造装置または製造方法を用いれば、半導体チッ
プ結合体の下面に異物が付着していたとしても、空気流
で吹き飛ばすことで除去することができる。その結果、
異物のかみ込みによる半導体チップの局所的破壊を防止
することができる。
【0043】また、半導体チップ結合体とプラテンとが
衝突する直前に空気流を半導体チップ結合体の下面に当
てることで、半導体チップ結合体とプラテンとの間の接
近する向きの移動に一定の抵抗力を生じさせ、半導体チ
ップ結合体1の下面とプラテン7bとが衝突する相対速
度を減じることができる。その結果、衝突する際に作用
する衝突荷重を緩和することができる。
衝突する直前に空気流を半導体チップ結合体の下面に当
てることで、半導体チップ結合体とプラテンとの間の接
近する向きの移動に一定の抵抗力を生じさせ、半導体チ
ップ結合体1の下面とプラテン7bとが衝突する相対速
度を減じることができる。その結果、衝突する際に作用
する衝突荷重を緩和することができる。
【0044】プラテン接近工程における異物除去を目的
とした空気吹き付けは、継続的に、または常時、行なっ
ていてもよい。たとえば、プラテン接近工程における空
気吹き付けを常時継続したまま、その途中の一時期のみ
プラテン当接工程における衝突荷重緩和を目的とした空
気吹き付けとして、やや強めのパルス状の空気流を発す
ることとしてもよい。
とした空気吹き付けは、継続的に、または常時、行なっ
ていてもよい。たとえば、プラテン接近工程における空
気吹き付けを常時継続したまま、その途中の一時期のみ
プラテン当接工程における衝突荷重緩和を目的とした空
気吹き付けとして、やや強めのパルス状の空気流を発す
ることとしてもよい。
【0045】なお、ここでは、ワイヤボンディングを行
なうためにプラテンを当接させる工程を対象に例示した
が、ダイボンディングなど、他の処理のためにプラテン
を当接させる工程に対しても適用可能である。
なうためにプラテンを当接させる工程を対象に例示した
が、ダイボンディングなど、他の処理のためにプラテン
を当接させる工程に対しても適用可能である。
【0046】なお、今回開示した上記実施の形態はすべ
ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の
範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって
示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での
すべての変更を含むものである。
ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の
範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって
示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での
すべての変更を含むものである。
【0047】
【発明の効果】本発明によれば、半導体チップ結合体に
加わる荷重が所定の値を超える場合にはその事実を荷重
検出手段でいちはやく察知し、処理を停止することがで
きるので、過大な荷重印加によって半導体チップ結合体
に含まれる半導体チップを破損することなく、ワイヤボ
ンディングやダイボンディングなどの有荷重工程を行な
うことができる。
加わる荷重が所定の値を超える場合にはその事実を荷重
検出手段でいちはやく察知し、処理を停止することがで
きるので、過大な荷重印加によって半導体チップ結合体
に含まれる半導体チップを破損することなく、ワイヤボ
ンディングやダイボンディングなどの有荷重工程を行な
うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に基づく実施の形態1における半導体
パッケージ製造装置による作業の説明図である。
パッケージ製造装置による作業の説明図である。
【図2】 本発明に基づく実施の形態1における半導体
パッケージ製造装置のプラテンを示す図である。(a)
は、斜視図であり、(b)は、断面図である。
パッケージ製造装置のプラテンを示す図である。(a)
は、斜視図であり、(b)は、断面図である。
【図3】 本発明に基づく実施の形態2における半導体
パッケージ製造装置による作業の説明図である。
パッケージ製造装置による作業の説明図である。
【図4】 本発明に基づく実施の形態3における半導体
パッケージ製造装置による作業の説明図である。
パッケージ製造装置による作業の説明図である。
【図5】 本発明に基づく実施の形態3における半導体
パッケージ製造装置のプラテンの斜視図である。
パッケージ製造装置のプラテンの斜視図である。
【図6】 本発明に基づく実施の形態3における半導体
パッケージ製造装置のプラテンの断面図である。
パッケージ製造装置のプラテンの断面図である。
【図7】 本発明に基づく実施の形態3における半導体
パッケージ製造装置の動作の第1の説明図である。
パッケージ製造装置の動作の第1の説明図である。
【図8】 本発明に基づく実施の形態3における半導体
パッケージ製造装置の動作の第2の説明図である。
パッケージ製造装置の動作の第2の説明図である。
【図9】 本発明に基づく実施の形態3における半導体
パッケージ製造装置の動作の第3の説明図である。
パッケージ製造装置の動作の第3の説明図である。
【図10】 本発明に基づく実施の形態3における半導
体パッケージ製造装置の動作の第4の説明図である。
体パッケージ製造装置の動作の第4の説明図である。
【図11】 従来技術に基づく半導体パッケージの正面
図である。
図である。
【図12】 従来技術に基づく半導体パッケージの正面
図である。
図である。
【図13】 (a),(b)は、従来技術に基づくダイ
ボンディングの説明図である。
ボンディングの説明図である。
【図14】 従来技術に基づくワイヤボンディングの説
明図である。
明図である。
【図15】 従来技術におけるプラテンを接近させる状
況の説明図である。
況の説明図である。
【図16】 従来技術におけるプラテンを当接させた状
態の説明図である。
態の説明図である。
1 半導体チップ結合体、2,2a,2b,2c 半導
体チップ、3 フレーム、4 フレーム押さえ、5 キ
ャピラリ、6 ワイヤ、7,7a,7b プラテン、8
ロードセル、9 歪みゲージ、10 凹部、11 噴
出孔、12 チップ接触面、13 異物、14 コレッ
ト、15 押さえブロック、30 半導体パッケージ。
体チップ、3 フレーム、4 フレーム押さえ、5 キ
ャピラリ、6 ワイヤ、7,7a,7b プラテン、8
ロードセル、9 歪みゲージ、10 凹部、11 噴
出孔、12 チップ接触面、13 異物、14 コレッ
ト、15 押さえブロック、30 半導体パッケージ。
Claims (10)
- 【請求項1】 1以上の半導体チップと必要に応じて設
けられる他の部材とを組み合わせたものである半導体チ
ップ結合体に対して下向きの荷重を伴う処理を行なう有
荷重工程を含み、 前記有荷重工程は、下方から、荷重検出手段を含むプラ
テンを押し当てることで前記半導体チップ結合体の下面
を支持し、前記荷重検出手段によって前記半導体チップ
結合体に加わる荷重を検出しながら前記処理を行ない、
かつ、前記荷重検出手段で検出される荷重が所定の値を
超える場合には前記処理を停止するという条件下で行な
われるものである、半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項2】 前記有荷重工程は、ワイヤの少なくとも
一端を前記半導体チップ結合体の上面に接続することに
よってワイヤボンディングを施す工程を含む、請求項1
に記載の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項3】 前記有荷重工程は、前記半導体チップ結
合体に含まれるいずれかの半導体チップを他の部材に接
着させるためのボンディングを行なう工程を含む、請求
項1に記載の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項4】 1以上の半導体チップと必要に応じて設
けられる他の部材とを組み合わせたものである半導体チ
ップ結合体の下面に対して、下方から、気体を吹き付け
るための噴出孔を有するプラテンを接近させるプラテン
接近工程と、 前記半導体チップ結合体の下面に対して、下方から、前
記プラテンを当接させるプラテン当接工程とを含み、 前記プラテン接近工程は、前記噴出孔から前記半導体チ
ップ結合体の下面に向けて空気を吹き付ける工程を含
む、半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項5】 前記プラテン当接工程は、前記半導体チ
ップ結合体の下面と前記プラテンとが衝突する直前に、
前記噴出孔から前記半導体チップ結合体の下面に向けて
空気を吹き付ける工程を含む、請求項4に記載の半導体
パッケージの製造方法。 - 【請求項6】 1以上の半導体チップと必要に応じて設
けられる他の部材とを組み合わせたものである半導体チ
ップ結合体に上方から下方への荷重を伴う処理である有
荷重処理を行なう際に前記半導体チップ結合体の下面を
下方から支えるためのプラテンを備え、前記プラテン
は、荷重検出手段を含む、半導体パッケージ製造装置。 - 【請求項7】 前記荷重検出手段によって検出される荷
重が所定の値以上になったときには前記有荷重処理を停
止する、処理停止手段を備える、請求項6に記載の半導
体パッケージ製造装置。 - 【請求項8】 前記プラテンは、前記半導体チップ結合
体の下面に向けて気体を吹き付けるための噴出孔を有す
る、請求項6または7に記載の半導体パッケージ製造装
置。 - 【請求項9】 前記荷重検出手段は歪みゲージを含む、
請求項6から8のいずれかに記載の半導体パッケージ製
造装置。 - 【請求項10】 1以上の半導体チップと必要に応じて
設けられる他の部材とを組み合わせたものである半導体
チップ結合体に処理を行なう際に前記半導体チップ結合
体の下面を下方から支えるためのプラテンを備え、前記
プラテンは、前記半導体チップ結合体の下面に向けて気
体を吹き付けるための噴出孔を有する、半導体パッケー
ジ製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000346897A JP2002151542A (ja) | 2000-11-14 | 2000-11-14 | 半導体パッケージの製造方法および半導体パッケージ製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000346897A JP2002151542A (ja) | 2000-11-14 | 2000-11-14 | 半導体パッケージの製造方法および半導体パッケージ製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002151542A true JP2002151542A (ja) | 2002-05-24 |
Family
ID=18820707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000346897A Withdrawn JP2002151542A (ja) | 2000-11-14 | 2000-11-14 | 半導体パッケージの製造方法および半導体パッケージ製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002151542A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014103286A (ja) * | 2012-11-21 | 2014-06-05 | New Japan Radio Co Ltd | ワイヤボンディング装置 |
US20190276363A1 (en) * | 2014-08-25 | 2019-09-12 | Taiheiyo Cement Corporation | Cement composition and manufacturing method for cement cured body using same |
CN113035725A (zh) * | 2021-02-25 | 2021-06-25 | 北京时代民芯科技有限公司 | 一种深腔键合方法 |
-
2000
- 2000-11-14 JP JP2000346897A patent/JP2002151542A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014103286A (ja) * | 2012-11-21 | 2014-06-05 | New Japan Radio Co Ltd | ワイヤボンディング装置 |
US20190276363A1 (en) * | 2014-08-25 | 2019-09-12 | Taiheiyo Cement Corporation | Cement composition and manufacturing method for cement cured body using same |
CN113035725A (zh) * | 2021-02-25 | 2021-06-25 | 北京时代民芯科技有限公司 | 一种深腔键合方法 |
CN113035725B (zh) * | 2021-02-25 | 2024-04-02 | 北京时代民芯科技有限公司 | 一种深腔键合方法 |
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