JP2002134636A - 高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた電子装置および高周波回路基板の製造方法 - Google Patents

高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた電子装置および高周波回路基板の製造方法

Info

Publication number
JP2002134636A
JP2002134636A JP2000324080A JP2000324080A JP2002134636A JP 2002134636 A JP2002134636 A JP 2002134636A JP 2000324080 A JP2000324080 A JP 2000324080A JP 2000324080 A JP2000324080 A JP 2000324080A JP 2002134636 A JP2002134636 A JP 2002134636A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit board
terminal
frequency
semiconductor element
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000324080A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3649111B2 (ja
Inventor
Kazuya Sayanagi
和也 佐柳
Akihiro Sasahata
昭弘 笹畑
Yutaka Sasaki
豊 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2000324080A priority Critical patent/JP3649111B2/ja
Priority to US09/974,668 priority patent/US6847275B2/en
Priority to GB0124989A priority patent/GB2372153B/en
Priority to DE10152533A priority patent/DE10152533B4/de
Publication of JP2002134636A publication Critical patent/JP2002134636A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3649111B2 publication Critical patent/JP3649111B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8538Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/85399Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01051Antimony [Sb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01072Hafnium [Hf]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/1026Compound semiconductors
    • H01L2924/1032III-V
    • H01L2924/10329Gallium arsenide [GaAs]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12041LED
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15192Resurf arrangement of the internal vias
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15313Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a land array, e.g. LGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19105Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 静電気によるサージ電圧に対する耐圧の高い
高周波回路基板を提供する。 【解決手段】 回路基板2を構成する誘電体基板3の他
方主面に形成された配線電極6上に半導体素子8とフィ
ルタ30搭載する。フィルタ30のストリップ線路電極
33はスルーホール34と接地電極32と配線電極6と
スルーホール7を介して回路基板2の接地電極4と直流
的に接続されている。 【効果】 端子電極5と半導体素子8の高周波信号端子
がフィルタ30を介して接続されているため、静電気に
よるサージ電圧が端子電極5から印加されてもフィルタ
30を介して接地電極4にアースされ、半導体素子8が
静電破壊を起こすのを防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高周波回路基板お
よびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた
電子装置および高周波回路基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図11に、従来の高周波回路基板の断面
図を示す。図11において、高周波回路基板1は、回路
基板2と半導体素子8と受動インピーダンス回路素子で
あるフィルタ15を備えている。ここで、回路基板2
は、例えばアルミナ基板(比誘電率は約9〜10)のよ
うな比較的低誘電率の誘電体からなる誘電体基板3の一
方主面に接地電極4と端子電極5が形成され、他方主面
に配線電極6が形成され、配線電極6の一部はスルーホ
ール7を介して端子電極5と接続されて構成されてい
る。半導体素子8は誘電体基板3の他方主面に搭載され
ており、半導体素子8上に形成された接続ランド8a、
8bと配線電極6との間がワイヤー(ボンディングワイ
ヤー)10を介して接続されている。フィルタ15は誘
電体基板3の他方主面に形成された配線電極6上に搭載
されている。フィルタ15は、誘電体基板16と、その
表面に形成されたフィルタ機能を実現するためのストリ
ップ線路電極17から構成されている。そして、ストリ
ップ線路電極17と配線電極6との間がワイヤー10を
介して接続されている。
【0003】このように構成された高周波回路基板1
は、1つの回路基板2上に主として能動素子である半導
体素子8と受動素子であるフィルタ15が同時に搭載さ
れており、1つの機能を持った部品として動作させるこ
とができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体素子
8、特にGaAs半導体素子は一般的に耐圧が低く、静
電気によるサージ電圧によって静電破壊を起こす可能性
がある。そのため、半導体素子8を搭載した高周波回路
基板1において、例えば端子電極5やスルーホール7、
配線電極6、ワイヤー10からなる信号ラインを介して
半導体素子8に静電破壊を起こすサージ電圧が印加され
ると、高周波回路基板1が破損する可能性があった。
【0005】特に、このような高周波回路基板を用いた
ものとして無線通信の送受信モジュールを考えると、ア
ンテナに接続される端子電極が外部に露出しており、こ
の端子電極を介して印加されたサージ電圧によって半導
体素子が破壊される可能性がある。
【0006】一方、端子電極5からフィルタ15を介し
て半導体素子8に至る信号ラインに関しては、フィルタ
15の入出力間が絶縁されていれば半導体素子8にサー
ジ電圧が印加されることはない。しかしながら、半導体
素子8を回路基板2に搭載する製造ラインにおいてはフ
ィルタ15の有無に関わらず同様の静電気対策が必要と
なる。そして、半導体工場のような静電気対策が十分な
工場とは異なり、誘電体基板上に半導体素子を搭載する
ための製造ラインなどにおいては必ずしも十分な静電気
対策が施されていないため、静電気対策を徹底するため
には工程管理のためのコストがかかるという問題があ
る。
【0007】また、静電気対策としては、半導体素子の
信号端子などにサージ電圧保護用のダイオードを接続す
るという方法もあるが、半導体素子のコスト上昇を招く
だけではなく、ダイオードが高周波信号のロスの原因に
なるという別の問題が発生する。
【0008】本発明は上記の問題点を解決することを目
的とするもので、静電気によるサージ電圧に対する耐圧
の高い高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュ
ールおよびそれを用いた電子装置および高周波回路基板
の製造方法を提供する。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の高周波回路基板は、回路基板と、該回路基
板に搭載された半導体素子を有する高周波回路基板であ
って、前記回路基板は接地電極と端子電極を有し、前記
半導体素子は前記回路基板の前記端子電極との間で高周
波信号が伝達される高周波信号端子を有し、前記回路基
板の前記端子電極および前記半導体素子の前記高周波信
号端子の少なくとも一方が、前記回路基板の前記接地電
極と直流的に接続されていることを特徴とする。
【0010】また、本発明の高周波回路基板は、前記半
導体素子の前記高周波信号端子と前記回路基板の前記端
子電極の間に接続された受動インピーダンス回路素子を
前記回路基板上に搭載してなり、前記高周波信号端子お
よび該高周波信号端子との間で高周波信号が伝達される
前記端子電極のいずれか一方が、前記受動インピーダン
ス回路素子を介して前記接地電極と直流的に接続されて
いることを特徴とする。
【0011】また、本発明の高周波回路基板は、前記半
導体素子の前記高周波信号端子と前記回路基板の前記外
部端子の間に接続された受動インピーダンス回路素子を
前記回路基板上に搭載してなり、前記高周波信号端子お
よび該高周波信号端子との間で高周波信号が伝達される
前記端子電極の両方が、前記受動インピーダンス回路素
子を介して前記接地電極と直流的に接続されていること
を特徴とする。
【0012】また、本発明の高周波回路基板は、前記受
動インピーダンス回路素子が、前記回路基板および前記
半導体素子を構成する材料より誘電率の高い誘電体基板
に形成されていることを特徴とする。
【0013】また、本発明の高周波回路基板は、前記半
導体素子が前記回路基板上にバンプ実装されていること
を特徴とする。
【0014】また、本発明の高周波回路基板は、前記半
導体素子の前記高周波信号端子以外の端子に静電気保護
用ダイオードが設けられていることを特徴とする。
【0015】また、本発明の高周波モジュールは、上記
の高周波回路基板を用いてなり、前記回路基板を部品搭
載基板とし、前記回路基板の前記端子電極を外部端子と
したことを特徴とする。
【0016】また、本発明の電子装置は、上記のいずれ
かに記載の高周波回路基板または高周波モジュールを用
いたことを特徴とする。
【0017】また、本発明の高周波回路基板の製造方法
は、接地電極と端子電極を有する回路基板に、少なくと
もいずれか一方の端子が前記接地電極と直流的に接続さ
れる受動インピーダンス回路素子を、一方の端子を前記
端子電極に接続して搭載する第1の工程と、前記回路基
板に、高周波信号端子を有する半導体素子を、前記高周
波信号端子を前記受動インピーダンス回路素子の他方の
端子に接続して搭載する第2の工程からなることを特徴
とする。
【0018】また、本発明の高周波回路基板の製造方法
は、前記受動インピーダンス回路素子および前記半導体
素子が前記回路基板にバンプ実装されることを特徴とす
る。
【0019】このように構成することにより、本発明の
高周波回路基板においては、静電気によるサージ電圧に
対する耐圧を高めて信頼性を向上させるとともに小型化
を図ることができる。
【0020】また、本発明の高周波モジュールおよび電
子装置においても、信頼性を向上させることができる。
【0021】また、本発明の高周波回路基板の製造方法
においては、製造中における半導体素子の静電破壊を低
減することができ、製造工程の簡素化を図り、高周波回
路基板の低コスト化を図ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】図1に、本発明の高周波回路基板
の一実施例の断面図を示す。図1において、図11と同
一もしくは同等の部分には同じ記号を付し、その説明を
省略する。
【0023】図1に示した高周波回路基板20は、誘電
体基板3の他方主面に形成された配線電極6上に半導体
素子8と受動インピーダンス回路素子であるフィルタ3
0を搭載して構成されている。また、図11に示した従
来の高周波回路基板1とは異なり、配線電極6のうちワ
イヤー10を介して半導体素子8の接続ランド8a、8
bと接続されたものは端子電極5とは接続されていな
い。
【0024】ここで、図2に、フィルタ30の斜視図を
示す。図2において、フィルタ30は、高周波回路基板
20を構成する誘電体基板3(例えばアルミナ基板なら
比誘電率は約9)や半導体素子8を構成する材料(例え
ばGaAsなら比誘電率は約12.5)より誘電率の高
い、例えば比誘電率が110の誘電体基板31と、誘電
体基板31の一方主面に形成された接地電極32と、同
じく他方主面に形成されたストリップ線路電極33と、
接地電極32とストリップ線路電極33を接続するスル
ーホール34とで構成されている。このうち、ストリッ
プ線路電極33は、線路部分と、線路部分の途中に接続
された1/4波長のスタブから構成されており、スタブ
の先端はスルーホール34で接地電極32と接続されて
接地されているためショートスタブとなっている。そし
て、線路部分の両端、すなわち入力端子や出力端子とな
る部分はワイヤー10を介して、図1に示した高周波回
路基板20の配線電極5に接続されている。
【0025】このように構成されたフィルタ30は、シ
ョートスタブの長さに対応する特定の周波数を通過させ
るバンドパスフィルタとして機能する。また、ショート
スタブの先端がスルーホール34を介して接地電極32
と接続されているため、フィルタ30の入出力端子部分
(入出力用のワイヤーが接続される部分)は接地電極3
2と直流的に接続されていることになる。
【0026】また、フィルタ30は高周波回路基板20
を構成する誘電体基板2や半導体素子8を構成する半導
体材料より誘電率の高い誘電体基板31上にストリップ
線路電極33を形成して構成されている。この場合、誘
電体基板3上や半導体素子8上にストリップ線路電極を
直接形成する場合に比べて波長短縮率が十分に高くなる
ため、線路電極の大幅な小型化、ひいてはフィルタ30
の大幅な小型化を図ることができる。
【0027】次に、図1に示した高周波回路基板20の
製造方法について図3を用いて説明する。図3におい
て、図1と同一もしくは同等の部分には同じ記号を付
し、その説明を省略する。
【0028】まず、第1の工程において、図3(a)に
示すように回路基板2の接地電極4とスルーホール7を
介して接続されている所定の配線電極6上にフィルタ3
0を搭載し、その入出力端子部分と回路基板2の配線電
極6とをワイヤー10で接続する。その際、フィルタ3
0の接地電極32は、ハンダ付けや導電性の材料を用い
たダイボンディングなどによって配線電極6と電気的に
接続され、接地される。フィルタ30の入出力端子部分
は、図2に示したように接地電極32と直流的に接続さ
れているため、回路基板2の接地電極4とも直流的に接
続されることになる。すなわち、回路基板2の配線電極
6のうち、フィルタ30と接続されているものは、フィ
ルタ30を介して接地電極4と直流的に接続されている
ことになる。
【0029】次に、第2の工程として、図3(b)に示
すように、回路基板2に半導体素子8を搭載し、その接
続ランドと回路基板2の配線電極6とをワイヤー10で
接続する。半導体素子8の接続ランドとしては、外部と
の間で高周波信号の伝達される高周波信号端子となる接
続ランド8aと、電源端子のような高周波信号の伝達さ
れないその他の端子となる接続ランド8bとを有する。
そして、半導体素子8の高周波信号端子である接続ラン
ド8aはフィルタ30と接続されている配線電極6と接
続されている。このとき、第1の工程で説明したよう
に、フィルタ30と接続されている配線電極6は接地電
極4と直流的に接続されているため、例えば半導体素子
8を搭載する工程において何らかの原因で端子電極5に
静電気によるサージ電圧が印加されても、サージ電圧が
半導体素子8に達する前にフィルタ30を介して接地さ
れてしまうために、半導体素子8に印加されて半導体素
子8が静電破壊を起こすことはない。そのため、静電気
対策のレベルを下げることができ、工程管理のコストを
低減することができる。
【0030】なお、実際の工程としては、第ボンディン
グの工程とワイヤーボンディングの工程をまとめるため
に、第1の工程におけるフィルタ30の入出力端子部分
と回路基板2の配線電極6とをワイヤー10で接続する
部分は、第2の工程における回路基板2に半導体素子8
を搭載する部分と、半導体素子8の接続ランドと回路基
板2の配線電極6とをワイヤー10で接続する部分の間
に実施することになる。その場合でも、半導体素子8の
接続ランドと回路基板2の配線電極6とをワイヤー10
で接続するときには、フィルタ30の搭載が完了してい
るため、回路基板2の配線電極6のうち、フィルタ30
と接続されているものは、フィルタ30を介して接地電
極4と直流的に接続されていることになる。そのため、
静電気対策としては、半導体素子8の搭載の前にフィル
タ30のワイヤーボンディングを行う場合と全く同じ作
用効果を奏するものである。
【0031】図1に戻り、このように構成された高周波
回路基板20においては、回路基板2の端子電極5と、
端子電極5との間で高周波信号が伝達される半導体素子
8の高周波信号端子である接続ランド8aの両方が、フ
ィルタ30を介して回路基板2の接地電極4と直流的に
接続されているために耐圧が高く、何らかの原因で端子
電極5に静電気によるサージ電圧が印加されても、半導
体素子が静電破壊を起こすことは少ない。したがって、
高周波回路基板20の信頼性を向上させることができ
る。また、ストリップ線路電極を回路基板2を構成する
誘電体基板3より誘電率の高い誘電体基板31上に形成
してフィルタ30の小型化を図っているため、高周波回
路基板20自身の大幅な小型化を図ることができる。
【0032】ここで、図4に、本発明の高周波回路基板
に用いる受動インピーダンス回路素子であるフィルタの
別の実施例を示す。図4において、図2と同一もしくは
同等の部分には同じ記号を付し、その説明を省略する。
【0033】図4において、フィルタ35は、誘電体基
板31の他方主面上に直線状で約1/2波長のストリッ
プ線路電極36を有し、その中央部分がスルーホール3
4を介して接地電極32と接続されている。ストリップ
線路電極36の両側端部から少し中央側に寄った位置、
すなわち入力端子や出力端子となる部分にはワイヤー1
0が接続されている。
【0034】このように構成されたフィルタ35におい
ては、ストリップ線路電極36の一端側と他端側がそれ
ぞれ1/4波長の共振器として動作するとともに、2つ
の共振器がスルーホール34の有するインダクタンス成
分を介して結合して特定の周波数を通過させるバンドパ
スフィルタとして機能する。また、ストリップ線路電極
36の中央部がスルーホール34を介して接地電極32
と接続されているため、フィルタ35の入出力端子部分
(入出力用のワイヤーが接続される部分)は接地電極3
2と直流的に接続されている。
【0035】図5に、本発明の高周波回路基板に用いる
受動インピーダンス回路素子であるフィルタのさらに別
の実施例を示す。図5において、図4と同一もしくは同
等の部分には同じ記号を付し、その説明を省略する。
【0036】図5において、フィルタ40は、直線状の
ストリップ線路電極36に代えてS字上のストリップ線
路電極41を有する点でのみフィルタ35と異なる。
【0037】このように構成されたフィルタ40におい
ては、ストリップ線路電極41の各部が相互に結合し合
うことによって、スプリアス特性の低減などのフィルタ
特性上の改善に加えて、フィルタ35よりもさらに小型
化を図ることができる。
【0038】図4、5に示したフィルタ35、40にお
いても、図2に示したフィルタ30と同様に入出力端子
部分が接地電極と直流的に接続されているため、高周波
回路基板に搭載された場合にはフィルタ30と同様の作
用効果を奏することができる。
【0039】図6に、本発明の高周波回路基板の別の実
施例の断面図を示す。図6において、図1と同一もしく
は同等の部分には同じ記号を付し、その説明を省略す
る。
【0040】図6に示した高周波回路基板50は、誘電
体基板3の他方主面に形成された配線電極6上に半導体
素子8と受動インピーダンス回路素子であるフィルタ3
0をバンプ実装(フリップチップ実装)で搭載して構成
されている。ここで、半導体素子8の端子8a、8b上
にはバンプ8cが設けられており、バンプ8cを介して
配線電極6と接続されている。また、フィルタ30にも
ストリップ線路電極33上にバンプ30aが設けられて
おり、このバンプ30aを介して配線電極6と接続され
ている。そのため、図1に示した高周波回路基板20の
ようなワイヤー(ボンディングワイヤー)は存在しな
い。
【0041】このように、高周波回路基板50において
は、半導体素子8とフィルタ30をバンプ実装すること
によってワイヤーボンディングの工程を省くことができ
るため、静電破壊の可能性をさらに低くすることができ
る。
【0042】図7に、本発明の高周波回路基板に搭載さ
れる半導体素子の別の実施例の平面図を示す。図7にお
いて、半導体素子60は、半導体チップ61上に各種回
路素子(図示せず)とともにそれらに接続された接続ラ
ンド62、63、64、65が形成されている。このう
ち、接続ランド62は電源入力用端子、接続ランド63
は接地用端子、接続ランド64、65は高周波信号端子
である。そして、高周波信号端子以外の端子である接続
ランド62と接続ランド63の間には静電気保護用ダイ
オード66が形成されている。
【0043】このように、高周波信号端子以外の端子で
ある接続ランド62、63に静電気保護用ダイオードを
設けることによって、半導体素子60の高周波信号端子
以外の端子に印加されるサージ電圧に対する耐圧を高く
することがができる。しかも、高周波信号端子である接
続ランド64、65には静電気保護用ダイオードが設け
られていないため、ダイオードによる高周波信号のロス
が発生することもない。そして、このように構成された
半導体素子を本発明の高周波回路基板に搭載することに
よって、高周波信号が伝達される経路以外の経路を介し
てサージ電圧が印加された場合の半導体素子の静電破壊
の可能性を低下させることができる。
【0044】なお、上記の各実施例の高周波回路基板に
おいては、受動インピーダンス回路素子としてフィルタ
を用いているが、受動インピーダンス回路素子としては
積極的なフィルタ特性を有していない例えば整合回路な
どでも構わないもので、フィルタの場合と同様の作用効
果を奏するものである。
【0045】図8に、本発明の高周波モジュールの一実
施例を示す。図8において、図1と同一もしくは同等の
部分には同じ記号を付し、その説明を省略する。また、
図9に、高周波モジュールが無線通信の送受信モジュー
ルである場合の1つの例の概略ブロック図を示す。
【0046】図8において、高周波モジュール70は、
高周波回路基板20に、半導体素子8やフィルタ30を
覆うカバー71を搭載して構成されている。この場合、
高周波回路基板20の端子電極5は外部端子になる。
【0047】また、ブロック図としては図9に示すよう
に、高周波モジュール70は、局部発振器LOと、高周
波高周波スイッチSW1、SW2と、ミキサMIX1、
MIX2と、パワーアンプPAと、ローノイズアンプL
NAと、フィルタ30から構成されている。このうち、
局部発振器LOと、高周波スイッチSW1、SW2と、
ミキサMIX1、MIX2と、パワーアンプPAと、ロ
ーノイズアンプLNAは半導体素子8に形成されてい
る。
【0048】ここで、局部発振器LOは高周波スイッチ
SW1の第1の端子に接続され、高周波スイッチSW1
の第2、第3の端子はそれぞれミキサMIX1とミキサ
MIX2に接続されている。ミキサMIX1はパワーア
ンプPAを介して高周波スイッチSW2の第2の端子に
接続されている。高周波スイッチSW2の第1の端子は
フィルタ30を介して高周波モジュール50とは別に設
けられているアンテナANTに接続されている。高周波
スイッチSW2の第3の端子はローノイズアンプLNA
を介してミキサMIX2に接続されている。
【0049】次に、高周波モジュール70の動作につい
て簡単に説明する。まず、ミキサMIX1には図示を省
略した送信側回路からIF信号が入力されている。高周
波スイッチSW1の第1の端子が第2の端子と接続され
ていると、局部発振器LOから出力されたキャリア信号
がミキサMIX1に入力されるため、ミキサMIX1か
らはIF信号で変調されたキャリア信号、すなわちRF
信号が出力される。RF信号はパワーアンプPAで増幅
され、高周波スイッチSW2の第2の端子に入力され
る。高周波スイッチSW2は高周波スイッチSW1と連
動して、高周波スイッチSW1の第1の端子が第2の端
子と接続されるときに高周波スイッチSW2の第1の端
子も第2の端子と接続される。そのため、高周波スイッ
チSW2の第2の端子に入力されたRF信号は第1の端
子から出力され、フィルタ30に入力されて不必要な信
号が取り除かれ、アンテナANTから電波として放射さ
れる。
【0050】一方、高周波スイッチSW1および高周波
スイッチSW2の第1の端子が第3の端子と接続されて
いると、アンテナANTで受信したRF信号の電波はフ
ィルタ30に入力されて不必要な信号が取り除かれ、高
周波スイッチSW2を介してローノイズアンプLNAに
入力されて増幅され、ミキサMIX2に入力される。ミ
キサMIX2には局部発振器LOから出力されたキャリ
ア信号が高周波スイッチSW1を介して入力されている
ため、ミキサMIX2ではRF信号からキャリア信号の
成分が取り除かれ、IF信号として出力され、図示を省
略した受信側回路に入力される。
【0051】このように構成された高周波モジュール7
0においては、アンテナANTに接続される端子を介し
て静電気によるサージ電圧が印加される可能性がある
が、サージ電圧はフィルタ30を介して回路基板2の接
地電極4に流れるため、半導体素子8に含まれている局
部発振器LOや、高周波スイッチSW1、SW2や、ミ
キサMIX1、MIX2や、パワーアンプPAや、ロー
ノイズアンプLNAが静電破壊を起こすのを防止するこ
とができる。そのため、静電気対策の十分でない製造ラ
インなどにおいても取り扱うことが容易となる。
【0052】図10に、本発明の電子装置の一実施例の
斜視図を示す。図10において、電子装置の1つである
携帯電話80は、筐体81と、その中に配置されたプリ
ント基板82と、プリント基板82上に実装された本発
明の高周波モジュール83を備えている。高周波モジュ
ール83は、例えばアンプや発振器、フィルタなどの高
周波部品である。
【0053】このように構成された携帯電話80におい
ては、本発明の高周波モジュール83を用いているた
め、静電気に対して強く、製造工程における静電気対策
を簡素化できるため、コストダウンと信頼性の向上を図
ることができる。
【0054】なお、図10においては電子装置として携
帯電話を示したが、電子装置としては携帯電話に限るも
のではなく、本発明の高周波モジュールを用いたもので
あれば何でも構わないものである。
【0055】
【発明の効果】本発明の高周波回路基板によれば、接地
電極と端子電極を有する回路基板と、それに搭載されて
回路基板の端子電極との間で高周波信号が伝達される高
周波信号端子を有する半導体素子を有し、回路基板の端
子電極および半導体素子の高周波信号端子の少なくとも
一方が、回路基板の接地電極と直流的に接続されている
ことによって、静電気によるサージ電圧に対する耐圧を
高め、信頼性を向上させることができる。
【0056】また、回路基板の端子電極および半導体素
子の高周波信号端子の少なくとも一方が、回路基板およ
び半導体素子を構成する材料より誘電率の高い誘電体基
板に形成された受動インピーダンス回路素子を介して回
路基板の接地電極と直流的に接続されていることによっ
て、高周波回路基板の小型化を図ることができる。
【0057】また、本発明の高周波モジュールおよびそ
れを用いた電子装置によれば、本発明の高周波回路基板
を用いることによって、静電気によるサージ電圧に対す
る耐圧を高め、信頼性を向上させることができる。
【0058】また、本発明の高周波回路基板の製造方法
によれば、接地電極と端子電極を有する回路基板に、少
なくともいずれか一方の端子が接地電極と直流的に接続
される受動インピーダンス回路素子を、一方の端子を端
子電極に接続して搭載する第1の工程と、回路基板に、
高周波信号端子を有する半導体素子を、高周波信号端子
を受動インピーダンス回路素子の他方の端子に接続して
搭載する第2の工程からなることによって、製造中にお
ける静電破壊の発生を大幅に低下させることができる。
また、製造工程の簡素化を図り、高周波回路基板の低コ
スト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高周波回路基板の一実施例を示す断面
図である。
【図2】本発明の高周波回路基板に搭載されるフィルタ
の一実施例を示す斜視図である。
【図3】本発明の高周波回路基板の製造工程を示す図
で、(a)は回路基板のフィルタが搭載された状態を示
し、(b)はあらかじめフィルタを搭載した回路基板に
半導体素子が搭載された状態を示す。
【図4】本発明の高周波回路基板に搭載されるフィルタ
の別の実施例を示す斜視図である。
【図5】本発明の高周波回路基板に搭載されるフィルタ
のさらに別の実施例を示す斜視図である。
【図6】本発明の高周波回路基板の別の実施例を示す断
面図である。
【図7】本発明の高周波回路基板に搭載される半導体素
子の別の実施例を示す平面図である。
【図8】本発明の高周波モジュールの一実施例を示す断
面図である。
【図9】図8の高周波モジュールの概略ブロック図であ
る。
【図10】本発明の電子装置の一実施例を示す一部破砕
斜視図である。
【図11】従来の高周波回路基板を示す断面図である。
【符号の説明】
2…回路基板 3…誘電体基板 4…接地電極 5…端子電極 6…配線電極 7…スルーホール 8、60…半導体素子 8a、64、65…接続ランド(高周波信号端子) 8c、30a…バンプ 10…ワイヤー 20、50…高周波回路基板 30、35、40…フィルタ(受動インピーダンス回路
素子) 70…高周波モジュール 71…カバー 80…携帯電話

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板と、該回路基板に搭載された半
    導体素子を有する高周波回路基板であって、 前記回路基板は接地電極と端子電極を有し、前記半導体
    素子は前記回路基板の前記端子電極との間で高周波信号
    が伝達される高周波信号端子を有し、 前記回路基板の前記端子電極および前記半導体素子の前
    記高周波信号端子の少なくとも一方が、前記回路基板の
    前記接地電極と直流的に接続されていることを特徴とす
    る高周波回路基板。
  2. 【請求項2】 前記半導体素子の前記高周波信号端子と
    前記回路基板の前記端子電極の間に接続された受動イン
    ピーダンス回路素子を前記回路基板上に搭載してなり、 前記高周波信号端子および該高周波信号端子との間で高
    周波信号が伝達される前記端子電極のいずれか一方が、
    前記受動インピーダンス回路素子を介して前記接地電極
    と直流的に接続されていることを特徴とする、請求項1
    に記載の高周波回路基板。
  3. 【請求項3】 前記半導体素子の前記高周波信号端子と
    前記回路基板の前記外部端子の間に接続された受動イン
    ピーダンス回路素子を前記回路基板上に搭載してなり、 前記高周波信号端子および該高周波信号端子との間で高
    周波信号が伝達される前記端子電極の両方が、前記受動
    インピーダンス回路素子を介して前記接地電極と直流的
    に接続されていることを特徴とする、請求項1に記載の
    高周波回路基板。
  4. 【請求項4】 前記受動インピーダンス回路素子は、前
    記回路基板および前記半導体素子を構成する材料より誘
    電率の高い誘電体基板に形成されていることを特徴とす
    る、請求項2または3に記載の高周波回路基板。
  5. 【請求項5】 前記半導体素子が前記回路基板上にバン
    プ実装されていることを特徴とする、請求項2ないし4
    のいずれかに記載の高周波回路基板。
  6. 【請求項6】 前記半導体素子の前記高周波信号端子以
    外の端子に静電気保護用ダイオードが設けられているこ
    とを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記載の
    高周波回路基板。
  7. 【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかに記載の高
    周波回路基板を用いてなり、前記回路基板を部品搭載基
    板とし、前記回路基板の前記端子電極を外部端子とした
    ことを特徴とする高周波モジュール。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし6のいずれかに記載の高
    周波回路基板または請求項7に記載の高周波モジュール
    を用いたことを特徴とする電子装置。
  9. 【請求項9】 接地電極と端子電極を有する回路基板
    に、少なくともいずれか一方の端子が前記接地電極と直
    流的に接続される受動インピーダンス回路素子を、一方
    の端子を前記端子電極に接続して搭載する第1の工程
    と、 前記回路基板に、高周波信号端子を有する半導体素子
    を、前記高周波信号端子を前記受動インピーダンス回路
    素子の他方の端子に接続して搭載する第2の工程からな
    ることを特徴とする高周波回路基板の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記受動インピーダンス回路素子およ
    び前記半導体素子が前記回路基板にバンプ実装されるこ
    とを特徴とする、請求項9に記載の高周波回路基板の製
    造方法。
JP2000324080A 2000-10-24 2000-10-24 高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた電子装置 Expired - Lifetime JP3649111B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000324080A JP3649111B2 (ja) 2000-10-24 2000-10-24 高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた電子装置
US09/974,668 US6847275B2 (en) 2000-10-24 2001-10-10 High-frequency circuit board unit, high frequency module using the same unit, electronic apparatus using the same module, and manufacturing method for the high-frequency circuit board unit
GB0124989A GB2372153B (en) 2000-10-24 2001-10-17 High frequency circuit board unit, module and electronic apparatus, and method for manufacturing the unit
DE10152533A DE10152533B4 (de) 2000-10-24 2001-10-24 Hochfrequenz-Schaltungsplatineneinheit, Hochfrequenz-Modul, bei dem die Einheit verwendet ist, elektronische Vorrichtung, bei der das Modul verwendet ist, und Verfahren zur Herstellung der Hochfrequenz-Schaltungsplatineneinheit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000324080A JP3649111B2 (ja) 2000-10-24 2000-10-24 高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた電子装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002134636A true JP2002134636A (ja) 2002-05-10
JP3649111B2 JP3649111B2 (ja) 2005-05-18

Family

ID=18801668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000324080A Expired - Lifetime JP3649111B2 (ja) 2000-10-24 2000-10-24 高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた電子装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6847275B2 (ja)
JP (1) JP3649111B2 (ja)
DE (1) DE10152533B4 (ja)
GB (1) GB2372153B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100713195B1 (ko) * 2003-12-24 2007-05-02 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 고주파모듈 및 그 제조방법
JP2009117453A (ja) * 2007-11-02 2009-05-28 Nec Electronics Corp 半導体パッケージ
JPWO2008041682A1 (ja) * 2006-10-02 2010-02-04 株式会社東芝 半導体装置
JP7451325B2 (ja) 2020-06-29 2024-03-18 株式会社小糸製作所 画像投影装置および車両用灯具

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6143981A (en) 1998-06-24 2000-11-07 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
KR100369393B1 (ko) 2001-03-27 2003-02-05 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지와 그 제조 방법
EP1261130B1 (en) * 2001-05-25 2008-09-17 Kabushiki Kaisha Toshiba High-frequency switching device incorporating an inverter circuit
TW529215B (en) * 2001-08-24 2003-04-21 Inpaq Technology Co Ltd IC carrying substrate with an over voltage protection function
US6873529B2 (en) * 2002-02-26 2005-03-29 Kyocera Corporation High frequency module
TWI299559B (en) * 2002-06-19 2008-08-01 Inpaq Technology Co Ltd Ic substrate with over voltage protection function and method for manufacturing the same
US6936921B2 (en) * 2002-11-11 2005-08-30 Kyocera Corporation High-frequency package
US6828514B2 (en) * 2003-01-30 2004-12-07 Endicott Interconnect Technologies, Inc. High speed circuit board and method for fabrication
US6879287B2 (en) * 2003-05-24 2005-04-12 Agency For Science, Technology And Research Packaged integrated antenna for circular and linear polarizations
US7253517B2 (en) * 2003-10-28 2007-08-07 Raytheon Company Method and apparatus for combining multiple integrated circuits
JP4020853B2 (ja) * 2003-11-04 2007-12-12 沖電気工業株式会社 アンテナ内蔵半導体装置
JP4365750B2 (ja) * 2004-08-20 2009-11-18 ローム株式会社 半導体チップの製造方法、および半導体装置の製造方法
JP4185499B2 (ja) * 2005-02-18 2008-11-26 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP5048230B2 (ja) * 2005-03-30 2012-10-17 オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド 半導体装置およびその製造方法
US20060276157A1 (en) * 2005-06-03 2006-12-07 Chen Zhi N Apparatus and methods for packaging antennas with integrated circuit chips for millimeter wave applications
US7507603B1 (en) 2005-12-02 2009-03-24 Amkor Technology, Inc. Etch singulated semiconductor package
US7968998B1 (en) 2006-06-21 2011-06-28 Amkor Technology, Inc. Side leaded, bottom exposed pad and bottom exposed lead fusion quad flat semiconductor package
US7977774B2 (en) 2007-07-10 2011-07-12 Amkor Technology, Inc. Fusion quad flat semiconductor package
US7956453B1 (en) 2008-01-16 2011-06-07 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with patterning layer and method of making same
US7723852B1 (en) 2008-01-21 2010-05-25 Amkor Technology, Inc. Stacked semiconductor package and method of making same
US8067821B1 (en) 2008-04-10 2011-11-29 Amkor Technology, Inc. Flat semiconductor package with half package molding
US7768135B1 (en) 2008-04-17 2010-08-03 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with fast power-up cycle and method of making same
US7808084B1 (en) 2008-05-06 2010-10-05 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with half-etched locking features
US8125064B1 (en) 2008-07-28 2012-02-28 Amkor Technology, Inc. Increased I/O semiconductor package and method of making same
US8184453B1 (en) 2008-07-31 2012-05-22 Amkor Technology, Inc. Increased capacity semiconductor package
JP2010040894A (ja) * 2008-08-07 2010-02-18 Rohm Co Ltd 半導体装置および半導体装置の製造方法
US7847392B1 (en) 2008-09-30 2010-12-07 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including leadframe with increased I/O
US7989933B1 (en) 2008-10-06 2011-08-02 Amkor Technology, Inc. Increased I/O leadframe and semiconductor device including same
US8008758B1 (en) 2008-10-27 2011-08-30 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with increased I/O leadframe
US8089145B1 (en) 2008-11-17 2012-01-03 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including increased capacity leadframe
US8072050B1 (en) 2008-11-18 2011-12-06 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with increased I/O leadframe including passive device
US7875963B1 (en) 2008-11-21 2011-01-25 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including leadframe having power bars and increased I/O
US7982298B1 (en) 2008-12-03 2011-07-19 Amkor Technology, Inc. Package in package semiconductor device
US8487420B1 (en) 2008-12-08 2013-07-16 Amkor Technology, Inc. Package in package semiconductor device with film over wire
US20170117214A1 (en) 2009-01-05 2017-04-27 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with through-mold via
US8680656B1 (en) 2009-01-05 2014-03-25 Amkor Technology, Inc. Leadframe structure for concentrated photovoltaic receiver package
US8058715B1 (en) 2009-01-09 2011-11-15 Amkor Technology, Inc. Package in package device for RF transceiver module
US8026589B1 (en) 2009-02-23 2011-09-27 Amkor Technology, Inc. Reduced profile stackable semiconductor package
US7960818B1 (en) 2009-03-04 2011-06-14 Amkor Technology, Inc. Conformal shield on punch QFN semiconductor package
US8575742B1 (en) 2009-04-06 2013-11-05 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with increased I/O leadframe including power bars
JP5341717B2 (ja) 2009-11-10 2013-11-13 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体パッケージ及びシステム
US8502735B1 (en) 2009-11-18 2013-08-06 Ball Aerospace & Technologies Corp. Antenna system with integrated circuit package integrated radiators
US9078347B2 (en) * 2010-07-30 2015-07-07 Kyocera Corporation Electronic component housing unit, electronic module, and electronic device
TWI557183B (zh) 2015-12-16 2016-11-11 財團法人工業技術研究院 矽氧烷組成物、以及包含其之光電裝置
US8648450B1 (en) 2011-01-27 2014-02-11 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device including leadframe with a combination of leads and lands
JP2012222725A (ja) * 2011-04-13 2012-11-12 Toshiba Corp アクティブアレイアンテナ装置
US9704725B1 (en) 2012-03-06 2017-07-11 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with leadframe configured to facilitate reduced burr formation
KR101486790B1 (ko) 2013-05-02 2015-01-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 강성보강부를 갖는 마이크로 리드프레임
KR101563911B1 (ko) 2013-10-24 2015-10-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지
EP3063829B1 (en) * 2013-11-01 2019-06-26 Telefonaktiebolaget LM Ericsson (publ) Method and arrangement for board-to-board interconnection
US9673122B2 (en) 2014-05-02 2017-06-06 Amkor Technology, Inc. Micro lead frame structure having reinforcing portions and method
US9960836B2 (en) 2014-05-19 2018-05-01 L-3 Technologies, Inc. Method and system for satellite using multifunctional motherboard
JP2021048558A (ja) * 2019-09-20 2021-03-25 株式会社村田製作所 高周波モジュールおよび通信装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06236937A (ja) 1993-02-10 1994-08-23 Sumitomo Electric Ind Ltd マイクロ波半導体装置用パッケージ
JP2790033B2 (ja) 1993-04-07 1998-08-27 松下電器産業株式会社 半導体装置
US5510758A (en) 1993-04-07 1996-04-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Multilayer microstrip wiring board with a semiconductor device mounted thereon via bumps
ATE180575T1 (de) * 1993-08-09 1999-06-15 Siemens Ag Dopplerradarmodul in mikrostreifenleitungstechnik
JP3120682B2 (ja) * 1995-01-09 2000-12-25 株式会社村田製作所 チップ型フィルタ
JP3663898B2 (ja) * 1997-04-14 2005-06-22 株式会社村田製作所 高周波モジュール
US6043727A (en) * 1998-05-15 2000-03-28 Hughes Electronics Corporation Reconfigurable millimeterwave filter using stubs and stub extensions selectively coupled using voltage actuated micro-electro-mechanical switches
EP1037308A1 (en) * 1999-03-18 2000-09-20 Telefonaktiebolaget Lm Ericsson Electric filter for filtering low frequencies

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100713195B1 (ko) * 2003-12-24 2007-05-02 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 고주파모듈 및 그 제조방법
JPWO2008041682A1 (ja) * 2006-10-02 2010-02-04 株式会社東芝 半導体装置
JP5085552B2 (ja) * 2006-10-02 2012-11-28 株式会社東芝 半導体装置
US8357942B2 (en) 2006-10-02 2013-01-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device with a peripheral circuit formed therein
JP2009117453A (ja) * 2007-11-02 2009-05-28 Nec Electronics Corp 半導体パッケージ
JP7451325B2 (ja) 2020-06-29 2024-03-18 株式会社小糸製作所 画像投影装置および車両用灯具

Also Published As

Publication number Publication date
JP3649111B2 (ja) 2005-05-18
US20020072147A1 (en) 2002-06-13
US6847275B2 (en) 2005-01-25
DE10152533B4 (de) 2013-02-07
GB2372153A (en) 2002-08-14
GB0124989D0 (en) 2001-12-05
DE10152533A1 (de) 2002-07-04
GB2372153B (en) 2005-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3649111B2 (ja) 高周波回路基板およびそれを用いた高周波モジュールおよびそれを用いた電子装置
US11476226B2 (en) Radio-frequency module and communication device
US6456172B1 (en) Multilayered ceramic RF device
US7245884B2 (en) RF module
US7941103B2 (en) Duplexer
US8253483B2 (en) High-frequency switch module
KR100382765B1 (ko) 송수신용 수동소자와 그 집적모듈 및 그 제조방법
US7978031B2 (en) High frequency module provided with power amplifier
CN214123862U (zh) 高频模块和通信装置
US7276992B2 (en) Antenna duplexer and electronic device
EP1426909A1 (en) Data collection method
EP1094538A2 (en) Multilayered ceramic RF device
US6351195B1 (en) High frequency circuit device, antenna-sharing device, and communication apparatus having spaced apart ground electrodes
US7253513B2 (en) High-frequency switch device and electronic device using the same
JP3976297B2 (ja) 高周波回路モジュールおよび通信装置
JPH05167302A (ja) 高周波電力増幅回路装置およびそれを含む高周波モジュール
JP3850325B2 (ja) マイクロ波集積回路
KR100759737B1 (ko) 분파 필터 패키지
US11483023B2 (en) Radio-frequency module and communication device
JPH11330298A (ja) 信号端子付パッケージおよびそれを用いた電子装置
US8797759B2 (en) Electronic module and communication apparatus
JP4399755B2 (ja) 高周波スイッチモジュール
JP2003008343A (ja) 電力増幅装置
US6573809B1 (en) Dielectric resonator device, dielectric duplexer, and communication apparatus incorporating same
JP2001284490A (ja) 高周波接地構造

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040513

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041012

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041213

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041222

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20041222

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050125

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050207

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3649111

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090225

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090225

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100225

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110225

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110225

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120225

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130225

Year of fee payment: 8

EXPY Cancellation because of completion of term