JP2002133731A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の反りを緩和し、品質を向上させること
が可能な光記録媒体の製造方法を提供する。 【解決手段】 光透過膜転写シート原反１０Ｇを巻き返
したのち、所定の時間に渡って放置する。続いて、この
光透過膜転写シート原反１０Ｇから光透過膜転写シート
１０を供給し、基板２０の光情報記録部形成面２０Ｍに
光透過膜１３を張り合わせる。巻き返し工程を行うこと
により、光透過膜１３の反りが緩和するため、光透過膜
１３を張り合わせた際の基板２０の反りも緩和する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録部が形
成された基板に光透過膜が張り合わされ、この光透過膜
側から光情報記録部にレーザ光が照射されることにより
情報の記録または再生が行われる光記録媒体の製造方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光ディスクなどの光記録媒体で
は、光透過性を有するプラスチック基板の一面に、レー
ザ光により読み取り可能な光情報記録部が形成され、こ
の光情報記録部を覆うように保護膜が形成されたものが
知られている。この光記録媒体では、プラスチック基板
側からレーザ光が照射されることにより情報の記録また
は再生が行われる。

【０００３】このような光記録媒体において、記憶容量
の大容量化を考えた場合、レーザ光を透過させるプラス
チック基板の厚みをより薄くする必要がある。しかし、
一般に、プラスチック基板は射出成形により形成される
ため、射出材料（溶融樹脂等）の流動むらなどが生じや
すく、プラスチック基板の厚みを高精度に薄くすること
が困難である。また、光情報記録部は、一般に、プラス
チック基板に形成した凹凸構造領域に反射膜または記録
膜を設けた構造を有しているが、プラスチック基板を薄
くすると、凹凸構造領域を高精度に形成することも困難
となる。

【０００４】そこで、近年では、光情報記録部が形成さ
れたプラスチック基板上に、レーザ光を透過可能な光透
過膜を設け、この光透過膜側からレーザ光を照射するこ
とにより情報の記録または再生を行う光記録媒体が提案
されている。この光記録媒体は、例えば、プラスチック
基板に光透過膜を張り合わせることにより形成される。
この光記録媒体によれば、光透過膜を容易に薄くするこ
とができるため、記憶容量の大容量化も達成することが
できる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラス
チック基板に光透過膜を張り合わせた光記録媒体では、
光透過膜がロール状に巻かれた状態で供給されるため、
光透過膜に巻きぐせ（反り）が存在し、プラスチック基
板が光透過膜の巻きぐせに応じて反ってしまうという問
題があった。プラスチック基板が反っていると、光情報
記録部に対するレーザ光の反射特性がばらつき、情報の
記録または再生を正確に行うことができない。

【０００６】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、基板の反りを緩和し、品質を向上さ
せることが可能な光記録媒体の製造方法を提供すること
にある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の光記録媒体の製
造方法は、光情報記録部が形成された基板に光透過膜を
張り合わせた光記録媒体の製造方法であり、基板に光透
過膜を張り合わせる前に、光透過膜に存在する反りを、
逆方向に湾曲させることにより緩和するようにしたもの
である。

【０００８】本発明の光記録媒体の製造方法では、基板
に光透過膜が張り合わせられる前に、光透過膜に存在す
る反りが逆方向に湾曲させられることにより緩和する。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。

【００１０】［第１の実施の形態］まず、図１〜図５を
参照して、本発明の第１の実施の形態に係る光記録媒体
の製造方法について説明する。

【００１１】図１および図２は本実施の形態における光
記録媒体の製造工程、図３は光記録媒体を製造する際に
用意しておくべき光透過膜転写シート１０の断面構造、
図４は光記録媒体を製造する際に用意しておくべき基板
２０の断面構造、図５はハーフカット処理後の光透過膜
転写シート１０の断面構造をそれぞれ表すものである。
本実施の形態の光記録媒体の製造工程では、光情報記録
部が形成された基板に対して光透過膜が張り合わせられ
る。

【００１２】本実施の形態の光記録媒体の製造工程で
は、まず、前準備として、光透過膜転写シート１０およ
び基板２０を用意する。光透過膜転写シート１０（図３
参照）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート
等よりなる保護膜Ａ１１（約５０μｍ厚）と、光透過性
を有する粘着層１２（約３０μｍ厚）と、ポリカーボネ
ート等よりなる光透過膜１３（約７０μｍ厚）と、ポリ
エチレンテレフタレート等よりなるよりなる保護膜Ｂ１
４（約２５μｍ厚）とがこの順に積層されたものを用意
する。粘着層１２としては、アクリル系粘着剤、例えば
日東電工社製ＤＡ−８３１０，ＤＡ−８３２０（商品
名）等を用いるようにする。光記録媒体の製造工程に
は、例えば、保護膜Ｂ１４が保護膜Ａ１１より内側にな
るように、光透過膜転写シート１０がロール状に巻かれ
た光透過膜転写シート原反１０Ｇを投入する。

【００１３】また、基板２０（図４参照）としては、例
えば、約１．１ｍｍの厚みを有し、ほぼ中央部に貫通部
（センターホール）２１が形成されたプラスチック基板
の一面に任意の情報に対応する光情報記録部２２が形成
されたものを用意する。この光情報記録部２２は、例え
ば、レーザ光の反射特性を利用して情報の記録または再
生を行うことが可能な凹凸構造領域である。

【００１４】次に、上記の前準備が完了したのち、光透
過膜転写シート原反１０Ｇの巻き返し工程（図１参照）
を行う。すなわち、まず、例えば、光透過膜転写シート
原反１０Ｇを装着軸１０１に装着したのち、光透過膜転
写シート１０を巻き返して巻取軸１０２に巻き取る。こ
の巻き返し工程により、巻取軸１０２に巻き取られた光
透過膜転写シート１０の巻き方向は、装着軸１０１に装
着されていた光透過膜転写シート１０の巻き方法と逆に
なる。すなわち、保護膜Ａ１１が保護膜Ｂ１４より巻内
側になる。続いて、例えば、巻き返し工程を行った光透
過膜転写シート原反１０Ｇを常温下において約２４時間
放置する。

【００１５】続いて、基板２０に対する光透過膜１３の
張り合わせ工程（図２参照）を行う。すなわち、まず、
ステージ２０６上に、光情報記録部２２が形成された面
（光情報記録部形成面２０Ｍ）が上を向くように基板２
０を固定する。

【００１６】続いて、例えば、光透過膜転写シート原反
１０Ｇを装着軸２０１に装着したのち、その一端を巻取
軸２０５にて巻き取ることにより光透過膜転写シート１
０を図中の矢印方向に搬送させる。このとき、保護膜Ａ
１１を剥離させ、保護膜Ａ１１を巻取軸２０２にて巻き
取る。

【００１７】続いて、例えば、ハーフカット装置２０３
を稼動させ、光透過膜転写シート１０に対してハーフカ
ット処理を施す。このハーフカット処理により、光透過
膜転写シート１０のうち、粘着層１２および光透過膜１
３のそれぞれの一部が選択的に切断され、転写部分１０
Ｔ（図５参照）が形成される。なお、ハーフカット処理
が完了したのち、光透過膜転写シート１０における転写
部分１０Ｔ以外の領域は剥離され、除去される。これに
より、保護膜Ｂ１４上には転写部分１０Ｔのみが残存す
ることとなる。

【００１８】続いて、例えば、光透過膜転写シート１０
における転写部分１０Ｔが基板２０に対応する位置まで
搬送されたときに、ゴムパッド等よりなる圧着パッド２
０７を下降させ、圧着パッド２０７を用いて光透過膜転
写シート１０を基板２０に圧着する。これにより、転写
部分１０Ｔが基板２０の光情報記録部形成面２０Ｍに張
り合わせられる。続いて、例えば、圧着パッド２０７が
上昇し、転写部分１０Ｔ（光透過膜１３）が保護膜Ｂ１
４から剥離することにより、光透過膜１３が張り合わせ
られた基板２０が形成される。この基板２０は、ステー
ジ２０６から随時取り外され、保管される。

【００１９】なお、上記したハーフカット処理、圧着処
理および基板２０の保管等は、所定の時間間隔ごとに繰
り返し行われる。上記した光記録媒体の製造工程中にお
ける光透過膜転写シート１０の搬送速度やテンションお
よび圧着パッド２０７の押し付け圧力等は、光透過膜転
写シート１０の搬送状況や張り合わせ状況等に応じて自
由に設定可能である。

【００２０】本実施の形態では、基板２０に光透過膜１
５を張り合わせる前に、光透過膜転写シート原反１０Ｇ
の巻き返し工程を行うようにしているので、以下のよう
な理由により、光透過膜１５を張り合わせた際の基板２
０の反りを緩和し、光記録媒体の品質を向上させること
ができる。

【００２１】図６は光透過膜転写シート１０の湾曲状態
を表している。また、図７は巻き返し工程を行わなかっ
た場合（比較例）、図８は巻き返し工程を行った場合
（本実施の形態）における基板２０の反り具合の変化を
それぞれ表すものである。図７および図８において、図
中の「縦軸」は基板２０のＲ−Ｓｋｅｗ（ｄｅｇ）、
「横軸」は基板２０の中心からＲ−Ｓｋｅｗの測定位置
までの距離（半径）ｒ（ｍｍ）をそれぞれ表している。
Ｒ−Ｓｋｅｗとは、基板２０に対し光を照射した際に生
じる反射光の反射角度に基づいて基板２０の反り具合を
測定したものである。図中の「Ｈ」は張り合わせ処理前
の最大値、「Ｉ」は張り合わせ処理前の最小値、「Ｊ」
は張り合わせ処理後の最大値、「Ｋ」は張り合わせ処理
後の最小値をそれぞれ表している。

【００２２】光透過膜転写シート原反１０では、保護膜
Ｂ１４が保護膜Ａ１１より内側になるように光透過膜転
写シート１０が巻かれているため、光透過膜転写シート
１０が保護膜Ｂ１４を内側にするように丸まり、光透過
膜１３は保護膜Ｂ１４側に凹状に湾曲している（図６
（Ａ）参照）。このような場合には、凹状に湾曲した状
態において放置されることにより光透過膜１３が凹状に
反ることとなる。このため、巻き返し工程を行わない比
較例の場合には、光透過膜１３の反りに応じて、光透過
膜１５を張り合わせた基板２０も同様に光透過膜１３側
に凹状に反ってしまう。このことは、図７に示したよう
に、張り合わせ処理後におけるＲ−Ｓｋｅｗ（Ｊ，Ｋ）
の値が張り合わせ処理前のＲ−Ｓｋｅｗ（Ｈ，Ｉ）の値
に対して全域に渡ってシフトしていることから明らかで
ある。基板２０が反ると、光記録媒体に対するレーザ光
の反射特性にばらつきが生じるため、情報の記録特性ま
たは再生特性に係る光記録媒体の品質が劣化してしま
う。

【００２３】これに対して、本実施の形態では、巻き返
し工程を行うことにより、凹状に反った光透過膜転写シ
ート１０が反り方向と逆方向、すなわち保護膜Ａ１１を
内側にするように丸まり、光透過膜１３は保護膜Ｂ１４
側に凸状に湾曲する（図６（Ｂ）参照）。このような場
合には、光透過膜１３を意図的に凸状に湾曲させること
により凹状の反りを緩和させ、光透過膜１５を張り合わ
せた際に基板２０が反ることを緩和させることができ
る。このことは、図８に示したように、張り合わせ処理
後における基板２０のＲ−Ｓｋｅｗ（Ｊ，Ｋ）の値が張
り合わせ処理前におけるＲ−Ｓｋｅｗ（Ｈ，Ｉ）の値と
全域に渡ってほぼ一致していることから明らかである。
基板２０の反りを緩和させることにより、光記録媒体に
対するレーザ光の反射特性が安定し、情報の記録特性ま
たは再生特性に係る光記録媒体の品質が向上する。

【００２４】なお、本実施の形態では、巻き返し工程を
施した光透過膜転写シート原反１０Ｇを常温下において
約２４時間放置させるようにしたが、必ずしもこれに限
られるものではなく、放置時における環境温度および放
置時間は自由に設定可能である。特に、放置時間を長く
することにより、光透過膜１３の反りをより緩和させる
ことができる。また、環境温度を高くする（例えば５０
°Ｃ以上）ことにより、光透過膜１３の反りの緩和現象
を促進させることもできる。ただし、環境温度を高くす
る場合には、光透過膜１３が変質しないような温度範囲
内とする。

【００２５】［第２の実施の形態］次に、図９を参照し
て、本発明の第２の実施の形態に係る光記録媒体の製造
方法について説明する。

【００２６】図９は、本実施の形態の光記録媒体の製造
工程を表すものである。本実施の形態の光記録媒体の製
造工程では、例えば、上記第１の実施の形態の場合と同
様の張り合わせ工程（図２参照）を行う前に、光透過膜
転写シート１０の湾曲工程を行う。すなわち、例えば、
光透過膜転写シート原反１０Ｇから供給された光透過膜
転写シート１０をガイドロール３０１を経由して搬送さ
せる。このとき、光透過膜１３は、光透過膜転写シート
原反１０Ｇ中において生じた反り方向（凹状）と逆方向
（凸状）にガイドロール３０１に沿って湾曲するため、
上記第１の実施の形態における巻き返し工程とほぼ同様
の作用により、光透過膜１３の反りが緩和される。これ
により、光透過膜１３を基板２０に張り合わせた際の基
板２０の反りを緩和させることができる。しかも、本実
施の形態では、上記第１の実施の形態の場合とは異な
り、光透過膜転写シート原反１０Ｇの巻き返し工程およ
び巻き返し処理を施した光透過膜転写シート原反１０Ｇ
放置工程を必要としないので、光記録媒体の製造工程数
を削減し、製造時間を短縮することができる。なお、光
透過膜１３の反りの緩和具合は、光透過膜転写シート１
０のテンション等を調整することにより調整可能であ
る。

【００２７】なお、本実施の形態に係る上記以外の製造
工程、作用、効果および変形例等は、上記第１の実施の
形態の場合と同様である。

【００２８】以上、いくつかの実施の形態を挙げて本発
明を説明したが、本発明はこれらの実施の形態に限定さ
れず、種々の変形が可能である。例えば、上記各実施の
形態では、光透過膜転写シート原反１０Ｇとして、保護
膜Ｂ１４が保護膜Ａ１１より内側になるように光透過膜
転写シート１０が巻かれているものを用いるようにした
が、必ずしもこれに限られるものではなく、保護膜Ｂ１
４が保護膜Ａ１１より外側になるように光透過膜転写シ
ート１０が巻かれているものを用いるようにしてもよ
い。このような場合においても、上記各実施の形態の場
合と同様の効果を得ることができる。

【００２９】また、上記各実施の形態における各工程の
順序は自由に変更可能である。具体的には、上記各実施
の形態では、保護膜Ａ１１を剥離させて巻取軸２０２に
巻き取ったのち、光透過膜転写シート１０にハーフカッ
ト処理を施すようにしたが、必ずしもこれに限られるも
のではなく、例えば、光透過膜転写シート１０にハーフ
カット処理を施したのち、保護膜Ａ１１を剥離させるよ
うにしてもよい。

【００３０】また、上記各実施の形態では、粘着層１２
の構成材料として粘着剤と用いるようにしたが、必ずし
もこれに限られるものではなく、例えば、ドライフォト
ポリマーなどの紫外線硬化型の粘着剤を用いるようにし
てもよい。ドライフォトポリマーとしては、例えば、デ
ュポン社性ＳＵＲＰＨＥＸ（商品面）などが挙げられ
る。

【００３１】また、上記各実施の形態では、粘着層１２
と一体化された光透過膜１３を基板２０に張り合わせる
ようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、
例えば、基板２０の光情報記録部形成面２０Ｍに粘着剤
を塗布したのち、この粘着剤を介して基板２０に光透過
膜１３を張り合わせるようにしてもよい。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし請
求項３のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法に
よれば、基板に光透過膜を張り合わせる前に、光透過膜
に存在する反りを逆方向に湾曲させることにより緩和す
るようにしたので、基板に光透過膜を張り合わせた際の
基板の反りが緩和する。これにより、光記録媒体に対す
るレーザ光の反射特性が安定するため、情報の記録特性
または再生特性に係る光記録媒体の品質を向上させるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る光記録媒体の
製造方法における巻き返し工程を表す図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態に係る光記録媒体の
製造方法における張り合わせ工程を表す図である。

【図３】光透過膜転写シートの断面構造を表す断面図で
ある。

【図４】基板の断面構造を表す断面図である。

【図５】ハーフカット処理後の光透過膜転写シートの断
面構造を表す断面図である。

【図６】光透過膜転写シートの湾曲状態を表す断面図で
ある。

【図７】巻き返し工程を行わない場合における基板の反
り具合の変化を表す図である。

【図８】巻き返し工程を行った場合における基板の反り
具合の変化を表す図である。

【図９】本発明の第２の実施の形態に係る光記録媒の製
造方法における湾曲工程および張り合わせ工程を表す図
である。

【符号の説明】

１０…光透過膜転写シート、１０Ｇ…光透過膜転写シー
ト原反、１０Ｔ…転写部分、１１…保護膜Ａ、１２…粘
着層、１３…光透過膜、１４…保護膜Ｂ、２０…基板、
２０Ｍ…光情報記録部形成面、２１…センターホール、
２２…光情報記録部、２０３…ハーフカット装置、２０
６…ステージ、２０７…圧着パッド、３０１…ガイドロ
ール。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 日野 良宏 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5D121 AA04 FF13 GG30

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光情報記録部が形成された基板に光透過
   膜を張り合わせた光記録媒体の製造方法であって、 前記基板に前記光透過膜を張り合わせる前に、前記光透
   過膜に存在する反りを、逆方向に湾曲させることにより
   緩和することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 前記光透過膜をロール状に巻かれた状態
   で供給し、前記基板と張り合わせる前に、逆向きに巻き
   返すことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造
   方法。
3. 【請求項３】 前記光透過膜をロール状に巻かれた状態
   で供給し、前記基板と張り合わせる前に、ガイドロール
   により巻き方向とは逆向きに湾曲させることを特徴とす
   る請求項１記載の光記録媒体の製造方法。