JP2002137968A - 窒化ケイ素質焼結体およびその製造方法 - Google Patents
窒化ケイ素質焼結体およびその製造方法Info
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Abstract
けで、効率よく粒界に高融点の助剤を結晶化させること
により、耐クリープ特性に優れた材料を提供する。 【解決手段】 窒化ケイ素粒子と酸窒化物の粒界相から
構成される焼結体において、焼結体の組成がSi3N4-SiO2
-Lu2O3系の三元系状態図上で、A点:Si3N4、B点:40mol
%SiO2-60mol%-Lu2O3、C点:60mol%SiO2-40mol%-Lu2O3、
の3点で構成される三角形の中の組成であることを特徴
とする窒化ケイ素質焼結体。
Description
置、化学装置、宇宙航空機器などの広い分野において使
用される各種構造部品の素材として利用でき、特に、高
温において高い強度と優れた耐酸化特性を有するファイ
ンセラミックス材料およびその製造方法に関するもので
ある。
化ケイ素を主成分とする焼結体は、常温および高温で化
学的に安定であり、高い機械的強度を有するため、軸受
などの摺動部材、ターボチャージャロータなどのエンジ
ン部材として好適な材料である。
るには窒化ケイ素原料粉末に酸化物の焼結助剤を添加し
て1600℃以上の温度で焼成し、液相焼結により緻密な焼
結体を得ていた。
マグネシウム、酸化アルミニウム、希土類元素酸化物で
ある。焼結助剤は高温での原料表面の酸化層である酸化
ケイ素と反応して液相を生成する。焼結は、窒化ケイ素
が液相内を拡散することによって進行する。焼結後に冷
却すると、液相の一部は結晶化するが大部分はガラス相
として粒界に残存する。
ネシウムや酸化イットリウムと酸化アルミニウムの混合
物である。この組成の焼結体は、一般に、窒化ケイ素粒
子とガラス相とからなっており、また、ガラス相中に酸
化物または酸窒化物として一部が結晶化する場合があ
る。
高温環境下で使用する場合、粒界にあるガラスが軟化し
て強度が急激に低下するという問題があった。高温にお
ける強度低下の程度は、粒界相の化学組成に大きく依存
する。これは、ガラスの軟化温度は粒界相中の金属-Si-
O系の溶融温度に比例するためである。このため、酸化
マグネシウムを添加した焼結体よりも酸化イットリウム
と酸化アルミニウムの混合物を添加したものの方が耐ク
リープ特性は高い。
合物を助剤とした系が研究されている。例えば、J. Am.
Ceram. Soc. 75号、2050ページ、1992年では、酸化イ
ットリウム−酸化ケイ素系の助剤を添加して、粒界に高
融点であるY2Si2O7を析出させた焼結体が報告されてい
る。この系では、図1に示す窒素含有アパタイト(N
相、Y10Si7O22N4)またはK相(YSiO2N)あるいはそれ
に近い組成のガラス相がY 2Si2O7につぐ第二の粒界相で
あった。しかし、N相やK相の軟化温度は1500℃以下で
あるので耐クリープ特性は十分なものとは言えなかっ
た。
の組成が検討された。しかし、この組成ではRE2Si2O7の
融点が十分には高くなく、さらにRE2Si2O7の結晶化速度
が遅いため長時間の熱処理が必要であり、熱処理を施し
た場合でも粒界の30%程度は非晶質のままであった。こ
のため、耐クリープ特性は十分とは言えなかった。
4-15466にSi3N4-SiO2-RE2O3(RE:希土類元素)系に関し
て、J相(RE4Si207N2)、N相、K相を析出させる発明
や、公開特許公報平4-243972にJ相と希土類窒化物を析
出させる発明、公開特許公報平4-292465にRE2SiO5を析
出させる発明が報告されている。また、公開特許公報平
8-48565には、粒界相としてJ相または、J相とRE2SiO5
の2相を析出させる発明が報告されている。
のため多量の希土類酸化物を添加する必要があり、粒界
相の量が増えるため高温で酸化されやすい問題があっ
た。さらに結晶化のために特別な熱処理を必要としてい
た。さらに、以前の研究や発明では希土類元素間の効果
の差に関しては、議論されておらず、どの元素も同じ効
果として扱っていた。
を解決するために、希土類元素の種類と量に関して精密
な組成を検討することにより、特別な熱処理を必要とし
ない通常の焼結法だけで、効率よく粒界に高融点の助剤
を結晶化させることにより、耐クリープ特性に優れた材
料を提供することを目的としている。
促進するためには焼結温度以下で液相を生成し、焼結後
には高融点の結晶相として残留する必要がある。この二
点が耐熱性の高い焼結体を得るための条件であり、これ
が多くの場合希土類酸化物が焼結助剤として使用される
理由である。しかし、既に述べたように、Si3N4-SiO2-R
E2O3系の状態図は複雑であり目的とする高融点の相のみ
を粒界相とする焼結体を製造するのは困難であった。
および焼結性の差に着目し、希土類元素としてルテチウ
ムを選び精密な組成制御を行うことにより、特別な熱処
理を必要としない通常の焼結法においても効率よくLu2S
iO5相を析出させることに成功し、これにより耐クリー
プ特性に優れた焼結体が得られることを見いだした。
は、SiO2-RE2O3系の酸化物の中で最も融点が高い酸化物
であり、粒界相組成としては好ましいものであるが、希
土類元素の多くはこの近くの組成にH相(RE5Si3O12N)
を形成する。H相は融点が低いため、Lu2SiO5相を粒界
相となるように液相組成を設計すると、一部はH相が析
出するために耐クリープ特性が低下するという問題があ
った。また、これを避けるためにRE2SiO5とRE2Si2O7と
の混合物を粒界に結晶化させることも行われてきたが、
低融点のRE2Si2O7を含むため耐熱性が低下する問題があ
った。
1(A)および図1(B)に示すように、タイプAとタ
イプBがある。ただし、REは希土類元素、DはRE2Si
2O7、SはRE2SiO5、KはRESiO2N、JはRE4Si2O7N2、M
はRE2Si3O3N4を表す。タイプAはK相やH相があるタイ
プで、イットリウムなどのイオン半径が大きなREが属す
る。一方、タイプBとしてはこれらの相が存在せず、公
開特許公報平8-48565にYbが報告されており、TmおよびL
uも同様との記述がある。
結果、LuはタイプBであり、Yb、Tm、LuのRE2SiO5タイ
プの結晶の中でもLu2SiO5だけが特に完全に結晶化する
ことがわかった。即ち、窒化ケイ素を焼結するに際し、
Lu2O3またはLu2O3とSiO2の混合物を焼結助剤として用
い、窒化ケイ素原料粉末中の酸素含有量を考慮したLu2O
3:SiO2比(モル比)を1:1近くに調整し、酸素揮発量
を抑制しながら焼成することにより、窒化ケイ素とLu2S
iO5とからなる焼結体が得られた。
3N4-SiO2-Lu2O3系の三元系状態図上で、A点:Si3N4、B
点:40mol%SiO2-60mol%-Lu2O3、C点:60mol%SiO2-40mol
%-Lu2O3、の3点で構成される三角形の中の組成であり、
多粒子粒界に存在する粒界相のうち90体積%以上がLu2Si
O5結晶相であることが確認された。このように粒界がほ
ぼ完全に結晶化しているため、耐クリープ特性に優れて
いる。
子と酸窒化物の粒界相から構成される焼結体において、
焼結体の組成が図2(A)に示されるSi3N4-SiO2-Lu2O3
系の三元系状態図上で、A点:Si3N4、B点:40mol%SiO2-
60mol%-Lu2O3、C点:60mol%SiO2-40mol%-Lu2O3、の3点
で構成される三角形の中の組成である。
だけからなる完全な結晶化は達成されず、他の結晶相や
ガラス相が残存するため耐クリープ特性が低下する。A
点とC点を結ぶ線よりLu2O3側では他の結晶相やガラス相
が残存するため耐クリープ特性が低下する。
クリープ特性が得られる組成として、焼結体の組成が図
2(B)に示されるSi3N4-SiO2-Lu2O3系の三元系状態図
上で、D点:99mol% Si3N4 - 0.4mol% SiO2 - 0.6mol% L
u2O3、E点:99mol% Si3N4 -0.6mol% SiO2 - 0.4mol% Lu
2O3、F点:92mol% Si3N4 - 3.2mol% SiO2 - 4.8mol%Lu2
O3、G点:92mol% Si3N4 - 4.8mol% SiO2 - 3.2mol% Lu2
O3の4点で構成される四角形の中の組成にするとよい。
分が少ないため十分には緻密化しない。D点とF点を結ぶ
線よりSiO2側では完全な結晶化は達成されず、ガラス相
が残存するため耐クリープ特性が低下する。F点とG点を
結ぶ線よりLu2O3側では助剤量が多いため耐クリープ特
性が低下する。E点とG点を結ぶ線よりLu2O3側では完全
な結晶化は達成されず、ガラス相が残存するため耐クリ
ープ特性が低下する。
しており、Lu2SiO5結晶相以外の結晶相またはアモルフ
ァス相の割合が10体積%以下となるまで焼成すると耐ク
リープ特性が向上する。10体積%を超えると耐熱性に劣
る液相が生成するため耐クリープ特性が低下する。これ
を満たす焼成条件は組成等により異なるが、状態図上で
Si3N4-Lu2SiO5の線上の組成に近い方が結晶化の速度は
速い。
得られた焼結体を粉砕してフッ化水素酸と硝酸の混合溶
液中に入れて、四弗化エチレン樹脂製容器中で180℃で1
0時間加熱溶解処理をした後、ICPで溶液中のSiとLu濃度
を定量し、次に、焼結体を粉砕して炭素粉末とともにス
ズカプセルに封入し、炭素るつぼ中で加熱溶解して発生
した窒素と一酸化炭素を定量することにより、試料中の
酸素と窒素量を定量する。この定量値を基に、Si、Lu、
O、Nの元素比を計算し、状態図上の組成を求める。
結晶で構成される。希土類元素のRE2SiO5を含む窒化ケ
イ素に関して希土類元素の差が結晶化の程度と耐クリー
プ特性に及ぼす影響を詳しく調べたところ、Luだけが90
%以上の高い結晶化を示し、高い耐クリープ特性を達成
した。即ち、種々のSi3N4-SiO2-RE2O3系の組成の中で、
A点:Si3N4、B点:40mol%SiO2-60mol%-Lu2O3、C点:60m
ol%SiO2-40mol%-Lu2O3、の三角形の中の組成だけが、高
い結晶化を達成した。
い、β-Si3N4、Lu2SiO5、および他の結晶相のピークの
高さから生成を確認する。また、多粒子粒界中の結晶相
の割合は透過型電子顕微鏡(TEM)により行う。試料
から薄片を切り出しイオンミル処理の後TEMによる電
子線回折を行い、50点程度の粒界を観察して結晶化の部
分とガラス相の部分の面積比により結晶化の程度を定量
する。
定しないが、下記の手法を用いることができる。出発原
料粉末としては、 α型の窒化ケイ素原料粉末を用い
る。出発原料中の酸素不純物量は粒界相組成に影響を及
ぼす。本発明では、最終の焼結体の組成を精密に制御す
る必要があるため、原料の混合に関しては窒化ケイ素原
料中の酸素不純物を定量して、酸素不純物がすべて二酸
化ケイ素(SiO2)であると仮定して、Si3N4とSiO2の混合
物として組成を決める。
3または酸化ルテチウムLu2O3と二酸化ケイ素(SiO2)の
混合物をLu2SiO5組成となるように添加する。ここで、
組成を決める際には、窒化ケイ素原料中に不純物として
含まれる酸素(SiO2)の量と焼成中に揮発散逸する酸素
量を考慮して出発組成を決める必要がある。
O3系の三元系状態図上で、D点:99mol% Si3N4 - 0.4mol
% SiO2 - 0.6mol% Lu2O3、E点:99mol% Si3N4 - 0.6mol
% SiO2 - 0.4mol% Lu2O3、F点:92mol% Si3N4 - 3.2mol
% SiO2 - 4.8mol% Lu2O3、G点:92mol% Si3N4 - 4.8mol
% SiO2 - 3.2mol% Lu2O3の4点で構成される四角形の中
の組成となるように決められる。
00気圧以下の窒素中で1700〜2000℃で焼成することが
好ましい。2気圧未満では焼成中に窒化珪素と二酸化珪
素が反応して分解するので組成変動が大きく緻密な焼結
体が得られない。100気圧を超えると焼結体中に高圧
のガスが閉じこめられるため焼結体中にボイドが生成
し、緻密な焼結体が得られない。
スにより行う。例えば、原料粉末を黒鉛型に入れて、2
気圧以上10気圧以下の窒素中で100〜500kg/cm2の圧力を
かけて1700〜2000℃で30分〜120分程度焼成する手法で
ある。雰囲気が2気圧未満では焼結体中の酸素の揮発が
激しく組成制御が困難である。雰囲気が10気圧以上で
は、窒化ケイ素焼結体中に高圧のガスが閉じこめられて
気泡として残留するため95%以上には緻密化しない。焼
成温度が1700℃未満では十分な液相が生成しないため緻
密化しない、焼成温度が2000℃を越えると粒成長が激し
くなるために室温強度が低下する。
窒化ケイ素原料中に含まれるSiO2と添加したSiO2の合計
の40%以下となる様な焼成条件が良い。これ以上だと焼
成中に組成変動が大きくなるためLu2SiO5が90%以上結晶
化することが困難になる。
93重量%のα型含有量92%の窒化ケイ素粉末(以下、「粉
末P1」という)に酸化ルテチウム6.9wt%を添加し、エ
タノールを添加した湿式ボールミルにより2時間混合粉
砕した。原料粉末は0.93重量%の酸素不純物を含むの
で、原料粉末の組成は、98.2wt%Si3N4-1.8wt%SiO2とし
て組成を計算したところ、真の混合組成は、表1(B)
の通り91.52wt%Si3N4-1.78wt%SiO2-6.7wt%Lu2O3であっ
た。ついで、空気中でロータリエバポレータを用いて乾
燥の後、 200Kg/cm2の圧力で金型成形により80mm×45mm
×10mmの成形体を得た。
トプレス炉を用いて焼成した。まず、10-2Paの真空中で
室温から1300℃まで毎時500℃の速度で加熱し、この温
度で10気圧の窒素ガスを導入し、200Kg/cm2の圧力を負
荷し、毎時500℃で1800℃まで昇温し、1800℃で1時間保
持した。
硝酸の混合溶液中に入れて、四弗素化エチレン樹脂製容
器中で180℃で10時間加熱溶解処理をした後、ICPで溶液
中のSiとLu濃度を定量した。次に、焼結体を粉砕して炭
素粉末とともにスズカプセルに封入し、炭素るつぼ中で
加熱溶解して発生した窒素と一酸化炭素を定量すること
により、試料中の酸素と窒素量を定量した。
O:1.38wt%、N:36.78wt%あった。酸素量は焼成中に減
少しており、SiO2換算の減少率は38%であった。これら
により、焼結体組成は、95mol% Si3N4 - 2.5mol% SiO2
- 2.5mol% Lu2O3であり、状態図2中のABC内およびCDEF
内の組成であった。また、X線回折の結果、生成相は、
β-Si3N4とLu4Si2O7N2であった。
ンドホイールで平面研削し、3mm×4mm×10mmの形状に加
工し、300MPaの圧縮加重で加圧しクリープ変形速度を求
めた。変形速度は毎秒1.2×10-8であり、優れた耐クリ
ープ特性を示した。
オンミル処理の後、透過型電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、図3に示すように、窒化ケイ素粒子、二粒子粒界と
多粒子粒界とからなる微構造であった。なお、多粒子粒
界(A点)について電子線回折を行うことにより、粒界
相の結晶相を決定した。
べたところ、Lu2SiO5に結晶化していた。さらに、ラン
ダムに選んだ50個の多粒子粒界について調べたところ50
個全てにおいてLu2SiO5に結晶化していた。このよう
に、 Lu2SiO5組成の粒界相を形成することにより、高温
においてクリープ変形しにくい窒化ケイ素焼結体を得
た。
組成の酸化ルテチウムおよび二酸化ケイ素を添加し、実
施例1と同様の手法にて成形体を得た。表1(B)に出
発原料中の真の組成を示す。この成形体を黒鉛の型に入
れてガス圧ホットプレス炉を用いて焼成した。まず、10
-2Paの真空中で室温から1300℃まで毎時500℃の速度で
加熱し、この温度で表2(A)の気圧の窒素ガスを導入
し、200Kg/cm2の圧力を負荷し、毎時500℃で表2(A)
の温度まで昇温し表2(A)に示した時間保持した。
の手法で試料中の酸素と窒素量を定量した。定量値は、
表3(A)に示す通りであった。酸素量は焼成中に減少
しており、SiO2換算の減少率は表2(B)に示す通りで
あった。これらにより、焼結体組成が正確に計算でき、
その値は表3(B)に示す通りであり、図4の状態図中
のABC内およびCDEF内の組成であった。
とLu2SiO5であった。得られた焼結体を800メッシュのダ
イヤモンドホイールで平面研削し、3mm×4mm×10mmの形
状に加工し、 300MPaの圧縮加重で加圧しクリープ変形
速度を求めた。変形速度は表4に示す通りであり、優れ
た耐クリープ特性を示した。
ンミル処理の後、透過型電子顕微鏡で観察したところ、
窒化ケイ素粒子、二粒子粒界と多粒子粒界とからなる微
構造であった。さらに、電子線回折により多粒子粒界を
しらべたところ、Lu2SiO5に結晶化していた。さらに、
ランダムに選んだ50個の多粒子粒界について調べたとこ
ろLu2SiO5結晶の割合は表4に示す通りであった。
することにより、高温においてクリープ変形しにくい窒
化ケイ素焼結体を得た。このように、 Lu2SiO5組成の粒
界相を形成することにより、高温において強度低下が少
なく耐クリープ特性に優れた窒化ケイ素焼結体を得た。
の組成の酸化ルテチウムおよび二酸化ケイ素を添加し、
エタノールを添加した湿式ボールミルにより2時間混合
粉砕した.原料粉末は0.93重量%の酸素不純物を含むの
で、真の混合組成は表1(B)の通りであった。つい
で、空気中でロータリエバポレータを用いて乾燥の後、
20MPaの圧力で金型成形により、80mm×45mm×10mmの成
形体を得た。
トプレス炉を用いて焼成した。まず、10-2Paの真空中で
室温から1300℃まで毎時500℃の速度で加熱し、この温
度で表2(A)の気圧の窒素ガスを導入し、200Kg/cm2
の圧力を負荷し、毎時500℃で表2(A)の温度まで昇
温し表2(A)に示した時間保持した。
組成分析を行ったところ、定量値は、表3(A)に示す
通りであった。酸素量は焼成中に減少しており、SiO2換
算の減少率は表2(B)に示す通りであった。これらに
より、焼結体組成が正確に計算できその真の組成は表3
(B)に示す通りであり、図4の状態図中のCDEFの外の
組成であった。また、X線回折の結果、生成相は、表4
の通りであった。
で求めたクリープ変形速度は表4に示す通りであり、耐
クリープ特性が劣っていた。実施例1と同様の手法で透
過型電子顕微鏡で観察したところ、Lu2SiO5結晶の割合
は表4に示す通りであった。
SiO2よりの組成であり、Lu2SiO5の結晶化の程度が低い
ため耐クリープ特性に劣る。比較例8は、EGの線よりも
SiO2よりの組成であり、かつ助剤量も多い。このためLu
2SiO5の結晶化の程度が低いことに加えて非晶質の量も
多くなり、耐クリープ特性に劣る。比較例9は、DFの線
よりもLu2O3よりの組成であり、Lu2SiO5の結晶化の程度
が低いため耐クリープ特性に劣る。比較例10は、DFの
線よりもLu2O3よりの組成であり、かつ助剤量も多い。
このためLu2SiO5の結晶化の程度が低いことに加えて非
晶質の量も多くなり、耐クリープ特性に劣る。
成においてはLu2SiO5結晶化の程度が低く、高温におい
てクリープ変形量が多かった。
成(Si3N4-5mol%RE-2SiO5)の希土類酸化物(REは希土類
元素)および二酸化ケイ素を添加し、実施例1と同様の
手法で成形体を得た。
トプレス炉を用いて焼成した。まず、10-2Paの真空中で
室温から1300℃まで毎時500℃の速度で加熱し、この温
度で10気圧の窒素ガスを導入し、200Kg/cm2の圧力を負
荷し、毎時500℃で1800℃まで昇温し、1800℃で1時間保
持した。
あった。実施例1と同様の手法で300MPaの圧縮加重で求
めたクリープ変形速度は表4に示す通りであり、耐クリ
ープ特性が劣っていた。実施例1と同様の手法で透過型
電子顕微鏡で観察したところ、RE2SiO5結晶の割合は表
4に示す通りであった。
組成であっても、Lu以外の希土類元素を用いた場合は、
RE2SiO5結晶化の程度が低く、高温においてクリープ変
形量が多かった。
剤が焼結後に多粒子粒界に残留するため耐クリープ特性
が低下し耐熱性に乏しい材料であった。上述したよう
に、この発明によれば、窒化ケイ素原料粉末に添加する
焼結助剤の量や種類および焼成条件を制御することによ
り、窒化ケイ素とLu2SiO5組成の粒界相とから構成され
る焼結体を製造することにより、粒界が完全に結晶化し
た材料が得られ、耐クリープ特性に優れた材料を提供す
ることができる。
状態図であり、図1(B)は、Lu2O 3などのSi3N4-SiO2-RE2
O3系の状態図である。
組成範囲をSi3N4 - SiO2 - Lu2O 3系の状態図において示
す図であり、図2(B)も、本発明の窒化ケイ素質焼結
体の組成範囲をSi3N4-SiO2-RE2O3系の状態図において示
す図である。
の焼結体の微構造を示す模式図である。
体の組成を示すSi3N4-SiO2-RE2O3系の状態図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 窒化ケイ素粒子と酸窒化物の粒界相から
構成される焼結体において、焼結体の組成がSi3N4-SiO2
-Lu2O3系の三元系状態図上で、 A点:Si3N4 B点:40mol%SiO2-60mol%-Lu2O3、 C点:60mol%SiO2-40mol%-Lu2O3、 の3点で構成される三角形の中の組成であることを特徴
とする窒化ケイ素質焼結体。 - 【請求項2】 窒化ケイ素粒子と酸窒化物の粒界相から
構成される焼結体において、焼結体の組成がSi3N4-SiO2
-Lu2O3系の三元系状態図上で、 D点:99mol% Si3N4 - 0.4mol% SiO2 - 0.6mol% Lu2O3、 E点:99mol% Si3N4 - 0.6mol% SiO2 - 0.4mol% Lu2O3、 F点:92mol% Si3N4 - 3.2mol% SiO2 - 4.8mol% Lu2O3、 G点:92mol% Si3N4 - 4.8mol% SiO2 - 3.2mol% Lu2O3 の4点で構成される四角形の中の組成であることを特徴
とする窒化ケイ素質焼結体。 - 【請求項3】 粒界相がLu2SiO5の結晶相であることを
特徴とする請求項1または2記載の窒化ケイ素質焼結
体。 - 【請求項4】 粒界相中に占めるLu2SiO5結晶相以外の
結晶相またはアモルファス相の割合が粒界相体積の10体
積%以下であることを特徴とする請求項3記載の窒化ケ
イ素質焼結体。 - 【請求項5】 窒化ケイ素原料粉末に、酸化ルテチウム
粉末または酸化ルテチウム粉末と二酸化ケイ素の混合物
を、焼成後に請求項1記載のABC内または請求項2記載
のDEFG内の組成となるように添加して混合した後に、2
気圧以上100気圧以下の窒素中で1700〜2000℃で焼成
することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記
載の窒化ケイ素質焼結体の製造方法。 - 【請求項6】 焼成中のSiO2の揮発量がSiO2換算減少量
で全SiO2の40%以下であることを特徴とする請求項5記
載の窒化ケイ素質焼結体の製造方法。 - 【請求項7】 焼成方法が2気圧以上10気圧以下の窒
素ガス雰囲気中におけるホットプレスであることを特徴
とする請求項5または6記載の窒化ケイ素質焼結体の製
造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000324327A JP3752528B2 (ja) | 2000-10-24 | 2000-10-24 | 窒化ケイ素質焼結体およびその製造方法 |
| US09/796,430 US6579819B2 (en) | 2000-08-29 | 2001-03-02 | Silicon nitride sintered products and processes for their production |
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