JP2002145836A - 新規なｉｖ族金属前駆体及びこれを使用した化学蒸着法 - Google Patents
新規なｉｖ族金属前駆体及びこれを使用した化学蒸着法Info
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/409—Oxides of the type ABO3 with A representing alkali, alkaline earth metal or lead and B representing a refractory metal, nickel, scandium or a lanthanide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C225/14—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 優秀な揮発性と熱的特性を示し、加水分解に
対する化学的安定性が卓越して特にチタニウムのような
ＩＶ族金属を含む多成分系金属酸化物薄膜の蒸着に適す
るＩＶ族金属前駆体を提供する。 【解決手段】 一般式の三座配位子（Ｌ）と＋４価のＩ
Ｖ族金属（Ｍ）とからなる錯体Ｍ（Ｌ）2をＩＶ族金属
前駆体として金属酸化物薄膜を形成する。 （Ｒ1とＲ2はそれぞれＣ１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖
状アルキル基であり、Ｒ3はＣ１〜８の直鎖状もしくは
分枝鎖状アルキレン基である。）
対する化学的安定性が卓越して特にチタニウムのような
ＩＶ族金属を含む多成分系金属酸化物薄膜の蒸着に適す
るＩＶ族金属前駆体を提供する。 【解決手段】 一般式の三座配位子（Ｌ）と＋４価のＩ
Ｖ族金属（Ｍ）とからなる錯体Ｍ（Ｌ）2をＩＶ族金属
前駆体として金属酸化物薄膜を形成する。 （Ｒ1とＲ2はそれぞれＣ１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖
状アルキル基であり、Ｒ3はＣ１〜８の直鎖状もしくは
分枝鎖状アルキレン基である。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なＩＶ族金属前
駆体及びこれを使用した化学蒸着法に関するものであ
り、より詳細には−２価のＮ−アルコキシ−β−ケトイ
ミネートである三座配位が結合したＩＶ族金属前駆体を
使用して、金属酸化物薄膜を形成することを特徴とする
化学蒸着法に関するものである。
駆体及びこれを使用した化学蒸着法に関するものであ
り、より詳細には−２価のＮ−アルコキシ−β−ケトイ
ミネートである三座配位が結合したＩＶ族金属前駆体を
使用して、金属酸化物薄膜を形成することを特徴とする
化学蒸着法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報通信産業の発展によって新しい電子
材料の開発に対する需要が増大しており、電子素子の小
型化、薄膜化のため金属酸化物の加工技術、特に薄膜の
製造技術の確保は重要な問題になっている。揮発性有機
金属化合物を前駆体として使用するＭＯＣＶＤ法は高誘
電体薄膜、強誘電体薄膜、超電導薄膜、電極等に使われ
る金属酸化物薄膜の蒸着に広く使われている。一般的に
ＭＯＣＶＤ法は原料物質の気化方式によって大きく２種
類に分類されるが、固体または液体状の前駆体物質を移
送気体でバブリングして昇華させるバブラ方式と、前駆
体物質を適当な溶媒に溶かした溶液を高温で加熱された
熱板上に積荷して溶媒と共に気化されるようにして前駆
体の揮発効率を高めた気化器方式とがある。気化器方式
は前駆体を液体状態で移送するために液体移送方式とも
呼ばれている。化学蒸着法によって薄膜を製造するため
にはまず優秀な特性を有する前駆体が提供されなければ
ならないだけでなく、その前駆体を使用して製造された
薄膜の表面形状、組成、ステップカバレージなどが優秀
である場合に実質的に素子に応用することができる。
材料の開発に対する需要が増大しており、電子素子の小
型化、薄膜化のため金属酸化物の加工技術、特に薄膜の
製造技術の確保は重要な問題になっている。揮発性有機
金属化合物を前駆体として使用するＭＯＣＶＤ法は高誘
電体薄膜、強誘電体薄膜、超電導薄膜、電極等に使われ
る金属酸化物薄膜の蒸着に広く使われている。一般的に
ＭＯＣＶＤ法は原料物質の気化方式によって大きく２種
類に分類されるが、固体または液体状の前駆体物質を移
送気体でバブリングして昇華させるバブラ方式と、前駆
体物質を適当な溶媒に溶かした溶液を高温で加熱された
熱板上に積荷して溶媒と共に気化されるようにして前駆
体の揮発効率を高めた気化器方式とがある。気化器方式
は前駆体を液体状態で移送するために液体移送方式とも
呼ばれている。化学蒸着法によって薄膜を製造するため
にはまず優秀な特性を有する前駆体が提供されなければ
ならないだけでなく、その前駆体を使用して製造された
薄膜の表面形状、組成、ステップカバレージなどが優秀
である場合に実質的に素子に応用することができる。
【０００３】この際、前駆体が揃えなければならない条
件としては、高い気化特性、気化温度と分解温度の大き
い格差、低い毒性、化学的安定性、熱的安定性及び前駆
体合成と熱分解の容易さを挙げることができる。また気
化する過程及び気体で移送する過程で分解したり他の前
駆体と反応することがなく、特に多成分系薄膜の製造時
には、薄膜内に導入されるそれぞれの成分金属の組成が
容易に調節されることが好ましく、蒸着温度でそれぞれ
の金属前駆体等の分解挙動が近似する場合に良質の薄膜
を形成することができる。
件としては、高い気化特性、気化温度と分解温度の大き
い格差、低い毒性、化学的安定性、熱的安定性及び前駆
体合成と熱分解の容易さを挙げることができる。また気
化する過程及び気体で移送する過程で分解したり他の前
駆体と反応することがなく、特に多成分系薄膜の製造時
には、薄膜内に導入されるそれぞれの成分金属の組成が
容易に調節されることが好ましく、蒸着温度でそれぞれ
の金属前駆体等の分解挙動が近似する場合に良質の薄膜
を形成することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来、金属アルキル、
金属アルコキシド、金属カルボキシレート、金属β−ジ
ケトネート等の種々の有機金属化合物が前駆体として研
究されてきたが、揮発性、化学的−熱的安定性、毒性な
どの特性を十分に満足させることができなかった。ま
た、Ｍ（ＯＲ）n等の金属アルコキシドをβ−ジケトネ
ートのような二座配位子で一部を置換したＭ（ＯＲ）x
（β−ジケトネート）y形態の前駆体が報告されたこと
があるが、金属に残っているアルコキシド配位子が水分
に敏感であるとい問題点がある。
金属アルコキシド、金属カルボキシレート、金属β−ジ
ケトネート等の種々の有機金属化合物が前駆体として研
究されてきたが、揮発性、化学的−熱的安定性、毒性な
どの特性を十分に満足させることができなかった。ま
た、Ｍ（ＯＲ）n等の金属アルコキシドをβ−ジケトネ
ートのような二座配位子で一部を置換したＭ（ＯＲ）x
（β−ジケトネート）y形態の前駆体が報告されたこと
があるが、金属に残っているアルコキシド配位子が水分
に敏感であるとい問題点がある。
【０００５】一般的に、前駆体の水素原子を電気陰性度
が大きいフッ素原子で置換させたフッ素化アルキルなど
を使用して分子間の反発力を大きくすると、揮発性が向
上する。特に、バリウム、ストロンチウムのように小さ
い電荷対半径比を持っている金属イオンの揮発性を高め
るには嵩高いアルキル基が含まれる配位子を導入したり
多座のルイス塩基を導入して不飽和の配位領域を飽和さ
せてオリゴマー化及び水化物形成を抑制して分子間相互
作用を減らす方法が行なわれている。しかし、このよう
な方法は成長した薄膜にフッ素原子が含まれる可能性が
あり、また、前駆体を気化又は移送する途中でルイス塩
基が解離される等の新しい問題点を発生させる場合があ
る。
が大きいフッ素原子で置換させたフッ素化アルキルなど
を使用して分子間の反発力を大きくすると、揮発性が向
上する。特に、バリウム、ストロンチウムのように小さ
い電荷対半径比を持っている金属イオンの揮発性を高め
るには嵩高いアルキル基が含まれる配位子を導入したり
多座のルイス塩基を導入して不飽和の配位領域を飽和さ
せてオリゴマー化及び水化物形成を抑制して分子間相互
作用を減らす方法が行なわれている。しかし、このよう
な方法は成長した薄膜にフッ素原子が含まれる可能性が
あり、また、前駆体を気化又は移送する途中でルイス塩
基が解離される等の新しい問題点を発生させる場合があ
る。
【０００６】また、エアー プロダクト アンド ケミ
カル社によって開発された金属β−ケトイミネート化合
物Ｍn+（β−ケトイミネート）nを用いると、β−ケト
イミネートを二座配位子に用いることでキレート効果に
よって空いた配位座を満たして前駆体の熱及び化学的安
定性が向上されると米国特許第４，９５０，７９０号に
記載されているが、加水分解に対する安定性が少ないこ
とが問題になっている。
カル社によって開発された金属β−ケトイミネート化合
物Ｍn+（β−ケトイミネート）nを用いると、β−ケト
イミネートを二座配位子に用いることでキレート効果に
よって空いた配位座を満たして前駆体の熱及び化学的安
定性が向上されると米国特許第４，９５０，７９０号に
記載されているが、加水分解に対する安定性が少ないこ
とが問題になっている。
【０００７】Ｎ−アルコキシ−β−ケトイミネートのよ
うな２価の三座配位子を用いたＴａ（Ｎ−アルコキシ−
β−ケトイミネート）（ＯＥｔ）3やＮｂ（Ｎ−アルコ
キシ−β−ケトイミネート）（ＯＥｔ）3等の前駆体も
研究されているが、これらの前駆体は反応性が大きいア
ルコキシドとＮ−アルコキシ−β−ケトイミネートとを
共に使用しているためにＮ−アルコキシ−β−ケトイミ
ネートのみを配位子で使用した場合の長所を生すことが
できない。
うな２価の三座配位子を用いたＴａ（Ｎ−アルコキシ−
β−ケトイミネート）（ＯＥｔ）3やＮｂ（Ｎ−アルコ
キシ−β−ケトイミネート）（ＯＥｔ）3等の前駆体も
研究されているが、これらの前駆体は反応性が大きいア
ルコキシドとＮ−アルコキシ−β−ケトイミネートとを
共に使用しているためにＮ−アルコキシ−β−ケトイミ
ネートのみを配位子で使用した場合の長所を生すことが
できない。
【０００８】また、一般的にバリウム、ストロンチウ
ム、チタニウム（以下、「ＢＳＴ」とも称する。）のよ
うな多成分系金属酸化物薄膜をＭＯＣＶＤ法によって蒸
着する場合、各前駆体の揮発特性の差が大きいためにバ
リウムとストロンチウムに比べてチタニウムを過量に使
用して薄膜の金属組成を合せる必要がある。しかし、過
量に使われたチタニウムは薄膜表面にチタニウムが主成
分である突起を形成して薄膜表面に凹凸を生ずる原因と
なる。さらにＢＳＴ薄膜をＤＲＡＭのような半導体素子
に適用するには蒸着された薄膜内に炭素などの不純物が
含まれないようにしなければならず、かつ素子の構造を
形成するためにステップカバレージが良くなければなら
ないが、現在まで開発された前駆体から製造された多成
分系金属酸化物薄膜は、チタニウム前駆体の過量使用に
よって表面形状が荒く、炭素などの不純物によって薄膜
の漏洩電流が大きくなりステップカバレージに劣り素子
製作時の問題点として指摘されている。
ム、チタニウム（以下、「ＢＳＴ」とも称する。）のよ
うな多成分系金属酸化物薄膜をＭＯＣＶＤ法によって蒸
着する場合、各前駆体の揮発特性の差が大きいためにバ
リウムとストロンチウムに比べてチタニウムを過量に使
用して薄膜の金属組成を合せる必要がある。しかし、過
量に使われたチタニウムは薄膜表面にチタニウムが主成
分である突起を形成して薄膜表面に凹凸を生ずる原因と
なる。さらにＢＳＴ薄膜をＤＲＡＭのような半導体素子
に適用するには蒸着された薄膜内に炭素などの不純物が
含まれないようにしなければならず、かつ素子の構造を
形成するためにステップカバレージが良くなければなら
ないが、現在まで開発された前駆体から製造された多成
分系金属酸化物薄膜は、チタニウム前駆体の過量使用に
よって表面形状が荒く、炭素などの不純物によって薄膜
の漏洩電流が大きくなりステップカバレージに劣り素子
製作時の問題点として指摘されている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は前記のような従
来技術の問題点を解決するためのものであり、優れた揮
発性と熱的特性とを示し、加水分解に対する化学的安定
性に優れ、特にチタニウムのようなＩＶ族金属を含む多
成分系金属酸化物薄膜の形成に適合したＩＶ族金属前駆
体、及びこれを使用した化学蒸着法を提供するものであ
る。
来技術の問題点を解決するためのものであり、優れた揮
発性と熱的特性とを示し、加水分解に対する化学的安定
性に優れ、特にチタニウムのようなＩＶ族金属を含む多
成分系金属酸化物薄膜の形成に適合したＩＶ族金属前駆
体、及びこれを使用した化学蒸着法を提供するものであ
る。
【００１０】具体的には、下記化学式で示される三座配
位子（Ｌ）を提供するものである。
位子（Ｌ）を提供するものである。
【００１１】
【化３】
【００１２】前記式において、Ｒ1とＲ2はそれぞれ炭素
数１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基であり、
Ｒ3は炭素数１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレ
ン基である。
数１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基であり、
Ｒ3は炭素数１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレ
ン基である。
【００１３】また、前記化学式で示される三座配位子
（Ｌ）と＋４価のＩＶ族金属（Ｍ）からなる化学式Ｍ
（Ｌ）2で示されることを特徴とする金属酸化物薄膜製
造用の有機金属前駆体を提供するものである。
（Ｌ）と＋４価のＩＶ族金属（Ｍ）からなる化学式Ｍ
（Ｌ）2で示されることを特徴とする金属酸化物薄膜製
造用の有機金属前駆体を提供するものである。
【００１４】更に、チタニウムのようなＩＶ族金属
（Ｍ）と前記化学式で示される三座配位子（Ｌ）からな
る化学式Ｍ（Ｌ）2で示す錯体を使用して金属酸化物薄
膜を形成することを特徴とする化学蒸着法に関するもの
である。以下本発明をより詳細に説明すれば次の通りで
ある。
（Ｍ）と前記化学式で示される三座配位子（Ｌ）からな
る化学式Ｍ（Ｌ）2で示す錯体を使用して金属酸化物薄
膜を形成することを特徴とする化学蒸着法に関するもの
である。以下本発明をより詳細に説明すれば次の通りで
ある。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明は、上記化学式Ｍ（Ｌ）2
で示す有機金属前駆体を使用する化学蒸着法であり、該
有機金属前駆体の中でも、ＩＶ族金属（Ｍ）がチタニウ
ムであることが好ましく、具体的には、チタニウム（Ｎ
−アルコキシ−β−ケトイミネート） 2を薄膜製造用前
駆体として使用する化学蒸着法である。前記チタニウム
前駆体は優れたキレート効果を有する三座配位子を用い
て中心金属の空いた配位座を飽和させるため、化学的な
安定性に優れ熱的特性も優秀で気化後に残留物が残らな
い。また、後に詳述するが、該三座配位子の非対称要素
を調節することによって前駆体の気化温度、気化後の残
留物等の熱的特性を調節することができるためにチタニ
ウムを含む多成分系金属酸化物の薄膜蒸着時に要求され
る前駆体間の気化及び分解挙動を類似させることができ
る。
で示す有機金属前駆体を使用する化学蒸着法であり、該
有機金属前駆体の中でも、ＩＶ族金属（Ｍ）がチタニウ
ムであることが好ましく、具体的には、チタニウム（Ｎ
−アルコキシ−β−ケトイミネート） 2を薄膜製造用前
駆体として使用する化学蒸着法である。前記チタニウム
前駆体は優れたキレート効果を有する三座配位子を用い
て中心金属の空いた配位座を飽和させるため、化学的な
安定性に優れ熱的特性も優秀で気化後に残留物が残らな
い。また、後に詳述するが、該三座配位子の非対称要素
を調節することによって前駆体の気化温度、気化後の残
留物等の熱的特性を調節することができるためにチタニ
ウムを含む多成分系金属酸化物の薄膜蒸着時に要求され
る前駆体間の気化及び分解挙動を類似させることができ
る。
【００１６】すなわち本発明では、中心金属をMで示
し、上記三座配位子をLで示した場合に化学式Ｍ（Ｌ）2
で示される錯体を有機金属前駆体として使用するもので
ある。この際、中心金属Mとしては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｓｎ、ＰｂなどのようなＩＶ族金属が
好ましい。また、配位子Ｌは下記化学式に示すように２
価のＮ−アルコキシ−β−ケトイミネートであり、＋４
価のＩＶ族金属に対して、−２価の三座配位子によって
３箇所で配位するからである。
し、上記三座配位子をLで示した場合に化学式Ｍ（Ｌ）2
で示される錯体を有機金属前駆体として使用するもので
ある。この際、中心金属Mとしては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｓｎ、ＰｂなどのようなＩＶ族金属が
好ましい。また、配位子Ｌは下記化学式に示すように２
価のＮ−アルコキシ−β−ケトイミネートであり、＋４
価のＩＶ族金属に対して、−２価の三座配位子によって
３箇所で配位するからである。
【００１７】
【化４】
【００１８】前記式において、Ｒ1とＲ2はそれぞれメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペプチ
ル基、オクチル基等の炭素数１〜８の直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキル基であり、Ｒ1とＲ2は非対称性を与え
るためにお互い異なっていてもよく、同じアルキル基で
あってもよい。また、Ｒ3はメチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、メチルエ
チレン、ジメチルエチレン、エチルエチレン、ヘキサメ
チレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン等の炭素数１
〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレン基であり、特
にメチルエチレン、ジメチルエチレン、エチルエチレン
等のアルキルエチレンであることが好ましい。
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペプチ
ル基、オクチル基等の炭素数１〜８の直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキル基であり、Ｒ1とＲ2は非対称性を与え
るためにお互い異なっていてもよく、同じアルキル基で
あってもよい。また、Ｒ3はメチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、メチルエ
チレン、ジメチルエチレン、エチルエチレン、ヘキサメ
チレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン等の炭素数１
〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレン基であり、特
にメチルエチレン、ジメチルエチレン、エチルエチレン
等のアルキルエチレンであることが好ましい。
【００１９】このような化合物の製造方法やその種類と
しては、オルガノメタリクス(1999年,18,1018)におい
て、触媒としての使用が報告されているが、それらの化
合物のうち上記化学式で特定される種々のチタニウム
（Ｎ−アルコキシ−β−ケトイミネート）２を広く使用
することができる。
しては、オルガノメタリクス(1999年,18,1018)におい
て、触媒としての使用が報告されているが、それらの化
合物のうち上記化学式で特定される種々のチタニウム
（Ｎ−アルコキシ−β−ケトイミネート）２を広く使用
することができる。
【００２０】本発明では配位子のキレート作用をより増
加させるためにβ−ケトイミネートの窒素原子に分岐を
有していてもよいアルキルアルコールを付加させ、溶液
中で−１価の電荷を有するβ−ケトイミネートを−２価
の三座配位子とし、金属イオンと強い結合を形成させな
がら空いた配位座を飽和させ、優れた化学的、熱的安定
性を確保した。なお、上記化学式で示す三座配位子Ｌ
は、溶液中でイオンとなった場合に−２価の電荷を有す
るのであり、イオン解離前の物質としては上記化学式の
イオン解離している酸素原子に例えば水素原子が結合し
た化合物が例示できる。より具体的には、本願明細書の
実施例１〜１０で製造した化合物である。また、該三座
配位子Ｌが、＋４価のＩＶ族金属に配位座数３で配位し
た化合物としては、例えば、本願明細書の実施例１１〜
２０で製造した化合物がある。
加させるためにβ−ケトイミネートの窒素原子に分岐を
有していてもよいアルキルアルコールを付加させ、溶液
中で−１価の電荷を有するβ−ケトイミネートを−２価
の三座配位子とし、金属イオンと強い結合を形成させな
がら空いた配位座を飽和させ、優れた化学的、熱的安定
性を確保した。なお、上記化学式で示す三座配位子Ｌ
は、溶液中でイオンとなった場合に−２価の電荷を有す
るのであり、イオン解離前の物質としては上記化学式の
イオン解離している酸素原子に例えば水素原子が結合し
た化合物が例示できる。より具体的には、本願明細書の
実施例１〜１０で製造した化合物である。また、該三座
配位子Ｌが、＋４価のＩＶ族金属に配位座数３で配位し
た化合物としては、例えば、本願明細書の実施例１１〜
２０で製造した化合物がある。
【００２１】一般的に、金属をＭで示し、アルキル基を
Ｒで示した場合にＭ（ＯＲ）nやＭ（ＯＲ）x（β−ジケ
トネート）yで示される前駆体は、空気中に放置すると
加水分解によって金属ヒドロキシ錯体に変化するが、本
発明による三座配位子を有する前駆体は加水分解反応に
対して優れた安定性を有する。後記する実施例１２で用
いた前駆体Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2は、空気中で３ケ月以
上放置しても前駆体の構造が変わらない化学的安定性を
有していた。
Ｒで示した場合にＭ（ＯＲ）nやＭ（ＯＲ）x（β−ジケ
トネート）yで示される前駆体は、空気中に放置すると
加水分解によって金属ヒドロキシ錯体に変化するが、本
発明による三座配位子を有する前駆体は加水分解反応に
対して優れた安定性を有する。後記する実施例１２で用
いた前駆体Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2は、空気中で３ケ月以
上放置しても前駆体の構造が変わらない化学的安定性を
有していた。
【００２２】本発明によるチタニウム前駆体は、一般的
な有機溶媒であるベンゼン、トルエン、クロロホルム、
アルコール、テトラヒドロフラン、ｎ−ブチルアセテー
ト等に溶解するために液体移送有機金属化学蒸着法(Liq
uid Delivery MOCVD)を使用して薄膜を形成することが
できる。特にＬＳＣＶＤ(Liquid Source Chemical Vapo
r Deposition)法に汎用的に使われるｎ−ブチルアセテ
ート等の溶媒に対する溶解度は、該三座配位子に導入さ
れる置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の種類およびＲ1、Ｒ 2のの対
称性を調節することによって増加させることができる。
な有機溶媒であるベンゼン、トルエン、クロロホルム、
アルコール、テトラヒドロフラン、ｎ−ブチルアセテー
ト等に溶解するために液体移送有機金属化学蒸着法(Liq
uid Delivery MOCVD)を使用して薄膜を形成することが
できる。特にＬＳＣＶＤ(Liquid Source Chemical Vapo
r Deposition)法に汎用的に使われるｎ−ブチルアセテ
ート等の溶媒に対する溶解度は、該三座配位子に導入さ
れる置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の種類およびＲ1、Ｒ 2のの対
称性を調節することによって増加させることができる。
【００２３】本発明による前駆体は熱安定性、耐湿性及
び化学的な安定性が非常に向上された特性を有するが、
このような特性も配位子に導入された置換基の種類及び
対称性によって変化する。Ｒ3にメチル基を有しない前
駆体、例えば、チタニウムビス［４−（エトキシ）イミ
ノ−２−ペンタノネート］（Ｔｉ（ｅｉｐ）2と略称す
る。）の場合、気化後に８質量％程度の残留物が残る
が、メチル基を有している前駆体チタニウムビス［４−
（２−メチルエトキシ）イミノ−２−ペンタノネート］
（Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2と略称する。）とチタニウムビ
ス［２，２−ジメチル−５−（２−メチルエトキシ）イ
ミノ−３−ヘプタノネート］（Ｔｉ（２２ｄｍ２ｍｅｉ
ｈ）2と略称する。）は各々大気圧で１９８℃または２
１８℃で溶けた後、２９０℃、２８７℃で急激に気化
し、熱分解が生じず気化後に残留物が残らない優れた熱
的特性を有している。
び化学的な安定性が非常に向上された特性を有するが、
このような特性も配位子に導入された置換基の種類及び
対称性によって変化する。Ｒ3にメチル基を有しない前
駆体、例えば、チタニウムビス［４−（エトキシ）イミ
ノ−２−ペンタノネート］（Ｔｉ（ｅｉｐ）2と略称す
る。）の場合、気化後に８質量％程度の残留物が残る
が、メチル基を有している前駆体チタニウムビス［４−
（２−メチルエトキシ）イミノ−２−ペンタノネート］
（Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2と略称する。）とチタニウムビ
ス［２，２−ジメチル−５−（２−メチルエトキシ）イ
ミノ−３−ヘプタノネート］（Ｔｉ（２２ｄｍ２ｍｅｉ
ｈ）2と略称する。）は各々大気圧で１９８℃または２
１８℃で溶けた後、２９０℃、２８７℃で急激に気化
し、熱分解が生じず気化後に残留物が残らない優れた熱
的特性を有している。
【００２４】一般的に、化学蒸着法で多成分系薄膜を蒸
着する場合、各金属前駆体等の気化温度がお互い違って
分解挙動が異なるために相対的に高い揮発性を有する金
属の前駆体を過量に供給して薄膜の組成を調節してい
る。したがって多成分系物質の蒸着で良質の薄膜を製造
するためには各前駆体の揮発及び分解挙動が類似する組
合を選択することが非常に重要である。特に、Ｂａ、Ｓ
ｒなどのように小さい電価対半径比を持っている金属は
配位座が配位子らによって十分に配位できないためにチ
タニウム前駆体に比べて約１００℃以上の気化温度差が
生じる。しかし、本発明による前駆体は、既存のチタニ
ウム前駆体に比べて相対的に高い温度で気化するが揮発
後に残留量がなく、酸素雰囲気で熱分解され、特定温度
以上でほぼ完全に分解されるために揮発性が少ない金属
を用いて多成分系薄膜を形成しようとする場合にも特に
有効であり、表面形状が滑らかで、ステップカバレージ
に優れ、薄膜内に炭素または窒素等の不純物がほとんど
ない良質の薄膜を得ることができる。
着する場合、各金属前駆体等の気化温度がお互い違って
分解挙動が異なるために相対的に高い揮発性を有する金
属の前駆体を過量に供給して薄膜の組成を調節してい
る。したがって多成分系物質の蒸着で良質の薄膜を製造
するためには各前駆体の揮発及び分解挙動が類似する組
合を選択することが非常に重要である。特に、Ｂａ、Ｓ
ｒなどのように小さい電価対半径比を持っている金属は
配位座が配位子らによって十分に配位できないためにチ
タニウム前駆体に比べて約１００℃以上の気化温度差が
生じる。しかし、本発明による前駆体は、既存のチタニ
ウム前駆体に比べて相対的に高い温度で気化するが揮発
後に残留量がなく、酸素雰囲気で熱分解され、特定温度
以上でほぼ完全に分解されるために揮発性が少ない金属
を用いて多成分系薄膜を形成しようとする場合にも特に
有効であり、表面形状が滑らかで、ステップカバレージ
に優れ、薄膜内に炭素または窒素等の不純物がほとんど
ない良質の薄膜を得ることができる。
【００２５】一方、ＢＳＴのような多成分系金属酸化物
薄膜を蒸着する際の基板表面の温度は実質的に均一に維
持されず、また段差が大きい構造の素子を製作する時も
段差の上下部の温度が同一でないため、既存の方法では
大きな面積の基板や段差が大きい薄膜の上下部でチタニ
ウム組成を同一に維持することが難しかった。しかし、
本発明による前駆体の場合には、市販のチタニウム前駆
体に比べて薄膜内チタニウム組成の温度依存性が少な
く、大面積の薄膜製作や段差が大きい薄膜の組成調節が
容易である。
薄膜を蒸着する際の基板表面の温度は実質的に均一に維
持されず、また段差が大きい構造の素子を製作する時も
段差の上下部の温度が同一でないため、既存の方法では
大きな面積の基板や段差が大きい薄膜の上下部でチタニ
ウム組成を同一に維持することが難しかった。しかし、
本発明による前駆体の場合には、市販のチタニウム前駆
体に比べて薄膜内チタニウム組成の温度依存性が少な
く、大面積の薄膜製作や段差が大きい薄膜の組成調節が
容易である。
【００２６】
【実施例】以下本発明を実施例によって詳細に説明す
る。ただし、下記実施例は本発明を例示するものであ
り、本発明の内容が実施例によって限定されるものでは
ない。
る。ただし、下記実施例は本発明を例示するものであ
り、本発明の内容が実施例によって限定されるものでは
ない。
【００２７】実施例１．CH3C(O)CHC(HNCH2CH2OH)CH3の
製造 オルガノメタリクス（1999年、18、1018）に記載された方
法に従い、エタノールアミン（ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）
（６．７１ｇ、１０９．８ｍｍｏｌ）及び２，４−ペン
タンジオン（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ2Ｃ（Ｏ）ＣＨ3）（１
０ｇ、９９．８８ｍｍｏｌ）を原料化合物として、これ
をＣＨ2Ｃｌ2１２０ｍｌに混合して常温で一日撹拌し
た。次に、Ｈ2Ｏ／ＣＨ2Ｃｌ2（１５ｍｌ／１５０ｍ
ｌ）混合溶液を用いて生成物質を有機層に抽出し、水層
をＣＨ2Ｃｌ2溶液１００ｍｌで三回さらに抽出した。Ｃ
Ｈ2Ｃｌ2層を合わせＭｇＳＯ4で乾燥した後に、ＣＨ2Ｃ
ｌ2を除去し、次いでＣＨ2Ｃｌ2／ｎ−ヘキサン（１０
ｍｌ／１４０ｍｌ）を添加して−２０℃で再結晶し、Ｃ
Ｈ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3１２．
８８ｇ（収率９０％）を製造した。
製造 オルガノメタリクス（1999年、18、1018）に記載された方
法に従い、エタノールアミン（ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）
（６．７１ｇ、１０９．８ｍｍｏｌ）及び２，４−ペン
タンジオン（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ2Ｃ（Ｏ）ＣＨ3）（１
０ｇ、９９．８８ｍｍｏｌ）を原料化合物として、これ
をＣＨ2Ｃｌ2１２０ｍｌに混合して常温で一日撹拌し
た。次に、Ｈ2Ｏ／ＣＨ2Ｃｌ2（１５ｍｌ／１５０ｍ
ｌ）混合溶液を用いて生成物質を有機層に抽出し、水層
をＣＨ2Ｃｌ2溶液１００ｍｌで三回さらに抽出した。Ｃ
Ｈ2Ｃｌ2層を合わせＭｇＳＯ4で乾燥した後に、ＣＨ2Ｃ
ｌ2を除去し、次いでＣＨ2Ｃｌ2／ｎ−ヘキサン（１０
ｍｌ／１４０ｍｌ）を添加して−２０℃で再結晶し、Ｃ
Ｈ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3１２．
８８ｇ（収率９０％）を製造した。
【００２８】実施例２．CH3C(O)CHC(HNCH2CH(CH3)OH)CH
3の製造 １−アミノ−２−プロパノール（ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ
3）ＯＨ）（２２．５１ｇ、２９９．７ｍｍｏｌ）及び
２，４−ペンタンジオン（２０ｇ、１９９．８ｍｍｏ
ｌ）を原料化合物とすること以外は実施例１と同じ方法
で実施し、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ
3）ＯＨ）ＣＨ3２９．８３ｇ（収率９５％）を製造し
た。
3の製造 １−アミノ−２−プロパノール（ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ
3）ＯＨ）（２２．５１ｇ、２９９．７ｍｍｏｌ）及び
２，４−ペンタンジオン（２０ｇ、１９９．８ｍｍｏ
ｌ）を原料化合物とすること以外は実施例１と同じ方法
で実施し、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ
3）ＯＨ）ＣＨ3２９．８３ｇ（収率９５％）を製造し
た。
【００２９】実施例３．CH3C(O)CHC(HNCH(CH3)CH2OH)CH
3の製造 ＤＬ−２−アミノ−１−プロパノール（ＮＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）ＣＨＯＨ）（１０．０ｇ、１３．３１ｍｍｏ
ｌ）、２，４−ペンタンジオン（１１．１１ｇ、１１．
１０ｍｍｏｌ）をＣＨ3ＯＨ溶液１００ｍｌに混合して
ＨＣＯＯＨ０．５１ｇを添加し、８５℃で撹拌しながら
一日還流した。溶媒を除去した後、Ｈ2Ｏ／ＣＨ2Ｃｌ2
（２０ｍｌ／１５０ｍｌ）混合溶液を利用して生成物質
を有機層に抽出し、Ｈ2Ｏ層を三回さらにＣＨ2Ｃｌ2溶
液１００ｍｌで抽出した。ＣＨ2Ｃｌ2層を合わせ、次い
でＭｇＳＯ4で乾燥した後にＣＨ2Ｃｌ2を除去してエチ
ルアセテートを展開溶液としてシリカで充填されたカラ
ムを通し分離してＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ（Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3１５．５２ｇ（収率８９％）を
製造した。
3の製造 ＤＬ−２−アミノ−１−プロパノール（ＮＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）ＣＨＯＨ）（１０．０ｇ、１３．３１ｍｍｏ
ｌ）、２，４−ペンタンジオン（１１．１１ｇ、１１．
１０ｍｍｏｌ）をＣＨ3ＯＨ溶液１００ｍｌに混合して
ＨＣＯＯＨ０．５１ｇを添加し、８５℃で撹拌しながら
一日還流した。溶媒を除去した後、Ｈ2Ｏ／ＣＨ2Ｃｌ2
（２０ｍｌ／１５０ｍｌ）混合溶液を利用して生成物質
を有機層に抽出し、Ｈ2Ｏ層を三回さらにＣＨ2Ｃｌ2溶
液１００ｍｌで抽出した。ＣＨ2Ｃｌ2層を合わせ、次い
でＭｇＳＯ4で乾燥した後にＣＨ2Ｃｌ2を除去してエチ
ルアセテートを展開溶液としてシリカで充填されたカラ
ムを通し分離してＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ（Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3１５．５２ｇ（収率８９％）を
製造した。
【００３０】製造された物質のＮＭＲ測定結果は次の通
りである。
りである。
【００３１】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１０．８（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝
Ｃ（ＮＨ））、４．９３（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ
（ＮＨ））、３．７２（ｍ、１Ｈ、ＨＮＣＨ（Ｍｅ）Ｃ
Ｈ2ＯＨ）、３．６２（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨＭｅＣＨaＨ
bＯＨ）、３．５２（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨＭｅＣＨaＨb
ＯＨ）、３．３５（ｂｒｓ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ
2ＯＨ）、１．９８（ｓ、３Ｈ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）Ｃ
Ｈ3）、１．９７（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、
１．１８（ｄ、３Ｈ、ＨＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９２．４５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６０．６９
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９３．１９（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、６４．５７（ｓ、ＨＮＣＨ
（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、４８．４５（ｓ、ＨＮＣＨ（Ｍ
ｅ）ＣＨ2ＯＨ）、２６．１９（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）、１６．６９（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、１
５．７（ｓ、ＮＨＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）。
ＤＣｌ3）：１０．８（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝
Ｃ（ＮＨ））、４．９３（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ
（ＮＨ））、３．７２（ｍ、１Ｈ、ＨＮＣＨ（Ｍｅ）Ｃ
Ｈ2ＯＨ）、３．６２（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨＭｅＣＨaＨ
bＯＨ）、３．５２（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨＭｅＣＨaＨb
ＯＨ）、３．３５（ｂｒｓ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ
2ＯＨ）、１．９８（ｓ、３Ｈ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）Ｃ
Ｈ3）、１．９７（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、
１．１８（ｄ、３Ｈ、ＨＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９２．４５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６０．６９
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９３．１９（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、６４．５７（ｓ、ＨＮＣＨ
（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、４８．４５（ｓ、ＨＮＣＨ（Ｍ
ｅ）ＣＨ2ＯＨ）、２６．１９（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）、１６．６９（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、１
５．７（ｓ、ＮＨＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）。
【００３２】実施例４．CH3C(O)CHC(HNC(CH3)2CH2OH)CH
3の製造 ２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール（ＮＨ2Ｃ
（ＣＨ3）2ＣＨＯＨ）（１３．３５ｇ、１４９．８ｍｍ
ｏｌ）及び２，４−ペンタンジオン（１０．０ｇ、９
９．８８ｍｍｏｌ）をＣＨ3ＯＨ溶液１００ｍｌに混合
してＨＣＯＯＨ０．５１ｇを添加し、８５℃で撹拌しな
がら一日還流した。溶媒を除去した後、エチルエテル２
００ｍｌを用いて常温で再結晶してＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ
Ｃ（ＨＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＨ） ＣＨ3１０．９５ｇ
（収率６４％）を製造した。
3の製造 ２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール（ＮＨ2Ｃ
（ＣＨ3）2ＣＨＯＨ）（１３．３５ｇ、１４９．８ｍｍ
ｏｌ）及び２，４−ペンタンジオン（１０．０ｇ、９
９．８８ｍｍｏｌ）をＣＨ3ＯＨ溶液１００ｍｌに混合
してＨＣＯＯＨ０．５１ｇを添加し、８５℃で撹拌しな
がら一日還流した。溶媒を除去した後、エチルエテル２
００ｍｌを用いて常温で再結晶してＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ
Ｃ（ＨＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＨ） ＣＨ3１０．９５ｇ
（収率６４％）を製造した。
【００３３】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００３４】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１１．３２（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ））、４．８８（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝
Ｃ（ＮＨ））、４．３５（ｂｒｓ、１Ｈ、ＨＮＣ（Ｍ
ｅ）2ＣＨ2ＯＨ）、３．５３（ｓ、２Ｈ、ＮＣ（Ｍｅ）
2ＣＨ2ＯＨ）、２．０４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ＝Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ 3）、１．９４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．３
３（ｓ、６Ｈ、ＨＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９４．２４（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６３．８８
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９７．０７（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝（ＮＨ））、７０．９３（ｓ、ＮＨＣ（Ｍ
ｅ）2ＣＨ2ＯＨ）、５６．４４（ｓ、ＨＮＣ（Ｍｅ）2
ＣＨ2ＯＨ）、２８．６７（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）Ｃ
Ｈ3）、２５．７２（ｓ、ＨＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、２０．９６（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）；ＥＡ
（ｃａｌＣ：６３．１３、Ｈ：１０．０１、Ｎ：８．１
８、ｆｏｕｎｄＣ：６３．３８、Ｈ：１０．５７、Ｎ：
８．２３）。
ＤＣｌ3）：１１．３２（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ））、４．８８（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝
Ｃ（ＮＨ））、４．３５（ｂｒｓ、１Ｈ、ＨＮＣ（Ｍ
ｅ）2ＣＨ2ＯＨ）、３．５３（ｓ、２Ｈ、ＮＣ（Ｍｅ）
2ＣＨ2ＯＨ）、２．０４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ＝Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ 3）、１．９４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．３
３（ｓ、６Ｈ、ＨＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９４．２４（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６３．８８
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９７．０７（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝（ＮＨ））、７０．９３（ｓ、ＮＨＣ（Ｍ
ｅ）2ＣＨ2ＯＨ）、５６．４４（ｓ、ＨＮＣ（Ｍｅ）2
ＣＨ2ＯＨ）、２８．６７（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）Ｃ
Ｈ3）、２５．７２（ｓ、ＨＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、２０．９６（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）；ＥＡ
（ｃａｌＣ：６３．１３、Ｈ：１０．０１、Ｎ：８．１
８、ｆｏｕｎｄＣ：６３．３８、Ｈ：１０．５７、Ｎ：
８．２３）。
【００３５】実施例５．CH3C(O)CHC(HNCH(CH2CH3)CH2O
H)CH3の製造 ２−アミノ−１−ブタノール（１３．３５ｇ、１４９．
８ｍｍｏｌ）及び２，４−ペンタンジオン（１０ｇ、９
９．８８ｍｍｏｌ）を使用してエタノール下で実施例３
と同じ方法で合成し、真空蒸留して黄色い液体であるＣ
Ｈ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ
Ｈ）ＣＨ3１４．５４ｇ（収率８５％）を製造した。
H)CH3の製造 ２−アミノ−１−ブタノール（１３．３５ｇ、１４９．
８ｍｍｏｌ）及び２，４−ペンタンジオン（１０ｇ、９
９．８８ｍｍｏｌ）を使用してエタノール下で実施例３
と同じ方法で合成し、真空蒸留して黄色い液体であるＣ
Ｈ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ
Ｈ）ＣＨ3１４．５４ｇ（収率８５％）を製造した。
【００３６】製造された物質のＮＭＲ測定結果は次の通
りである。
りである。
【００３７】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１０．７４（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ）、４．９４（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ
（ＮＨ））、４．０６（ｄ、２Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ3）
ＣＨ22ＯＨ）、３．６０（ｍ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2ＯＨ）、３．２５（ｂｒｓ、１Ｈ、ＨＮＣＨ
（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、１．９９（ｓ、３Ｈ、Ｃ
Ｈ＝Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９３（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ
（Ｏ））、１．５９（ｍ、２Ｈ、ＨＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2ＯＨ）、０．９５（ｔ、３Ｈ、ＨＮＣＨ（Ｃ
Ｈ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９２．１５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６３．８６
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９５．８７（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、６５．９１（ｓ、ＨＮＣＨ
（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、５７．２３（ｓ、ＨＮＣ
Ｈ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、２８．９０（ｓ、ＣＨ3
Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、２５．５４（ｓ、ＨＮＣＨ（ＣＨ2
ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、１９．６６（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（Ｎ
Ｈ）ＣＨ3）、１０．５６（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）
ＣＨ2ＯＨ）。
ＤＣｌ3）：１０．７４（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ）、４．９４（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ
（ＮＨ））、４．０６（ｄ、２Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ3）
ＣＨ22ＯＨ）、３．６０（ｍ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2ＯＨ）、３．２５（ｂｒｓ、１Ｈ、ＨＮＣＨ
（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、１．９９（ｓ、３Ｈ、Ｃ
Ｈ＝Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９３（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ
（Ｏ））、１．５９（ｍ、２Ｈ、ＨＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2ＯＨ）、０．９５（ｔ、３Ｈ、ＨＮＣＨ（Ｃ
Ｈ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９２．１５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６３．８６
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９５．８７（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、６５．９１（ｓ、ＨＮＣＨ
（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、５７．２３（ｓ、ＨＮＣ
Ｈ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、２８．９０（ｓ、ＣＨ3
Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、２５．５４（ｓ、ＨＮＣＨ（ＣＨ2
ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、１９．６６（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（Ｎ
Ｈ）ＣＨ3）、１０．５６（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）
ＣＨ2ＯＨ）。
【００３８】実施例６．CH3C(O)CHC(HNCH2CH2CH2OH)CH3
の製造 ３−アミノ−１−プロパノール（９．０ｇ、１１９．８
ｍｍｏｌ）及び２，４−ペンタンジオン（１０ｇ、９
９．８８ｍｍｏｌ）を使用して実施例１と同じ方法で合
成し、エチルアセテート／ヘキサン８０％を展開溶液と
してシリカで充填されたカラムを通し分離してＣＨ3Ｃ
（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3１４．
００ｇ（収率９３％）を製造した。
の製造 ３−アミノ−１−プロパノール（９．０ｇ、１１９．８
ｍｍｏｌ）及び２，４−ペンタンジオン（１０ｇ、９
９．８８ｍｍｏｌ）を使用して実施例１と同じ方法で合
成し、エチルアセテート／ヘキサン８０％を展開溶液と
してシリカで充填されたカラムを通し分離してＣＨ3Ｃ
（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3１４．
００ｇ（収率９３％）を製造した。
【００３９】製造された物質のＮＭＲ測定結果は次の通
りである。
りである。
【００４０】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１０．８６（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ））、４．９６（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝
Ｃ（ＮＨ））、３．７４（ｔ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ
2ＯＨ）、３．３８（ｄｔ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、２．６７（ｂｒｓ、１Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、１．９８（ｓ、３Ｈ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）Ｃ
Ｈ3）、１．９４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）１．
８３（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９４．９４（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６３．８０
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９５．４６（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、５９．６２（ｓ、ＨＮＣＨ
2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３９．９２（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨ2
ＣＨ2ＯＨ）、３２．８５（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、２８．８５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１８．
９９（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）。
ＤＣｌ3）：１０．８６（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ））、４．９６（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝
Ｃ（ＮＨ））、３．７４（ｔ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ
2ＯＨ）、３．３８（ｄｔ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、２．６７（ｂｒｓ、１Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、１．９８（ｓ、３Ｈ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）Ｃ
Ｈ3）、１．９４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）１．
８３（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
９４．９４（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１６３．８０
（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）、９５．４６（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、５９．６２（ｓ、ＨＮＣＨ
2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３９．９２（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨ2
ＣＨ2ＯＨ）、３２．８５（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ
Ｈ）、２８．８５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、１８．
９９（ｓ、ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ3）。
【００４１】実施例７．(CH3)2CHC(O)CHC(HNCH2CH(CH3)
OH)(CH(CH3)2)の製造 １−アミノ−２−プロパノール（ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ
3）ＯＨ）（５．７７ｇ、７６．８ｍｍｏｌ）、２，６
−ジメチル−３，５−ヘプタンジオン（（ＣＨ 3）2ＣＨ
Ｃ（Ｏ）ＣＨ2Ｃ（Ｏ）（ＣＨ（ＣＨ3）2））（１０．
０ｇ、６４．０ｍｍｏｌ）をベンゼン１８０ｍｌに混合
してＨ2ＳＯ4０．６３ｇまたはＨＣＯＯＨを添加し、撹
拌しながら１１０℃で６時間還流させｄｅａｎ ａｎｄ
ｓｔａｒｋ装置によりＨ2Ｏを収集した。Ｈ2Ｏ／ベン
ゼン（２０ｍｌ／２００ｍｌ）混合溶液を用いて生成物
質を有機層に抽出し、Ｈ2Ｏ層を三回さらにベンゼン溶
液１００ｍｌで抽出した。ベンゼン層を合わせＭｇＳＯ
4で乾燥した後を除去しこれにｎ−ヘキサン１００ｍｌ
を添加して−２０℃で再結晶して（ＣＨ3）2ＣＨＣ
（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）（ＣＨ
（ＣＨ3）2）１１．６１ｇ（収率８５％）を製造した。
OH)(CH(CH3)2)の製造 １−アミノ−２−プロパノール（ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ
3）ＯＨ）（５．７７ｇ、７６．８ｍｍｏｌ）、２，６
−ジメチル−３，５−ヘプタンジオン（（ＣＨ 3）2ＣＨ
Ｃ（Ｏ）ＣＨ2Ｃ（Ｏ）（ＣＨ（ＣＨ3）2））（１０．
０ｇ、６４．０ｍｍｏｌ）をベンゼン１８０ｍｌに混合
してＨ2ＳＯ4０．６３ｇまたはＨＣＯＯＨを添加し、撹
拌しながら１１０℃で６時間還流させｄｅａｎ ａｎｄ
ｓｔａｒｋ装置によりＨ2Ｏを収集した。Ｈ2Ｏ／ベン
ゼン（２０ｍｌ／２００ｍｌ）混合溶液を用いて生成物
質を有機層に抽出し、Ｈ2Ｏ層を三回さらにベンゼン溶
液１００ｍｌで抽出した。ベンゼン層を合わせＭｇＳＯ
4で乾燥した後を除去しこれにｎ−ヘキサン１００ｍｌ
を添加して−２０℃で再結晶して（ＣＨ3）2ＣＨＣ
（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）（ＣＨ
（ＣＨ3）2）１１．６１ｇ（収率８５％）を製造した。
【００４２】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００４３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１１．２１
（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（ＯＨ）＝ＣＮＨ）、５．０１
（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、３．９５（ｑ、
１Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、３．４２（ｂｒｓ、
１Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３．２２（ｍ、２Ｈ、ＨＮ
ＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、２．７０（ｈ、１Ｈ、ＨＮＣＣ
ＨＭｅ2）、２．４２（ｈ、１Ｈ、Ｍｅ2ＣＨＣ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）、１．２３（ｄ、３Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ
Ｈ）、１．１０（ｄ、６Ｈ、ＨＮＣＣＨ（ＣＨ3）2）、
１．０５（ｄ、６Ｈ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２００．８２（ｓ、Ｍｅ2
ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、１７１．９０（ｓ、ＨＮＣＣＨＭ
ｅ2）、８６．４２（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮ）、６
５．１３（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、４７．９２
（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、３８．１２（ｓ、Ｍ
ｅ2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、２６．８５（ｓ、ＨＮＣＣＨ
Ｍｅ2）、１９．５６（ｓ、ＨＮＣＣ（ＨＣaＨ3）（Ｃb
Ｈ3））、１９．４７（ｓ、ＨＮＣＣ（ＣaＨ3）（ＣbＨ
3））、１９．２０（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ
Ｈ）、１８．２７（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：６７．５７、Ｈ：１０．８７、
Ｎ：６．５６、ｆｏｕｎｄＣ：６７．４４、Ｈ：１１．
３３、Ｎ：６．４８）。
（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（ＯＨ）＝ＣＮＨ）、５．０１
（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、３．９５（ｑ、
１Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、３．４２（ｂｒｓ、
１Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３．２２（ｍ、２Ｈ、ＨＮ
ＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、２．７０（ｈ、１Ｈ、ＨＮＣＣ
ＨＭｅ2）、２．４２（ｈ、１Ｈ、Ｍｅ2ＣＨＣ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）、１．２３（ｄ、３Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ
Ｈ）、１．１０（ｄ、６Ｈ、ＨＮＣＣＨ（ＣＨ3）2）、
１．０５（ｄ、６Ｈ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２００．８２（ｓ、Ｍｅ2
ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、１７１．９０（ｓ、ＨＮＣＣＨＭ
ｅ2）、８６．４２（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮ）、６
５．１３（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、４７．９２
（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、３８．１２（ｓ、Ｍ
ｅ2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、２６．８５（ｓ、ＨＮＣＣＨ
Ｍｅ2）、１９．５６（ｓ、ＨＮＣＣ（ＨＣaＨ3）（Ｃb
Ｈ3））、１９．４７（ｓ、ＨＮＣＣ（ＣaＨ3）（ＣbＨ
3））、１９．２０（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ
Ｈ）、１８．２７（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：６７．５７、Ｈ：１０．８７、
Ｎ：６．５６、ｆｏｕｎｄＣ：６７．４４、Ｈ：１１．
３３、Ｎ：６．４８）。
【００４４】実施例８．(CH3)2CHC(O)CHC(HNCH(CH3)CH2
OH)(CH(CH3)2)の製造 ＤＬ−２−アミノ−１−プロパノール（７．２１ｇ、９
５．９９ｍｍｏｌ）、２，６−ジメチル−３，５−ヘプ
タンジオン（１０．０ｇ、６４．０ｍｍｏｌ）を用いて
実施例７と同じ方法で（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ （ＣＨ3） ＣＨ2ＯＨ）（ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）１１．６５ｇ（収率８１％）を製造した。
OH)(CH(CH3)2)の製造 ＤＬ−２−アミノ−１−プロパノール（７．２１ｇ、９
５．９９ｍｍｏｌ）、２，６−ジメチル−３，５−ヘプ
タンジオン（１０．０ｇ、６４．０ｍｍｏｌ）を用いて
実施例７と同じ方法で（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ （ＣＨ3） ＣＨ2ＯＨ）（ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）１１．６５ｇ（収率８１％）を製造した。
【００４５】製造された物質のＮＭＲ測定結果は次の通
りである。
りである。
【００４６】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：１１．２１（ｂｒｄ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨＣＨ（Ｍｅ）））、５．０３（ｓ、１Ｈ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、３．７９（ｍ、１Ｈ、ＨＮ
ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、３．５９（ｂｒｍ、２Ｈ、
ＮＣＨＭｅＣＨ2ＯＨ）、２．８９（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｎ
ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、２．７８（ｍ、１Ｈ、ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ（ＣＨ3）2）、２．４５（ｍ、１Ｈ、
（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、１．２２（ｄ、３Ｈ、
ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、１．１５（ｄ、６Ｈ、Ｃ
Ｈ＝Ｃ（Ｎ）ＣＨ（ＣＨ3）2）、１．０７（ｄｄ、６
Ｈ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２０２．５７（ｓ、Ｍｅ2
ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、１７３．７３（ｓ、ＨＮＣＣＨＭ
ｅ2）、８８．２４（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮ）、６
７．２８（ｓ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、５０．０
０（ｓ、ＨＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、３９．９３
（ｓ、Ｍｅ2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、２８．７５（ｓ、Ｈ
ＮＣＣＨＭｅ2）、２２．０３（ｓ、ＨＮＣＣＨ（ＣaＨ
3）（ＣbＨ3））、２１．７２（ｓ、ＨＮＣＣＨ（ＣaＨ
3）（ＣbＨ3））、２０．１６（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ
（Ｏ）ＣＨ）、１８．９０（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2
ＯＨ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：６７．５７、Ｈ：１０．８
７、Ｎ：６．５７、ｆｏｕｎｄＣ：６７．４４、Ｈ：１
１．７０、Ｎ：６．５２）。
ＤＣｌ3）：１１．２１（ｂｒｄ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨＣＨ（Ｍｅ）））、５．０３（ｓ、１Ｈ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨ＝Ｃ（ＮＨ））、３．７９（ｍ、１Ｈ、ＨＮ
ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、３．５９（ｂｒｍ、２Ｈ、
ＮＣＨＭｅＣＨ2ＯＨ）、２．８９（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｎ
ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、２．７８（ｍ、１Ｈ、ＣＨ
＝Ｃ（ＮＨ）ＣＨ（ＣＨ3）2）、２．４５（ｍ、１Ｈ、
（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、１．２２（ｄ、３Ｈ、
ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）、１．１５（ｄ、６Ｈ、Ｃ
Ｈ＝Ｃ（Ｎ）ＣＨ（ＣＨ3）2）、１．０７（ｄｄ、６
Ｈ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２０２．５７（ｓ、Ｍｅ2
ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、１７３．７３（ｓ、ＨＮＣＣＨＭ
ｅ2）、８８．２４（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮ）、６
７．２８（ｓ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、５０．０
０（ｓ、ＨＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＯＨ）、３９．９３
（ｓ、Ｍｅ2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ）、２８．７５（ｓ、Ｈ
ＮＣＣＨＭｅ2）、２２．０３（ｓ、ＨＮＣＣＨ（ＣaＨ
3）（ＣbＨ3））、２１．７２（ｓ、ＨＮＣＣＨ（ＣaＨ
3）（ＣbＨ3））、２０．１６（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ
（Ｏ）ＣＨ）、１８．９０（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2
ＯＨ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：６７．５７、Ｈ：１０．８
７、Ｎ：６．５７、ｆｏｕｎｄＣ：６７．４４、Ｈ：１
１．７０、Ｎ：６．５２）。
【００４７】実施例９．(CH3)3CC(O)CHC(HNCH2CH2OH)CH
3の製造 エタノールアミン（９．７３ｇ、６８．４４ｍｍｏ
ｌ）、２，２−ジメチル−３，５−へキサンジオン
（８．１１ｇ、５７．０３ｍｍｏｌ）を用いて実施例７
と同じ方法で（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2
ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3９．４０ｇ（収率８９％）を製造し
た。
3の製造 エタノールアミン（９．７３ｇ、６８．４４ｍｍｏ
ｌ）、２，２−ジメチル−３，５−へキサンジオン
（８．１１ｇ、５７．０３ｍｍｏｌ）を用いて実施例７
と同じ方法で（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2
ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3９．４０ｇ（収率８９％）を製造し
た。
【００４８】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００４９】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１１．０４
（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、５．１４
（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、３．７６（ｔ、
２Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３．３９（ｄｔ、１Ｈ、
ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３．１１（ｂｒｓ、１Ｈ、ＨＮ
ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、１．９７（ｓ、３Ｈ、ＨＮＣＣ
Ｈ3）、１．１１（ｓ、９Ｈ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２０２．３９（ｓ、Ｍｅ3
ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、１６２．５４（ｓ、ＨＮＣＣ
Ｈ3）、８９．３２（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、６
０．０２（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、４３．６３（ｓ、
ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３９．５８（ｓ、（ＣＨ3）3Ｃ
Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、２６．２５（ｓ、（ＣＨ3）3ＣＣ
（Ｏ）ＣＨ）、１７．８２（ｓ、ＨＮＣＣＨ3）；ＥＡ
（ｃａｌＣ：６４．８３、Ｈ：１０．３４、Ｎ：７．５
６、ｆｏｕｎｄＣ：６４．７６、Ｈ：１０．８２、Ｎ：
７．６０）。
（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、５．１４
（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、３．７６（ｔ、
２Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３．３９（ｄｔ、１Ｈ、
ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３．１１（ｂｒｓ、１Ｈ、ＨＮ
ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、１．９７（ｓ、３Ｈ、ＨＮＣＣ
Ｈ3）、１．１１（ｓ、９Ｈ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）Ｃ
Ｈ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２０２．３９（ｓ、Ｍｅ3
ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、１６２．５４（ｓ、ＨＮＣＣ
Ｈ3）、８９．３２（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、６
０．０２（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、４３．６３（ｓ、
ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）、３９．５８（ｓ、（ＣＨ3）3Ｃ
Ｃ（Ｏ）ＣＨ）、２６．２５（ｓ、（ＣＨ3）3ＣＣ
（Ｏ）ＣＨ）、１７．８２（ｓ、ＨＮＣＣＨ3）；ＥＡ
（ｃａｌＣ：６４．８３、Ｈ：１０．３４、Ｎ：７．５
６、ｆｏｕｎｄＣ：６４．７６、Ｈ：１０．８２、Ｎ：
７．６０）。
【００５０】実施例１０．(CH3)3CC(O)CHC(HNCH2CH(C
H3)OH)CH3の製造 １−アミノ−２−プロパノール（６．３４ｇ、８４．３
８ｍｍｏｌ）、２，６−ジメチル−３，５−へキサンジ
オン（１０．０ｇ、７０．３２ｍｍｏｌ）を用いてエタ
ノールで実施例３と同じ方法を実施し、ｎ−ヘキサン８
０ｍｌを使用して−２０℃で再結晶して（ＣＨ3）3ＣＣ
（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ3１
０．９３ｇ（収率７８％）を製造した。
H3)OH)CH3の製造 １−アミノ−２−プロパノール（６．３４ｇ、８４．３
８ｍｍｏｌ）、２，６−ジメチル−３，５−へキサンジ
オン（１０．０ｇ、７０．３２ｍｍｏｌ）を用いてエタ
ノールで実施例３と同じ方法を実施し、ｎ−ヘキサン８
０ｍｌを使用して−２０℃で再結晶して（ＣＨ3）3ＣＣ
（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ3１
０．９３ｇ（収率７８％）を製造した。
【００５１】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００５２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１１．０４
（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、５．１３
（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、３．９６（ｍ、
１Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、３．２６（ｄｄ、１
Ｈ、ＨＮＣＨaＨbＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．２０（ｄｄ、
１Ｈ、ＨＮＣＨaＨbＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、３．１９（ｂ
ｒｓ、１Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、１．９６
（ｓ、３Ｈ、ＨＮＣＣＨ3）、１．２３（ｄ、３Ｈ、Ｈ
ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）、１．１１（ｓ、９Ｈ、
（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２０４．１６（ｓ、Ｍｅ3
ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、１６４．２０（ｓ、ＨＮＣＣ
Ｈ3）、９１．１８（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、６
７．１１（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、５０．７
１（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、４１．４６
（ｓ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、２８．１６（ｓ、
（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、２１．００（ｓ、ＨＮＣ
ＣＨ3）、１９．７７（ｓ、ＨＮＣＨ2（ＣＨ3）Ｏ
Ｈ）、；ＥＡ（ｃａｌＣ：６６．２９、Ｈ：１０．６
２、Ｎ：７．０３、ｆｏｕｎｄＣ：６５．７２、Ｈ：１
１．０８、Ｎ：７．１２）。
（ｂｒｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、５．１３
（ｓ、１Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、３．９６（ｍ、
１Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨＭｅＯＨ）、３．２６（ｄｄ、１
Ｈ、ＨＮＣＨaＨbＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．２０（ｄｄ、
１Ｈ、ＨＮＣＨaＨbＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、３．１９（ｂ
ｒｓ、１Ｈ、ＨＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、１．９６
（ｓ、３Ｈ、ＨＮＣＣＨ3）、１．２３（ｄ、３Ｈ、Ｈ
ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）、１．１１（ｓ、９Ｈ、
（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：２０４．１６（ｓ、Ｍｅ3
ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、１６４．２０（ｓ、ＨＮＣＣ
Ｈ3）、９１．１８（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＮＨ）、６
７．１１（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、５０．７
１（ｓ、ＨＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）ＯＨ）、４１．４６
（ｓ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、２８．１６（ｓ、
（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨ）、２１．００（ｓ、ＨＮＣ
ＣＨ3）、１９．７７（ｓ、ＨＮＣＨ2（ＣＨ3）Ｏ
Ｈ）、；ＥＡ（ｃａｌＣ：６６．２９、Ｈ：１０．６
２、Ｎ：７．０３、ｆｏｕｎｄＣ：６５．７２、Ｈ：１
１．０８、Ｎ：７．１２）。
【００５３】実施例１１．Ti(CH3C(O)CHC(NCH2CH2O)C
H3)2:Ti(eip)2の製造 実施例１で製造された三座配位子ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3３．６７ｇ（２５．６１
ｍｍｏｌ）を２０ｍｌのメチレンジクロライドに溶かし
た。チタニウム（イソ−プロポキシド）4（Ｔｉ（Ｏ−
ｉＰｒ）4と略称する。）３．３１ｇ（１１．６４ｍｍ
ｏｌ）をメチレンジクロライド２５ｍｌ溶解し、該溶液
を常温でよく撹拌させながら前記溶液をカニュラを用い
て投入した。黄色の混合溶液を４時間以上撹拌し、減圧
下で溶媒を除去し、メチレンジクロライドとｎ−ヘキサ
ンの混合溶液で−２０℃で再結晶して純粋な黄色の固状
Ｔｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3）
2を９５％（３．７２ｇ）の収得率で得た。
H3)2:Ti(eip)2の製造 実施例１で製造された三座配位子ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3３．６７ｇ（２５．６１
ｍｍｏｌ）を２０ｍｌのメチレンジクロライドに溶かし
た。チタニウム（イソ−プロポキシド）4（Ｔｉ（Ｏ−
ｉＰｒ）4と略称する。）３．３１ｇ（１１．６４ｍｍ
ｏｌ）をメチレンジクロライド２５ｍｌ溶解し、該溶液
を常温でよく撹拌させながら前記溶液をカニュラを用い
て投入した。黄色の混合溶液を４時間以上撹拌し、減圧
下で溶媒を除去し、メチレンジクロライドとｎ−ヘキサ
ンの混合溶液で−２０℃で再結晶して純粋な黄色の固状
Ｔｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3）
2を９５％（３．７２ｇ）の収得率で得た。
【００５４】実施例１２．Ti(CH3C(O)CHC(NCH2CHCH3O)C
H3)2:Ti(2meip)2の製造 実施例２で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2
ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ3１１．０６ｇ（７０．３６ｍ
ｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１０．０ｇ（３５．１
８ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施し
てＴｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨＣＨ3Ｏ）
ＣＨ3）2１２．１８ｇ（収率９６％）を製造した。
H3)2:Ti(2meip)2の製造 実施例２で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2
ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ3１１．０６ｇ（７０．３６ｍ
ｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１０．０ｇ（３５．１
８ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施し
てＴｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨＣＨ3Ｏ）
ＣＨ3）2１２．１８ｇ（収率９６％）を製造した。
【００５５】実施例１３．Ti(CH3C(O)CHC(NCHCH3CH2O)C
H3)2:Ti(1meip)2の製造 実施例３で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ
（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3８．０ｇ（５０．８９ｍｍ
ｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4７．２３ｇ（２５．４４
ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施して
Ｔｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）Ｃ
Ｈ3）2８．３８ｇ（収率９２％）を製造した。
H3)2:Ti(1meip)2の製造 実施例３で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ
（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3８．０ｇ（５０．８９ｍｍ
ｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4７．２３ｇ（２５．４４
ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施して
Ｔｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）Ｃ
Ｈ3）2８．３８ｇ（収率９２％）を製造した。
【００５６】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００５７】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．２７、５．２４、５．０８、５．０８
（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．７９（ｄ
ｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、４．５８
（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ abＨcdＯ）、４．３
５（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、４．００
（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、３．８
３（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、２．
１４、２．１２、２．１１、２．０７（ｓ、６Ｈ、Ｃ
（Ｎ）ＣＨ3）、１．９４、１．９２、１．８８、１．
８０（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．５１、１．３
７、１．３２、１．２４、１．１７（ｄ、６Ｈ、ＮＣＨ
（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７６．７２、１７５．８３、１７５．４０（ｓ、ＣＨ3
Ｃ（Ｏ））、１６７．８９、１６７．２７、１６６．７
６（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０３．３０、１０３．２
０、１０２．０１（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７
８．０７、７８．００、７７．１４（ｓ、ＮＣＨ（Ｍ
ｅ）ＣＨ2Ｏ）、６６．１４、６５．７３、６５．２
４、６４．９６（ｓ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、２
４．９２、２４．５８、２４．４０、２４．２５（ＣＨ
3Ｃ（Ｏ））、２１．８２、２１．５９、２１．４３、
２０．７４（Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、２０．３５、２０．０
８、１９．３０、１８．３５（ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ
2Ｏ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：５３．６４、Ｈ：７．３２、
Ｎ：７．８２、ｆｏｕｎｄＣ：５３．３２、Ｈ：７．６
６、Ｎ：７．７９）。
ＤＣｌ3）：５．２７、５．２４、５．０８、５．０８
（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．７９（ｄ
ｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、４．５８
（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ abＨcdＯ）、４．３
５（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、４．００
（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、３．８
３（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、２．
１４、２．１２、２．１１、２．０７（ｓ、６Ｈ、Ｃ
（Ｎ）ＣＨ3）、１．９４、１．９２、１．８８、１．
８０（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．５１、１．３
７、１．３２、１．２４、１．１７（ｄ、６Ｈ、ＮＣＨ
（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７６．７２、１７５．８３、１７５．４０（ｓ、ＣＨ3
Ｃ（Ｏ））、１６７．８９、１６７．２７、１６６．７
６（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０３．３０、１０３．２
０、１０２．０１（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７
８．０７、７８．００、７７．１４（ｓ、ＮＣＨ（Ｍ
ｅ）ＣＨ2Ｏ）、６６．１４、６５．７３、６５．２
４、６４．９６（ｓ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、２
４．９２、２４．５８、２４．４０、２４．２５（ＣＨ
3Ｃ（Ｏ））、２１．８２、２１．５９、２１．４３、
２０．７４（Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、２０．３５、２０．０
８、１９．３０、１８．３５（ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ
2Ｏ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：５３．６４、Ｈ：７．３２、
Ｎ：７．８２、ｆｏｕｎｄＣ：５３．３２、Ｈ：７．６
６、Ｎ：７．７９）。
【００５８】実施例１４．Ti(CH3C(O)CHC(NC(CH3)2CH
2O)CH3)2:Ti(1deip)2の製造 実施例４で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣ
（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3３．０１ｇ（１７．５８ｍ
ｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4２．５０ｇ（８．７９
ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ方法で実施してＴ
ｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ）Ｃ
Ｈ3）2３．１９ｇ（収率９４％）を製造した。
2O)CH3)2:Ti(1deip)2の製造 実施例４で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣ
（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3３．０１ｇ（１７．５８ｍ
ｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4２．５０ｇ（８．７９
ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ方法で実施してＴ
ｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ）Ｃ
Ｈ3）2３．１９ｇ（収率９４％）を製造した。
【００５９】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００６０】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．１３（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（Ｎ））、４．３２（ｄ、２Ｈ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨaＨ
bＯ）、４．０１（ｄ、２Ｈ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨaＨ
bＯ）、２．２１（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９
２（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．５６（ｓ、６
Ｈ、ＮＣ（ＣＨ3）a（ＣＨ3）bＣＨ2Ｏ）、１．３８
（ｓ、６Ｈ、ＮＣ（ＣＨ3）a（ＣＨ3）bＣＨ2Ｏ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７４．７０（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１６９．３１
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０４．７１（ｓ、Ｃ（Ｏ）
ＣＨＣ（Ｎ））、８４．７９（ｓ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨ2
Ｏ）、７１．４１（ｓ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨ2Ｏ）、２
５．６９（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｃ））、２５．１（ｓ、Ｃ
（Ｎ）ＣＨ3））、２４．５（ｓ、ＮＣＣaＨ3ＣbＨ3Ｃ
Ｈ2Ｏ）、２４．４（ｓ、ＮＣＣaＨ3ＣbＨ3ＣＨ2Ｏ）；
ＥＡ（ｃａｌＣ：５５．９６、Ｈ：７．８３、Ｎ：７．
２５、ｆｏｕｎｄＣ：５５．５９、Ｈ：８．２２、Ｎ：
６．８７）。
ＤＣｌ3）：５．１３（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（Ｎ））、４．３２（ｄ、２Ｈ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨaＨ
bＯ）、４．０１（ｄ、２Ｈ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨaＨ
bＯ）、２．２１（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９
２（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．５６（ｓ、６
Ｈ、ＮＣ（ＣＨ3）a（ＣＨ3）bＣＨ2Ｏ）、１．３８
（ｓ、６Ｈ、ＮＣ（ＣＨ3）a（ＣＨ3）bＣＨ2Ｏ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７４．７０（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１６９．３１
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０４．７１（ｓ、Ｃ（Ｏ）
ＣＨＣ（Ｎ））、８４．７９（ｓ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨ2
Ｏ）、７１．４１（ｓ、ＮＣ（Ｍｅ）2ＣＨ2Ｏ）、２
５．６９（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｃ））、２５．１（ｓ、Ｃ
（Ｎ）ＣＨ3））、２４．５（ｓ、ＮＣＣaＨ3ＣbＨ3Ｃ
Ｈ2Ｏ）、２４．４（ｓ、ＮＣＣaＨ3ＣbＨ3ＣＨ2Ｏ）；
ＥＡ（ｃａｌＣ：５５．９６、Ｈ：７．８３、Ｎ：７．
２５、ｆｏｕｎｄＣ：５５．５９、Ｈ：８．２２、Ｎ：
６．８７）。
【００６１】実施例１５．Ti(CH3C(O)CHC(NCH(CH2CH3)C
H2O)CH3)2:Ti(1eeip)2の製造 実施例５で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ
（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3２．３０ｇ（１３．４４
ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１．９１ｇ（６．７
２ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施し
てＴｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）
ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3）2２．４１ｇ（収率９３％）を製造し
た。
H2O)CH3)2:Ti(1eeip)2の製造 実施例５で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ
（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3２．３０ｇ（１３．４４
ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１．９１ｇ（６．７
２ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施し
てＴｉ（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）
ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3）2２．４１ｇ（収率９３％）を製造し
た。
【００６２】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００６３】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．２８、５．２５、５．０９（ｓ、２
Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．７０（ｄｄ、１Ｈ、
ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨabＨcdＯ）、４．６５（ｄ
ｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨabＨcdＯ）、４．
１８（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨabＨ
cdＯ）、４．１７（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）
ＣＨabＨcdＯ）、４．０３（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2
ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、２．２９−２．１４（ｍ、２Ｈ、Ｎ
ＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、２．１１、２．０６
（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９２、１．８９、
１．８０（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．７２−
１．５５（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ
2Ｏ）、０．９７（ｔ、６Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）Ｃ
Ｈ2Ｏ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７５．８９（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１６７．１３
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０２．０４（ｓ、Ｃ（Ｏ）
ＣＨＣ（Ｎ））、７４．４６（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2Ｏ）、７２．７８（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2Ｏ）、２４．４８（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2Ｏ）、２４．６７（ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、２
１．９９（Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１１．７７（ＮＣＨ（Ｃ
Ｈ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：５５．９６、
Ｈ：７．８３、Ｎ：７．２５、ｆｏｕｎｄＣ：５５．８
５、Ｈ：８．３０、Ｎ：７．３４）。
ＤＣｌ3）：５．２８、５．２５、５．０９（ｓ、２
Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．７０（ｄｄ、１Ｈ、
ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨabＨcdＯ）、４．６５（ｄ
ｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨabＨcdＯ）、４．
１８（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨabＨ
cdＯ）、４．１７（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）
ＣＨabＨcdＯ）、４．０３（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2
ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、２．２９−２．１４（ｍ、２Ｈ、Ｎ
ＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、２．１１、２．０６
（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９２、１．８９、
１．８０（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１．７２−
１．５５（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）ＣＨ
2Ｏ）、０．９７（ｔ、６Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ2ＣＨ3）Ｃ
Ｈ2Ｏ）；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７５．８９（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１６７．１３
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０２．０４（ｓ、Ｃ（Ｏ）
ＣＨＣ（Ｎ））、７４．４６（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2Ｏ）、７２．７８（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2Ｏ）、２４．４８（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ2Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2Ｏ）、２４．６７（ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、２
１．９９（Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１１．７７（ＮＣＨ（Ｃ
Ｈ2ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）；ＥＡ（ｃａｌＣ：５５．９６、
Ｈ：７．８３、Ｎ：７．２５、ｆｏｕｎｄＣ：５５．８
５、Ｈ：８．３０、Ｎ：７．３４）。
【００６４】実施例１６.Ti(CH3C(O)CHC(NCH2CH2CH2O)C
H3)2:Ti(pip)2の製造 実施例６で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3１．１１ｇ（７．０４ｍｍｏｌ）
とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１．０ｇ（３．５２ｍｍｏｌ）
を使用してＴＨＦ溶媒下で実施例１１と同じ方法で実施
してＴｉ（ＣＨ 3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ
2Ｏ）ＣＨ3）2１．２０ｇ（収率９５．２４％）を製造
した。
H3)2:Ti(pip)2の製造 実施例６で製造されたＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＨＮＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ＣＨ3１．１１ｇ（７．０４ｍｍｏｌ）
とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１．０ｇ（３．５２ｍｍｏｌ）
を使用してＴＨＦ溶媒下で実施例１１と同じ方法で実施
してＴｉ（ＣＨ 3Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ
2Ｏ）ＣＨ3）2１．２０ｇ（収率９５．２４％）を製造
した。
【００６５】製造された物質のＮＭＲ測定結果は次の通
りである。
りである。
【００６６】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．１４（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（Ｎ））、４．３６（ｔ、４Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ
2Ｏ）、３．６４（ｔ、４Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、２．
０７（ｍ、４Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、２．００
（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９０（ｓ、６Ｈ、
ＣＨ3Ｃ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７６．０５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１６８．０１
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０３．６４（ｓ、Ｃ（Ｏ）
ＣＨＣ（Ｎ））、７３．２３（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2
Ｏ）、５０．１９（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、３
２．３４（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、２５．３３
（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、２２．４１（ｓ、Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ3）。
ＤＣｌ3）：５．１４（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（Ｎ））、４．３６（ｔ、４Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ
2Ｏ）、３．６４（ｔ、４Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、２．
０７（ｍ、４Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、２．００
（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１．９０（ｓ、６Ｈ、
ＣＨ3Ｃ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
７６．０５（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、１６８．０１
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、１０３．６４（ｓ、Ｃ（Ｏ）
ＣＨＣ（Ｎ））、７３．２３（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2
Ｏ）、５０．１９（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、３
２．３４（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、２５．３３
（ｓ、ＣＨ3Ｃ（Ｏ））、２２．４１（ｓ、Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ3）。
【００６７】実施例１７．Ti((CH3)2CHC(O)CHC(CH(CH3)
2)(NCH2CH(CH3)O))2:Ti(26dm2meih) 2の製造 実施例７で製造された（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ（ＣＨ3）2１．５
ｇ（７．０３ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１．０
ｇ（３．５２ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ方法
で実施してＴｉ（（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＣＨ
（ＣＨ3）2）（ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ））2１．５７
ｇ（収率９５％）を製造した。
2)(NCH2CH(CH3)O))2:Ti(26dm2meih) 2の製造 実施例７で製造された（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ（ＣＨ3）2１．５
ｇ（７．０３ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4１．０
ｇ（３．５２ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ方法
で実施してＴｉ（（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＣＨ
（ＣＨ3）2）（ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ））2１．５７
ｇ（収率９５％）を製造した。
【００６８】製造された物質のＮＭＲ測定結果は次の通
りである。
りである。
【００６９】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．２３、５．２２、５．２０、５．１５
（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．８７（ｍ、
２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨＭｅＯ）、４．２２（ｄｄ、１Ｈ、
ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、４．１３（ｄｄ、１
Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．８８（ｄｄ、
１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．７６（ｄ
ｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、２．９２
（ｍ、２Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ（Ｍｅ）2）、２．３０
（ｍ、２Ｈ、ＣＨ（Ｍｅ）2Ｃ（Ｏ））、１．１１−
１．２３（ｄ＊４、１２Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）、１．２１（ｄ＊３、６Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）Ｏ）、０．８８−０．９８（ｄ＊４、１２Ｈ、
（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
８３．５１、１８３．３５、１８３．０２（ｓ、（ＣＨ
3）ＣＨＣ（Ｏ））、１７７．０５、１７６．４９、１
７５．９１、１７５．７０（ｓ、Ｃ（Ｎ）（ＣＨ（ＣＨ
3）2））、９３．４６、９３．３０、９３．１９（ｓ、
Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７６．９９、７６．５２、７
６．４０、７６．１２（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）
Ｏ）、６５．９６、６５．６０、６４．７９（ｓ、ＮＣ
Ｈ2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３６．３５、３６．２７、３
６．１３（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣＯ）、３１．４６、３
１．４０、３１．２４（ｓ、Ｃ（Ｎ）（ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）、２１．６６−２０．１８（ｄ、（ＣＨ3）2Ｃ
ＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）（ＣＨ
（ＣＨ3）2））。
ＤＣｌ3）：５．２３、５．２２、５．２０、５．１５
（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．８７（ｍ、
２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨＭｅＯ）、４．２２（ｄｄ、１Ｈ、
ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、４．１３（ｄｄ、１
Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．８８（ｄｄ、
１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．７６（ｄ
ｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、２．９２
（ｍ、２Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ（Ｍｅ）2）、２．３０
（ｍ、２Ｈ、ＣＨ（Ｍｅ）2Ｃ（Ｏ））、１．１１−
１．２３（ｄ＊４、１２Ｈ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）、１．２１（ｄ＊３、６Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）Ｏ）、０．８８−０．９８（ｄ＊４、１２Ｈ、
（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
８３．５１、１８３．３５、１８３．０２（ｓ、（ＣＨ
3）ＣＨＣ（Ｏ））、１７７．０５、１７６．４９、１
７５．９１、１７５．７０（ｓ、Ｃ（Ｎ）（ＣＨ（ＣＨ
3）2））、９３．４６、９３．３０、９３．１９（ｓ、
Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７６．９９、７６．５２、７
６．４０、７６．１２（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）
Ｏ）、６５．９６、６５．６０、６４．７９（ｓ、ＮＣ
Ｈ2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３６．３５、３６．２７、３
６．１３（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣＯ）、３１．４６、３
１．４０、３１．２４（ｓ、Ｃ（Ｎ）（ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）、２１．６６−２０．１８（ｄ、（ＣＨ3）2Ｃ
ＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）（ＣＨ
（ＣＨ3）2））。
【００７０】実施例１８．Ti((CH3)2CHC(O)CHC(NCH(Me)
CH2O)CH(CH3)2)2:Ti(26dm1meih)2の製造 実施例８で製造された（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ（ＣＨ3）2６．０
ｇ（２８．１４ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4４．
０ｇ（１４．０７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ
方法で実施してＴｉ（（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）ＣＨ（ＣＨ3）2）2６．２
２ｇ（収率９３．９６％）を製造した。
CH2O)CH(CH3)2)2:Ti(26dm1meih)2の製造 実施例８で製造された（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ（ＣＨ3）2６．０
ｇ（２８．１４ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4４．
０ｇ（１４．０７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ
方法で実施してＴｉ（（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）ＣＨ（ＣＨ3）2）2６．２
２ｇ（収率９３．９６％）を製造した。
【００７１】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００７２】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．３４、５．１７、５．１３（ｓ、２
Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．８３（ｄｄ、１Ｈ、
ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、４．７９（ｄｄ、１
Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、４．５６（ｍ、１
Ｈ、ＮＣＨa（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、４．３８（ｍ、１Ｈ、
ＮＣＨb（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）４．３８（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣ
Ｈb（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、３．９５（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ
（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、３．０３（ｍ、２Ｈ、Ｃ
（Ｎ）（ＣＨ（ＣＨ3）2）、２．３９（ｍ、１Ｈ、（Ｃ
Ｈ3）2ＣＨaＣ（Ｏ））、２．３０（ｍ、１Ｈ、（Ｃ
Ｈ3）2ＣＨbＣ（Ｏ））、１．５１、１．４１、１．３
７（ｄ、６Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、１．２４−
１．１３（ｄ＊４、１２Ｈ、Ｃ（Ｎ）（ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）、１．０４−０．８５（ｄ＊５、１２Ｈ、（Ｃ
Ｈ3）2ＣＨＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
８３．４５、１８２．９８、１８２．８１（ｓ、ＣＨ3
Ｃ（Ｏ））、１７５．９５、１７５．７０、１７５．３
２（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、９４．３１、９３．８４、
９３．５９（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７６．８
０、７６．６９、７６．３６（ｓ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ
2Ｏ）、６４．７７、６４．３６、６３．５９（ｓ、Ｎ
ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、３６．４６、３６．３６、３
６．２２（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ））、３１．２
０、３１．００、３０．９０（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ（ＣＨ
3）2）、２２．３２、２２．１７、２２．１０、２２．
０５（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、２１．８７、２
１．６６、２１．６０、２１．５０（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ
（ＣＨ3）2、２０．８９、２０．７８、２０．６３、２
０．５２（ｓ、（ＣＨ 3）2ＣＨＣ（Ｏ））；ＥＡ（ｃａ
ｌＣ：６１．２７、Ｈ：９．００、Ｎ：５．９５、ｆｏ
ｕｎｄＣ：６１．３３、Ｈ：９．４８、Ｎ：５．７
２）。
ＤＣｌ3）：５．３４、５．１７、５．１３（ｓ、２
Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．８３（ｄｄ、１Ｈ、
ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、４．７９（ｄｄ、１
Ｈ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、４．５６（ｍ、１
Ｈ、ＮＣＨa（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、４．３８（ｍ、１Ｈ、
ＮＣＨb（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）４．３８（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣ
Ｈb（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、３．９５（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨ
（Ｍｅ）ＣＨabＨcdＯ）、３．０３（ｍ、２Ｈ、Ｃ
（Ｎ）（ＣＨ（ＣＨ3）2）、２．３９（ｍ、１Ｈ、（Ｃ
Ｈ3）2ＣＨaＣ（Ｏ））、２．３０（ｍ、１Ｈ、（Ｃ
Ｈ3）2ＣＨbＣ（Ｏ））、１．５１、１．４１、１．３
７（ｄ、６Ｈ、ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、１．２４−
１．１３（ｄ＊４、１２Ｈ、Ｃ（Ｎ）（ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）2）、１．０４−０．８５（ｄ＊５、１２Ｈ、（Ｃ
Ｈ3）2ＣＨＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
８３．４５、１８２．９８、１８２．８１（ｓ、ＣＨ3
Ｃ（Ｏ））、１７５．９５、１７５．７０、１７５．３
２（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、９４．３１、９３．８４、
９３．５９（ｓ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７６．８
０、７６．６９、７６．３６（ｓ、ＮＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ
2Ｏ）、６４．７７、６４．３６、６３．５９（ｓ、Ｎ
ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2Ｏ）、３６．４６、３６．３６、３
６．２２（ｓ、（ＣＨ3）2ＣＨＣ（Ｏ））、３１．２
０、３１．００、３０．９０（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ（ＣＨ
3）2）、２２．３２、２２．１７、２２．１０、２２．
０５（ｓ、ＮＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）、２１．８７、２
１．６６、２１．６０、２１．５０（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ
（ＣＨ3）2、２０．８９、２０．７８、２０．６３、２
０．５２（ｓ、（ＣＨ 3）2ＣＨＣ（Ｏ））；ＥＡ（ｃａ
ｌＣ：６１．２７、Ｈ：９．００、Ｎ：５．９５、ｆｏ
ｕｎｄＣ：６１．３３、Ｈ：９．４８、Ｎ：５．７
２）。
【００７３】実施例１９．Ti((CH3)3CC(O)CHC(NCH2CH
2O)CH3)2:Ti(22dmeih)2の製造 実施例９で製造された（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｈ
ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3４．９８ｇ（２６．８８ｍｍ
ｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4３．８２ｇ（１３．４４
ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施して
Ｔｉ（（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）
ＣＨ3）2５．０５ｇ（収率９０．６６％）を製造した。
2O)CH3)2:Ti(22dmeih)2の製造 実施例９で製造された（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｈ
ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）ＣＨ3４．９８ｇ（２６．８８ｍｍ
ｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4３．８２ｇ（１３．４４
ｍｍｏｌ）を使用して実施例１１と同じ方法で実施して
Ｔｉ（（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）
ＣＨ3）2５．０５ｇ（収率９０．６６％）を製造した。
【００７４】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００７５】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．１８（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（Ｎ））、４．４４−４．２６（ｄｄｔ、４Ｈ、ＮＣＨ
2ＣＨ2Ｏ）、４．０３−３．８２（ｄｄｔ、４Ｈ、ＮＣ
Ｈ2ＣＨ2Ｏ）、２．００（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ3）、０．９２（ｓ、１８Ｈ、（ＣＨ3）3ＣＣ
（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）１８
４．４８（ｓ、（ＣＨ3）ＣＣ（Ｏ））、１６８．８７
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、９７．０１（ｓ、Ｃ（Ｏ）Ｃ
ＨＣ（Ｎ））、７０．８９（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、６
０．１８（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、３７．８４（ｓ、
（ＣＨ3）2ＣＣ（Ｏ））、２８．０４（ｓ、（ＣＨ3）3
ＣＣ（Ｏ））、２２．８７（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）；Ｅ
Ａ（ｃａｌＣ：５７．９７、Ｈ：８．２７、Ｎ：６．７
６、ｆｏｕｎｄＣ：５７．８７、Ｈ：８．６３、Ｎ：
６．７０）。
ＤＣｌ3）：５．１８（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ
（Ｎ））、４．４４−４．２６（ｄｄｔ、４Ｈ、ＮＣＨ
2ＣＨ2Ｏ）、４．０３−３．８２（ｄｄｔ、４Ｈ、ＮＣ
Ｈ2ＣＨ2Ｏ）、２．００（ｓ、６Ｈ、Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ3）、０．９２（ｓ、１８Ｈ、（ＣＨ3）3ＣＣ
（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）１８
４．４８（ｓ、（ＣＨ3）ＣＣ（Ｏ））、１６８．８７
（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）、９７．０１（ｓ、Ｃ（Ｏ）Ｃ
ＨＣ（Ｎ））、７０．８９（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、６
０．１８（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ2Ｏ）、３７．８４（ｓ、
（ＣＨ3）2ＣＣ（Ｏ））、２８．０４（ｓ、（ＣＨ3）3
ＣＣ（Ｏ））、２２．８７（ｓ、Ｃ（Ｎ）ＣＨ3）；Ｅ
Ａ（ｃａｌＣ：５７．９７、Ｈ：８．２７、Ｎ：６．７
６、ｆｏｕｎｄＣ：５７．８７、Ｈ：８．６３、Ｎ：
６．７０）。
【００７６】実施例２０．Ti((CH3)3CC(O)CHC(NCH2CH(C
H3)O)CH3)2:Ti(22dm2meih)2の製造 実施例１０で製造された（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ3４．０ｇ（２
０．０６ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4２．８５ｇ
（１０．０３ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ方法
で実施してＴｉ（（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ
2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）ＣＨ3）2３．９１ｇ（収率８８．０
６％）を製造した。
H3)O)CH3)2:Ti(22dm2meih)2の製造 実施例１０で製造された（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ
（ＨＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＨ）ＣＨ3４．０ｇ（２
０．０６ｍｍｏｌ）とＴｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4２．８５ｇ
（１０．０３ｍｍｏｌ）を用いて実施例１１と同じ方法
で実施してＴｉ（（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ）ＣＨＣ（ＮＣＨ
2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）ＣＨ3）2３．９１ｇ（収率８８．０
６％）を製造した。
【００７７】製造された物質のＮＭＲ測定結果及び元素
分析結果は次の通りである。
分析結果は次の通りである。
【００７８】1Ｈ−ＮＭＲ（１９９．９７６ＭＨｚ、Ｃ
ＤＣｌ3）：５．３０、５．２８、５．２３、５．１９
（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．９１、４．
８２（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、４．１６
（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．９
８（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．
７７（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、
３．６３（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）
Ｏ）、２．０７、２．０６、２．０４（ｓ、６Ｈ、Ｃ
（Ｎ）ＣＨ3）、１．２２−１．１４（ｄ、６Ｈ、ＮＣ
Ｈ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）、１．０２、１．０１、１．０
０、１．００（ｓ、１８Ｈ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
８５．１２（ｓ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ））、１６８．７
９、１６８．４６、１６８．１７（ｓ、Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ3）、９７．４７、９７．００、９６．８９（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７７．３１、７６．８０、７
６．３６（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、６７．５
３、６６．９５、６６．５７、６６．３６（ｓ、ＮＣＨ
2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３８．２９、３８．２２（ｓ、
（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ））、２８．５０（ｓ、（ＣＨ3）3
ＣＣ（Ｏ））、２３．１３、２３．０４（ｓ、Ｃ（Ｎ）
ＣＨ3）、２２．０２、２１．１８、２０．７３（ｓ、
ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）；ＥＡ（ｃａｌ：５９．７
３、Ｈ：８．６６、Ｎ：６．３３、ｆｏｕｎｄＣ：５
９．４４、Ｈ：８．７８、Ｎ：６．８４）。
ＤＣｌ3）：５．３０、５．２８、５．２３、５．１９
（ｓ、２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、４．９１、４．
８２（ｍ、２Ｈ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、４．１６
（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．９
８（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３．
７７（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、
３．６３（ｄｄ、１Ｈ、ＮＣＨabＨcdＣＨ（Ｍｅ）
Ｏ）、２．０７、２．０６、２．０４（ｓ、６Ｈ、Ｃ
（Ｎ）ＣＨ3）、１．２２−１．１４（ｄ、６Ｈ、ＮＣ
Ｈ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）、１．０２、１．０１、１．０
０、１．００（ｓ、１８Ｈ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ））；13 Ｃ−ＮＭＲ（５０．２８９ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１
８５．１２（ｓ、（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ））、１６８．７
９、１６８．４６、１６８．１７（ｓ、Ｃ（Ｎ）Ｃ
Ｈ3）、９７．４７、９７．００、９６．８９（ｓ、Ｃ
（Ｏ）ＣＨＣ（Ｎ））、７７．３１、７６．８０、７
６．３６（ｓ、ＮＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、６７．５
３、６６．９５、６６．５７、６６．３６（ｓ、ＮＣＨ
2ＣＨ（Ｍｅ）Ｏ）、３８．２９、３８．２２（ｓ、
（ＣＨ3）3ＣＣ（Ｏ））、２８．５０（ｓ、（ＣＨ3）3
ＣＣ（Ｏ））、２３．１３、２３．０４（ｓ、Ｃ（Ｎ）
ＣＨ3）、２２．０２、２１．１８、２０．７３（ｓ、
ＮＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）；ＥＡ（ｃａｌ：５９．７
３、Ｈ：８．６６、Ｎ：６．３３、ｆｏｕｎｄＣ：５
９．４４、Ｈ：８．７８、Ｎ：６．８４）。
【００７９】下記表１および表２に本発明によるチタニ
ウム前駆体を、表３に従来の市販のチタニウム前駆体(A
sahi Denka Kogyo K.K社)の代表的な化合物例とその物
性を示した。なお、物性測定方法は、融点と気化温度
は、ＴＧ−ＤＳＣ(Thermal Gravimetry-Differential S
canning Calorimetry)曲線の吸熱ピークから測定したが
表１および表２における＊で示された値は、溶融と気化
による吸熱に重なって現れたため融点測定器で測定した
値である。また、残留量は、大気圧で（Ｎ2、２０ｍ／
ｍｉｎ）測定されたＴＧ曲線から５５０℃での残留量を
示した。
ウム前駆体を、表３に従来の市販のチタニウム前駆体(A
sahi Denka Kogyo K.K社)の代表的な化合物例とその物
性を示した。なお、物性測定方法は、融点と気化温度
は、ＴＧ−ＤＳＣ(Thermal Gravimetry-Differential S
canning Calorimetry)曲線の吸熱ピークから測定したが
表１および表２における＊で示された値は、溶融と気化
による吸熱に重なって現れたため融点測定器で測定した
値である。また、残留量は、大気圧で（Ｎ2、２０ｍ／
ｍｉｎ）測定されたＴＧ曲線から５５０℃での残留量を
示した。
【００８０】
【表１】
【００８１】
【表２】
【００８２】
【表３】
【００８３】実施例２１：前駆体の耐湿性 実施例１１と実施例１２で製造した前駆体Ｔｉ（ｅｉ
ｐ）2とＴｉ（２ｍｅｉｐ）2１．０ｇを各々試薬瓶に入
れ空気中で３ケ月以上放置後にＮＭＲ分析したところ、
配位されない配位子のピークが観察されず、製造時のピ
ーク形態をそのまま維持していた。これによって本発明
の前駆体は水分に敏感でなく、取扱と貯蔵性に優れるこ
とが分かる。
ｐ）2とＴｉ（２ｍｅｉｐ）2１．０ｇを各々試薬瓶に入
れ空気中で３ケ月以上放置後にＮＭＲ分析したところ、
配位されない配位子のピークが観察されず、製造時のピ
ーク形態をそのまま維持していた。これによって本発明
の前駆体は水分に敏感でなく、取扱と貯蔵性に優れるこ
とが分かる。
【００８４】実施例２２：前駆体の溶解特性 薄膜蒸着時に使用する該前駆体について、溶液状態で注
入される際に要求される溶解度特性を調べるため、実施
例１１と実施例１２で製造した前駆体Ｔｉ（ｅｉｐ）2
とＴｉ（２ｍｅｉｐ）2をメタノールとｎ−ブチルアセ
テートに溶解させた。その結果、Ｒ1、Ｒ2が対称であり
ながらＲ3にメチル基を有しない前駆体Ｔｉ（ｅｉｐ）2
０．５ｇはメタノール５ｍｌに溶解したが、同じ量のｎ
−ブチルアセテートには不溶であった。しかし、Ｒ3に
メチル基を有している前駆体Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2０．
５ｇはメタノールとｎ−ブチルアセテート５ｍｌにすべ
て溶解した。また、実施例２０で製造した前駆体Ｔｉ
（２２ｄｍ２ｍｅｉｈ）2はＲ1、Ｒ2が対称でありなが
らｔ−ブチル基が導入されているためにＴｉ（２ｍｅｉ
ｐ）に比較して２０％以上増加する溶解度特性を示し
た。したがって、前駆体の溶解度特性は前記化学式のＲ
1、Ｒ2、Ｒ3の選定によって影響を受け、特にＲ1、Ｒ2
が互いに異なる場合に、溶解度特性が増加することが分
かった。
入される際に要求される溶解度特性を調べるため、実施
例１１と実施例１２で製造した前駆体Ｔｉ（ｅｉｐ）2
とＴｉ（２ｍｅｉｐ）2をメタノールとｎ−ブチルアセ
テートに溶解させた。その結果、Ｒ1、Ｒ2が対称であり
ながらＲ3にメチル基を有しない前駆体Ｔｉ（ｅｉｐ）2
０．５ｇはメタノール５ｍｌに溶解したが、同じ量のｎ
−ブチルアセテートには不溶であった。しかし、Ｒ3に
メチル基を有している前駆体Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2０．
５ｇはメタノールとｎ−ブチルアセテート５ｍｌにすべ
て溶解した。また、実施例２０で製造した前駆体Ｔｉ
（２２ｄｍ２ｍｅｉｈ）2はＲ1、Ｒ2が対称でありなが
らｔ−ブチル基が導入されているためにＴｉ（２ｍｅｉ
ｐ）に比較して２０％以上増加する溶解度特性を示し
た。したがって、前駆体の溶解度特性は前記化学式のＲ
1、Ｒ2、Ｒ3の選定によって影響を受け、特にＲ1、Ｒ2
が互いに異なる場合に、溶解度特性が増加することが分
かった。
【００８５】実施例２３：前駆体の熱特性の分析 実施例１１及び１２で製造した前駆体Ｔｉ（ｅｉｐ）2
とＴｉ（２ｍｅｉｐ）のＴＧ−ＤＳＣ分析をＮｅｔｚｓ
ｃｈ ＳＴＡ ４４９Ｃ装置を用いて大気圧下窒素又は
空気雰囲気と減圧(1.3×102Pa)条件下で測定した。温度
上昇速度１０℃／ｍｉｎ、窒素流量２０ｍｌ／ｍｉｎ又
は酸素流量３０ｍｌ／ｍｉｎの状態で５５０℃まで測定
して、その結果を図１ａ、図１ｂ、図２ａ、図２ｂ、図
３に示した。実施例１２で製造したＴｉ（２ｍｅｉｐ）
2は窒素雰囲気で測定したＴＧ−ＤＳＣの結果（図１
ｂ）で表わされるように、１９０℃で融解し約２９０℃
で全部気化する様態を示し、図３で示すように、空気中
での熱分解の特性として、約３１５℃で非常に強い発熱
ピークを見せながら熱分解した。このような現象は既存
に知られているチタニウムビス（イソ−プロポキシド）
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタ
ンジオネート（Ｔｉ（Ｏ−ｉＰｒ）2（ｔｈｄ）2と略称
する。）やチタニウム（２−メチル−２，４−ジオキシ
−ペンタン）ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
３，５−ヘプタンジオネート（Ｔｉ（ｍｐｄ）（ｔｈ
ｄ）2と略称する。）などがとてもひろい領域で弱い発
熱のピークを見せながら分解される現象と区別でき、こ
れはＴｉ（２ｍｅｉｐ）2がＴｉ−Ｏの結合に比べて弱
いＴｉ−Ｎ結合を持ち、同種の配位子だけからなる構造
(homoleptic structure)ではないためと考えられる。ま
た、前記Ｔｉ（２ｍｅｉｐ） 2と市販の前駆体Ｔｉ（ｍ
ｐｄ）（ｔｈｄ）2、Ｔｉ（Ｏ−ｉＰｒ）2（ｔｈ
ｄ）2、Ｂａ（ｍｅｔｈｄ）2、Ｓｒ（ｍｅｔｈｄ）2の
気化速度を図４に示す。図４に示したようにＴｉ（２ｍ
ｅｉｐ）2は各温度での蒸気圧が市販のチタニウム前駆
体に比べて小さいためにバリウム、ストロンチウムのよ
うな揮発性の小さい金属との多成分系薄膜形成の際に、
気化特性を類似させることができる。
とＴｉ（２ｍｅｉｐ）のＴＧ−ＤＳＣ分析をＮｅｔｚｓ
ｃｈ ＳＴＡ ４４９Ｃ装置を用いて大気圧下窒素又は
空気雰囲気と減圧(1.3×102Pa)条件下で測定した。温度
上昇速度１０℃／ｍｉｎ、窒素流量２０ｍｌ／ｍｉｎ又
は酸素流量３０ｍｌ／ｍｉｎの状態で５５０℃まで測定
して、その結果を図１ａ、図１ｂ、図２ａ、図２ｂ、図
３に示した。実施例１２で製造したＴｉ（２ｍｅｉｐ）
2は窒素雰囲気で測定したＴＧ−ＤＳＣの結果（図１
ｂ）で表わされるように、１９０℃で融解し約２９０℃
で全部気化する様態を示し、図３で示すように、空気中
での熱分解の特性として、約３１５℃で非常に強い発熱
ピークを見せながら熱分解した。このような現象は既存
に知られているチタニウムビス（イソ−プロポキシド）
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタ
ンジオネート（Ｔｉ（Ｏ−ｉＰｒ）2（ｔｈｄ）2と略称
する。）やチタニウム（２−メチル−２，４−ジオキシ
−ペンタン）ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
３，５−ヘプタンジオネート（Ｔｉ（ｍｐｄ）（ｔｈ
ｄ）2と略称する。）などがとてもひろい領域で弱い発
熱のピークを見せながら分解される現象と区別でき、こ
れはＴｉ（２ｍｅｉｐ）2がＴｉ−Ｏの結合に比べて弱
いＴｉ−Ｎ結合を持ち、同種の配位子だけからなる構造
(homoleptic structure)ではないためと考えられる。ま
た、前記Ｔｉ（２ｍｅｉｐ） 2と市販の前駆体Ｔｉ（ｍ
ｐｄ）（ｔｈｄ）2、Ｔｉ（Ｏ−ｉＰｒ）2（ｔｈ
ｄ）2、Ｂａ（ｍｅｔｈｄ）2、Ｓｒ（ｍｅｔｈｄ）2の
気化速度を図４に示す。図４に示したようにＴｉ（２ｍ
ｅｉｐ）2は各温度での蒸気圧が市販のチタニウム前駆
体に比べて小さいためにバリウム、ストロンチウムのよ
うな揮発性の小さい金属との多成分系薄膜形成の際に、
気化特性を類似させることができる。
【００８６】実施例２４：ＭＯＣＶＤ法によるＢＳＴ薄
膜の製造 実施例１２で製造されたＴｉ（２ｍｅｉｐ）2と市販の
Ｔｉ（ｍｐｄ）（ｔｈｄ）2とをチタニウム前駆体と
し、Ｂａ（ｍｅｔｈｄ）2とＳｒ（ｍｅｔｈｄ）2を各々
バリウムまたはストロンチウム前駆体として用い、ＬＳ
−ＭＯＣＶＤ法によって（Ｂａx、Ｓｒ1-x）ＴｉyＯ3-z
薄膜を製造した。ＢＳＴ薄膜蒸着に使われた基板はＰｔ
（１０００Å）／ＳｉＯ2（１０００Å）／Ｓｉの平板
型とアスペクト比が３（ｄｅｐｔｈ／ｗｉｄｔｈ＝０．
４５μｍ／０．１５μｍ）のパターン上にＲｕが蒸着さ
れた微細パターン構造基板であり、これらの基板のＰｔ
とＲｕは各々スパッタリング法とＭＯＣＶＤ法で蒸着し
た。前駆体溶液はＢａ、ＳｒとＴｉ前駆体をｎ−ブチル
アセテートに共に溶解させた単一溶液を使用し、それぞ
れの前駆体のモル濃度はＢａ：Ｓｒ：Ｔｉ＝０．００９
３Ｍ：０．００９３Ｍ：０．０７９９９Ｍ（Ｂａ：Ｓ
ｒ：Ｔｉ＝１：１：８．６）のセットＩとＢａ：Ｓｒ：
Ｔｉ＝０．００９３Ｍ：０．００９３Ｍ：０．０４Ｍ
（Ｂａ：Ｓｒ：Ｔｉ＝１：１：４．３）のセットＩＩと
した。前駆体溶液の流入速度はＬｉｎｔｅｃ社のＬｉｑ
ｕｉｄ ＭＦＣ（誤差±０．００２ｇ／ｍｉｎ）を用い
て０．０５ｇ／ｍｉｎでＢＳＴ薄膜蒸着の間一定に維持
し、特に基板温度によってＢＳＴ薄膜内にチタニウムが
流入される傾向を観察するためセットＩＩの前駆体溶液
を用いて４００〜５００℃の温度区間で蒸着を行なっ
た。使用したＭＯＣＶＤ装置は気化器、蒸着チャンバ及
び気体移送管がすべてオーブンの中に装着されたもので
あった。その他の工程変数を表４に示す。
膜の製造 実施例１２で製造されたＴｉ（２ｍｅｉｐ）2と市販の
Ｔｉ（ｍｐｄ）（ｔｈｄ）2とをチタニウム前駆体と
し、Ｂａ（ｍｅｔｈｄ）2とＳｒ（ｍｅｔｈｄ）2を各々
バリウムまたはストロンチウム前駆体として用い、ＬＳ
−ＭＯＣＶＤ法によって（Ｂａx、Ｓｒ1-x）ＴｉyＯ3-z
薄膜を製造した。ＢＳＴ薄膜蒸着に使われた基板はＰｔ
（１０００Å）／ＳｉＯ2（１０００Å）／Ｓｉの平板
型とアスペクト比が３（ｄｅｐｔｈ／ｗｉｄｔｈ＝０．
４５μｍ／０．１５μｍ）のパターン上にＲｕが蒸着さ
れた微細パターン構造基板であり、これらの基板のＰｔ
とＲｕは各々スパッタリング法とＭＯＣＶＤ法で蒸着し
た。前駆体溶液はＢａ、ＳｒとＴｉ前駆体をｎ−ブチル
アセテートに共に溶解させた単一溶液を使用し、それぞ
れの前駆体のモル濃度はＢａ：Ｓｒ：Ｔｉ＝０．００９
３Ｍ：０．００９３Ｍ：０．０７９９９Ｍ（Ｂａ：Ｓ
ｒ：Ｔｉ＝１：１：８．６）のセットＩとＢａ：Ｓｒ：
Ｔｉ＝０．００９３Ｍ：０．００９３Ｍ：０．０４Ｍ
（Ｂａ：Ｓｒ：Ｔｉ＝１：１：４．３）のセットＩＩと
した。前駆体溶液の流入速度はＬｉｎｔｅｃ社のＬｉｑ
ｕｉｄ ＭＦＣ（誤差±０．００２ｇ／ｍｉｎ）を用い
て０．０５ｇ／ｍｉｎでＢＳＴ薄膜蒸着の間一定に維持
し、特に基板温度によってＢＳＴ薄膜内にチタニウムが
流入される傾向を観察するためセットＩＩの前駆体溶液
を用いて４００〜５００℃の温度区間で蒸着を行なっ
た。使用したＭＯＣＶＤ装置は気化器、蒸着チャンバ及
び気体移送管がすべてオーブンの中に装着されたもので
あった。その他の工程変数を表４に示す。
【００８７】
【表４】
【００８８】薄膜の組成を確認するために下部電極Ｐｔ
上に蒸着されたＢＳＴ薄膜をフッ化水素酸（ＨＦ）系列
の腐食液を用いて溶かした後、ＩＣＰ−ＡＥＳ(Inducti
velyCoupled Plasma-Atomic Emission Spectroscopy)で
定量分析し、薄膜内のバリウムとチタニウムの組成を分
析してこれを図５ａ及び図５ｂに示した。市販の前駆体
の使用時にはチタニウムの組成は温度に大きく依存する
が、本発明による前駆体は温度依存性が少ないことが分
かる。このため、既存の前駆体は大面積の素子製作時
に、素子間または素子内の上下段差でチタニウムの組成
調節が容易でないが、本発明による前駆体は薄膜内チタ
ニウム組成の温度依存性が少なく、組成調節が容易であ
ることが分かる。
上に蒸着されたＢＳＴ薄膜をフッ化水素酸（ＨＦ）系列
の腐食液を用いて溶かした後、ＩＣＰ−ＡＥＳ(Inducti
velyCoupled Plasma-Atomic Emission Spectroscopy)で
定量分析し、薄膜内のバリウムとチタニウムの組成を分
析してこれを図５ａ及び図５ｂに示した。市販の前駆体
の使用時にはチタニウムの組成は温度に大きく依存する
が、本発明による前駆体は温度依存性が少ないことが分
かる。このため、既存の前駆体は大面積の素子製作時
に、素子間または素子内の上下段差でチタニウムの組成
調節が容易でないが、本発明による前駆体は薄膜内チタ
ニウム組成の温度依存性が少なく、組成調節が容易であ
ることが分かる。
【００８９】前記のような方法で形成された薄膜の内、
４３０℃で蒸着された薄膜に対して種々の分析を行っ
た。図６に示すＸＲＤ(X-Ray Diffraction)測定におい
て、蒸着後別の熱処理をしないＢＳＴ薄膜内にペロブス
カイト結晶状が形成された。図７ａは４３０℃で平板型
基板に形成した薄膜を走査電子顕微鏡を用いて撮影した
少し傾けたイメージであり、薄膜の表面には突起やかす
んだ様子がなく、図７ｂで示す薄膜はＡＦＭ(Atomic Fo
rce Microscope)でみたイメージで二乗平均粗度(rms)が
１７Åであり、表面が非常に滑らかだった。図８は４３
０℃でアスペクト比が３である微細パターン基板上に形
成されたＢＳＴ薄膜の断面イメージであり、ステップカ
バレージに優れることが分かる。また、図９に示すＳＩ
ＭＳ(Secondary Ion Mass Spectroscopy)分析によって
配位子による薄膜内の炭素または窒素原子の汚染が非常
に少ないことを分かる。
４３０℃で蒸着された薄膜に対して種々の分析を行っ
た。図６に示すＸＲＤ(X-Ray Diffraction)測定におい
て、蒸着後別の熱処理をしないＢＳＴ薄膜内にペロブス
カイト結晶状が形成された。図７ａは４３０℃で平板型
基板に形成した薄膜を走査電子顕微鏡を用いて撮影した
少し傾けたイメージであり、薄膜の表面には突起やかす
んだ様子がなく、図７ｂで示す薄膜はＡＦＭ(Atomic Fo
rce Microscope)でみたイメージで二乗平均粗度(rms)が
１７Åであり、表面が非常に滑らかだった。図８は４３
０℃でアスペクト比が３である微細パターン基板上に形
成されたＢＳＴ薄膜の断面イメージであり、ステップカ
バレージに優れることが分かる。また、図９に示すＳＩ
ＭＳ(Secondary Ion Mass Spectroscopy)分析によって
配位子による薄膜内の炭素または窒素原子の汚染が非常
に少ないことを分かる。
【００９０】本発明による前駆体Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2
を使用して４３０℃で蒸着したＢＳＴ薄膜を利用してＰ
ｔ／ＢＳＴ／Ｐｔ構造の平板型ＭＩＭキャパシタを製作
して電気的誘電特性を測定し、図１０と図１１にその結
果を示した。図６のＸＲＤパターンで確認されたように
ゼロバイアス(zero bias)で停電容量が最も大きく、バ
イアスが増加するほど減少する典型的なペロブスカイト
誘電体の誘電特性を示し、誘電損失係数が１％未満であ
る優秀な絶縁特性を示し、高集積ＤＲＡＭ素子の作動電
圧である±Ｖ下で優れた絶縁特性を発揮することが分か
る。
を使用して４３０℃で蒸着したＢＳＴ薄膜を利用してＰ
ｔ／ＢＳＴ／Ｐｔ構造の平板型ＭＩＭキャパシタを製作
して電気的誘電特性を測定し、図１０と図１１にその結
果を示した。図６のＸＲＤパターンで確認されたように
ゼロバイアス(zero bias)で停電容量が最も大きく、バ
イアスが増加するほど減少する典型的なペロブスカイト
誘電体の誘電特性を示し、誘電損失係数が１％未満であ
る優秀な絶縁特性を示し、高集積ＤＲＡＭ素子の作動電
圧である±Ｖ下で優れた絶縁特性を発揮することが分か
る。
【００９１】
【発明の効果】本発明のチタニウム前駆体は薄膜形成に
適した揮発性を有し、気化後に残留物が残らず、酸素雰
囲気で分解される優れた熱的特性を有する。また化学的
安定性が大きく、気化した気体の移送中に、または他の
前駆体と共に使用する際に使用目的に反する反応がな
く、水分に敏感でもないために貯蔵と取扱が容易であ
る。特にＢＳＴなどのような多成分系薄膜製造時に、薄
膜内に炭素または窒素の残留物がほとんど残らず、大面
積の薄膜や段差が大きい薄膜の上下部での組成調節が容
易でステップカバレージが良くて、表面形状に優れる良
質の金属酸化物薄膜を製造することができる。
適した揮発性を有し、気化後に残留物が残らず、酸素雰
囲気で分解される優れた熱的特性を有する。また化学的
安定性が大きく、気化した気体の移送中に、または他の
前駆体と共に使用する際に使用目的に反する反応がな
く、水分に敏感でもないために貯蔵と取扱が容易であ
る。特にＢＳＴなどのような多成分系薄膜製造時に、薄
膜内に炭素または窒素の残留物がほとんど残らず、大面
積の薄膜や段差が大きい薄膜の上下部での組成調節が容
易でステップカバレージが良くて、表面形状に優れる良
質の金属酸化物薄膜を製造することができる。
【図１】図１ａは、本発明によるＴｉ（ｅｉｐ）2前駆
体の窒素雰囲気での温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグラフ
である。図１ｂは、本発明によるＴｉ（２ｍｅｉｐ）2
前駆体の窒素雰囲気での温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグ
ラフである。
体の窒素雰囲気での温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグラフ
である。図１ｂは、本発明によるＴｉ（２ｍｅｉｐ）2
前駆体の窒素雰囲気での温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグ
ラフである。
【図２】図２ａは、本発明によるＴｉ（ｅｉｐ）2前駆
体の減圧（約１．３×１０2Ｐａ）下で温度上昇による
ＴＧ−ＤＳＣグラフである。図２ｂは、本発明によるＴ
ｉ（２ｍｅｉｐ）2前駆体の減圧（約１．３×１０2Ｐ
ａ）下で温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグラフである。
体の減圧（約１．３×１０2Ｐａ）下で温度上昇による
ＴＧ−ＤＳＣグラフである。図２ｂは、本発明によるＴ
ｉ（２ｍｅｉｐ）2前駆体の減圧（約１．３×１０2Ｐ
ａ）下で温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグラフである。
【図３】本発明による前駆体Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2の空
気雰囲気での温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグラフであ
る。
気雰囲気での温度上昇によるＴＧ−ＤＳＣグラフであ
る。
【図４】本発明による前駆体Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2前駆
体と市販の前駆体Ｔｉ（ｍｐｄ）（ｔｈｄ）2、Ｔｉ
（Ｏ−ｉＰｒ）2（ｔｈｄ） 2、Ｂａ（ｍｅｔｈ
ｄ） 2、Ｓｒ（ｍｅｔｈｄ）2を用いた等温熱分析で誘
導された温度における前駆体の気化速度を示したグラフ
である。
体と市販の前駆体Ｔｉ（ｍｐｄ）（ｔｈｄ）2、Ｔｉ
（Ｏ−ｉＰｒ）2（ｔｈｄ） 2、Ｂａ（ｍｅｔｈ
ｄ） 2、Ｓｒ（ｍｅｔｈｄ）2を用いた等温熱分析で誘
導された温度における前駆体の気化速度を示したグラフ
である。
【図５】図５ａは、Ｔｉ（２ｍｅｉｐ）2を使用してＢ
ＳＴ薄膜の蒸着時に蒸着温度によるチタニウムとバリウ
ムの含有量の変化を示したグラフである。図５ｂは、Ｔ
ｉ（ｍｐｄ）（ｔｈｄ）2を使用してＢＳＴ薄膜の蒸着
時に蒸着温度によるチタニウムとバリウムの含有量の変
化を示したグラフである。
ＳＴ薄膜の蒸着時に蒸着温度によるチタニウムとバリウ
ムの含有量の変化を示したグラフである。図５ｂは、Ｔ
ｉ（ｍｐｄ）（ｔｈｄ）2を使用してＢＳＴ薄膜の蒸着
時に蒸着温度によるチタニウムとバリウムの含有量の変
化を示したグラフである。
【図６】実施例２４で４３０℃で蒸着されたＢＳＴ薄膜
のＸＲＤ記録図である。
のＸＲＤ記録図である。
【図７】図７ａは、実施例２４で４３０℃で平板型基板
に蒸着されたＢＳＴ薄膜の走査電子顕微鏡による平面写
真である。図７ｂは、実施例２４で４３０℃で平板型基
板に蒸着されたＢＳＴ薄膜の原子間力顕微鏡による表面
イメージである。
に蒸着されたＢＳＴ薄膜の走査電子顕微鏡による平面写
真である。図７ｂは、実施例２４で４３０℃で平板型基
板に蒸着されたＢＳＴ薄膜の原子間力顕微鏡による表面
イメージである。
【図８】実施例２４で４３０℃で微細パターン構造の基
板に蒸着されたＢＳＴ薄膜の走査電子顕微鏡断面イメー
ジである。
板に蒸着されたＢＳＴ薄膜の走査電子顕微鏡断面イメー
ジである。
【図９】実施例２４で４３０℃で蒸着されたＢＳＴ薄膜
のＳＩＭＳ記録図である。
のＳＩＭＳ記録図である。
【図１０】実施例２４で４３０℃で蒸着されたＢＳＴ薄
膜を利用して製作されたＰｔ／ＢＳＴ／Ｐｔキャパシタ
の電気的誘電特性を表わした図面である。
膜を利用して製作されたＰｔ／ＢＳＴ／Ｐｔキャパシタ
の電気的誘電特性を表わした図面である。
【図１１】実施例２４で４３０℃で蒸着されたＢＳＴ薄
膜を利用して製作されたＰｔ／ＢＳＴ／Ｐｔキャパシタ
の漏洩電流の密度である。
膜を利用して製作されたＰｔ／ＢＳＴ／Ｐｔキャパシタ
の漏洩電流の密度である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金 大 植 大韓民国京畿道城南市盆唐區亭子洞 常▲ ろく▼ライトアパート205棟140号 (72)発明者 李 ▲えき▼ 模 大韓民国仁川市富平區富平洞 東亞アパー ト25棟902号 (72)発明者 林 善 權 大韓民国仁川市延壽區▲せい▼鶴洞 ▲せ い▼鶴アパート２棟1505号 (72)発明者 李 完 寅 大韓民国ソウル特別市陽川區牧洞 大林ア パート1012棟1702号 (72)発明者 崔 普 賢 大韓民国慶尚南道金海市上東面大甘里576 番地 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA03 AB78 AB91 4H048 AA03 AB78 AB91 VA60 4H049 VN05 VP01 VQ39 VR44 VR52 VU24 VW02 4K030 AA11 BA46 EA08
Claims (8)
- 【請求項１】 下記化学式で示される三座配位子
（Ｌ）。 【化１】 前記式において、Ｒ1とＲ2はそれぞれ炭素数１〜８の直
鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ3は炭素数
１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレン基である。 - 【請求項２】 前記化学式で示される三座配位子（Ｌ）
と＋４価のＩＶ族金属（Ｍ）からなる化学式Ｍ（Ｌ）2
で示されることを特徴とする金属酸化物薄膜製造用有機
金属前駆体。 - 【請求項３】 前記＋４価のＩＶ族金属（Ｍ）がチタニ
ウムであることを特徴とする請求項２に記載の金属酸化
物薄膜製造用有機金属前駆体。 - 【請求項４】 ＋４価のＩＶ族金属（Ｍ）と下記化学式
で示される三座配位子（Ｌ）からなる化学式Ｍ（Ｌ）2
の錯体を使用して金属酸化物薄膜を形成することを特徴
とする化学蒸着法。 【化２】 前記式において、Ｒ1とＲ2はそれぞれ炭素数１〜８の直
鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ3は炭素数
１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレン基である。 - 【請求項５】 前記＋４価のＩＶ族金属がチタニウムで
ある化学式Ｔｉ（Ｌ）2の錯体を使用して金属酸化物薄
膜を形成することを特徴とする請求項４に記載の化学蒸
着法。 - 【請求項６】 前記前駆体の気化方法がバブラ方式また
は気化器方式であることを特徴とする請求項４または５
に記載の化学蒸着法。 - 【請求項７】 前記金属酸化物薄膜が＋４価のＩＶ族金
属を含む多成分系であることを特徴とする請求項４〜６
のいずれかに記載の化学蒸着法。 - 【請求項８】 前記金属酸化物薄膜がチタニウムを含む
多成分系であることを特徴とする請求項５に記載の化学
蒸着法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20000049832 | 2000-08-26 | ||
| KR01P2574 | 2001-01-17 | ||
| KR10-2001-0002574A KR100367346B1 (ko) | 2000-08-26 | 2001-01-17 | 신규한 ｉｖ족 금속 전구체 및 이를 사용한 화학기상 증착법 |
| KR00P49832 | 2001-01-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002145836A true JP2002145836A (ja) | 2002-05-22 |
Family
ID=26638339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001252429A Withdrawn JP2002145836A (ja) | 2000-08-26 | 2001-08-23 | 新規なｉｖ族金属前駆体及びこれを使用した化学蒸着法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6689427B2 (ja) |
| EP (1) | EP1184365A3 (ja) |
| JP (1) | JP2002145836A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005531619A (ja) * | 2002-06-28 | 2005-10-20 | ゾルファイ バリウム ストロンチウム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 新規アルカリ土類金属錯体及びその使用 |
| JP2019505618A (ja) * | 2015-12-17 | 2019-02-28 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンＨｅｎｋｅｌ ＡＧ ＆ Ｃｏ． ＫＧａＡ | 加硫触媒としてのチタン錯体 |
| CN109996803A (zh) * | 2016-11-23 | 2019-07-09 | 恩特格里斯公司 | 用于钴的化学气相沉积的卤炔基六羰基二钴前驱物 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2002337310A1 (en) * | 2001-10-26 | 2003-05-06 | Epichem Limited | Improved precursors for chemical vapour deposition |
| KR100468847B1 (ko) * | 2002-04-02 | 2005-01-29 | 삼성전자주식회사 | 알콜을 이용한 금속산화물 박막의 화학기상증착법 |
| US20050070126A1 (en) * | 2003-04-21 | 2005-03-31 | Yoshihide Senzaki | System and method for forming multi-component dielectric films |
| TW200506093A (en) * | 2003-04-21 | 2005-02-16 | Aviza Tech Inc | System and method for forming multi-component films |
| TW200731404A (en) * | 2005-04-07 | 2007-08-16 | Aviza Tech Inc | Multilayer, multicomponent high-k films and methods for depositing the same |
| GB2432363B (en) * | 2005-11-16 | 2010-06-23 | Epichem Ltd | Hafnocene and zirconocene precursors, and use thereof in atomic layer deposition |
| EP1961755A1 (en) * | 2007-02-21 | 2008-08-27 | L'AIR LIQUIDE, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Strontium silylamides, adducts thereof with Lewis bases, preparation thereof and deposition of strontium thin films |
| US8092870B2 (en) * | 2008-04-11 | 2012-01-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Preparation of metal oxide thin film via cyclic CVD or ALD |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5008415A (en) * | 1988-11-14 | 1991-04-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Volatile fluorinated β-ketoimines and associated metal complexes |
| US4950790A (en) | 1988-11-14 | 1990-08-21 | Air Products And Chemicals, Inc. | Volatile fluorinated β-ketoimines and associated metal complexes |
| CA2037538A1 (en) * | 1990-03-12 | 1991-09-13 | John A. T. Norman | Fluorinated beta-ketoiminato metal complexes |
-
2001
- 2001-08-17 EP EP01307025A patent/EP1184365A3/en not_active Withdrawn
- 2001-08-22 US US09/933,736 patent/US6689427B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-23 JP JP2001252429A patent/JP2002145836A/ja not_active Withdrawn
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| JP2005531619A (ja) * | 2002-06-28 | 2005-10-20 | ゾルファイ バリウム ストロンチウム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 新規アルカリ土類金属錯体及びその使用 |
| JP2019505618A (ja) * | 2015-12-17 | 2019-02-28 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンＨｅｎｋｅｌ ＡＧ ＆ Ｃｏ． ＫＧａＡ | 加硫触媒としてのチタン錯体 |
| CN109996803A (zh) * | 2016-11-23 | 2019-07-09 | 恩特格里斯公司 | 用于钴的化学气相沉积的卤炔基六羰基二钴前驱物 |
| JP2020513476A (ja) * | 2016-11-23 | 2020-05-14 | インテグリス・インコーポレーテッド | コバルトの化学蒸着用のハロアルキニルジコバルトヘキサカルボニル前駆体 |
| US10872770B2 (en) | 2016-11-23 | 2020-12-22 | Entegris, Inc. | Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt |
| JP2021183723A (ja) * | 2016-11-23 | 2021-12-02 | インテグリス・インコーポレーテッド | コバルトの化学蒸着用のハロアルキニルジコバルトヘキサカルボニル前駆体 |
| CN109996803B (zh) * | 2016-11-23 | 2022-01-11 | 恩特格里斯公司 | 用于钴的化学气相沉积的卤炔基六羰基二钴前驱物 |
| US11804375B2 (en) | 2016-11-23 | 2023-10-31 | Entegris, Inc. | Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt |
| JP7425773B2 (ja) | 2016-11-23 | 2024-01-31 | インテグリス・インコーポレーテッド | コバルトの化学蒸着用のハロアルキニルジコバルトヘキサカルボニル前駆体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1184365A2 (en) | 2002-03-06 |
| US20020058843A1 (en) | 2002-05-16 |
| US6689427B2 (en) | 2004-02-10 |
| EP1184365A3 (en) | 2003-08-06 |
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