KR20010034992A - 자외선 조사장치 - Google Patents

Abstract

자외선 조사장치는 일측에 가스공급부 및 진공 배기구가 형성된 진공챔버와, 상기 진공챔버의 상측에 형성되어 상기 피조사물의 표면으로 자외선 광을 방출하는 자외선 광원과, 상기 피조사물을 유지하는 지지대와, 제어부를 포함하여 이루어지고, 상기 챔버 내부가 360∼1밀리 토르의 저진공 상태에서 상기 자외선 광원으로부터의 자외선 광이 피조사물 표면에 조사된다.

Description

자외선 조사장치{APPARATUS IRRADIATING ULTRAVIOLET LIGHT}

본 발명은 자외선 조사장치에 관한 것으로, 특히 저진공 분위기하에서 반도체용 웨이퍼 또는 평판 디스플레이용 유리기판 표면의 표면개질 또는 오염을 제거하는 자외선 조사장치에 관한 것이다.

반도체 또는 디스플레이 장치의 경우 라인 및 공정 처리 상에서 발생되는 유기물의 처리 능력에 따라 수율에 지대한 영향을 미치게 된다. 이러한 이유로 유기물 처리는 매우 중요한 공정 중의 하나이고, 근래, 그러한 요구에 부응하여 상기 웨이퍼 또는 유리기판 표면 상에 자외선 광을 조사하여 상기 유기물을 처리하는 자외선 조사장치가 등장하게 되었다.

도 1은 반도체용 웨이퍼 또는 평판 디스플레이용 유리기판 상의 유기물을 처리하는 일반적인 자외선 조사장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면으로서, 도시하는 바와 같이, 종래의 자외선 조사장치(10)는, 램프하우징(21) 내의 다수의 자외선 램프(23)와, 상기 자외선 램프(23)로 부터 발생된 자외선을 투과하는 석영창(25)과, 반도체 웨이퍼 또는 표시장치용 유리기판과 같은 피조사물을 승강시키는 승강장치(27)와, 도면으로 나타내지 않은 제어부 등을 포함하여 이루어진다.

이하, 상기 자외선 조사장치를 이용하여 표시소자용 유리기판에 자외선을 조사하는 공정을 개략적으로 알아본다.

먼저, 외부의 이송기구(도시하지 않음)에 의해 웨이퍼 또는 유리기판과 같은 피조사물(29)이 진공챔버(20) 내부로 인입되어 피조사물 승강장치(27)에 안착된다.

계속해서, 피조사물(29)은 피조사물 승강장치(27)에 의해 램프(23)로 부터 소정 거리 이격된다. 그리고, 램프(23)를 통해 자외선이 조사되면 발생된 자외선은 석영창(25)을 통하여 피조사물(29)의 표면에 조사된다.

이러한 종래의 자외선 조사장치는 램프의 효율을 최대화하기 위한 방안으로 램프수의 증대와 더불어 챔버의 밀폐를 통한 챔버 내의 오존 분위기 극대화 등을 도모하였다. 그러나, 웨이퍼 또는 유리기판 등의 피조사물 승강을 위한 승강기구 및 석영창의 존재에 의해 구조적으로 복잡하였고, 이러한 구조에 따른 기구적 대응에 의해 장치 투자비가 증가한다는 문제점이 있었다.

또한, 이러한 자외선 조사장치를 대면적의 유리기판 등에 적용할 경우 이와 상응하여 대면적의 석영창이 필요하게 되나 이의 제조가 매우 까다롭다라는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 종래 자외선 조사장치에서 피조사물 승강기구와 석영창이 생략된 구조를 취하므로써 단순 구조의 자외선 조사장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 저진공 분위기하에서 광조사하므로써 조사 균일도 및 오염물의 제거속도를 높이는 것이다.

상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 자외선 조사장치에서는 진공챔버, 자외선 광원, 가스공급부, 및 제어부 등의 간단한 구성만으로 이루어진다.

도 1은 반도체 장치 또는 디스플레이 장치의 제조에 이용되는 일반적인 자외선 조사장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면.

도 2는 본 발명에 따른 자외선 조사장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉

100 ----- 자외선 조사장치 103 ----- 진공챔버

103a ----- 가스공급부 103b ----- 진공배기구

105 ----- 피조사물 107 ----- 자외선 광원

109 ----- 지지대

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 자외선 조사장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면으로서, 본 발명에 따른 자외선 조사장치(100)는 일측에 가스공급부(103a) 및 진공 배기구(103b)가 형성된 진공챔버(103)와, 챔버(103)의 상측에 형성되어 웨이퍼 또는 유리기판과 같은 피조사물(105)의 표면으로 자외선 광을 방출하는 자외선 광원(107)과, 상기 피조사물(105)을 유지하는 지지대(109) 및 도면으로 나타내지 않은 제어부 등을 포함하여 이루어진다.

이하, 본 발명에 따른 자외선 조사장치를 이용하여 평판 디스플레이용 유리기판에 자외선을 조사하는 공정을 알아본다.

먼저, 외부의 이송기구(도시하지 않음)에 의해 웨이퍼 또는 유리기판과 같은 피조사물(105)이 챔버(103) 내부로 인입되어 지지대(109) 상에 안착된다.

그후, 진공배기구(103b)를 통한 내부 공기의 배기에 의해 챔버(103)는 진공상태가 되고, 이어서 가스공급부(103a)를 통해 O₂가스가 주입된다. 이때, 챔버(103) 내부는 360∼1밀리 토르(Torr)의 저진공 상태를 유지하는데, 더욱 대기압에서 최대 1밀리 토르 내에서 압력을 연속적으로 변화시키는 것도 가능하다.

계속해서, 자외선 램프와 같은 자외선 광원(107)에 광원 구동용 전원(도시하지 않음)이 턴온되면 도면의 화살표 방향으로 자외선 광이 방출되어 피조사물(105)의 표면에 조사된다.

소망의 조사가 완료된 후, 피조사물(105)은 다음 공정을 위하여 지지대(109)로부터 이탈되어 챔버(103) 외부로 배출된다.

본 발명에 따르면, 일반적인 자외선 조사장치에서 피조사물 승강기구와 석영창 생략된 구조를 취하므로써 구조가 간단한 자외선 조사장치를 저가로 구현할 수 있다.

또한, 저진공 분위기하에서 광조사하므로써 조사 균일도 및 오염물의 제거속도를 높이는 것이 가능하다.

Claims (2)

1. 웨이퍼 또는 유리기판과 같은 피조사물의 표면 유기물을 제거하기 위한 자외선 조사장치에 있어서,

   일측에 가스공급부 및 진공 배기구가 형성된 진공챔버와,

   상기 진공챔버의 상측에 형성되어 상기 피조사물의 표면으로 자외선 광을 방출하는 자외선 광원과,

   상기 피조사물을 유지하는 지지대와,

   제어부를 포함하여 이루어지고,

   상기 챔버 내부가 360∼1밀리 토르의 저진공 상태에서 상기 자외선 광원으로부터의 자외선 광이 피조사물 표면에 조사되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 챔버 내부의 진공 상태가 대기압에서 최대 1밀리 토르 내에서 연속적인 압력 변화를 일으키는 것을 특징으로 하는 자외선 조사장치.