JP2002114836A - 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 - Google Patents
硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板Info
- Publication number
- JP2002114836A JP2002114836A JP2000308707A JP2000308707A JP2002114836A JP 2002114836 A JP2002114836 A JP 2002114836A JP 2000308707 A JP2000308707 A JP 2000308707A JP 2000308707 A JP2000308707 A JP 2000308707A JP 2002114836 A JP2002114836 A JP 2002114836A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- epoxy resin
- curable resin
- circuit board
- skeleton
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
性に優れた金属ベ−ス回路基板を提供する。 【解決手段】エポキシ樹脂、ポリエーテル骨格を有し、
主鎖の末端に1級アミン基を有する硬化剤、ウレイド基
及び/又はメルカプト基を有するシランカップリング
剤、及び無機充填剤を必須成分とする硬化性樹脂組成物
と、それを用いた金属ベース回路基板。
Description
れ、しかも絶縁信頼性及び放熱性に優れた金属ベ−ス回
路基板とそれに用いて好適な硬化性樹脂組成物に関す
る。
填したエポキシ樹脂等からなる絶縁層を設け、その上に
導電回路を配設した金属ベース回路基板が、熱放散性に
優れることから高発熱性電子部品を実装する回路基板と
して用いられている。
化、省スペ−ス化と共に電子機器をエンジンル−ム内に
設置することが要望されている。エンジンル−ム内は温
度が高く、温度変化が大きいなど過酷な環境であり、放
熱面積の大きな基板が必要とされる。このような用途に
対して、放熱性に優れる前記金属ベ−ス回路基板が注目
されている。
経済的な理由からアルミニウム板を用いることが多い
が、実使用下で加熱/冷却が繰り返されると、前記アル
ミニウム板と電子部品、特にチップ部品との熱膨張率の
差に起因して大きな熱応力が発生し、部品を固定してい
る半田部分或いはその近傍にクラックが発生するなど電
気的信頼性が低下するという問題点がある。
層を熱伝導性が高く、低弾性率にして、さらに高レベル
の耐熱性、耐湿性を有することが必要であり、出願人は
特願平2000−200598号において、特定のエポ
キシ硬化剤を使用する技術を開示したいるものの、耐湿
性、特に高温高湿雰囲気下に放置後の絶縁抵抗の低下に
ついて、更なる改良が望まれている。
に鑑みてなされたものであり、低弾性率で、接着性、耐
熱性に優れ、更に硬化体の耐湿性が一層改善された硬化
性樹脂組成物を提供すること、更に、金属板と導電回路
との密着性が優れ、応力緩和性に優れ、急激な加熱/冷
却を受けても半田或いはその近傍でクラック発生等の異
常を生じない、耐熱性、耐湿性及び放熱性に優れる金属
ベ−ス回路基板を提供することを目的とする。
シ樹脂、(2)ポリエーテル骨格を有し、主鎖の末端に
1級アミン基を有する硬化剤、(3)ウレイド基及び/
又はメルカプト基を有するシランカップリング剤、及び
(4)無機充填剤を必須成分とする硬化性樹脂組成物で
ある。
ロペンタジエン骨格を持つエポキシ樹脂、ナフタレン骨
格を持つエポキシ樹脂、ビフェニル骨格を持つエポキシ
樹脂及びノボラック骨格を持つエポキシ樹脂から選ばれ
た1種以上を全エポキシ樹脂中10質量パーセント以上
含むことを特徴とする前記の硬化性樹脂組成物であり、
更に好ましくは、硬化後の貯蔵弾性率が300Kで15
000MPa以下であることを特徴とする前記の硬化性
樹脂組成物である。
主面に絶縁層を介して回路を設けてなる金属ベース回路
基板であって、前記絶縁層が前記の硬化性樹脂組成物の
硬化体からなることを特徴とする金属ベース回路基板で
ある。
物は、(1)エポキシ樹脂、(2)ポリエーテル骨格を
有し、主鎖の末端に1級アミン基を有する硬化剤、
(3)ウレイド基及び/又はメルカプト基を有するシラ
ンカップリング剤、及び(4)無機充填剤を組み合わせ
た組成を有することにより、応力緩和性、電気絶縁性、
放熱性、耐熱性、耐湿性のいずれにも優れた硬化物を提
供することができる。
型エポキシ樹脂やビスフェノールA型エポキシ樹脂等の
汎用のエポキシ樹脂を用いることができるが、ジシクロ
ペンタジエン骨格を持つエポキシ樹脂、ナフタレン骨格
を持つエポキシ樹脂、ビフェニル骨格を持つエポキシ樹
脂及びノボラック骨格を持つエポキシ樹脂から選ばれた
1種以上を、全エポキシ樹脂中10質量パーセント以上
含むと、応力緩和性と耐湿性のバランスが更に向上する
ので好ましい。
脂には、フェノールノボラック型エポキシ樹脂やクレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂があるが、ジシクロペン
タジエン骨格、ナフタレン骨格またはビフェニル骨格と
ノボラック骨格を併せ持つエポキシ樹脂を用いることも
できる。エポキシ樹脂として、上記の骨格を持つエポキ
シ樹脂を単独で使用してもかまわない。
て、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂
やフェノキシ樹脂、アクリルゴム、アクリロニトリル−
ブタジエンゴム等の高分子量樹脂を配合してもよいが、
応力緩和性、電気絶縁性、耐熱性、耐湿性のバランスを
考慮すると、上記高分子量樹脂の配合量はエポキシ樹脂
との合計量に対して30質量パーセント以下であること
が好ましい。
格を有し、主鎖の末端に1級アミン基を有する硬化剤
を、硬化後の樹脂組成物の貯蔵弾性率を下げるために使
用するが、他の硬化剤と併用することができるし、ポリ
エーテル骨格を有し、主鎖の末端に1級アミン基を有す
る硬化剤同士の中で2種以上を混合使用することもでき
る。また、芳香族アミン系硬化剤を併用すると、応力緩
和性、電気絶縁性、耐湿性等のバランスを更に好適にす
ることができ、このような芳香族アミン系硬化剤として
は、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルス
ルフォン、メタフェニレンジアミン等が使用できる。更
に、フェノールノボラック樹脂等の硬化剤を更に併用す
ることもできる。尚、硬化剤の添加量としては、エポキ
シ当量に見合う量の活性水素当量が望ましい。
γグリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニ
カ社A−187)等がエポキシ樹脂によく用いられてい
るが、これを用いた硬化体の環境(高温多湿)試験後の
絶縁信頼性が必ずしも十分ではない。本発明において
は、ウレイド基及び/又はメルカプト基を有するシラン
カップリング剤を選択することで、前記欠点の改善を図
ることができる。ウレイド基を有するシランカップリン
グ剤としては、γウレイドプロピルトリエトキシシラン
(日本ユニカA−1160)等、メルカプト基を有する
シランカップリング剤としては、γメルカプトプロピル
トリメトキシシラン(日本ユニカ社A−189)等が例示
される。使用量としては無機充填剤の1質量パーセント
程度を加えれば良い。 尚、本発明の硬化性樹脂組成物
の作製にあたり、シランカップリング剤は予め無機充填
剤を処理するようにしても、或いは硬化性樹脂組成物を
配合・混合する際に添加しても構わない。
が良好で、しかも高熱伝導率のものが用いられ、このよ
うなものとして酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、
窒化珪素、窒化ホウ素、シリカ(酸化珪素)等があり、
単独系でも混合系でも用いることができる。これらのう
ち、酸化アルミニウムは粒子形状が球状で高充填可能な
ものが安価に、容易に入手できるという理由で好まし
い。使用量としては全組成物の40〜90体積%程度で
ある。
後の貯蔵弾性率は、300Kで15000MPa以下で
あることが好ましい。15000MPa以上だと、応力
緩和性に優れる金属ベース回路基板が得難くなり、本発
明の目的を達成できないことがある。一方、あまりに貯
蔵弾性率が小さいと、外力が加わった時に変形して、絶
縁信頼性が損なわれることがあることから、300Kで
100MPa以上であることが好ましい。
に適用する場合、前記樹脂組成物が硬化して形成される
絶縁層の厚みは、応力緩和性、放熱性、絶縁信頼性、生
産性等を考慮して決められるが、通常は50〜150μ
m程度である。
アルミニウム、ニッケル、鉄、錫、銀、チタニウムのい
ずれか、これらの金属を2種類以上含む合金、或いは前
記金属又は合金を使用したクラッド箔等を用いることが
できる。尚、前記箔の製造方法は電解法でも圧延法で作
製したものでもよく、箔上にはNiメッキ、Ni−Au
メッキ、半田メッキなどの金属メッキがほどこされてい
てもかまわないが、絶縁層との接着性の点から回路の絶
縁層に接する側の表面はエッチングやメッキ等により予
め粗化処理されていることが一層好ましい。
金属板は、アルミニウム、鉄、銅およびそれらの合金、
もしくはこれらのクラッド材等からなり、その厚みは特
に規定するものではない。しかし、熱放散性に富みしか
も経済的であることから、0.5〜5.0mmのアルミ
ニウムが好ましく選択される。
法に関しては、前記硬化性樹脂組成物に適宜消泡剤やレ
ベリング剤等の添加剤を添加した材料を、金属板及び/
又は導体箔上に塗布し、導体箔又は金属板を重ねた後に
十分に硬化させ、その後導体箔より回路形成する方法、
或いは予め絶縁材料からなるシ−トを作製しておき、前
記シートを介して金属板と導体箔を張り合わせ回路形成
する方法、或いは前記方法に於いて導体箔に変えて予め
回路形成されている導体回路を直接に用いる方法等の従
来公知の方法で得ることができる。
に説明する。
ールF型エポキシ樹脂(エピコート807:エポキシ当
量=173、油化シェルエポキシ株式会社製)100質
量部、シランカップリング剤、γ−ウレイドプロピルト
リエトキシシラン(A−1160:日本ユニカー株式会
社製)5質量部、無機フィラーとして平均粒径5μmの
アルミナ(AS−50:昭和電工株式会社製)500質
量部を、万能混合攪拌機で混合し、これに硬化剤として
ポリオキシプロピレンアミン(ジェファーミンT−40
3:テキサコケミカル社製)25質量部、ポリオキシプ
ロピレンアミン(ジェファーミンD2000:テキサコ
ケミカル社製)20質量部を配合、混合した。
ム板上に硬化後の絶縁層の厚みが100μmになるよう
に塗布し、Bステージ状態に予備硬化させ、ラミネータ
ーで厚さ70μmの電解銅箔を張り合わせ、その後80
℃×2時間+150℃×3時間アフターキュアを行い絶
縁層付き銅箔基板を作製し、更に、銅箔をエッチングし
てパッド部を有する所望の回路を形成して、金属ベース
回路基板とした。また、前記樹脂組成物を80℃×2時
間+150℃×3時間硬化させて、厚さ約100μm幅
約3mm長さ約50mmの硬化体の試験片を別途作製
し、貯蔵弾性率の測定に供した。
器(レオメトリックス社製;RSA2)を用い、周波数
11Hz、昇温速度10℃/分の条件下、−50℃〜+
150℃の温度範囲で貯蔵弾性率を測定した。300K
での貯蔵弾性率測定結果を表1に示した。又、金属ベ−
ス基板について耐電圧及び銅箔ピール強度測定と、金属
ベース回路基板についてヒ−トサイクル試験を次に示す
条件で測定し、その測定結果も表1に示した。
度100%、気圧2026HPaのプレッシャークッカ
ーテスターにて96時間処理後と処理前の試験片を絶縁
油中に浸漬し、室温で銅箔とアルミニウム板間に交流電
圧を印加し、絶縁破壊する電圧を測定した。初期印加電
圧は0.5kVであり、各電圧で30秒間保持した後、
0.5kVずつ段階的に昇圧する方法で印加した。
DC、金属板と回路との間について、アドバンテスト社
製R8340型で測定した。1GΩ以上を良好と判定し
た。
(オリエンテック社製;型式UCT−1T)を用い、1
cm幅で90°の方向に室温で50mm/分の速度で剥
離した時の強度を求めた。
ップサイズ2.0mm×1.25mmのチップ抵抗を半
田付けし、−40℃7分〜+125℃7分を1サイクル
として500回のヒートサイクル試験を行なった後、顕
微鏡で半田部分のクラックの有無を観察した。半田部分
のクラックの発生が10%以上あるものは不良とし、半
田クラックの発生が10%未満のものを良好と判定し
た。
て、γメルカプトプロピルメトキシシラン(A−18
9:日本ユニカー株式会社製)を5質量部に変えたこと
以外は実施例1と同様に試験した。
て、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン(A−1
160:日本ユニカー株式会社製)2.5質量部、及び
γメルカプトプロピルメトキシシラン(A−189:日
本ユニカー株式会社製)を2.5質量部を用いた他は、
実施例1と同様に試験した。
て、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン(A−1
160:日本ユニカー株式会社製)4質量部、及びγメ
ルカプトプロピルメトキシシラン(A−189:日本ユ
ニカー株式会社製)を1質量部を用いた他は、実施例1
と同様に試験した。
て、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン(A−1
160:日本ユニカー株式会社製)1質量部、及びγメ
ルカプトプロピルメトキシシラン(A−189:日本ユ
ニカー株式会社製)を4質量部を用いた他は、実施例1
と同様に試験した。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(A−1
87:日本ユニカー株式会社製)5質量部、を用いたこ
と以外は実施例1と同様に試験した。
ース回路基板はPCT処理後の耐電圧並びに絶縁抵抗が
低いのに対して、実施例1〜5の金属ベース回路基板
は、貯蔵弾性率が低く、ヒートサイクル試験結果も良好
であり、PCT処理後の耐電圧、絶縁抵抗ピール強度も
良好であった。
性に優れ、絶縁信頼性にも優れている特徴を有してお
り、それを用いた金属ベ−ス回路基板は、実使用条件下
で受ける激しい温度変化によっても、チップを固定して
いる半田部分にクラックを生じることがなく高信頼性の
混成集積回路を提供することができる特徴を有してい
る。
充填剤を含有させていることで従来からの熱放散性が優
れる点、耐電圧等の電気絶縁性に優れる点等が良好のま
まに維持されていながら、前記応力緩和性が改善されて
いる特徴をゆうしているので、それを用いた本発明の金
属ベース回路基板は、自動車のエンジンル−ム等過酷な
環境でも使用することができ、産業上非常に有用であ
る。
Claims (4)
- 【請求項1】(1)エポキシ樹脂、(2)ポリエーテル
骨格を有し、主鎖の末端に1級アミン基を有する硬化
剤、(3)ウレイド基及び/又はメルカプト基を有する
シランカップリング剤、及び(4)無機充填剤を必須成
分とする硬化性樹脂組成物。 - 【請求項2】エポキシ樹脂が、ジシクロペンタジエン骨
格を持つエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を持つエポキシ
樹脂、ビフェニル骨格を持つエポキシ樹脂及びノボラッ
ク骨格を持つエポキシ樹脂から選ばれた1種以上を全エ
ポキシ樹脂中10質量パーセント以上含むことを特徴と
する請求項1記載の硬化性樹脂組成物。 - 【請求項3】硬化後の貯蔵弾性率が300Kで1500
0MPa以下であることを特徴とする請求項1又は請求
項2記載の硬化性樹脂組成物。 - 【請求項4】金属板の少なくとも一主面に絶縁層を介し
て回路を設けてなる金属ベース回路基板であって、前記
絶縁層が請求項1、請求項2又は請求項3記載の硬化性
樹脂組成物の硬化体からなることを特徴とする金属ベー
ス回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000308707A JP4536240B2 (ja) | 2000-10-10 | 2000-10-10 | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000308707A JP4536240B2 (ja) | 2000-10-10 | 2000-10-10 | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002114836A true JP2002114836A (ja) | 2002-04-16 |
JP4536240B2 JP4536240B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=18788973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000308707A Expired - Fee Related JP4536240B2 (ja) | 2000-10-10 | 2000-10-10 | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4536240B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005039112A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 金属ベース回路基板 |
JP2009051969A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | プリプレグ用エポキシ樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
US7626124B2 (en) | 2005-05-13 | 2009-12-01 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | Wiring board |
JP2012174533A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁材料及び積層構造体 |
JP2013071960A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-22 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁材料及び積層構造体 |
JP2014029926A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 金属ベース回路基板の製造方法 |
CN105542128A (zh) * | 2015-12-15 | 2016-05-04 | 广东广山新材料有限公司 | 一种环氧树脂固化剂及其制备方法和用途 |
JP2017110203A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | ゼネラル エレクトリック テクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングGeneral Electric Technology GmbH | 電気機械の巻線端部用の支持体 |
JP2020117619A (ja) * | 2019-01-23 | 2020-08-06 | デンカ株式会社 | 絶縁性樹脂組成物、絶縁性樹脂硬化体、積層体及び回路基板 |
CN112300395A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-02-02 | 湖北新蓝天新材料股份有限公司 | 一种氨基共聚硅烷偶联剂及其制备方法与应用 |
US11133445B2 (en) | 2017-03-22 | 2021-09-28 | Denka Company Limited | Resin composition for circuit board, and metal-base circuit board in which same is used |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62283120A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 硬化性組成物 |
JPH01202683A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-15 | Kagaku Gijutsucho Hoshasen Igaku Sogo Kenkyusho | 人体軟組織等価材 |
JPH02265952A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-10-30 | Cappar Ltd | エポキシ樹脂組成物用添加剤 |
JPH06248059A (ja) * | 1993-02-25 | 1994-09-06 | Somar Corp | 注型用液状エポキシ樹脂組成物 |
JPH07320538A (ja) * | 1994-05-26 | 1995-12-08 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 絶縁材料組成物及びそれを用いた回路基板とモジュール |
JPH08283540A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-29 | Ciba Geigy Ag | ウォラストナイト含有硬化性エポキシ樹脂混合物 |
JPH09165499A (ja) * | 1995-12-14 | 1997-06-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPH1045877A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-17 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 液状封止材料 |
JPH10251377A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用成形材料及び電子部品 |
JPH1160697A (ja) * | 1997-08-22 | 1999-03-02 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
-
2000
- 2000-10-10 JP JP2000308707A patent/JP4536240B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62283120A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 硬化性組成物 |
JPH01202683A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-15 | Kagaku Gijutsucho Hoshasen Igaku Sogo Kenkyusho | 人体軟組織等価材 |
JPH02265952A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-10-30 | Cappar Ltd | エポキシ樹脂組成物用添加剤 |
JPH06248059A (ja) * | 1993-02-25 | 1994-09-06 | Somar Corp | 注型用液状エポキシ樹脂組成物 |
JPH07320538A (ja) * | 1994-05-26 | 1995-12-08 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 絶縁材料組成物及びそれを用いた回路基板とモジュール |
JPH08283540A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-29 | Ciba Geigy Ag | ウォラストナイト含有硬化性エポキシ樹脂混合物 |
JPH09165499A (ja) * | 1995-12-14 | 1997-06-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPH1045877A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-17 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 液状封止材料 |
JPH10251377A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用成形材料及び電子部品 |
JPH1160697A (ja) * | 1997-08-22 | 1999-03-02 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005039112A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 金属ベース回路基板 |
DE102006019602B4 (de) * | 2005-05-13 | 2021-01-28 | Fuji Electric Co., Ltd. | Leistungshalbleitermodul |
US7626124B2 (en) | 2005-05-13 | 2009-12-01 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | Wiring board |
US20100041228A1 (en) * | 2005-05-13 | 2010-02-18 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | Method of manufacturing a wiring board |
US8336202B2 (en) * | 2005-05-13 | 2012-12-25 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a wiring board |
JP2009051969A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | プリプレグ用エポキシ樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板 |
JP2012174533A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁材料及び積層構造体 |
JP2013071960A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-22 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁材料及び積層構造体 |
JP2014029926A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 金属ベース回路基板の製造方法 |
CN105542128A (zh) * | 2015-12-15 | 2016-05-04 | 广东广山新材料有限公司 | 一种环氧树脂固化剂及其制备方法和用途 |
JP2017110203A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | ゼネラル エレクトリック テクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングGeneral Electric Technology GmbH | 電気機械の巻線端部用の支持体 |
US11133445B2 (en) | 2017-03-22 | 2021-09-28 | Denka Company Limited | Resin composition for circuit board, and metal-base circuit board in which same is used |
JP2020117619A (ja) * | 2019-01-23 | 2020-08-06 | デンカ株式会社 | 絶縁性樹脂組成物、絶縁性樹脂硬化体、積層体及び回路基板 |
JP7304161B2 (ja) | 2019-01-23 | 2023-07-06 | デンカ株式会社 | 絶縁性樹脂組成物、絶縁性樹脂硬化体、積層体及び回路基板 |
CN112300395A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-02-02 | 湖北新蓝天新材料股份有限公司 | 一种氨基共聚硅烷偶联剂及其制备方法与应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4536240B2 (ja) | 2010-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3209132B2 (ja) | 金属ベース基板 | |
JP2002012653A (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 | |
JP4672425B2 (ja) | 金属ベース回路基板およびその製法ならびにそれを用いた混成集積回路 | |
JP3559137B2 (ja) | 熱伝導性接着剤組成物及び該組成物を用いた熱伝導性接着フィルム | |
JP7026674B2 (ja) | 回路基板用樹脂組成物とそれを用いた金属ベース回路基板 | |
WO2019035445A1 (ja) | 複合部材 | |
JP2002114836A (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 | |
JP2006176764A (ja) | 電子機器用接着剤組成物、電子機器用接着剤シート、およびそれを用いた電子部品ならびに電子機器 | |
JP4914284B2 (ja) | 回路基板用組成物とそれを用いた回路基板 | |
JP2001057408A (ja) | パワーモジュールとその製造方法 | |
JP2005281509A (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 | |
JPH118450A (ja) | 金属ベース回路基板 | |
JPH1187866A (ja) | 金属ベ−ス回路基板 | |
JPH0529490A (ja) | 半導体搭載用回路基板 | |
JP2017152610A (ja) | 回路基板及び電子部品搭載基板 | |
JP4187062B2 (ja) | 金属ベース回路基板 | |
JP2005076023A (ja) | 低弾性接着剤並びにこの接着剤を用いた積層物、接着剤付き放熱板、接着剤付き金属箔 | |
JP2001160664A (ja) | 金属ベース回路基板及びその製造方法 | |
JPH11150345A (ja) | 金属ベース回路基板 | |
JP2004220916A (ja) | 回路接続用接着剤組成物、これを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造 | |
JP4123544B2 (ja) | 回路板 | |
JP4663169B2 (ja) | 金属ベ−ス回路基板 | |
JPH098426A (ja) | 金属ベース多層配線板 | |
JP2011094147A (ja) | 低弾性接着剤並びにこの接着剤を用いた積層物、接着剤付き放熱板、接着剤付き金属箔 | |
JP3606750B2 (ja) | 金属ベース回路基板とそれを用いたモジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100615 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100616 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |