JP2002148430A

JP2002148430A - 光学フィルター

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Publication number: JP2002148430A
Application number: JP2000344956A
Authority: JP
Inventors: Nobuhide Tominaga; 信秀冨永
Original assignee: Asahi Denka Kogyo KK
Current assignee: Adeka Corp
Priority date: 2000-11-13
Filing date: 2000-11-13
Publication date: 2002-05-22
Anticipated expiration: 2020-11-13
Also published as: JP4124953B2

Abstract

(57)【要約】【課題】特定波長においてシャープな吸収（λｍａｘ
５６０〜６２０ｎｍ、半値巾５０ｎｍ以下）を有する画
像表示装置用の光学フィルターを提供する。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含
有することを特徴とする光学フィルター。【化１】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は各々独立に炭素数１〜４のアルキ
ル基を表し、あるいはＲ₁、Ｒ₂は一緒になって酸素、
硫黄、窒素原子を含んでもよい３〜６員環を形成するこ
とができ、Ｙは各々独立に有機基を表し、Ｘは水素原子
又はハロゲン原子を表し、Ａｎ^m-はｍ価のアニオンを表
し、ｍは１又は２の整数を表し、ｐは電荷を中性に保つ
係数を表す）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学フィルターに
関し、詳しくは、特定のシアニン色素を含有すること
で、画像表示装置、特に、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）用のフィルターとして好適な光学フィルター
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
多種の画像表示装置（ディスプレイ）、例えば、液晶表
示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放
射型ディスプレイの開発とこれらを組み込んだ機器が実
用化されている。これらの各種画像表示装置の中でも、
ハイビジョン用大型壁掛けテレビ、マルチメディア用大
画面ディスプレイとしてカラープラズマディスプレイ
（ＰＤＰ）が注目を浴びている。

【０００３】これらの画像表示装置は、原則として、
赤、青、緑の三原色の光の組合せでカラー画像を表示す
る。しかし、表示のための光を理想的な三原色にするこ
とは、実質的には不可能である。例えば、プラズマディ
スプレイパネル（ＰＤＰ）は、波長が５００〜６２０ｎ
ｍの範囲に三原色蛍光体からの発光に余分な光が含まれ
ていることが知られている。そこで、色補正を行うため
の特定の波長の光を吸収するフィルターを用いて、色補
正を行うことが提案されている。フィルターによる色補
正は、例えば、特開昭５８−１５３９０４号公報、特開
昭６１−１８８５０１号公報、特開平３−２３１９８８
号公報、特開平５−２０５６４３号公報、特開平９−１
４５９１８号公報、特開平９−３０６３６６号公報、特
開平１０−２６７０９号公報、特開２０００−１９３８
２０号公報、特開２０００−２４１６２０号公報、特開
２０００−２５０４２０号公報、特開２０００−２６６
９３０号公報等に記載されている。

【０００４】フィルターによる色補正には特定の波長に
吸収を有する色素が用いられ、具体的には、スクアリリ
ウム系、アゾメチン系、シアニン系、オキソノール系、
キサンテン系、アゾ系等の色素が挙げられる。しかしな
がら、これまで使用されてきた色素では、その吸収が不
十分であったり、特定波長以外の領域まで吸収したり、
満足できるものは得られていない。

【０００５】従って、本発明の目的は、特定波長におい
てシャープな吸収（λｍａｘ５６０〜６２０ｎｍ、半値
巾５０ｎｍ以下）を有する画像表示装置用の光学フィル
ターを提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、検討を重
ねた結果、特定のシアニン色素を使用してなる光学フィ
ルターが、特定の波長にシャープな吸収を有することで
画像表示装置の画像特性を著しく改善し得ることを見出
し、本発明に到達した。

【０００７】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
ので、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有するこ
とを特徴とする光学フィルターを提供するものである

【化２】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は各々独立に炭素数１〜４のアルキ
ル基を表し、あるいはＲ₁、Ｒ₂は一緒になって酸素、
硫黄、窒素原子を含んでもよい３〜６員環を形成するこ
とができ、Ｙは各々独立に有機基を表し、Ｘは水素原子
又はハロゲン原子を表し、Ａｎ^m-はｍ価のアニオンを表
し、ｍは１又は２の整数を表し、ｐは電荷を中性に保つ
係数を表す）

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、上記要旨をもってなる本発
明の光学フィルターについてさらに詳細に説明する。

【０００９】上記一般式（Ｉ）において、式中、Ｒ₁、
Ｒ₂で表される炭素数１〜４のアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられ
る。また、Ｒ₁、Ｒ₂から形成することのできる３〜６
員環の酸素、硫黄、窒素原子を含んでもよく、置換基を
有してもよい有機基としては、シクロプロパン−１，１
−ジイル、シクロブタン−１，１−ジイル、２，４−ジ
メチルシクロブタン−１，１−ジイル、３−ジメチルシ
クロブタン−１，１−ジイル、シクロペンタン−１，１
−ジイル、シクロヘキサン−１，１−ジイル、テトラヒ
ドロピラン−４，４−ジイル、チアン−４，４−ジイ
ル、ピペリジン−４，４−ジイル、Ｎ−置換ピペリジン
−４，４−ジイル、モルホリン−２，２−ジイル、モル
ホリン−３，３−ジイル、Ｎ−置換モルホリン−２，２
−ジイル、Ｎ−置換モルホリン−３，３−ジイル等が挙
げられる。Ｙで表される有機基としては特に制限を受け
ず、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、ア
ミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキ
シル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチ
ル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オク
チル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシ
ル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプ
タデシル、オクタデシル等のアルキル基、ビニル、１−
メチルエテニル、２−メチルエテニル、プロペニル、ブ
テニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプ
テニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、１−
フェニルプロペン−３−イル等のアルケニル基、フェニ
ル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニ
ル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イ
ソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−
ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブ
チルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキ
シルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチ
ルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，
３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、
２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニ
ル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェ
ニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシル
フェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、フェネチ
ル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のア
リールアルキル基等、それがエーテル結合、チオエーテ
ル結合で中断されたもの、例えば、２−メトキシエチ
ル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−
ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエ
トキシエトキシエチル、３−メトキシブチル、２−フェ
ノキシエチル、２−メチルチオエチル、２−フェニルチ
オエチルが挙げられ、更にこれらの基は、アルコキシ
基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子
等で置換されていてもよい。Ｘで表されるハロゲン原子
としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
Ａｎ^m-で表されるアニオンとしては、例えば、一価のも
のとして、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオ
ン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン；過塩素酸ア
ニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フ
ッ化リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フ
ッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン、ベンゼンスル
ホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフ
ルオロメタンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸ア
ニオン；オクチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニ
オン、オクタデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸ア
ニオン、ノニルフェニルリン酸アニオン、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスホン
酸アニオン等の有機リン酸系アニオン等が挙げられ、二
価のものとしては、例えば、ベンゼンジスルホン酸アニ
オン、ナフタレンジスルホン酸アニオン等が挙げられ
る。また、金属錯体化合物であるクエンチャーアニオン
も必要に応じて用いることができる。

【００１０】上記のクエンチャーアニオンとしては、特
開昭６０−２３４８９２号公報に記載されたようなアニ
オンが挙げられる。例えば、下記一般式（Ａ）及び
（Ｂ）で表されるアニオンが挙げられる。

【００１１】

【化３】（式中、Ｒ₃及びＲ₄は各々独立にアルキル基又はハロ
ゲン原子を表し、ａ及びｂは各々０〜３を表す；Ｒ₅、
Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₈は各々独立にアルキル基、アルキル
フェニル基、アルコキシフェニル基又はハロゲン化フェ
ニル基を表す）

【００１２】上記一般式（Ｉ）で表される化合物の代表
例としては、下記化合物Ｎｏ．１〜１５等が挙げられ
る。なお、以下の例示では、アニオンを省いたシアニン
色素カチオンで示している。

【００１３】

【化４】

【００１４】

【化５】

【００１５】

【化６】

【００１６】

【化７】

【００１７】

【化８】

【００１８】

【化９】

【００１９】

【化１０】

【００２０】

【化１１】

【００２１】

【化１２】

【００２２】

【化１３】

【００２３】

【化１４】

【００２４】

【化１５】

【００２５】

【化１６】

【００２６】

【化１７】

【００２７】

【化１８】

【００２８】上記一般式（Ｉ）で表される化合物は、上
記シアニン色素カチオンとアニオンとの塩であり、従来
周知の方法に準じて製造することができる。

【００２９】上記シアニン色素の使用量は、光学フィル
ターの単位面積当たり、１〜１０００ｍｇ／ｍ²、好ま
しくは、５〜１００ｍｇ／ｍ²であり、１ｍｇ／ｍ²未
満の使用量では、色補正効果を十分に発揮することがで
きず、１０００ｍｇ／ｍ²を超えて使用した場合には、
フィルターの赤みが強くなりすぎてグレーに補正する必
要が出てくるおそれがあり、色素の配合量が増えること
で明度が低下するおそれもあるため好ましくない。

【００３０】本発明の光学フィルターには、本発明の特
定のシアニン色素の他に、補助的に他の光吸収性の色素
を使用することもでき、これら他の光吸収性色素として
は、例えば、本発明で用いられるシアニン色素（化合
物）以外のシアニン色素、スクアリリウム色素、アゾメ
チン色素、オキソノール色素、アゾ色素、ベンジリデン
色素、キサンテン色素等が挙げられる。

【００３１】これらの色素の光あるいは熱に対する安定
化を図る目的で各種安定化剤を使用することができ、安
定化剤としては、例えば、ハイドロキノン誘導体（米国
特許３９３５０１６号公報、米国特許３９８２９４４号
公報）、ハイドロキノンジエーテル誘導体（米国特許４
２５４２１６号公報）、フェノール誘導体（特開昭５４
−２１００４号公報）、スピロインダン又はメチレンジ
オキシベンゼンの誘導体（英国特許公開２０７７４５５
号公報、英国特許２０６２８８８号公報）、クロマン、
スピロクロマン又はクマランの誘導体（米国特許３４３
２３００号公報、米国特許３５７３０５０号公報、米国
特許３５７４６２７号公報、米国特許３７６４３３７号
公報、特開昭５２−１５２２２５号公報、特開昭５３−
２０３２７号公報、特開昭５３−１７７２９号公報、特
開昭６１−９０１５６号公報）、ハイドロキノンモノエ
ーテル又はパラアミノフェノールの誘導体（英国特許１
３４７５５６号、英国特許２０６６９７５号公報、特公
昭５４−１２３３７号公報、特開昭５５−６３２１号公
報）、ビスフェノール誘導体（米国特許３７００４５５
号公報、特公昭４８−３１６２５号公報）、金属錯体
（米国特許４２４５０１８号公報、特開昭６０−９７３
５３号公報）、ニトロソ化合物（特開平２−３００２８
８号公報）、ジインモニウム化合物（米国特許４６５６
１２号公報）、ニッケル錯体（特開平４−１４６１８９
号公報）、酸化防止剤（欧州特許８２００５７号公報）
等が挙げられる。

【００３２】本発明の光学フィルターは、少なくとも上
記シアニン色素を含む層を有する光学フィルターであ
り、その形状に関しては特に制限されるものではない
が、通常、透明支持体に、必要に応じて、下塗り層、反
射防止層、ハードコート層、潤滑層等の各層を設けてな
るものであり、上記シアニン色素を用いて光学フィルタ
ーを製造する方法は、特に限定されるものではなく、例
えば、透明支持体又は任意の各層に含有させる方法、透
明支持体又は任意の各層にコーティングする方法、各層
間のバインダー（接着剤）に混入させる方法あるいは別
にフィルター層を設ける方法等が挙げられる。

【００３３】別にフィルター層を設ける場合には、本発
明に係るシアニン色素をそのまま使用することもできる
が、通常は、バインダーを使用する。これらバインダー
としては、例えば、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロ
ース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料あるいは、
ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化
ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリアミド等の合成高分子材料
が用いられる。

【００３４】上記透明支持体の材料としては、例えば、
ガラス等の無機材料；あるいは、例えば、ジアセチルセ
ルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピ
オニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロ
ピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース
エステル；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサン
ジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジ
フェノキシエタン−４，４' −ジカルボキシレート、ポ
リブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリスチ
レン；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペン
テン等のポリオレフィン；ポリメチルメタクリレート等
のアクリル系樹脂；ポリカーボネート；ポリスルホン；
ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエー
テルイミド；ポリオキシエチレン等の高分子材料が挙げ
られる。

【００３５】透明支持体の透過率は８０％以上であるこ
とが好ましく、８６％以上であることがさらに好まし
い。ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以
下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜
１．７０であることが好ましい。

【００３６】これらの透明支持体中には、赤外線吸収
剤、紫外線吸収剤、無機微粒子を添加したり、各種の表
面処理を施すことができる。

【００３７】上記無機微粒子としては、例えば、二酸化
珪素、二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、
タルク、カオリン等の無機微粒子が挙げられる。

【００３８】上記各種表面処理としては、例えば、薬品
処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線
照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ
処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理等が挙
げられる。

【００３９】別にフィルター層を設ける場合には、透明
支持体とフィルター層との間に、下塗り層を設けること
が好ましい。下塗り層は、ガラス転移温度が−６０〜６
０℃のポリマーを含む層、フィルター層側の表面が粗面
である層又はフィルター層のポリマーと親和性を有する
ポリマーを含む層として形成する。なお、フィルター層
が設けられていない透明支持体の面に下塗り層を設け
て、透明支持体とその上に設けられる層（例えば、反射
防止層、ハードコート層）との接着力を改善してもよ
い。また、下塗り層は、光学フィルターと画像形成装置
とを接着するための接着剤と光学フィルターとの親和性
を改善するために設けてもよい。下塗り層の厚みは、２
ｎｍ〜２０μｍが好ましく、５ｎｍ〜５μｍがより好ま
しく、２０ｎｍ〜２μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ〜
１μｍがさらにまた好ましく、８０ｎｍ〜３００ｎｍが
最も好ましい。

【００４０】ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマ
ーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体
とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が−６０
〜６０℃のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロ
ロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、アクリロニトリル又はメチルビニルエーテルの重合
又は共重合により得ることができる。ガラス転移温度
は、５０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であ
ることがより好ましく、３０℃以下であることがさらに
好ましく、２５℃以下であることがさらにまた好まし
く、２０℃以下であることが最も好ましい。下塗り層の
２５℃における弾性率は、１〜１０００ＭＰａであるこ
とが好ましく、５〜８００ＭＰａであることがさらに好
ましく、１０〜５００ＭＰａであることが最も好まし
い。表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィルタ
ー層を形成することで、透明支持体とフィルター層とを
接着する。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテ
ックスの塗布により容易に形成することができる。ラテ
ックスの平均粒径は、０．０２〜３μｍであることが好
ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好まし
い。フィルター層のバインダーポリマーと親和性を有す
るポリマーの例には、アクリル樹脂、セルロース誘導
体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコ
ール、可溶性ナイロン及び高分子ラテックスが含まれ
る。二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、
透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、
帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよい。

【００４１】反射防止層としては、低屈折率層が必須で
ある。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率
よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５
５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であるこ
とがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、５０〜４０
０ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍである
ことがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含
フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号
公報、特開平３−１３０１０３号公報、特開平６−１１
５０２３号公報、特開平８−３１３７０２号公報、特開
平７−１６８００４号公報）、ゾルゲル法により得られ
る層（特開平５−２０８８１１号公報、特開平６−２９
９０９１号公報、特開平７−１６８００３号公報）、あ
るいは微粒子含む層（特公昭６０−５９２５０号公報、
特開平５−１３０２１号公報、特開平６−５６４７８号
公報、特開平７−９２３０６号公報、特開平９−２８８
２０１号公報）として形成することができる。微粒子を
含む層では、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとし
て、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子
を含む層は、３〜５０体積％の空隙率を有することが好
ましく、５〜３５体積％の空隙率を有することがさらに
好ましい。

【００４２】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率
層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７
０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層
の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率
との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折
率は、１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．
５５〜１．７０であることがさらに好ましい。中・高屈
折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ま
しく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好まし
く、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・
高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好まし
く、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下で
あることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高
い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成する
ことができる。屈折率が高いポリマーの例には、ポリス
チレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミ
ン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状（脂環
式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で
得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状（芳香
族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素
以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、
屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能
にしたモノマーの重合反応によりポリマーを形成しても
よい。

【００４３】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物又は硫化物から形成す
ることが好ましい。金属の酸化物又は硫化物の例には、
二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混
晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化イ
ンジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム及び硫化亜鉛が
含まれる。酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特
に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は
硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができ
る。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量
（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、
Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃ
ｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及
びＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、そ
れ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアル
コキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化
合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリマーを用い
て、中・高屈折率層を形成することもできる。

【００４４】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能）を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３〜３
０％のヘイズを有する。

【００４５】ハードコート層は、透明支持体の硬度より
も高い高度を有する。ハードコート層は、架橋している
ポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、ア
クリル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴ
マー又はモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）を用いて形
成することができる。シリカ系材料からハードコート層
を形成することもできる。

【００４６】反射防止層（低屈折率層）の表面に潤滑層
を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表面に滑り性
を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、
ポリオルガノシロキサン（例、シリコンオイル）、天然
ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系
潤滑剤又はその誘導体を用いて形成することができる。
潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍであることが好ましい。

【００４７】フィルター層、下塗り層、反射防止層、ハ
ードコート層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方
法により形成することができる。塗布方法の例には、デ
ィップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコー
ト法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラ
ビアコート法及びホッパーを使用するエクストルージョ
ンコート法（米国特許２６８１２９４号公報）が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許２７６１７９１号公報、米
国特許２９４１８９８号公報、米国特許３５０８９４７
号公報、米国特許３５２６５２８号公報及び原崎勇次著
「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発
行）に記載されている。

【００４８】本発明の光学フィルターは、液晶表示装置
（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、
エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰
極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用す
る。低屈折率層を設ける場合は、低屈折率層が設けられ
ていない側の面が画像表示装置の画像表示面と対向する
ように配置する。本発明の光学フィルターは、プラズマ
ディスプレイパネル（ＰＤＰ）のフィルターとして使用
すると、特に顕著な効果が得られる。プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）は、ガス、ガラス基板、電極、電
極リード材料、厚膜印刷材料及び蛍光体により構成され
る。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の
二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成
する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成す
る。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封
入する。プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既
に市販されている。プラズマディスプレイパネルについ
ては、特開平５−２０５６４３号公報、特開平９−３０
６３６６号公報に記載されている。プラズマディスプレ
イパネルのような画像表示装置では、光学フィルターを
ディスプレイの前面に配置する。光学フィルターをディ
スプレイの表面に直接貼り付けることができる。また、
ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前
面板の表側（外側）又は裏側（ディスプレイ側）に光学
フィルターを貼り付けることもできる。

【００４９】

【実施例】以下、実施例及び比較例をもって本発明を更
に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施
例によって何ら制限を受けるものではない。

【００５０】〔実施例１〕下記の配合にてＵＶワニスを
作成し、これを易密着処理した１８８μｍ厚のポリエチ
レンテレフタレートフィルムにバーコーター＃９を塗布
し、８０℃、３０秒乾燥した。その後、赤外線カットフ
ィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を１００ｍ
Ｊ照射し、硬化膜厚約５μｍのフィルムを得た。これを
（株）日立製作所製スペクトロフォトメーターＵ−３０
１０で測定したところ、λｍａｘが５８２ｎｍで半値巾
が３４ｎｍであり、光学フィルターとして好適である。

【００５１】（配合）アデカオプトマーＫＲＸ−５７１−６５１００ｇ（旭電化工業（株）製ＵＶ硬化樹脂、樹脂分８０重量％）化合物Ｎｏ．１−ＣｌＯ₄塩０．５ｇメチルエチルケトン６０ｇ

【００５２】〔比較例１〕上記化合物Ｎｏ．１−ＣｌＯ
₄塩を下記比較化合物Ｎｏ．１−ＣｌＯ₄塩に代えた以
外は、実施例１と同様にしてフィルムを作成し、これを
上記Ｕ−３０１０で測定したところ、λｍａｘが５８１
ｍで半値巾が７８ｎｍであり、光学フィルターとして不
適当である。

【００５３】

【化１９】

【００５４】〔実施例２〕下記の配合をプラストミルで
２６０℃、５分間溶融混練した。混練後、直径６ｍｍの
ノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレッ
トを得た。このペレットを電気プレスを用いて２５０℃
で０．２５ｍｍ厚の薄板に成形した。これを上記Ｕ−３
０１０で測定したところ、λｍａｘが５８６ｍで半値巾
が３８ｎｍであり、光学フィルターとして好適である。

【００５５】（配合）ユーピロンＳ−３０００１００ｇ（三菱瓦斯化学（株）製；ポリカーボネート樹脂）化合物Ｎｏ．２−ＣｌＯ₄塩０．０１ｇ

【００５６】〔比較例２〕上記化合物Ｎｏ．２−ＣｌＯ
₄塩を下記比較化合物Ｎｏ．２−ＣｌＯ₄塩に代えた以
外は、実施例２と同様にして薄板を作成し、これを上記
Ｕ−３０１０で測定したところ、λｍａｘが５８３ｍで
半値巾が８１ｎｍであり、光学フィルターとして不適当
である。

【００５７】

【化２０】

【００５８】〔実施例３〕下記の配合にてバインダー組
成物を作成し、これを易密着処理した１８８μｍ厚のポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにバーコ
ーター＃９を塗布し、８０℃、３０秒乾燥した。その
後、このフィルムを０．９ｍｍ厚アルカリガラス板に１
００℃で熱圧着し、ガラス板とＰＥＴフィルムの間のバ
インダー層に光吸収性色素を含有するＰＥＴ保護ガラス
板を作成した。これを上記Ｕ−３０１０で測定したとこ
ろ、λｍａｘが５８５ｎｍで半値巾が３６ｎｍであり、
光学フィルターとして好適である。

【００５９】（配合）アデカアークルズＲ−１０３１００ｇ（旭電化工業（株）製アクリル樹脂系バインダー、樹脂分５０重量％）化合物Ｎｏ．３−ＣｌＯ₄塩０．５ｇ

【００６０】〔比較例３〕上記化合物Ｎｏ．３−ＣｌＯ
₄塩を下記比較化合物Ｎｏ．３−ＣｌＯ₄塩に代えた以
外は、実施例３と同様にしてＰＥＴ保護ガラス板を作成
し、これを上記Ｕ−３０１０で測定したところ、λｍａ
ｘが５８９ｍで半値巾が８２ｎｍであり、光学フィルタ
ーとして不適当である。

【００６１】

【化２１】

【００６２】〔実施例４〜１７〕化合物Ｎｏ．１、２及
び４〜１５のＣｌＯ₄塩を用いて実施例３と同様のＰＥ
Ｔ保護ガラス板を作成し、これを上記Ｕ−３０１０で測
定したところ、いずれもλｍａｘが５６０〜６２０ｎｍ
に含まれ、かつ半値巾が４０ｎｍ以下であり、光学フィ
ルターとして好適である

【００６３】上記実施例より明らかなように、本発明の
特定の構造を有するシアニン色素を使用してなるフィル
ターは、特定の波長（５６０〜６２０ｎｍ）にシャープ
な吸収（半値巾５０ｎｍ以下）を有している。

【００６４】

【発明の効果】本発明は、特定のシアニン色素を使用し
てなる、特にプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）用途に好
適な光学フィルターを提供するものである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含
有することを特徴とする光学フィルター。【化１】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は各々独立に炭素数１〜４のアルキ
ル基を表し、あるいはＲ₁、Ｒ₂は一緒になって酸素、
硫黄、窒素原子を含んでもよい３〜６員環を形成するこ
とができ、Ｙは各々独立に有機基を表し、Ｘは水素原子
又はハロゲン原子を表し、Ａｎ^m-はｍ価のアニオンを表
し、ｍは１又は２の整数を表し、ｐは電荷を中性に保つ
係数を表す）
【請求項２】上記一般式（Ｉ）において、Ｘが水素原
子であり、Ｒ₁がメチル基であり、Ｒ₂がメチル基又は
エチル基である化合物である請求項１記載の光学フィル
ター。
【請求項３】画像表示装置用のフィルターとして使用
する請求項１又は２記載の光学フィルター。
【請求項４】上記画像表示装置がプラズマディスプレ
イパネルである請求項３記載の光学フィルター。