JP2002118087A

JP2002118087A - 紫外線照査装置

Info

Publication number: JP2002118087A
Application number: JP2001195964A
Authority: JP
Inventors: Seok Park Yong; セオクパークヨン; Lyul Han Jum; リュルハンジュム
Original assignee: DMS Co Ltd
Current assignee: DMS Co Ltd
Priority date: 2000-06-29
Filing date: 2001-06-28
Publication date: 2002-04-19
Also published as: CN1162894C; CN1343001A; TW495822B

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】構造を単純にして照射均一度を高め、汚染物の
除去速度を高上した紫外線照査装置を提供する。【解決手段】紫外線照査装置１００は、片側にガス供給
部１０３ａ及び真空排気１０３ｂが形成された真空チェ
ンバ１０３と、前記真空チェンバ１０３の上側に形成さ
れ基板１０５の表面に紫外線光を放出する光源１０７
と、前記基板１０５を保持する支持台１０９と、制御部
からなり、前記チェンバ内部が３６０〜１ミリトールの
低真空状態で前記光源１０７からの紫外線光が基板表面
に照査される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線照査装置に
関するものであり、特に、低真空雰囲気下で半導体用ウ
エハーまたは平板ディスプレイ用ガラス基板表面の表面
改質または汚染を除去する紫外線照査装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】半導体またはディスプレイ装置の場合、
ライン及び工程処理上において発生す有機物の処理能力
によって収率に及ぼす響が大きく成る。このため、有機
物処理は、非常に重要な工程中の一つであり、近来,こ
のような要求に応じて前記ウエハーまたはガラス基板表
面上に紫外線光を照査して前記有機物を処理する紫外線
照査装置が登場することになった。

【０００３】図1は、半導体用ウエハーまたは平板ディ
スプレイ用ガラス基板上の有機物を処理する一般的な紫
外線照査装置の概略的な構成を示す図面であり、図示さ
れているとおり、従来の紫外線照査装置(10)は,ランプ
ハウジング(21)内における多数の紫外線ランプ(9)と,前
記紫外線ランプ(9)から発生した紫外線を透過する石英
窓(25)と,半導体ウエハーまたは表示装置用ガラス基板
のような基板を乗降させる乗降場値(27)と,図面に示
していない制御部などからなる。

【０００４】以下、前記紫外線照査装置を利用して表示
素子用ガラス基板に紫外線を照査する工程を概略的に説
明する。

【０００５】まず、外部の移送器具(図示せず)によりウ
エハーまたはガラス基板のような基板(29)が真空チェン
バ(7)の内部に引入され、基板乗降装置(27)に安着され
る。

【０００６】引続き、基板(29)は、基板乗降装置(27)に
よりランプ(9)から所定距離離隔される。また、ランプ
(9)から紫外線が照査されると、発生した紫外線は石英
窓(25)から基板(29)の表面に照査される。

【０００７】このような従来の紫外線照査装置は、ラン
プの効率を最大化するための方案であり、ランプ数の増
大とともにチェンバの密閉によるを通したチェンバ内の
オゾン雰囲気の極大化などを図った。しかし、ウエハー
またはガラス基板などの基板乗降のための乗降機構及び
石英窓の存在のため構造的に複雑であったし、このよう
な構造による器具的対応により装置の投資額が増加する
という問題があった。

【０００８】また、このような紫外線照査装置を大面積
のガラス基板等に適用した場合、これと相応して大面積
の石英窓が必要となるが、その製造が非常に難しいとい
う問題点があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
技術の問題点を解決するために案出されたものであり、
本発明の目的は、従来紫外線照査装置において、基板乗
降機構と石英窓が省略された構造であるため、単純構造
の紫外線照査装置を提供し、これを利用して低真空雰囲
気下で光照査することにより照査均一度及び汚染物の除
去速度を高めたものである。

【００１０】本発明の他の目的は、既存の紫外線照査装
置において、固定されている光源を駆動させ、全体照査
面積を左右駆動型で採択することによって、消耗品であ
る高の光源水を大幅減少させ、維持補修費を節減すると
ともに石英窓は非駆動式の一体固定形態に構成すること
によって、基板上に落ちる埃を防止し、処理室内部を陽
圧雰囲気にさせる紫外線照査装置を提供することであ
る。

【００１１】前記の本発明の目的を達成するために本発
明による紫外線照査装置は、片側にガス供給部及び真空
排気口が形成された真空チェンバと、チェンバの上側に
形成されてウエハーまたはガラス基板のような基板の表
面で紫外線光を放出する光源と、前記基板を保持する支
持台及び図示していな制御部から構成されることを特徴
とする。

【００１２】また、本発明の他の目的を達成するために
本発明による紫外線照査装置は、基板を上下に駆動させ
るための上下駆動部と、その上に形成された処理室と、
前記処理実上部に形成された石英窓及び光源部を備えた
紫外線照査装置において、石英窓は基板照査領域の全体
にわたり縫合処理されて設置され、この石英窓にハウジ
ングが固定され、密閉空間を形成し、この密閉空間内に
は基板の一部分にわたり基板を照査する光源と、この光
源を駆動するための駆動源が設置され、光源を基板の左
右に駆動できるように構成されたことを特徴とする。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の望ましい実施例を
図面を参照して詳細に説明する。

【００１４】図2は、本発明の一実施例による紫外線照
査装置の概略的な構成を示す図面であり、本発明による
紫外線照査装置(100)は、片側にガス供給部(103a)及び
真空排気口(103b)が形成された真空チェンバ(103)と、
チェンバ(103)の上側に形成されてウエハーまたはガラ
ス基板のような基板(105)の表面から紫外線光を放出す
る光源(107)と、前記基板(105)を保持する支持台(109)
及び図面されていない制御部などからなる。

【００１５】以下、本発明による紫外線照査装置を利用
して平板ディスプレイ用ガラス基板に紫外線を照査する
工程について説明する。

【００１６】まず、外部の移送器具(図示省略)によりウ
エハーまたはガラス基板のような基板(105)がチェンバ
(103)内部に引入され、支持台(109)上に安着される。

【００１７】その後、真空排気口(103b)からの内部空気
の排気によりチェンバ(103)は真空状態となり、次いで
ガス供給区(103a)からO2ガスが注入され。この時、チェ
ンバ(103)内部は、360〜1ミリトール(Torr)の低真空状
態を保持するが、さらに大気圧で最大1ミリトール内で
圧力を連続的に変化させることも可能である。

【００１８】引続き、紫外線ランプのような光源(107)
に光源駆動用電源(図示省略)がターンオンされると、図
面の矢印方向に紫外線光が放出され基板(105)の表面に
照査される。

【００１９】所望の照査が完了した後、基板(105)は次
工程のために支持台(109)から離脱し、チェンバ(103)の
外部に排出される。

【００２０】図3は、本発明の他の実施例による紫外線
照査装置を示す図面であり、本発明による紫外線照査装
置は、基板(10)を上下に駆動させるための上下駆動部(1
1)と、その上に形成された処理室(12)を備え、処理室の
上部で基板(10)をカバーする全体領域にわたり縫合処理
され配置された石英窓(13)には側壁(14)と上壁(15)を備
えたハウジング(16)が固定され光源部(17)を形成するこ
とによって、光源部が密閉構造からなる。

【００２１】前記光源部(17)内には基板(10)を照査する
ための光源(18)が数個(図示例では3個)配置され、駆動
板(19)を介して光源(18)を駆動するための駆動源(20）
が配置されている。

【００２２】駆動源としては、一般的にサーボモモータ
ーを用い、ハウジング(16)の両側壁にわたり設けられる
スクリュー軸(23)とサーボモーターの出力軸を連結し、
光源に連結された接続構造がスクリュー軸(23)と結合す
ることによって、モーターが回転するとば光源がスクリ
ュー軸に沿って移動する構造からなっている。さら
に、サーボモーターの回転数を制御することによって光
源の駆動速度を可変的することができにでき、また駆動
回数を2回以上繰り返すこともできる。しかし、また駆
動源としては前述したサーボモーターの代りに油圧装
置、例えば、シリンダーとピストン装置を使用して光源
を駆動することもできる。

【００２３】本発明による紫外線照査装置においては、
光源部が密閉構造に形成されているため、光源部(ラン
プハウス)に窒素注入部(21)を直接設置することによっ
て、光源部を窒素雰囲気させるのに効果的であり、窒素
はその低い温度により光源部から発生する熱を冷却させ
る冷却効果を持つとともに紫外線の直進性を助ける役割
をするので、このように、光源部が窒素雰囲気に形成さ
れることによって、出光効率を高めることができる。

【００２４】本発明において、光源部に設けられる窒素
注入部(21)は、光源部の側面、即ち、ハウジング(16)の
側壁(14)に設置することが望ましい。

【００２５】前記窒素注入部(21)から光源部内の窒素噴
射を光源側面で光源に向けて直接噴射する方式を採択す
ることによって、実際に窒素雰囲気が必要とする光源周
辺領域の窒素密度を少ない量の窒素で形成させることに
より、消耗される窒素の量を減らすことができ、光源部
内部の窒素設定圧力を下げることができる。

【００２６】また、光源部が密閉構造で形成されること
により、光源部を周囲より高い圧力に保持することによ
り、即ち、光源部を陽圧に保持することにより、埃が光
源部内に流入することを圧力差により防止することがで
きる。

【００２７】また、本発明によると、石英窓(13)に固定
されたハウジング(16)により光源部が密閉構造で形成さ
れ、ハウジングの上壁が反射板として機能するところ、
この上壁に直接冷却水流路を形成することによって、冷
却効率を高めることができる。また、図3に示されてい
るとおり、光源(18)と駆動源(20）を連結する駆動板(1
9)に冷却水流路(22)を形成することができる。

【００２８】

【発明の効果】本発明によると、一般的な紫外線照査装
置において、基板乗降機構と石英窓が省略された構造で
あるため、構造が簡単な紫外線照査装置を低価で提供す
ることができ、低真空雰囲気下で光照査することにより
照査均一度及び汚染物の除去速度を高めることが可能
だ。

【００２９】また、石英分離板が一体に固定されてお
り、て光源部のみを駆動する方式で構成することによっ
て、必要とされる高価の光源の水が少ないため、製造及
び維持補修の費用を節減することができ、処理室の内部
を陽圧に保持することにより、埃の流入及び石英窓の緩
みを防止できるとともに、光源周辺に窒素を直接噴射す
ることにより、光源部を容易に窒素雰囲気に形成し、少
ない量の窒素で光源を冷却し、出光効率を増大させるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、半導体装置またはディスプレイ装置の
製造に利用される一般的な紫外線照査装置の概略的な構
成を示す図である。

【図２】図２は、本発明の一実施例による紫外線照査装
置の概略的な構成を示す図である。

【図３】図３は、本発明の他の実施例による紫外線照査
装置を示す図である。

【符号の説明】

1,10,29,105 基板 2,11 上下駆動部 3,12 処理実 4,13,25 石英窓 5,18,107 光源 6,17 光源部 14 側壁 15 上壁 16 ハウジング 19 駆動板 20 駆動源 21 窒素注入部 22 冷却水流路 10,100 紫外線照査装置 7,103 真空チェンバ 103a ガス供給部 103b 真空排気口 109 支持台

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 501259204 1009−１，Ｙｏｕｎｇｔｏｎｇ−ｄｏｎｇ，Ｐａｌｄａｌ−ｋｕ，Ｓｕｗｏｎ −ｓｈｉ，Ｋｙｕｎｇｋｉ−ｄｏ，Ｋｏｒｅａ (72)発明者ジュムリュルハン大韓民国キュンキ−ドオサン−シウォン−ドンドンガアパートメント 105−1503 Ｆターム(参考） 3B116 AA02 AA03 AB42 BC01 CD11 5G435 AA11 AA17 KK05 KK10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウエハーまたはガラス基板のような基板
の表面有機物を除去するための紫外線照査装置におい
て、片側にガス供給部及び真空排気口が形成された真空チェ
ンバと、前記真空チェンバの上側に形成されて前記基板
の表面から紫外線光を放出する光源と、前記基板を保持する支持台と、制御部からなり、前記チェンバ内部が360〜1ミリトールの低真空状態で前
記光源からの紫外線光が基板表面に照査されることを特
徴とする紫外線照査装置。
【請求項２】前記チェンバ内部の真空状態が大気圧で
最大1ミリトール内で連続的な圧力変化を起こすことを
特徴とする請求項第１項に記載の紫外線照査装置。
【請求項３】基板を上下に駆動させるための上下駆動
部と、の上に形成された処理室と、前記処理室の上部に
形成された石英窓及び光源部を備えた紫外線照査装置に
おいて、前記石英窓は基板照査領域の全体にわたり縫合処理され
て設置され、この石英窓にハウジングが固定されて密閉
空間を形成し、この密閉空間内には前記基板の一部分に
わたり前記基板を照査する光源と、この光源を駆動する
ための駆動源が設置され、光源を基板の左右に駆動でき
るように構成されたことを特徴とする紫外線照査装置。
【請求項４】前記ハウジングの側壁に窒素注入部が設
置されたことを特徴とする請求項第３項に記載の紫外線
照査装置。
【請求項５】反射板として機能する前記ハウジングの
上壁または前記駆動源と光源を連結する駆動板に冷却流
路が直接形成されていることを特徴とする請求項第３項
または第４項に記載の紫外線照査装置。
【請求項６】前記駆動源がサーボモーターからなり、
このサーボモーターの出力軸に連結されたスクリュー軸
が前記ハウジングの両側壁にわたり配置され、このスク
リュー軸に沿って、前記光源が移動し、また前記サーボ
モーターを制御して光源の移動速度を可変したり、駆動
を２回以上繰り返すことができることを特徴とする請求
項第３項または第４項に記載の紫外線照査装置。
【請求項７】前記駆動源が、シリンダー及びピストン
器具を備えた油圧装置からなることを特徴とする請求項
第３項または第４項に記載の紫外線照査装置。