JP2002098620A

JP2002098620A - 走査型プローブ顕微鏡

Info

Publication number: JP2002098620A
Application number: JP2000294035A
Authority: JP
Inventors: Katsunori Honma; 克則本間; Akira Egawa; 明江川; Tatsuya Miyatani; 竜也宮谷
Original assignee: Seiko Instruments Inc
Current assignee: Seiko Instruments Inc
Priority date: 2000-09-27
Filing date: 2000-09-27
Publication date: 2002-04-05

Abstract

(57)【要約】【課題】走査型プローブ顕微鏡において、大面積を短
時間で走査するために、複数のプローブを備え、かつ、
簡便な装置構成とする。【解決手段】走査型プローブ顕微鏡において、複数の
プローブ１０４と、プローブと同数の変位検出手段１０
７と、変位検出手段１０７によって得られるプローブと
同数の変位信号を増幅変調し、スキャナ１０１(b)に順
番にフィードバック信号として入力する順次フィードバ
ック回路１０９とを有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】先鋭化された先端部を有する
プローブと、プローブの変位量を検出する変位検出手段
と、プローブを試料表面に対してＸＹＺ方向に３次元的
に相対走査するスキャナと、変位検出手段によって得ら
れる変位信号を増幅変調し、スキャナのＺ軸にフィード
バック信号として入力するフィードバック回路と、スキ
ャナのＸＹ軸に印加する電圧を元に試料表面のＸＹ座標
を構成し、スキャナのＺ軸に入力するフィードバック信
号を試料表面の高さ情報としてＸＹ座標にマッピングし
試料表面形状を再現する試料表面形状再現手段と、から
なる走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）に関する。

【０００２】

【従来の技術】走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）は、機
械的探針（以下、プローブと呼ぶ）によって試料表面を
走査し、プローブと試料表面との間に働く相互作用を検
出することによって、試料表面の物理量をｎｍ（１０−
６ｍ）以下の極めて高い分解能で観察する装置である。
例えば、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）の一つとして
代表的な原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）では、プローブと試
料表面の間に働く原子間力などをプローブのたわみ量変
化という情報で検出し、このたわみ量を一定となるよう
にＺスキャナに電圧を印加し、この印加電圧を高さ情報
とすることによって試料の表面形状を再現し観察するこ
とができる。この走査型プローブ顕微鏡の装置は、一般
的には主に１つのスキャナと、１つのプローブと、プロ
ーブ変位検出装置とからなる。具体的な一例としては、
スキャナの上に試料台を設けて試料を載せる。プローブ
は試料表面直上に配置し、プローブの上側にプローブ変
位検出装置を配置する。観察は、試料をスキャナによっ
てＸＹ方向に走査して行う、という構成が挙げられる。
こうした構成を持つ走査型プローブ顕微鏡は、試料表面
の微小な範囲（１〜１００μｍ）を、高分解能で観察す
るには最適の装置である。

【０００３】しかしながら、ここ数年、半導体ウェハ上
の微細構造や、ディスクのスタンパやレプリカの表面状
態を観察する用途が要求されるようになってきた。こう
した用途では大きな走査範囲（１００μｍ〜１ｍｍ）が
必要とされ、大面積で試料表面を粗く走査して観察目標
を探し、その部分を詳細に観察測定する。このような試
料走査方法は、従来の構成の走査型プローブ顕微鏡では
対応できない。

【０００４】そこで、プローブを複数装備して試料表面
の広い領域を観察しようとする試みが１９９０年代後半
頃から行われるようになってきた。例えばＳ．Ｃ．Ｍｉ
ｎｎｅらは、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７３（１
２）、１９９８、１７４２〜１７４４ページにおいて、
５０個のカンチレバーを配して試料表面を観察する走査
型プローブ顕微鏡を開示している。

【０００５】図４に、Ｓ．Ｃ．Ｍｉｎｎｅらの開示して
いる走査型プローブ顕微鏡の模式図を示す。

【０００６】ＸＹスキャナ４０１上に、試料台４０２が
固定され、試料台４０２の上に試料４０３が搭載され
る。試料４０３の表面上方に、２個以上のプローブ４０
４が設置される。図１では３個のプローブで構成してい
るが、Ｓ．Ｃ．Ｍｉｎｎｅらは、５０個のプローブを配
置を試みている。プローブ４０４はそれぞれプローブと
同数のＺアクチュエータ４０５の自由端に固定される。
ＸＹスキャナ４０１は、試料４０３と、プローブ４０４
のチップ先端を接近させるためのＺステージ４０６に固
定される。プローブ４０４はプローブの曲がり変形量を
検出するための変位検出手段４０７に接続され、この変
位検出手段４０７にスキャナをＸＹＺに制御するスキャ
ナコントローラ４０８が接続される。スキャナコントロ
ーラ４０８は、Ｚアクチュエータ４０５、スキャナ４０
１、試料表面再現手段４０９に接続される。

【０００７】この走査型プローブ顕微鏡の動作は次のよ
うなものである。試料４０３の表面と、プローブ４０４
のチップ先端を、Ｚステージ４０６により接近させる
と、試料表面と、チップ先端の相互作用（原子間力等）
によりプローブ４０４は変位する。この状態でスキャナ
コントローラ４０８によりＸＹスキャナ４０１にＸＹス
キャン信号を入力し、ＸＹ方向にラスタースキャンさせ
ると、試料４０１の表面の高さ変化に応じてプローブ４
０４が変位する。プローブ４０４のそれぞれの変位は変
位検出手段４０７により変位信号として検出される。変
位信号はスキャナコントローラ４０８に入力され、スキ
ャナコントローラ４０８はこの変位信号が０となるよう
にそれぞれのＺアクチュエータ４０５にフィードバック
信号を入力する。このフィードバック信号を、ＸＹのス
キャン信号座標上にマッピングすることによって、試料
表面の形状を試料表面再現手段４１０により再現するこ
とができる。再現される試料表面は、プローブ４０４と
同数である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】Ｓ．Ｃ．Ｍｉｎｎｅら
の装置は、大面積を短時間で走査するという点において
は有効な結果を得ることができる。この反面、プローブ
１つ１つがＺ方向へ微動するアクチュエータを備えると
いう点で装置構成が複雑になると同時に、いくつかの短
所を併せ持つ。このプローブの固定部にはＺｎＯ等の圧
電膜によってバイモルフアクチュエータを形成し、それ
によってプローブを傾斜変位させプローブ先端（チッ
プ）をＺ方向へ微動させる。この方法は、個々のプロー
ブがそれぞれにＺアクチュエータを備えているため、応
答性が高く、高速で走査を可能とする点で優れている。
しかし、プローブの傾斜によってプローブ先端のチップ
が傾いてしまうため、サンプル表面の斜面形状とチップ
壁面が干渉し、観察像にアーティファクトが発生しやす
い。たとえば、サンプル表面のトレンチ構造にプローブ
チップが入り込むような状況では顕著である。また、プ
ローブを傾斜させるという構造上、Ｚ方向への微動距離
が制限されるという問題もある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題点を解決し、
さらに、より簡単なシステムを提供するために、本発明
では、自由端にチップを有するプローブと、前記プロ
ーブの変位量を検出する変位検出手段と、前記プローブ
を試料表面に対してＸＹＺ方向に３次元的に相対走査す
るスキャナと、前記変位検出手段によって得られる変位
信号を増幅変調し、前記プローブの変位が前記試料に対
して一定になるように、前記スキャナのＺ軸動作電極に
フィードバック信号として入力するフィードバック回路
と、前記スキャナのＸＹ軸に印加する電圧を元に試料表
面のＸＹ座標を構成し、前記スキャナのＺ軸動作電極に
入力する前記フィードバック信号を試料表面の高さ情報
としてＸＹ座標にマッピングし試料表面状態を再現する
試料表面再現手段と、からなる走査型プローブ顕微鏡に
おいて、前記プローブと前記変位検出手段は複数、か
つ、同数有り、前記複数の変位検出手段によって得られ
る前記複数のプローブと同数の変位信号を、増幅変調
し、該増幅変調した複数の信号を前記スキャナのＺ軸動
作電極に順番に前記フィードバック信号として入力する
順次フィードバック回路と、を有することを特徴とする
走査型プローブ顕微鏡を発明した。

【００１０】このような構成とすることにより、個々の
プローブにＺアクチュエータを備える必要がなく、１つ
のＸＹＺスキャナによって複数のプローブを走査し、そ
の一つ一つのプローブの変位信号を元としたフィードバ
ック信号を順番にスキャナに入力し、さらにこのフィー
ドバック信号をプローブと同数のＸＹ座標上に順番にマ
ッピングしていくことによって、プローブと同数の試料
表面像を同時に再現することを可能とした。

【００１１】

【発明の実施形態】以下に、本発明の走査型プローブ顕
微鏡の実施例について図に基づいて説明する。（１）第１の実施例図１は、本発明の走査型プローブ顕微鏡のうち、第１の
実施例を示した模式図である。図１において、スキャナ
１０１上に、試料台１０２が固定される。スキャナ１０
１は、ＸＹスキャナ１０１（ａ）と、Ｚスキャナ１０１
（ｂ）から構成される。試料台１０２の上に試料１０３
が搭載される。試料１０３の表面上方に、２個以上のプ
ローブ１０４が配置される。図１では３個のプローブで
構成しているが、装置構成においてはその数を限定する
ものではない。プローブ１０４は基盤１０５に固定され
る。スキャナ１０１は、試料１０３とプローブ１０４の
チップ先端の距離を接近させるためのＺステージ１０６
に固定される。プローブ１０４はプローブの曲がり変形
量を検出するための変位検出手段１０７に接続され、こ
の変位検出器１０７にスキャナ１０１をＸＹＺに制御す
るスキャナコントローラ１０８が接続される。スキャナ
コントローラ１０８にはプローブ１０４の変位信号を、
増幅変調し、Ｚスキャナ１０１（ｂ）に順番にフィード
バック信号として入力する順次フィードバック回路１０
９が含まれる。スキャナコントローラ１０８は、Ｚアク
チュエータ１０５、スキャナ１０１、試料表面再現手段
１１０に接続される。なお、本実施例ではプローブ１０
１の位置を固定とし、スキャナ１０１によって試料１０
３をＸＹＺ方向に走査する構成を示すが、試料１０３の
位置を固定としてプローブ１０４をスキャナ１０１によ
ってＸＹＺ方向に走査する構成も可能である。

【００１２】第１の実施例の動作は次のようなものであ
る（図示せず）。試料１０３の表面と、プローブ１０４
のチップ先端の距離を、Ｚステージ１０６により接近さ
せると、試料表面と、チップ先端の相互作用（原子間力
等）によりプローブ１０４は変位する。

【００１３】まず、プローブ１０４が１個である場合を
考えて動作を説明する。プローブ１０４のチップ先端が
試料１０３の表面から原子間力により変位した状態でス
キャナコントローラ１０８によりＸＹスキャナ１０１
（ａ）にＸＹスキャン信号を入力し、ＸＹ方向にラスタ
ースキャンさせる。これにより試料表面に対しては、プ
ローブ１０４をＸＹ方向にラスタースキャンさせること
になり、試料１０１の表面の高さ変化に応じてプローブ
１０４が変位する。プローブ１０４のそれぞれの変位は
変位検出手段１０７により変位信号として検出される。
変位信号はフィードバック回路１０９に入力され、フィ
ードバック回路１０９はこの変位信号が０となるように
Ｚスキャナ１０１（ｂ）を制御する。この制御信号を、
ＸＹのスキャン信号座標上にマッピングすることによっ
て、試料表面の形状を試料表面再現手段１１０により再
現することができる。

【００１４】次にプローブ１０４が３個ある場合の動作
を説明する。３個のプローブをそれぞれ、１０４
（ａ）、１０４（ｂ）、１０４（ｃ）とする。Ｚステー
ジ１０６により、すべてのプローブが試料１０３表面と
の相互作用により変位するまで、試料１０３をプローブ
１０４のチップに接近させる。この状態でスキャナコン
トローラ１０８によりスキャナ１０１にＸＹスキャン信
号を入力し、スキャナ１０１をラスタースキャンさせ
る。これにより試料表面に対してはプローブ１０４
（ａ）、１０４（ｂ）、１０４（ｃ）をＸＹ方向に同時
にラスタースキャンさせることになり、試料１０１の表
面の高さ変化に応じてプローブ１０４（ａ）、１０４
（ｂ）、１０４（ｃ）が変位する。プローブ１０４
（ａ）、１０４（ｂ）、１０４（ｃ）のそれぞれの変位
は変位検出手段１０７により変位信号として検出され、
この変位信号は順次フィードバック回路１０９に入力さ
れる。プローブが１個の場合では、順次フィードバック
回路１０９はこの変位信号が０となるようにＺスキャナ
１０１（ｂ）を制御する。プローブが３個の場合、まず
プローブ１０４（ａ）の変位信号が０となるように順次
フィードバック回路１０９によりフィードバック信号を
出力し、Ｚスキャナ１０１（ｂ）を制御する。このフィ
ードバック信号を、ＸＹのスキャン信号座標上にマッピ
ングすることによって、プローブ１０４（ａ）がスキャ
ンする試料表面の形状を試料表面再現手段１１０により
再現することができる。次に、順次フィードバック回路
１０９の内部経路を切り換えて、プローブ１０４（ｂ）
の変位変位信号が０となるようにＺスキャナ１０１
（ｂ）を制御する。この制御信号を、ＸＹのスキャン信
号座標上にマッピングすることによって、プローブ１０
４（ｂ）がスキャンする試料表面の形状を試料表面再現
手段１１０により再現することができる。同様にプロー
ブ１０４（ｃ）の変位信号が０となるようにＺスキャナ
１０１（ｂ）を制御することで、プローブ１０４（ｃ）
がスキャンする試料表面の形状を試料表面再現手段１１
０により再現することができる。このようにスキャナコ
ントローラ１０８が参照する変位信号の切り換え動作を
プローブ１０４（ａ）、１０４（ｂ）、１０４（ｃ）で
順次行っていくことによって、それぞれのプローブがス
キャンする領域の試料表面形状を再現することができ
る。プローブ１０４の数が３個より多い場合も、同様に
動作させることで、各プローブがスキャンする領域の試
料表面形状を再現することができる。

【００１５】図２は、図１で説明したフィードバック信
号の切り換え動作を、ＸＹラスタースキャンのＸ方向１
ライン毎に行う場合を説明した模式図である。図２
（ａ）は、スキャナ１０１のＸＹラスタースキャンの動
作を上から見た状態である。１個の黒点は、試料１０３
の高さ情報（Ｚスキャナに印加するフィードバック信
号）を１個サンプリングするタイミング（１ピクセル）
を示している。図２（ａ）では、Ｘ方向に６ラインスキ
ャンし、各ラインで１０回サンプリング（１０ピクセル
サンプリング）する場合を想定する。図２（ｂ）は、そ
れぞれのプローブがトレースするＸ方向１ラインあたり
の試料表面の形状を表し、黒点は、その形状のどの点の
高さ情報をサンプリングするかを示す。サンプリングす
るラインの順番を→→→で示す。図２（ｃ）
は、それぞれのプローブでサンプリングされた高さ情報
をＸＹのスキャン信号座標上にマッピングした場合の、
試料表面形状を意味する。図２（ｃ）により、プローブ
が３個の場合、１個のスキャナによって３箇所の試料表
面が再現されることが説明される。たとえば、スキャナ
のスキャン領域が１００μｍ×１００μｍである場合
は、プローブ３個であれば１００μｍ×３００μｍの領
域の試料表面形状を再現することができる。図２では６
ラインによって説明しているため、それぞれのプローブ
で得られる試料表面の高さ情報は２ライン分にすぎない
が、たとえば、スキャンライン数が２０４８ラインであ
る場合は、それぞれのプローブで得られる試料表面の高
さ情報は約６８２ライン分となり、ライン間ピッチは
０.１５μｍとなる。ＣＤ−ＲＯＭのスタンパ等の広い
領域を高速でスキャンし、欠陥部分を探索するといった
用途では充分機能する分解能となる。

【００１６】また仮に、プローブが１０個、スキャナの
スキャン領域が１００μｍ×１００μｍである場合、１
００μｍ×１ｍｍの領域の試料表面形状を再現すること
ができる。総ライン数を２０４８とすれば、１個の再現
試料表面あたりのライン数は２０４ラインとなる。この
時、ライン間ピッチは０．５μｍとなる。

【００１７】図３は、図１でフィードバック信号の切り
換え動作を、ＸＹラスタースキャンのＸ方向の１ピクセ
ル毎に行った場合を説明した模式図である。図３（ａ）
は、スキャナ１０１のＸＹラスタースキャンの動作を上
から見た状態である。１個の黒点は、図２と同様、試料
１０３の高さ情報（Ｚスキャナに印加するフィードバッ
ク信号）を１個サンプリングするタイミング（１ピクセ
ル）を示している。図３（ａ）では、Ｘ方向に５ライン
スキャンし、各ラインで１０回サンプリング（１０ピク
セルサンプリング）する場合を想定する。図３（ｂ）
は、それぞれのプローブがトレースするＸ方向１ライン
あたりの試料表面の形状を表し、黒点は、その形状のど
の点の高さ情報をサンプリングするかを示す。１ライン
毎にフィードバック信号を切り換える場合とは異なり、
１ピクセル毎にフィードバック信号を切り換えるため、
実際の動作としては、Ｚスキャナ１０１（ｂ）にフィー
ドバック信号が入力されると同時にサンプリングが行わ
れる。サンプリングするピクセルの順番を→→→
で示す。図３（ｃ）は、それぞれのプローブでサンプ
リングされた高さ情報をＸＹのスキャン信号座標上にマ
ッピングした場合の、試料表面形状を意味する。図３
（ｃ）により、プローブが３個の場合、１個のスキャナ
によって３箇所の試料表面が再現されることが説明され
る。たとえば、スキャナのスキャン領域が１００μｍ×
１００μｍである場合は、プローブ３個であれば１００
μｍ×３００μｍの領域の試料表面形状を再現すること
ができる。図３では、図２と異なり変位信号の切り換え
動作を１ピクセル毎に行うため、再現される３箇所の試
料表面は、１ピクセル分ずつずれていく。図３では１２
ピクセルによって説明しているため、それぞれのプロー
ブで得られる試料表面の高さ情報は１ラインあたり４ピ
クセルにすぎないが、たとえば、１ラインスキャンあた
りのピクセル数を２０４８個とする場合は、それぞれの
プローブで得られる試料表面の高さ情報は約６８２ピク
セル／１ラインとなり、ピクセル間ピッチは０．１５μ
ｍとなる。これは、ＣＤ−ＲＯＭのスタンパ等の広い領
域を高速でスキャンし、欠陥部分を探索するといった用
途では充分機能する分解能となる。

【００１８】以上説明したように、自由端にチップを有
するプローブと、プローブの変位量を検出する変位検出
手段と、プローブを試料表面に対してＸＹＺ方向に３次
元的に相対走査するスキャナと、変位検出手段によって
得られる変位信号を増幅変調し、スキャナのＺ軸にフィ
ードバック信号として入力するフィードバック回路と、
スキャナのＸＹ軸に印加する電圧を基に試料表面のＸＹ
座標を構成し、スキャナのＺ軸にフィードバックする電
圧信号を試料表面の高さ情報としてＸＹ座標にマッピン
グし試料表面状態を再現する試料表面再現手段と、から
なる走査型プローブ顕微鏡において、プローブと変位検
出手段は複数、かつ、同数有り、変位検出手段によって
得られるプローブと同数の変位信号を、増幅変調し、ス
キャナに順番にフィードバック信号として入力する順次
フィードバック回路と、を有する走査型プローブ顕微鏡
を考案した。

【００１９】

【発明の効果】本願発明の構成とすることにより、個々
のプローブ毎にＺアクチュエータを備える必要がなく、
１つのＸＹＺスキャナによって複数のプローブを走査
し、その一つ一つのプローブの変位信号を元としたフィ
ードバック信号を順番にスキャナに入力し、さらにこの
フィードバック信号をプローブと同数のＸＹ座標上に順
番にマッピングしていくことによって、プローブと同数
の試料表面像を同時に再現することが可能となる。すな
わち、大面積を短時間でスキャンする走査型プローブ顕
微鏡を簡単な構成で実現することができる。

【００２０】また一方、従来のスキャナを利用可能なた
め、Ｓ．Ｃ．Ｍｉｎｎｅらの装置に見られるように、プ
ローブ先端のチップの傾きにより、サンプル表面の斜面
形状とチップ壁面が干渉し、観察像にアーティファクト
が発生しやすい、といった問題を避けることが出来、さ
らにＺ方向への微動距離が制限されるという問題も発生
しない等の利点がある。

【００２１】さらに、２個以上のプローブがアレイ化さ
れたプローブチップの設計／製作を想定した場合におい
て、個々のプローブにＺアクチュエータを具備する必要
がなく、コストの安いプローブチップの提供を可能とす
るものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の走査型プローブ顕微鏡のうち、第１の
実施例の構成の一例を示した模式図である。

【図２】本発明の走査型プローブ顕微鏡のうち、第１の
実施例の動作の一例を示した模式図である。

【図３】本発明の走査型プローブ顕微鏡のうち、第１の
実施例の動作の一例を示した模式図である。

【図４】従来の走査型プローブ顕微鏡の構成の一例を示
した模式図である。

【符号の説明】

１０１・・・スキャナ１０１（ａ）・・・ＸＹスキャナ１０１（ｂ）・・・Ｚスキャナ１０２・・・試料台１０３・・・試料１０４・・・プローブ１０４（ａ）・・・第１のプローブ１０３（ｂ）・・・第２のプローブ１０４（ｃ）・・・第３のプローブ１０５・・・基盤１０６・・・Ｚステージ１０７・・・変位検出手段１０８・・・スキャナコントローラ１０９・・・順次フィードバック回路１１０・・・試料表面再現手段４０１・・・スキャナ４０２・・・試料台４０３・・・試料４０４・・・プローブ４０５・・・Ｚアクチュエータ４０６・・・Ｚステージ４０７・・・変位検出手段４０８・・・スキャナコントローラ４０９・・・試料表面再現手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者宮谷竜也千葉県千葉市美浜区中瀬１丁目８番地株式会社エスアイアイ・アールディセンター内Ｆターム(参考） 2F069 AA57 AA60 BB15 GG04 GG58 GG65 GG66 HH04 HH30 JJ08 LL03 MM24 MM32 MM34

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】自由端にチップを有するプローブと、前記プローブの変位量を検出する変位検出手段と、前記プローブを試料表面に対してＸＹＺ方向に３次元的
に相対走査するスキャナと、前記変位検出手段によって得られる変位信号を増幅変調
し、前記プローブの変位が前記試料に対して一定になる
ように、前記スキャナのＺ軸動作電極にフィードバック
信号として入力するフィードバック回路と、前記スキャナのＸＹ軸に印加する電圧を元に試料表面の
ＸＹ座標を構成し、前記スキャナのＺ軸動作電極に入力
する前記フィードバック信号を試料表面の高さ情報とし
てＸＹ座標にマッピングし試料表面状態を再現する試料
表面再現手段と、からなる走査型プローブ顕微鏡におい
て、前記プローブと前記変位検出手段は複数、かつ、同数有
り、前記複数の変位検出手段によって得られる前記複数のプ
ローブと同数の変位信号を、増幅変調し、該増幅変調し
た複数の信号を前記スキャナのＺ軸動作電極に順番に前
記フィードバック信号として入力する順次フィードバッ
ク回路と、を有することを特徴とする走査型プローブ顕
微鏡。
【請求項２】前記順次フィードバック回路によって任
意の瞬間に前記スキャナに入力する前記フィードバック
信号は、前記複数のプローブの変位信号のうち、必ず１
個のプローブの変位信号を増幅変調したものであること
を特徴とする請求項１記載の走査型プローブ顕微鏡。
【請求項３】前記試料表面形状再現手段は、前記複数
のプローブと同数のＸＹ座標を構成し、前記フィードバ
ック信号を、前記複数のプローブの個々に対応するＸＹ
座標に順次マッピングして前記複数のプローブと同数の
試料表面を再現することを特徴とする請求項１または２
記載の走査型プローブ顕微鏡。
【請求項４】前記スキャナのラスタスキャンの１ライ
ンもしくは複数ライン毎に、前記フィードバック信号の
元となる変位信号を発生する前記複数のプローブのうち
の１個を順次選択し、前記フィードバック信号を前記複
数のプローブの個々に対応するＸＹ座標にマッピングし
ていくことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記
載の走査型プローブ顕微鏡。
【請求項５】前記スキャナのラスタスキャン時に、プ
ローブの前記変位信号の１サンプリングもしくは複数サ
ンプリング毎に、前記フィードバック信号の元となる前
記変位信号を発生する前記複数のプローブのうちの１個
を順次選択し、前記フィードバック信号を前記複数のプ
ローブの個々に対応するＸＹ座標にマッピングしていく
ことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の走
査型プローブ顕微鏡。