JP2002110901A - Laminated semiconductor device and its manufacturing method - Google Patents

Laminated semiconductor device and its manufacturing method

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JP2002110901A JP2000303018A JP2000303018A JP2002110901A JP 2002110901 A JP2002110901 A JP 2002110901A JP 2000303018 A JP2000303018 A JP 2000303018A JP 2000303018 A JP2000303018 A JP 2000303018A JP 2002110901 A JP2002110901 A JP 2002110901A
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    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated semiconductor device of a three-dimensional mounting structure, capable of realizing reduction in thickness of an overall laminated module in the height direction, together with high quality and manufacturing yield, and to provide a method for manufacturing the same. SOLUTION: The method for manufacturing the laminated semiconductor device comprises steps of connecting a connecting land 16 of a first double-sided module 24a to a solder-connecting land 30 of on the surface side of a spacer frame substrate 26 by using the substrate 26, in which the lands 20 are screen printed on both surfaces of a frame-like insulating board 28 as an intermediate connector, when the module 24a in which first and second semiconductor bare chips 20A and 20B are mounted on both surfaces of a first interposer 10a and a second double-sided module 24b, in which third and fourth bare semiconductors 20C and 20D are mounted on both surfaces of a second interposer 10b are laminated, and connecting the land 30 of another surface side of the substrate 26 to the land 16 of the module 24a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップがイ
ンターポーザに実装されたモジュールがマザーボード上
に複数段に積層されている3次元実装構造の積層型半導
体装置及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure in which a module having a semiconductor chip mounted on an interposer is stacked on a motherboard in a plurality of stages, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年における電子機器の小型・薄型化の
要求に対応するための半導体集積回路の高密度実装手法
として、複数の半導体チップを積層する3次元実装技術
が提案され、各社において開発、生産されている。そし
て、同一サイズの半導体チップを3次元実装する際に
は、各半導体チップを個別にインターポーザ上に実装し
た後、これらのインターポーザを複数段に積層してモジ
ュールとするのが一般的である。その場合、複数段に積
層したインターポーザ間の接続は、各インターポーザに
設けられた接続用ランド間を半田ボールによって接続す
る方法が一般に採用されている。
2. Description of the Related Art A three-dimensional mounting technique of stacking a plurality of semiconductor chips has been proposed as a high-density mounting method of a semiconductor integrated circuit in order to respond to recent demands for smaller and thinner electronic devices. Is being produced. When three-dimensionally mounting semiconductor chips of the same size, it is general that each semiconductor chip is individually mounted on an interposer, and then these interposers are stacked in a plurality of stages to form a module. In this case, the connection between the interposers stacked in a plurality of stages generally employs a method of connecting the connection lands provided on each interposer with solder balls.

【0003】以下、従来の3次元実装構造の積層型半導
体装置の製造方法を、図12〜図17の概略工程断面図
を用いて説明する。先ず、図12に示されるように、リ
ジットな薄い基板である第1のインターポーザ10aを
用意する。この第1のインターポーザ10aにおいて
は、例えばポリイミド等からなる絶縁層12の両面にそ
れぞれ配線層14が形成され、この配線層14の端部に
は、他のインターポーザと電気的に接続するための接続
ランド部16が形成されている。
Hereinafter, a method for manufacturing a conventional stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure will be described with reference to schematic sectional views of FIGS. First, as shown in FIG. 12, a first interposer 10a, which is a rigid thin substrate, is prepared. In the first interposer 10a, wiring layers 14 are respectively formed on both surfaces of an insulating layer 12 made of, for example, polyimide or the like, and an end of the wiring layer 14 is provided with a connection for electrically connecting to another interposer. A land portion 16 is formed.

【0004】そして、このような構造の第1のインター
ポーザ10aの一方の主面上に、例えばACF(Anisot
ropic Conductive Film ;異方性導電膜)18を介し
て、第1のベア半導体チップ20Aをフリップチップ実
装する。
On one main surface of the first interposer 10a having such a structure, for example, an ACF (Anisot
The first bare semiconductor chip 20A is flip-chip mounted via a ropic conductive film (anisotropic conductive film) 18.

【0005】即ち、第1のインターポーザ10aの一方
の主面上に、ACF18を塗布した後、第1のベア半導
体チップ20Aをフェースダウンに搭載し、その表面に
形成されている電極22を第1のインターポーザ10a
の一方の主面に形成されている配線層14に接触させ
る。その後、加熱・加圧して、第1のベア半導体チップ
20Aの電極22と第1のインターポーザ10aの配線
層14とを接合する。こうして、第1のインターポーザ
10aの一方の主面上に、ACF18を介して、第1の
ベア半導体チップ20Aをフリップチップ実装する。
That is, after applying the ACF 18 on one main surface of the first interposer 10a, the first bare semiconductor chip 20A is mounted face down, and the electrode 22 formed on the surface is first Interposer 10a
In contact with the wiring layer 14 formed on one of the main surfaces. Thereafter, the electrodes 22 of the first bare semiconductor chip 20A and the wiring layer 14 of the first interposer 10a are joined by heating and pressing. In this way, the first bare semiconductor chip 20A is flip-chip mounted on one main surface of the first interposer 10a via the ACF 18.

【0006】次いで、図13に示されるように、第1の
ベア半導体チップ20Aが一方の主面上にフリップチッ
プ実装された第1のインターポーザ10aを反転する。
そして、第1のベア半導体チップ20Aのフリップチッ
プ実装の場合と同様にして、第1のインターポーザ10
aの他方の主面上に、ACF18を介して、第2のベア
半導体チップ20Bをフリップチップ実装する。
Next, as shown in FIG. 13, the first bare semiconductor chip 20A flips the first interposer 10a flip-chip mounted on one main surface.
Then, as in the case of flip-chip mounting of the first bare semiconductor chip 20A, the first interposer 10
A second bare semiconductor chip 20B is flip-chip mounted on the other main surface of a through the ACF 18.

【0007】このようにして、図14に示されるよう
に、第1のインターポーザ10aの両面に第1のベア半
導体チップ20A及び第2のベア半導体チップ20Bが
それぞれ実装された第1の両面モジュール24aを作製
する。
Thus, as shown in FIG. 14, a first double-sided module 24a in which the first bare semiconductor chip 20A and the second bare semiconductor chip 20B are mounted on both surfaces of the first interposer 10a, respectively. Is prepared.

【0008】また、図15に示されるように、上記図1
2〜図14に示した工程と同様な工程を経て、第2のイ
ンターポーザ10bの両面に第3のベア半導体チップ2
0C及び第4のベア半導体チップ20Dがそれぞれ実装
された第2の両面モジュール24bを作製する。
[0008] Further, as shown in FIG.
2 through 14, the third bare semiconductor chip 2 is formed on both surfaces of the second interposer 10b.
The second double-sided module 24b on which the OC and the fourth bare semiconductor chip 20D are mounted is manufactured.

【0009】次いで、図16に示されるように、第1の
両面モジュール24aの第2のベア半導体チップ20B
が実装されている面側の接続ランド部16上に、半田ボ
ール42を搭載する。そして、加熱リフローして、この
半田ボール42を接続ランド部16に接続する。
Next, as shown in FIG. 16, the second bare semiconductor chip 20B of the first double-sided module 24a is
The solder balls 42 are mounted on the connection lands 16 on the side on which is mounted. Then, the solder balls 42 are connected to the connection lands 16 by heating and reflowing.

【0010】次いで、図17に示されるように、半田ボ
ール42を接続ランド部16に接続した第1の両面モジ
ュール24aを反転させて、第2の両面モジュール24
bに接合して、半田ボール42を介して互いに接続され
た第1の両面モジュール24a及び第2の両面モジュー
ル24bからなる積層体を形成する。
Next, as shown in FIG. 17, the first double-sided module 24a in which the solder balls 42 are connected to the connection lands 16 is inverted, and the second double-sided module 24a is
b to form a laminate composed of the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b connected to each other via the solder ball 42.

【0011】即ち、第1の両面モジュール24aを第2
の両面モジュール24b上に搭載して、第1の両面モジ
ュール24a接続した半田ボール42を第2の両面モジ
ュール24bの第3のベア半導体チップ20Cが実装さ
れている面側の接続ランド部16に接触させた後、加熱
リフローして、第1の両面モジュール24aの第2のベ
ア半導体チップ20Bが実装されている面側の接続ラン
ド部16と第2の両面モジュール24bの第3のベア半
導体チップ20Cが実装されている面側の接続ランド部
16とを半田ボール42を介して接続する。こうして、
半田ボール42を介して互いに接続された第1の両面モ
ジュール24a及び第2の両面モジュール24bからな
る積層体を形成する。
That is, the first double-sided module 24a is
And the solder ball 42 connected to the first double-sided module 24a contacts the connection land 16 on the side of the second double-sided module 24b on which the third bare semiconductor chip 20C is mounted. After that, the connection land portion 16 on the side of the first double-sided module 24a on which the second bare semiconductor chip 20B is mounted and the third bare semiconductor chip 20C of the second double-sided module 24b are heated and reflowed. Is connected via a solder ball 42 to the connection land portion 16 on the side on which is mounted. Thus,
A laminated body including the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b connected to each other via the solder ball 42 is formed.

【0012】続いて、半田ボール42を介して互いに接
続された第1の両面モジュール24a及び第2の両面モ
ジュール24bからなる積層体、即ち第1〜第4のベア
半導体チップ20A、20B、20C、20Dが4段に
積層された4段積層モジュールを、マザーボード34に
実装する。
Subsequently, a laminate composed of the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b connected to each other via the solder ball 42, that is, the first to fourth bare semiconductor chips 20A, 20B, 20C, A four-layer module in which 20Ds are stacked in four layers is mounted on the motherboard.

【0013】即ち、マザーボード34の絶縁基板36に
形成された配線層38上に半田40をスクリーン印刷し
た後、この半田40を介して、第2の両面モジュール2
4bの第4のベア半導体チップ20Dが実装されている
面側の接続ランド部16とマザーボード34の配線層3
8とを接続する。そして、この半田40を加熱リフロー
して、第1〜第4のベア半導体チップ20A、20B、
20C、20Dが4段に積層された4段積層モジュール
をマザーボード34に実装する。こうして、3次元実装
構造の積層型半導体装置を完成する。
That is, after a solder 40 is screen-printed on a wiring layer 38 formed on an insulating substrate 36 of a motherboard 34, the second double-sided module 2 is
4b, the connection land 16 on the side on which the fourth bare semiconductor chip 20D is mounted and the wiring layer 3 of the motherboard 34
8 is connected. Then, the solder 40 is heated and reflowed, and the first to fourth bare semiconductor chips 20A, 20B,
A four-layer module in which 20C and 20D are stacked in four layers is mounted on the motherboard. Thus, a stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure is completed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の3次元実装構造の積層型半導体装置の製造方法にお
いては、半田ボール42を介して、第1のインターポー
ザ10aの両面に第1のベア半導体チップ20A及び第
2のベア半導体チップ20Bがそれぞれ実装された第1
の両面モジュール24aと、第2のインターポーザ10
bの両面に第3のベア半導体チップ20C及び第4のベ
ア半導体チップ20Dがそれぞれ実装された第2の両面
モジュール24bとを接続し、第1〜第4のベア半導体
チップ20A、20B、20C、20Dが4段に積層さ
れた4段積層モジュールを形成していることから、次の
ような問題を生じていた。
However, in the above-mentioned conventional method of manufacturing a stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure, the first bare semiconductor chips are provided on both sides of the first interposer 10a via the solder balls 42. 20A and the first bare semiconductor chip 20B are mounted respectively.
Of the double-sided module 24a and the second interposer 10
b are connected to the second double-sided module 24b on which the third bare semiconductor chip 20C and the fourth bare semiconductor chip 20D are mounted, respectively, and the first to fourth bare semiconductor chips 20A, 20B, 20C, Since the four-layer module is formed by stacking the 20Ds in four layers, the following problem occurs.

【0015】(1)第1の両面モジュール24aの第2
のベア半導体チップ20Bが実装されている面側の接続
ランド部16上に半田ボール42を搭載する際に、半田
ボール42を一つ一つ吸着して、第1のインターポーザ
10aの接続ランド部16上に搭載しなければならない
ため、特殊な装置や技術を必要とする極めて煩雑な作業
が要求され、実装時間の短縮を図ることが困難であっ
た。
(1) The second of the first double-sided module 24a
When the solder balls 42 are mounted on the connection lands 16 on the side on which the bare semiconductor chip 20B is mounted, the solder balls 42 are sucked one by one, and the connection lands 16 of the first interposer 10a are sucked. Since it must be mounted on the upper surface, extremely complicated work requiring special devices and techniques is required, and it has been difficult to reduce the mounting time.

【0016】また、一つ一つの半田ボール42の大きさ
は必ずしも均一でないため、その接続ランド部16上へ
の搭載精度が必ずしも高くなく、たとえ加熱リフロー処
理を行っても、半田ボール42を介在させた第1の両面
モジュール24aと第2の両面モジュール24bとの間
隔を高精度に均等にすることは困難であった。従って、
第1〜第4のベア半導体チップ20A、20B、20
C、20Dが4段に積層された4段積層モジュールの品
質や製造歩留まりが低下する等の問題が生じていた。
Further, since the size of each solder ball 42 is not always uniform, its mounting accuracy on the connection land portion 16 is not always high. It has been difficult to equalize the distance between the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b with high precision. Therefore,
First to fourth bare semiconductor chips 20A, 20B, 20
There have been problems such as a decrease in the quality and manufacturing yield of a four-layer module in which C and 20D are stacked in four layers.

【0017】(2)また、電子機器の小型・薄型化の要
求に対応するために、第1〜第4のベア半導体チップ2
0A、20B、20C、20Dが4段に積層された4段
積層モジュール全体の高さを低くしたい場合、各ベア半
導体チップの厚さを薄くして全体の高さを低くする方法
があるが、第1の両面モジュール24aと第2の両面モ
ジュール24bとの中間接続体として半田ボール42を
使用している限り、この半田ボール42は例えば高さ
0.35〜0.4mm程度の大きさを必要とし、その小
型化には制約があるため、各ベア半導体チップの厚さを
いくら薄くしても4段積層モジュール全体の高さを低く
することには限界があった。即ち、中間接続体として半
田ボール42を使用する既存技術においては、電子機器
の小型・薄型化の要求に十分に対応することが困難であ
るという問題があった。
(2) In order to meet the demand for smaller and thinner electronic equipment, the first to fourth bare semiconductor chips 2
When it is desired to reduce the overall height of the four-layer stacked module in which 0A, 20B, 20C, and 20D are stacked in four layers, there is a method of reducing the overall height by reducing the thickness of each bare semiconductor chip. As long as the solder ball 42 is used as an intermediate connector between the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b, the solder ball 42 needs to have a height of, for example, about 0.35 to 0.4 mm. However, since there is a restriction on the miniaturization, there is a limit to reducing the overall height of the four-layer module even if the thickness of each bare semiconductor chip is reduced. That is, in the existing technology using the solder ball 42 as the intermediate connector, there is a problem that it is difficult to sufficiently cope with a demand for a small and thin electronic device.

【0018】そこで本発明は、上記問題点に鑑みてなさ
れたものであって、高い品質や製造歩留まりを実現する
と共に、積層モジュール全体の高さ方向の薄型化を実現
することが可能な3次元実装構造の積層型半導体装置及
びその製造方法を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has a three-dimensional structure capable of realizing high quality and manufacturing yield and realizing a reduction in the height of the entire laminated module. It is an object of the present invention to provide a stacked semiconductor device having a mounting structure and a method for manufacturing the same.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記課題は、以下に述べ
る本発明に係る積層型半導体装置及びその製造方法によ
って達成される。即ち、請求項1に係る積層型半導体装
置は、インターポーザに半導体チップが実装されたモジ
ュールがマザーボード上に複数段に積層されている積層
型半導体装置であって、モジュールが、両面に接続端子
が形成されたスペーサ枠基板を介して複数段に積層され
ており、複数段に積層されているモジュールの接続部
が、スペーサ枠基板の接続端子を介して接続されている
ことを特徴とする。
The above objects can be attained by a stacked semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention described below. That is, the stacked semiconductor device according to claim 1 is a stacked semiconductor device in which a module in which a semiconductor chip is mounted on an interposer is stacked in a plurality of stages on a motherboard, and the module has connection terminals formed on both surfaces. Are stacked in a plurality of stages via the spacer frame substrate, and the connection portions of the modules stacked in the plurality of stages are connected via connection terminals of the spacer frame substrate.

【0020】このように請求項1に係る積層型半導体装
置においては、インターポーザに半導体チップが実装さ
れたモジュールが、両面に接続端子が形成されたスペー
サ枠基板を介して複数段に積層されていることにより、
即ち複数段に積層されたモジュール間に介在させる中間
接続体として、両面に接続端子が形成されたスペーサ枠
基板を使用していることにより、従来の中間接続体とし
て半田ボールを使用している場合と比較すると、その大
きさが必ずしも均一でない半田ボールを一つ一つ吸着し
て搭載する特殊かつ煩雑な作業が要求されないため、積
層する複数段のモジュールの間隔が均等になる等の接続
精度が大幅に向上すると共に、実装時間の短縮が容易に
実現される。
As described above, in the stacked semiconductor device according to the first aspect, the module in which the semiconductor chip is mounted on the interposer is stacked in a plurality of stages via the spacer frame substrate having connection terminals formed on both surfaces. By doing
That is, when a solder ball is used as a conventional intermediate connector by using a spacer frame substrate having connection terminals formed on both surfaces as an intermediate connector interposed between modules stacked in a plurality of stages. In comparison with the above, since a special and complicated work of adsorbing and mounting the solder balls whose sizes are not necessarily uniform is not required, the connection precision such as equalizing the intervals of the stacked modules in a plurality of stages is improved. Significant improvement is achieved, and the mounting time is easily reduced.

【0021】また、両面に接続端子が形成されたスペー
サ枠基板の厚さを従来の中間接続体としての半田ボール
の高さよりも遙かに小さくすることが可能なため、モジ
ュールに実装される各ベア半導体チップの厚さを薄くす
れば、複数段のモジュールの積層体全体の高さ方向の薄
型化が容易に実現される。
Further, since the thickness of the spacer frame substrate having connection terminals formed on both surfaces can be made much smaller than the height of a solder ball as a conventional intermediate connector, each spacer mounted on a module can be formed. If the thickness of the bare semiconductor chip is reduced, it is easy to reduce the thickness of the entire stacked body of the plurality of modules in the height direction.

【0022】なお、上記請求項1に係る積層型半導体装
置において、インターポーザに半導体チップが実装され
たモジュールとしては、そのインターポーザの片面に1
個の半導体チップが実装された片面モジュールであって
もよいが、そのインターポーザの両面にそれぞれ半導体
チップが実装された両面モジュールであることが好適で
ある。
In the stacked semiconductor device according to the first aspect, a module having a semiconductor chip mounted on an interposer may include one module on one surface of the interposer.
Although it may be a single-sided module in which a number of semiconductor chips are mounted, it is preferable that the interposer is a double-sided module in which semiconductor chips are mounted on both sides of the interposer.

【0023】即ち、複数段のモジュールを接続する中間
接続体としてのスペーサ枠基板の厚さを調整することに
より、片面モジュール及び両面モジュールの何れの場合
であっても対応可能であるが、特に両面モジュールの場
合は、複数段のモジュールの積層体全体の高さが同じで
あっても実装されるベア半導体チップの数が多くなる
分、実装密度の高い積層型半導体装置が実現される。
That is, by adjusting the thickness of the spacer frame substrate as an intermediate connector for connecting a plurality of stages of modules, it is possible to cope with either a single-sided module or a double-sided module. In the case of a module, a stacked semiconductor device with a high mounting density is realized because the number of bare semiconductor chips to be mounted is increased even if the overall height of the stacked body of a plurality of modules is the same.

【0024】また、上記請求項1に係る積層型半導体装
置において、スペーサ枠基板の接続端子が、スペーサ枠
基板の両面に半田印刷されていることが好適である。こ
の場合、半田印刷によりスペーサ枠基板の両面に接続端
子が精確に形成されるため、従来の半田ボールを搭載す
る場合と比較すると、複数段に積層されたモジュール間
の接続精度の大幅な向上が容易に実現される。
In the stacked semiconductor device according to the first aspect, it is preferable that the connection terminals of the spacer frame substrate are printed by soldering on both surfaces of the spacer frame substrate. In this case, since the connection terminals are accurately formed on both sides of the spacer frame substrate by solder printing, the connection accuracy between the modules stacked in a plurality of stages is greatly improved compared to the case where the conventional solder balls are mounted. It is easily realized.

【0025】また、半田印刷という既存の技術を使用す
ることから、新たな装置を必要とすることなく既存の装
置をそのまま流用することが可能になり、且つ従来の半
田ボールを搭載する場合と比較して、フラックスを塗布
したり洗浄除去したりする工程がなくなるため、製造コ
ストの上昇が防止され、実装時間の大幅な短縮が実現さ
れる。
Further, since the existing technique of solder printing is used, it is possible to use the existing apparatus as it is without requiring a new apparatus, and to compare it with the conventional case where solder balls are mounted. Since there is no step of applying or washing and removing the flux, an increase in the manufacturing cost is prevented, and the mounting time is significantly reduced.

【0026】また、請求項4に係る積層型半導体装置の
製造方法は、インターポーザに半導体チップを実装した
モジュールをマザーボード上に複数段に積層する積層型
半導体装置の製造方法であって、モジュールを複数段に
積層する際に、各モジュール間に介在させる中間接続体
として、両面に接続端子を形成したスペーサ枠基板を使
用し、モジュールの接続部とスペーサ枠基板の前記接続
端子とを接続させることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a stacked semiconductor device in which a module having a semiconductor chip mounted on an interposer is stacked on a motherboard in a plurality of stages. When stacking in a step, a spacer frame substrate having connection terminals formed on both sides is used as an intermediate connector interposed between the modules, and the connection portion of the module is connected to the connection terminal of the spacer frame substrate. Features.

【0027】このように請求項4に係る積層型半導体装
置の製造方法においては、インターポーザに半導体チッ
プを実装したモジュールを複数段に積層する際に、各モ
ジュール間に介在させる中間接続体として、両面に接続
端子を形成したスペーサ枠基板を使用することにより、
従来の中間接続体として半田ボールを使用する場合と比
較すると、その大きさが必ずしも均一でない半田ボール
を一つ一つ吸着して搭載する特殊かつ煩雑な作業が要求
されないため、積層する複数段のモジュールの間隔が均
等になる等の接続精度が大幅に向上すると共に、実装時
間の短縮が容易に実現される。
Thus, in the method of manufacturing a stacked semiconductor device according to the fourth aspect, when stacking modules in which semiconductor chips are mounted on an interposer in a plurality of stages, a double-sided intermediate member interposed between the modules is used. By using a spacer frame substrate with connection terminals formed on
Compared to the case of using solder balls as a conventional intermediate connector, a special and cumbersome work of adsorbing and mounting the solder balls whose sizes are not necessarily uniform is not required, so that a plurality of stacked The connection accuracy, such as uniform spacing between modules, is greatly improved, and the mounting time is easily reduced.

【0028】また、両面に接続端子が形成されたスペー
サ枠基板の厚さを従来の中間接続体としての半田ボール
の高さよりも遙かに小さくすることが可能なため、モジ
ュールに実装される各ベア半導体チップの厚さを薄くす
れば、複数段のモジュールの積層体全体の高さ方向の薄
型化が容易に実現される。
Further, since the thickness of the spacer frame substrate having connection terminals formed on both sides can be made much smaller than the height of a solder ball as a conventional intermediate connection body, each spacer mounted on a module can be formed. If the thickness of the bare semiconductor chip is reduced, it is easy to reduce the thickness of the entire stacked body of the plurality of modules in the height direction.

【0029】なお、上記請求項4に係る積層型半導体装
置の製造方法において、インターポーザに半導体チップ
が実装されたモジュールとしては、そのインターポーザ
のみに半導体チップが実装された片面モジュールであっ
てもよいが、そのインターポーザの両面にそれぞれ半導
体チップが実装された両面モジュールであることが好適
である。
In the method of manufacturing a stacked semiconductor device according to the fourth aspect, the module in which the semiconductor chip is mounted on the interposer may be a single-sided module in which the semiconductor chip is mounted only on the interposer. It is preferable that the interposer is a double-sided module in which semiconductor chips are mounted on both sides of the interposer.

【0030】即ち、複数段のモジュールを接続する中間
接続体としてのスペーサ枠基板の厚さを調整することに
より、片面モジュール及び両面モジュールの何れの場合
であっても対応可能であるが、特に両面モジュールの場
合は、複数段のモジュールの積層体全体の高さが同じで
あっても実装されるベア半導体チップの数が多くなる
分、実装密度の高い積層型半導体装置が実現される。
In other words, by adjusting the thickness of the spacer frame substrate as an intermediate connector for connecting a plurality of stages of modules, it is possible to deal with either a single-sided module or a double-sided module. In the case of a module, a stacked semiconductor device with a high mounting density is realized because the number of bare semiconductor chips to be mounted is increased even if the overall height of the stacked body of a plurality of modules is the same.

【0031】また、上記請求項4に係る積層型半導体装
置の製造方法において、スペーサ枠基板の両面に接続端
子を形成する際に、半田印刷により形成することが好適
である。この場合、スペーサ枠基板の両面の接続端子が
半田印刷により精確に形成されるため、従来の半田ボー
ルを搭載する場合と比較すると、複数段に積層するモジ
ュール間の接続精度の大幅な向上が容易に実現される。
In the method of manufacturing a stacked semiconductor device according to the fourth aspect, when forming the connection terminals on both surfaces of the spacer frame substrate, it is preferable that the connection terminals are formed by solder printing. In this case, the connection terminals on both sides of the spacer frame substrate are precisely formed by solder printing, so that the connection accuracy between modules stacked in a plurality of stages can be greatly improved as compared with the case where conventional solder balls are mounted. Is realized.

【0032】また、半田印刷という既存の技術を使用す
ることから、新たな装置を必要とすることなく既存の装
置をそのまま流用することが可能になり、且つ従来の半
田ボールを搭載する場合と比較して、フラックスを塗布
したり洗浄除去したりする工程がなくなるため、製造コ
ストの上昇が防止され、実装時間の大幅な短縮が実現さ
れる。
In addition, since the existing technique of solder printing is used, it is possible to use the existing apparatus as it is without needing a new apparatus, and to compare it with the case where a conventional solder ball is mounted. Since there is no step of applying or washing and removing the flux, an increase in the manufacturing cost is prevented, and the mounting time is significantly reduced.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明の実施の形態を説明する。図1は本発明の一実施
の形態に係る3次元実装構造の積層型半導体装置を示す
概略断面図であり、図2〜図11はぞれぞれ図1に示す
3次元実装構造の積層型半導体装置の製造方法を説明す
るための概略工程断面図である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
An embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure according to an embodiment of the present invention. FIGS. 2 to 11 each show a stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure shown in FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of the semiconductor device;

【0034】図1に示されるように、本実施の形態に係
る3次元実装構造の積層型半導体装置においては、リジ
ットな薄い基板である第1のインターポーザ10aの一
方の主面上に、例えばACF18を介して、第1のベア
半導体チップ20Aがフリップチップ実装されている。
As shown in FIG. 1, in the stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure according to the present embodiment, for example, an ACF 18 is provided on one main surface of a first interposer 10a which is a rigid thin substrate. , The first bare semiconductor chip 20A is flip-chip mounted.

【0035】即ち、第1のインターポーザ10aの一方
の主面上に、ACF18を介して、第1のベア半導体チ
ップ20Aをフェースダウンに搭載され、その第1のベ
ア半導体チップ20A表面に形成されている電極(図示
せず)が第1のインターポーザ10aの例えばポリイミ
ド等からなる絶縁層12の一方の主面に形成されている
配線層14に接合されている。
That is, the first bare semiconductor chip 20A is mounted face down on the one main surface of the first interposer 10a via the ACF 18, and is formed on the surface of the first bare semiconductor chip 20A. An electrode (not shown) is joined to a wiring layer 14 formed on one main surface of an insulating layer 12 made of, for example, polyimide or the like of the first interposer 10a.

【0036】また、同様にして、この第1のインターポ
ーザ10aの他方の主面上に、ACF18を介して、第
2のベア半導体チップ20Bがフリップチップ実装され
ている。
Similarly, a second bare semiconductor chip 20B is flip-chip mounted on the other main surface of the first interposer 10a via an ACF 18.

【0037】このようにして、第1のインターポーザ1
0aの両面に、それぞれACF18を介して、第1のベ
ア半導体チップ20A及び第2のベア半導体チップ20
Bが実装された第1の両面モジュール24aが形成され
ている。
Thus, the first interposer 1
0a, a first bare semiconductor chip 20A and a second bare semiconductor chip 20
A first double-sided module 24a on which B is mounted is formed.

【0038】更に、この第1の両面モジュール24aと
同様に、第2のインターポーザ10bの両面に、それぞ
れACF18を介して、第3のベア半導体チップ20C
及び第4のベア半導体チップ20Dが実装された第2の
両面モジュール24bが形成されている。
Further, similarly to the first double-sided module 24a, the third bare semiconductor chip 20C is provided on both sides of the second interposer 10b via the ACF 18 respectively.
And a second double-sided module 24b on which the fourth bare semiconductor chip 20D is mounted.

【0039】そして、これら第1の両面モジュール24
a及び第2の両面モジュール24bは、中間接続体とし
てのスペーサ枠基板26を介して積層され、互いに電気
的に接続されて、スペーサ枠基板26を介して互いに接
続された第1の両面モジュール24a及び第2の両面モ
ジュール24bからなる積層体が形成されている。
The first double-sided module 24
a and the second double-sided module 24b are stacked via a spacer frame substrate 26 as an intermediate connector, electrically connected to each other, and connected to each other via the spacer frame substrate 26. And a laminated body including the second double-sided module 24b.

【0040】即ち、第1の両面モジュール24aの第2
のベア半導体チップ20Bが実装されている面側の接続
端子としての接続ランド部16と、スペーサ枠基板26
の枠状の絶縁基板28の一方の面側にスクリーン印刷さ
れた半田接続ランド部30とが、半田32を介して接続
されている。また、このスペーサ枠基板26の枠状の絶
縁基板28の他方の面側にスクリーン印刷された半田接
続ランド部30と、第2の両面モジュール24aの第3
のベア半導体チップ20Cが実装されている面側の接続
端子としての接続ランド部16が、半田32を介して接
続されている。こうして、スペーサ枠基板26を介して
互いに接続された第1の両面モジュール24a及び第2
の両面モジュール24bからなる積層体が形成されてい
る。
That is, the second of the first double-sided module 24a
Connection lands 16 as connection terminals on the side on which the bare semiconductor chip 20B is mounted, and a spacer frame substrate 26
A solder connection land portion 30 screen-printed on one surface side of the frame-shaped insulating substrate 28 is connected via a solder 32. Further, a solder connection land portion 30 screen-printed on the other surface side of the frame-shaped insulating substrate 28 of the spacer frame substrate 26, and a third portion of the second double-sided module 24a.
The connection land portion 16 as a connection terminal on the surface side on which the bare semiconductor chip 20C is mounted is connected via solder 32. Thus, the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24a connected to each other via the spacer frame substrate 26
Of the double-sided module 24b.

【0041】なお、ここで、スペーサ枠基板26の枠状
の絶縁基板28は所定の厚さを有しているため、第1の
両面モジュール24aの第2のベア半導体チップ20B
及び第2の両面モジュール24bに実装されている第3
のベア半導体チップ20Cは共にスペーサ枠基板26の
枠状の絶縁基板28によって周囲を囲まれた空間内に収
納されると共に、両者が互いに抵触することはない。
Here, since the frame-shaped insulating substrate 28 of the spacer frame substrate 26 has a predetermined thickness, the second bare semiconductor chip 20B of the first double-sided module 24a is formed.
And the third mounted on the second double-sided module 24b.
Are housed in a space surrounded by the frame-shaped insulating substrate 28 of the spacer frame substrate 26, and they do not conflict with each other.

【0042】また、スペーサ枠基板26を介して互いに
接続された第1の両面モジュール24a及び第2の両面
モジュール24bからなる積層体、即ち第1〜第4のベ
ア半導体チップ20A、20B、20C、20Dが4段
に積層された4段積層モジュールは、マザーボード34
に実装されている。
Further, a laminate composed of the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b connected to each other via the spacer frame substrate 26, that is, the first to fourth bare semiconductor chips 20A, 20B, 20C, A four-layer module in which 20Ds are stacked in four layers is a motherboard 34.
Has been implemented.

【0043】即ち、この4段積層モジュールにおける第
2の両面モジュール24bの第4のベア半導体チップ2
0Dが実装されている面側の接続ランド部16と、マザ
ーボード34の絶縁基板36に形成された配線層38と
が、この配線層38上にスクリーン印刷された半田40
を介して互いに接続されている。こうして、第1〜第4
のベア半導体チップ20A、20B、20C、20Dが
4段に積層された4段積層モジュールがマザーボード3
4に実装され、3次元実装構造の積層型半導体装置を構
成している。
That is, the fourth bare semiconductor chip 2 of the second double-sided module 24b in this four-layer stacked module
The connection lands 16 on the surface side on which the 0D is mounted and the wiring layer 38 formed on the insulating substrate 36 of the motherboard 34 are formed by solder 40 screen-printed on the wiring layer 38.
Are connected to each other. Thus, the first to fourth
Mother module 3 is a four-layer module in which bare semiconductor chips 20A, 20B, 20C, and 20D are stacked in four layers.
4 to constitute a stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure.

【0044】次に、図1に示す3次元実装構造の積層型
半導体装置の製造方法を、図2〜図8の概略工程断面図
を用いて説明する。先ず、図2に示されるように、リジ
ットな薄い基板である第1のインターポーザ10aを用
意する。
Next, a method of manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure shown in FIG. 1 will be described with reference to schematic sectional views shown in FIGS. First, as shown in FIG. 2, a first interposer 10a, which is a rigid thin substrate, is prepared.

【0045】この第1のインターポーザ10aにおいて
は、例えばポリイミド等からなる絶縁層12の両面にそ
れぞれ配線層14が形成され、この配線層14の端部に
は、他のインターポーザ等と電気的に接続するための接
続端子として、接続ランド部16が形成されている。な
お、図示は省略するが、この絶縁層12の両面にそれぞ
れ形成された接続ランド部16は、絶縁層12を貫通す
る配線層によって互いに電気的に接続している。
In the first interposer 10a, wiring layers 14 are formed on both surfaces of an insulating layer 12 made of, for example, polyimide or the like, and an end of the wiring layer 14 is electrically connected to another interposer or the like. A connection land 16 is formed as a connection terminal for connection. Although not shown, the connection lands 16 formed on both surfaces of the insulating layer 12 are electrically connected to each other by a wiring layer penetrating the insulating layer 12.

【0046】そして、このような構造の第1のインター
ポーザ10aの一方の主面上に、例えばACF18を介
して、第1のベア半導体チップ20Aをフリップチップ
実装する。
Then, the first bare semiconductor chip 20 A is flip-chip mounted on one main surface of the first interposer 10 a having such a structure, for example, via the ACF 18.

【0047】即ち、図2及び図3に示されるように、第
1のインターポーザ10aの一方の主面上に、ACF1
8を塗布した後、第1のベア半導体チップ20Aをフェ
ースダウンに搭載し、その第1のベア半導体チップ20
A表面に形成されている電極22を第1のインターポー
ザ10aの一方の主面に形成されている配線層14に接
触させる。その後、加熱・加圧して、第1のベア半導体
チップ20Aの電極22と第1のインターポーザ10a
の配線層14とを接合する。こうして、第1のインター
ポーザ10aの一方の主面上に、ACF18を介して、
第1のベア半導体チップ20Aをフリップチップ実装す
る。
That is, as shown in FIGS. 2 and 3, the ACF1 is placed on one main surface of the first interposer 10a.
8 is applied, the first bare semiconductor chip 20A is mounted face down, and the first bare semiconductor chip 20A is
The electrode 22 formed on the surface A is brought into contact with the wiring layer 14 formed on one main surface of the first interposer 10a. Thereafter, the electrode 22 of the first bare semiconductor chip 20A and the first interposer 10a are heated and pressed.
To the wiring layer 14. Thus, on one main surface of the first interposer 10a, via the ACF 18,
The first bare semiconductor chip 20A is flip-chip mounted.

【0048】次いで、図4に示されるように、第1のベ
ア半導体チップ20Aが一方の主面上にフリップチップ
実装された第1のインターポーザ10aを反転する。そ
して、第1のベア半導体チップ20Aのフリップチップ
実装の場合と同様にして、第1のインターポーザ10a
の他方の主面上に、ACF18を介して、第2のベア半
導体チップ20Bをフリップチップ実装する。
Next, as shown in FIG. 4, the first interposer 10a in which the first bare semiconductor chip 20A is flip-chip mounted on one main surface is inverted. Then, in the same manner as the case of flip-chip mounting of the first bare semiconductor chip 20A, the first interposer 10a
A second bare semiconductor chip 20B is flip-chip mounted on the other main surface of the semiconductor chip via the ACF 18.

【0049】このようにして、図5に示されるように、
第1のインターポーザ10aの両面に第1のベア半導体
チップ20A及び第2のベア半導体チップ20Bがそれ
ぞれ実装された第1の両面モジュール24aを作製す
る。
In this way, as shown in FIG.
A first double-sided module 24a in which a first bare semiconductor chip 20A and a second bare semiconductor chip 20B are respectively mounted on both surfaces of the first interposer 10a is manufactured.

【0050】また、図6に示されるように、上記図2〜
図5に示した工程と同様な工程を経て、第2のインター
ポーザ10bの両面に第3のベア半導体チップ20C及
び第4のベア半導体チップ20Dがそれぞれ実装された
第2の両面モジュール24bを作製する。
Also, as shown in FIG.
Through a process similar to the process shown in FIG. 5, a second double-sided module 24b in which the third bare semiconductor chip 20C and the fourth bare semiconductor chip 20D are respectively mounted on both surfaces of the second interposer 10b is manufactured. .

【0051】次いで、図7に示されるように、第1の両
面モジュール24aと第2の両面モジュール24bとを
積層し電気的に接続するための中間接続体として、リジ
ットなスペーサ枠基板26を用意する。このスペーサ枠
基板26を作製する際には、中央に空間を形成する所定
の厚さの枠状の絶縁基板28の両面に、それぞれ半田接
続ランド部30をスクリーン印刷によって形成する。ま
た、その際に、図示は省略するが、枠状の絶縁基板28
の両面にそれぞれ形成する半田接続ランド部30を、こ
の枠状の絶縁基板28を貫通する配線層によって互いに
電気的に接続する。
Next, as shown in FIG. 7, a rigid spacer frame substrate 26 is prepared as an intermediate connector for laminating and electrically connecting the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b. I do. When manufacturing the spacer frame substrate 26, solder connection lands 30 are formed by screen printing on both surfaces of a frame-shaped insulating substrate 28 having a predetermined thickness forming a space in the center. At this time, although not shown, the frame-shaped insulating substrate 28
The solder connection lands 30 formed on both sides of the substrate are electrically connected to each other by a wiring layer penetrating the frame-shaped insulating substrate 28.

【0052】そして、このようにして作製した中間接続
体としてのスペーサ枠基板26に、半田32を介して、
第1の両面モジュール24aを接続する。即ち、図7及
び図8に示されるように、スペーサ枠基板26の一方の
面側の半田接続ランド部30上に半田32を塗布した
後、この半田32を介して、第1の両面モジュール24
aの第2のベア半導体チップ20Bが実装されている面
側の接続ランド部16とスペーサ枠基板26の一方の面
側の半田接続ランド部30とを接続する。その後、この
半田32を加熱リフローする。こうして、スペーサ枠基
板26に、半田32を介して、第1の両面モジュール2
4aを接続する。
Then, a spacer 32 is provided on the spacer frame substrate 26 as an intermediate connector manufactured in this manner via a solder 32.
The first double-sided module 24a is connected. That is, as shown in FIGS. 7 and 8, after the solder 32 is applied on the solder connection land 30 on one surface side of the spacer frame substrate 26, the first double-sided module 24 is
The connection land portion 16 on the surface on which the second bare semiconductor chip 20B is mounted and the solder connection land portion 30 on one surface side of the spacer frame substrate 26 are connected. Thereafter, the solder 32 is heated and reflowed. Thus, the first double-sided module 2 is mounted on the spacer frame substrate 26 via the solder 32.
4a is connected.

【0053】なお、このとき、スペーサ枠基板26は所
定の厚さを有しているため、第1の両面モジュール24
aに実装されている第2のベア半導体チップ20Bは、
スペーサ枠基板26によって周囲を囲まれた空間内に収
納され、第2のベア半導体チップ20Bその底面がスペ
ーサ枠基板26の枠外に、即ちスペーサ枠基板26の底
面のなす平面より下方に突き出ることはない。
At this time, since the spacer frame substrate 26 has a predetermined thickness, the first double-sided module 24
The second bare semiconductor chip 20B mounted on a
The second bare semiconductor chip 20B is housed in a space surrounded by the spacer frame substrate 26, and the bottom surface of the second bare semiconductor chip 20B protrudes outside the frame of the spacer frame substrate 26, that is, below the plane formed by the bottom surface of the spacer frame substrate 26. Absent.

【0054】また、図9及び図10に示されるように、
上記図7及び図8に示した工程と同様にして、スペーサ
枠基板26の他方の面側の半田接続ランド部30上に半
田32を塗布した後、スペーサ枠基板26の他方の面側
の半田接続ランド部30と第2の両面モジュール24a
の第3のベア半導体チップ20Cが実装されている面側
の接続ランド部16とを、半田32を介して接続し、更
にこの半田32を加熱リフローする。こうして、既に第
1の両面モジュール24aが接続されているスペーサ枠
基板26に、第2の両面モジュール24bを接続し、ス
ペーサ枠基板26を介して互いに接続された第1の両面
モジュール24a及び第2の両面モジュール24bから
なる積層体を形成する。
As shown in FIGS. 9 and 10,
7 and 8, the solder 32 is applied onto the solder connection lands 30 on the other surface of the spacer frame substrate 26, and then the solder 32 is applied on the other surface of the spacer frame substrate 26. Connection land 30 and second double-sided module 24a
The connection land portion 16 on the surface on which the third bare semiconductor chip 20C is mounted is connected via solder 32, and the solder 32 is heated and reflowed. Thus, the second double-sided module 24b is connected to the spacer frame substrate 26 to which the first double-sided module 24a is already connected, and the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24a connected to each other via the spacer frame substrate 26 are connected. Of the double-sided module 24b is formed.

【0055】なお、このとき、中間接続体としてのスペ
ーサ枠基板26は所定の厚さを有しているため、第2の
両面モジュール24bに実装されている第3のベア半導
体チップ20Cは、このスペーサ枠基板26によって周
囲を囲まれた空間内に収納されると共に、同じ空間に収
納されされている第1の両面モジュール24aの第2の
ベア半導体チップ20Bと抵触することはない。
At this time, since the spacer frame substrate 26 as an intermediate connector has a predetermined thickness, the third bare semiconductor chip 20C mounted on the second double-sided module 24b is not The second bare semiconductor chip 20B of the first double-sided module 24a that is housed in the space surrounded by the spacer frame substrate 26 and that is housed in the same space does not conflict.

【0056】次いで、図11に示されるように、スペー
サ枠基板26を介して互いに接続された第1の両面モジ
ュール24a及び第2の両面モジュール24bからなる
積層体、即ち第1〜第4のベア半導体チップ20A、2
0B、20C、20Dが4段に積層された4段積層モジ
ュールを、マザーボード34に実装する。
Next, as shown in FIG. 11, a laminate composed of a first double-sided module 24a and a second double-sided module 24b connected to each other via a spacer frame substrate 26, that is, first to fourth bearers Semiconductor chip 20A, 2
A four-layer module in which 0B, 20C, and 20D are stacked in four layers is mounted on the motherboard.

【0057】即ち、マザーボード34の絶縁基板36に
形成された配線層38上に半田40をスクリーン印刷し
た後、この半田40を介して、第2の両面モジュール2
4bの第4のベア半導体チップ20Dが実装されている
面側の接続ランド部16とマザーボード34の配線層3
8とを接続する。その後、この半田40を加熱リフロー
して、第1〜第4のベア半導体チップ20A、20B、
20C、20Dが4段に積層された4段積層モジュール
を、マザーボード34に実装する。こうして、図1に示
す3次元実装構造の積層型半導体装置を完成する。
That is, after the solder 40 is screen-printed on the wiring layer 38 formed on the insulating substrate 36 of the motherboard 34, the second double-sided module 2 is
4b, the connection land 16 on the side on which the fourth bare semiconductor chip 20D is mounted and the wiring layer 3 of the motherboard 34
8 is connected. Thereafter, the solder 40 is heated and reflowed, and the first to fourth bare semiconductor chips 20A, 20B,
A four-layer module in which 20C and 20D are stacked in four layers is mounted on the motherboard. Thus, the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure shown in FIG. 1 is completed.

【0058】以上のように本実施の形態によれば、第1
のインターポーザ10aの両面に第1のベア半導体チッ
プ20A及び第2のベア半導体チップ20Bがそれぞれ
実装された第1の両面モジュール24aと、第2のイン
ターポーザ10bの両面に第3のベア半導体チップ20
C及び第4のベア半導体チップ20Dがそれぞれ実装さ
れた第2の両面モジュール24bとを作製した後、これ
ら第1の両面モジュール24aと第2の両面モジュール
24bとを積層する際に、中間接続体として、枠状の絶
縁基板28の両面にそれぞれ半田接続ランド部30がス
クリーン印刷されているリジットなスペーサ枠基板26
を使用し、第1の両面モジュール24aの第2のベア半
導体チップ20Bが実装されている面側の接続ランド部
16とスペーサ枠基板26の一方の面側の半田接続ラン
ド部30とを半田32を介して接続する一方、スペーサ
枠基板26の他方の面側の半田接続ランド部30と第2
の両面モジュール24aの第3のベア半導体チップ20
Cが実装されている面側の接続ランド部16とを半田3
2を介して接続することにより、従来の中間接続体とし
て半田ボールを使用する場合と比較して、積層する第1
の両面モジュール24aと第2の両面モジュール24b
との接続精度を大幅に向上することができると共に、フ
ラックスを塗布したり洗浄除去したりする工程がなくな
り、実装時間を大幅に短縮することができる。従って、
積層型半導体装置の品質及び製造歩留まりの大幅な向上
と、製造コストの大幅な低減を達成することができる。
As described above, according to the present embodiment, the first
The first bare semiconductor chip 20A and the second bare semiconductor chip 20B are respectively mounted on both surfaces of the interposer 10a, and the third bare semiconductor chip 20 is mounted on both surfaces of the second interposer 10b.
C and a second double-sided module 24b on which the fourth bare semiconductor chip 20D is mounted, respectively, and then, when the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b are stacked, an intermediate connector A rigid spacer frame substrate 26 in which solder connection lands 30 are screen-printed on both surfaces of a frame-shaped insulating substrate 28, respectively.
The connection lands 16 on the side of the first double-sided module 24a on which the second bare semiconductor chip 20B is mounted and the solder connection lands 30 on one side of the spacer frame substrate 26 are soldered 32 And the solder connection land portion 30 on the other surface side of the spacer frame substrate 26 and the second
Third bare semiconductor chip 20 of the double-sided module 24a of FIG.
The solder 3 is connected to the connection land 16 on the surface on which C is mounted.
By connecting via the second, the first stacked layer is compared with the case where a solder ball is used as a conventional intermediate connector.
Double-sided module 24a and second double-sided module 24b
Connection accuracy can be greatly improved, and a step of applying or cleaning and removing the flux is eliminated, so that the mounting time can be greatly reduced. Therefore,
The quality and production yield of the stacked semiconductor device can be significantly improved, and the production cost can be significantly reduced.

【0059】また、枠状の絶縁基板28の両面にそれぞ
れ半田接続ランド部30がスクリーン印刷されているリ
ジットなスペーサ枠基板26の厚さは例えば100μm
程度にすることが可能であり、従来の中間接続体として
の半田ボールの高さが例えば0.35〜0.4mm程度
である場合よりも遙かに小さくすることができるため、
第1の両面モジュール24a及び第2の両面モジュール
24bにそれぞれ実装される第1及び第2のベア半導体
チップ20A、20B並びに第3及び第4のベア半導体
チップ20C、20Dの厚さを薄くすれば、これら第1
〜第4のベア半導体チップ20A、20B、20C、2
0Dが4段に積層された4段積層モジュール全体の高さ
方向の薄型化を容易に実現することができる。従って、
第1〜第4のベア半導体チップ20A、20B、20
C、20Dを3次元に実装した積層型半導体装置の薄型
化を達成し、延いては積層型半導体装置を組み込んだ電
子機器の小型・薄型化に寄与することができる。
The thickness of the rigid spacer frame substrate 26 in which the solder connection lands 30 are screen-printed on both sides of the frame-shaped insulating substrate 28 is, for example, 100 μm.
It is possible to make it much smaller than the case where the height of the solder ball as a conventional intermediate connector is, for example, about 0.35 to 0.4 mm,
If the thicknesses of the first and second bare semiconductor chips 20A and 20B and the third and fourth bare semiconductor chips 20C and 20D mounted on the first double-sided module 24a and the second double-sided module 24b are reduced, , These first
To fourth bare semiconductor chips 20A, 20B, 20C, 2
It is possible to easily reduce the thickness of the entire four-layer stacked module in which 0D is stacked in four layers in the height direction. Therefore,
First to fourth bare semiconductor chips 20A, 20B, 20
The thickness of the stacked semiconductor device in which the C and 20D are mounted three-dimensionally can be reduced, and the electronic device incorporating the stacked semiconductor device can be reduced in size and thickness.

【0060】また、スペーサ枠基板26を作製する際
に、第1の両面モジュール24aや第2の両面モジュー
ル24aの接続ランド部16に接続させる接続端子とし
ての半田接続ランド部30を枠状の絶縁基板28の両面
にそれぞれスクリーン印刷によって形成することによ
り、この半田接続ランド部30を精確に形成することが
可能になるため、従来の半田ボールを搭載する場合と比
較して、積層する第1の両面モジュール24aと第2の
両面モジュール24bとの接続精度の大幅な向上を容易
に確保するできる。また、半田印刷という既存の技術を
使用するため、新たな装置を必要とすることなく既存の
装置をそのまま流用することが可能になるため、製造コ
ストの上昇を防止することができる。
When the spacer frame substrate 26 is manufactured, the solder connection land portion 30 as a connection terminal to be connected to the connection land portion 16 of the first double-sided module 24a or the second double-sided module 24a is frame-shaped insulated. By forming the solder connection lands 30 on both sides of the substrate 28 by screen printing, the solder connection lands 30 can be accurately formed. Significant improvement in connection accuracy between the double-sided module 24a and the second double-sided module 24b can be easily ensured. In addition, since the existing technology of solder printing is used, the existing device can be used as it is without requiring a new device, so that an increase in manufacturing cost can be prevented.

【0061】なお、上記実施の形態においては、第1の
インターポーザ10aの両面に第1のベア半導体チップ
20A及び第2のベア半導体チップ20Bがそれぞれ実
装された第1の両面モジュール24aと、第2のインタ
ーポーザ10bの両面に第3のベア半導体チップ20C
及び第4のベア半導体チップ20Dがそれぞれ実装され
た第2の両面モジュール24bとを積層しているが、こ
のような両面モジュールの代わりに、インターポーザの
片面のみに半導体チップが実装された片面モジュールを
積層し、その際の中間接続体として、枠状の絶縁基板2
8の両面にそれぞれ半田接続ランド部30がスクリーン
印刷されているリジットなスペーサ枠基板26を使用し
てもよい。即ち、本発明は、複数段に積層するモジュー
ルが片面モジュールであっても両面モジュールであって
も、中間接続体としてのスペーサ枠基板26の厚さを調
整することにより、何れの場合にも対応することが可能
である。
In the above embodiment, the first double-sided module 24a in which the first bare semiconductor chip 20A and the second bare semiconductor chip 20B are respectively mounted on both surfaces of the first interposer 10a, Third bare semiconductor chips 20C on both sides of the interposer 10b.
And a second double-sided module 24b on which the fourth bare semiconductor chip 20D is mounted, respectively. Instead of such a double-sided module, a single-sided module in which the semiconductor chip is mounted on only one side of the interposer is used. Are laminated, and a frame-shaped insulating substrate 2 is used as an intermediate connector at that time.
A rigid spacer frame substrate 26 in which solder connection lands 30 are screen-printed on both surfaces of the substrate 8 may be used. That is, the present invention is applicable to any case by adjusting the thickness of the spacer frame substrate 26 as an intermediate connector regardless of whether the module to be stacked in a plurality of stages is a single-sided module or a double-sided module. It is possible to

【0062】[0062]

【発明の効果】以上詳細に説明した通り、本発明に係る
積層型半導体装置及びその製造方法によれば、次のよう
な効果を奏することができる。即ち、請求項1に係る積
層型半導体装置によれば、インターポーザに半導体チッ
プが実装されたモジュールが、両面に接続端子が形成さ
れたスペーサ枠基板を介して複数段に積層されているこ
とにより、即ち複数段に積層されたモジュール間に介在
させる中間接続体として、両面に接続端子が形成された
スペーサ枠基板を使用していることにより、従来の中間
接続体として半田ボールを使用している場合と比較し
て、積層する複数段のモジュール間の接続精度を大幅に
向上することができると共に、実装時間の短縮を容易に
実現することができる。従って、積層型半導体装置の品
質や製造歩留まりの大幅な向上と共に、製造コストの低
減を達成することができる。
As described in detail above, according to the stacked semiconductor device and the method of manufacturing the same of the present invention, the following effects can be obtained. That is, according to the stacked semiconductor device of the first aspect, the module in which the semiconductor chip is mounted on the interposer is stacked in a plurality of stages via the spacer frame substrate having the connection terminals formed on both surfaces. That is, when a solder ball is used as a conventional intermediate connector by using a spacer frame substrate having connection terminals formed on both surfaces as an intermediate connector interposed between modules stacked in a plurality of stages. Compared with the above, the connection accuracy between a plurality of stacked modules can be greatly improved, and the mounting time can be easily reduced. Therefore, it is possible to significantly improve the quality and the production yield of the stacked semiconductor device and to reduce the production cost.

【0063】また、両面に接続端子が形成されたスペー
サ枠基板の厚さを従来の中間接続体としての半田ボール
の高さよりも遙かに小さくすることが可能なため、モジ
ュールに実装される各ベア半導体チップの厚さを薄くす
れば、複数段のモジュールの積層体全体の高さ方向の薄
型化を容易に実現することができる。従って、積層型半
導体装置の薄型化を達成し、延いては積層型半導体装置
を組み込んだ電子機器の小型・薄型化に寄与することが
できる。
Further, the thickness of the spacer frame substrate having connection terminals formed on both sides can be made much smaller than the height of a solder ball as a conventional intermediate connector, so that each of the components mounted on the module can be mounted. If the thickness of the bare semiconductor chip is reduced, it is possible to easily realize a reduction in the height direction of the entire stacked body of a plurality of modules. Therefore, the thickness of the stacked semiconductor device can be reduced, and the electronic device incorporating the stacked semiconductor device can be reduced in size and thickness.

【0064】また、請求項4に係る積層型半導体装置の
製造方法によれば、インターポーザに半導体チップが実
装されたモジュールを複数段に積層する際に、各モジュ
ール間に介在させる中間接続体として、両面に接続端子
を形成したスペーサ枠基板を使用することにより、従来
の中間接続体として半田ボールを使用する場合と比較し
て、積層する複数段のモジュール間の接続精度を大幅に
向上することができると共に、実装時間の短縮を容易に
実現することができる。従って、積層型半導体装置の品
質や製造歩留まりの大幅な向上と共に、製造コストの低
減を達成することができる。
Further, according to the method of manufacturing a stacked semiconductor device according to the fourth aspect, when stacking a plurality of modules having semiconductor chips mounted on the interposer, as an intermediate connector interposed between the modules, By using a spacer frame substrate with connection terminals formed on both sides, the connection accuracy between multiple stacked modules can be greatly improved compared to the case where solder balls are used as conventional intermediate connectors. In addition to that, the mounting time can be easily reduced. Therefore, it is possible to significantly improve the quality and the production yield of the stacked semiconductor device and to reduce the production cost.

【0065】また、両面に接続端子が形成されたスペー
サ枠基板の厚さを従来の中間接続体としての半田ボール
の高さよりも遙かに小さくすることが可能なため、モジ
ュールに実装される各ベア半導体チップの厚さを薄くす
れば、複数段のモジュールの積層体全体の高さ方向の薄
型化を容易に実現することができる。従って、積層型半
導体装置の薄型化を達成し、延いては積層型半導体装置
を組み込んだ電子機器の小型・薄型化に寄与することが
できる。
Further, since the thickness of the spacer frame substrate having connection terminals formed on both surfaces can be made much smaller than the height of the solder ball as a conventional intermediate connector, each spacer mounted on the module can be formed. If the thickness of the bare semiconductor chip is reduced, it is possible to easily realize a reduction in the height direction of the entire stacked body of a plurality of modules. Therefore, the thickness of the stacked semiconductor device can be reduced, and the electronic device incorporating the stacked semiconductor device can be reduced in size and thickness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る3次元実装構造の
積層型半導体装置を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a stacked semiconductor device having a three-dimensional mounting structure according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その1)であ
る。
FIG. 2 is a schematic process cross-sectional view (part 1) for describing the method for manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG.

【図3】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その2)であ
る。
FIG. 3 is a schematic process sectional view (part 2) for describing the method for manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG. 1;

【図4】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その3)であ
る。
FIG. 4 is a schematic process sectional view (part 3) for describing the method for manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG.

【図5】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その4)であ
る。
FIG. 5 is a schematic process sectional view (part 4) for describing the method of manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG.

【図6】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その5)であ
る。
FIG. 6 is a schematic process sectional view (part 5) for describing the method of manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG.

【図7】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その6)であ
る。
FIG. 7 is a schematic process sectional view (part 6) for describing the method of manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG.

【図8】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その7)であ
る。
FIG. 8 is a schematic process sectional view (part 7) for explaining the method for manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG. 1;

【図9】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の製
造方法を説明するための概略工程断面図(その8)であ
る。
FIG. 9 is a schematic process sectional view (part 8) for describing the method for manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG.

【図10】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の
製造方法を説明するための概略工程断面図(その9)で
ある。
10 is a schematic process sectional view (No. 9) for describing the method for manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG.

【図11】図1の3次元実装構造の積層型半導体装置の
製造方法を説明するための概略工程断面図(その10)
である。
FIG. 11 is a schematic process sectional view for explaining the method of manufacturing the stacked semiconductor device having the three-dimensional mounting structure in FIG. 1 (part 10)
It is.

【図12】従来の3次元実装構造のメモリモジュールの
製造プロセスを説明するための概略工程断面図(その
1)である。
FIG. 12 is a schematic process sectional view (part 1) for describing the manufacturing process of the conventional memory module having a three-dimensional mounting structure.

【図13】従来の3次元実装構造のメモリモジュールの
製造プロセスを説明するための概略工程断面図(その
2)である。
FIG. 13 is a schematic process sectional view (part 2) for describing the manufacturing process of the memory module having the conventional three-dimensional mounting structure.

【図14】従来の3次元実装構造のメモリモジュールの
製造プロセスを説明するための概略工程断面図(その
3)である。
FIG. 14 is a schematic process sectional view (part 3) for describing the manufacturing process of the memory module having the conventional three-dimensional mounting structure.

【図15】従来の3次元実装構造のメモリモジュールの
製造プロセスを説明するための概略工程断面図(その
4)である。
FIG. 15 is a schematic process sectional view (part 4) for describing the manufacturing process of the memory module having the conventional three-dimensional mounting structure.

【図16】従来の3次元実装構造のメモリモジュールの
製造プロセスを説明するための概略工程断面図(その
5)である。
FIG. 16 is a schematic process sectional view (part 5) for describing the manufacturing process of the memory module having the conventional three-dimensional mounting structure.

【図17】従来の3次元実装構造のメモリモジュールの
製造プロセスを説明するための概略工程断面図(その
6)である。
FIG. 17 is a schematic process sectional view (part 6) for describing the manufacturing process of the memory module having the conventional three-dimensional mounting structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10a……第1のインターポーザ、10b……第1のイ
ンターポーザ、12……絶縁層、14……配線層、16
……接続ランド部、18……ACF、20A……第1の
ベア半導体チップ、20B……第2のベア半導体チッ
プ、20C……第3のベア半導体チップ、20D……第
4のベア半導体チップ、22……電極、24a……第1
の両面モジュール、24b……第2の両面モジュール、
26……スペーサ枠基板、28……枠状の絶縁基板、3
0……半田接続ランド部、32……半田、34……マザ
ーボード、36……絶縁基板、38……配線層、40…
…半田、42…………半田ボール。
10a first interposer, 10b first interposer, 12 insulating layer, 14 wiring layer, 16
... Connection land portion, 18 ACF, 20A... First bare semiconductor chip, 20B... Second bare semiconductor chip, 20C... Third bare semiconductor chip, 20D. , 22... Electrodes, 24a.
A double-sided module, 24b... A second double-sided module,
26: spacer frame substrate, 28: frame-shaped insulating substrate, 3
0: solder connection land portion, 32: solder, 34: motherboard, 36: insulating substrate, 38: wiring layer, 40:
... solder, 42 ... solder balls.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮地 静一 愛知県額田郡幸田町大字坂崎字雀ケ入1番 地 ソニー幸田株式会社内 (72)発明者 柳澤 喜行 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Shizuichi Miyaji 1st place in the town of Koda-cho, Nita-gun, Aichi Prefecture Chome 7-35 Inside Sony Corporation

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 インターポーザに半導体チップが実装さ
れたモジュールがマザーボード上に複数段に積層されて
いる積層型半導体装置であって、 前記モジュールが、両面に接続端子が形成されたスペー
サ枠基板を介して複数段に積層されており、 複数段に積層されている前記モジュールの接続部が、前
記スペーサ枠基板の前記接続端子を介して接続されてい
ることを特徴とする積層型半導体装置。
1. A stacked semiconductor device in which a module in which a semiconductor chip is mounted on an interposer is stacked on a motherboard in a plurality of stages, wherein the module is interposed via a spacer frame substrate having connection terminals formed on both surfaces. Wherein the connection portions of the modules stacked in a plurality of stages are connected via the connection terminals of the spacer frame substrate.
【請求項2】 請求項1記載の積層型半導体装置におい
て、 前記モジュールが、インターポーザの両面にそれぞれ半
導体チップが実装された両面モジュールであることを特
徴とする積層型半導体装置。
2. The stacked semiconductor device according to claim 1, wherein the module is a double-sided module in which semiconductor chips are mounted on both surfaces of an interposer.
【請求項3】 請求項1記載の積層型半導体装置におい
て、 前記スペーサ枠基板の前記接続端子が、前記スペーサ枠
基板の両面に半田印刷されていることを特徴とする積層
型半導体装置。
3. The stacked semiconductor device according to claim 1, wherein the connection terminals of the spacer frame substrate are printed by soldering on both surfaces of the spacer frame substrate.
【請求項4】 インターポーザに半導体チップを実装し
たモジュールをマザーボード上に複数段に積層する積層
型半導体装置の製造方法であって、 前記モジュールを複数段に積層する際に、各モジュール
間に介在させる中間接続体として、両面に接続端子を形
成したスペーサ枠基板を使用し、前記モジュールの接続
部と前記スペーサ枠基板の前記接続端子とを接続させる
ことを特徴とする積層型半導体装置。
4. A method for manufacturing a stacked semiconductor device in which a module having a semiconductor chip mounted on an interposer is stacked on a motherboard in a plurality of stages, wherein the modules are interposed between the modules when the modules are stacked in a plurality of stages. A stacked semiconductor device, wherein a spacer frame substrate having connection terminals formed on both surfaces is used as an intermediate connector, and a connection portion of the module is connected to the connection terminal of the spacer frame substrate.
【請求項5】 請求項4記載の積層型半導体装置の製造
方法において、 前記インターポーザに前記半導体チップを実装する際
に、前記インターポーザの両面にそれぞれに半導体チッ
プを実装することを特徴とする積層型半導体装置の製造
方法。
5. The method of manufacturing a stacked semiconductor device according to claim 4, wherein when mounting the semiconductor chip on the interposer, semiconductor chips are mounted on both surfaces of the interposer, respectively. A method for manufacturing a semiconductor device.
【請求項6】 請求項4記載の積層型半導体装置の製造
方法において、 前記スペーサ枠基板の両面に前記接続端子を形成する際
に、半田印刷により形成することを特徴とする積層型半
導体装置の製造方法。
6. The method of manufacturing a stacked semiconductor device according to claim 4, wherein the connection terminals are formed by solder printing when forming the connection terminals on both surfaces of the spacer frame substrate. Production method.
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