JP2002097571A - 機能性フィルムの製造方法および製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 機能性フィルムの透過率を定量的かつ迅速に
コントロールすることを可能にする。 【解決手段】 機能性フィルム１の基となるフィルム基
材に反応性ガスを噴出して反応性スパッタリングを行う
ことにより前記フィルム基材上に光学薄膜を成膜して前
記機能性フィルム１を形成する機能性フィルムの製造方
法において、前記光学薄膜が成膜された後の機能性フィ
ルムの分光透過率を測定し、その分光透過率の測定結果
に基づいて前記反応性ガスを噴出する際の噴出量を可変
させるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反応性スパッタリ
ングによって形成される機能性フィルムの製造方法およ
び製造装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、機能性フィルムとしては、例え
ば陰極線管のパネル表面に貼着されるＡＲフィルム（反
射防止フィルム）が知られている。このような機能性フ
ィルムは、通常、反応性スパッタリングによって形成さ
れる。すなわち、真空室内で機能性フィルムの基となる
フィルム基材に反応性ガスを噴出し、その反応性ガスを
ターゲット材料と化学反応させて、そのフィルム基材上
に金属酸化膜や金属窒化膜等の化合物薄膜（光学薄膜）
を成膜することによって、反射防止機能と光透過性とを
有した機能性フィルムが形成される。

【０００３】ところで、陰極線管に用いられる機能性フ
ィルムは、低反射率高透過率（例えば、反射率０．５％
以下、透過率９０％以上）であることが望まれていた。
ただし、機能性フィルムにおける反射率および透過率
は、フィルム基材上に成膜される光学薄膜の光学膜厚に
よって左右される。

【０００４】このことから、従来、機能性フィルムの製
造にあたっては、成膜後における分光反射率を測定し、
その測定結果に応じて反応性ガスの分圧調整を行ってお
り、これにより光学薄膜の光学膜厚調整を行うようにし
ている。これは、機能性フィルムがフィルム基材および
光学薄膜といった光吸収性の少ない膜構成であることか
ら、高透過率を維持することが容易であり、光学薄膜の
光学膜厚調整によって反射率をコントロールすれば、自
ずと低反射率高透過率を満足し得るからである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年で
は低反射率特定透過率（例えば、反射率０．５％以下、
透過率７５±２％）の機能性フィルム（透過率調整フィ
ルム）も多く用いられており、反射防止機能に比べても
光透過性が重要視されつつあるが、かかる機能性フィル
ムについては、従来のように分光反射率を基に光学薄膜
の光学膜厚調整を行っていたのでは、以下に述べるよう
な問題が生じることが考えられる。

【０００６】すなわち、従来のように分光反射率を基に
光学薄膜の光学膜厚調整を行っていたのでは、高透過率
を維持することは容易であるが、透過率をコントロール
することが困難であり、結果として所望の透過率を満足
できないおそれがある。

【０００７】また、これに対しては、反射率と透過率と
の相関関係を過去の経験則から求め、これを基にしたシ
ミュレーションによって所望する透過率に対応する反射
率を算出することで、所望の透過率を得るための光学薄
膜の光学膜厚調整を可能にすることも考えられる。とこ
ろが、この場合には、製造すべき機能性フィルムのスペ
ックに変更があると、その都度、反射率と透過率との相
関関係を求めたり、シミュレーションによる反射率の算
出することが必要になってしまい、結果として迅速な対
応が困難になってしまう。

【０００８】そこで、本発明は、機能性フィルムの透過
率を定量的かつ迅速にコントロールすることを可能にす
る機能性フィルムの製造方法および製造装置を提供する
ことを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために案出された機能性フィルムの製造方法であ
る。すなわち、機能性フィルムの基となるフィルム基材
に反応性ガスを噴出して反応性スパッタリングを行うこ
とにより前記フィルム基材上に光学薄膜を成膜して前記
機能性フィルムを形成する機能性フィルムの製造方法に
おいて、前記光学薄膜が成膜された後の機能性フィルム
の分光透過率を測定し、前記分光透過率の測定結果に基
づいて前記反応性ガスを噴出する際の噴出量を可変させ
ることを特徴とする。

【００１０】上記手順の機能性フィルムの製造方法によ
れば、光学薄膜が成膜された後の機能性フィルムに対す
る分光透過率の測定結果に基づいて、その後における反
応性ガスの噴出量を可変させる。例えば、分光透過率の
測定結果が所望値よりも高ければ光学薄膜の光学膜厚が
薄いと考えられるので反応性ガスの噴出量を増大させ、
また分光透過率の測定結果が所望値よりも低ければ光学
薄膜の光学膜厚が厚いと考えられるので反応性ガスの噴
出量を減少させる。この噴出量の増減により光学薄膜の
光学膜厚が調整されるので、結果として機能性フィルム
の透過率が補正されることになる。つまり、光学薄膜成
膜後の機能性フィルムの透過率が所望値に合致するよう
にコントロールし得るようになる。

【００１１】また、本発明は上記目的を達成するために
案出された機能性フィルムの製造装置で、機能性フィル
ムの基となるフィルム基材を一方向に送るフィルム送り
手段と、前記フィルム送り手段によって送られるフィル
ム基材に対し反応性ガスを噴出して反応性スパッタリン
グを行いそのフィルム基材上に光学薄膜を成膜して前記
機能性フィルムを形成するスパッタリング手段と、前記
スパッタリング手段による成膜後の機能性フィルムにつ
いての分光透過率を測定する透過率測定手段と、前記透
過率測定手段による分光透過率の測定結果を基に前記ス
パッタリング手段での反応性ガスの噴出量を可変制御す
るガス噴出量制御手段とを備えることを特徴とするもの
である。

【００１２】上記構成の機能性フィルムの製造装置によ
れば、透過率測定手段が光学薄膜成膜後の機能性フィル
ムにおける分光透過率の変化を終始モニタリングしてい
るので、その値が所望値と合致しなくなった場合であっ
ても、ガス噴出量制御手段がフィードバックをかけてス
パッタリング手段での反応性ガスの噴出量を可変制御す
ることにより、スパッタリング手段で成膜される光学薄
膜の光学膜厚を自動調整する。例えば、ガス噴出量制御
手段は、分光透過率の測定結果が規定範囲よりも高けれ
ば光学薄膜の光学膜厚が薄いと考えられるので反応性ガ
スの噴出量を増大させ、また分光透過率の測定結果が所
望値よりも低ければ光学薄膜の光学膜厚が厚いと考えら
れるので反応性ガスの噴出量を減少させる。このガス噴
出量制御手段によるフィードバック制御により光学薄膜
の光学膜厚が自動調整されるので、これに伴い機能性フ
ィルムの透過率が補正されることになる。つまり、光学
薄膜成膜後の機能性フィルムの透過率が所望値に合致す
るようにコントロールし得るようになる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明に係る
機能性フィルムの製造方法および製造装置について説明
する。なお、ここでは、機能性フィルムが、陰極線管の
パネル表面に貼着されるものである場合を例に挙げて説
明する。

【００１４】先ず、はじめに、本発明に係る機能性フィ
ルムの製造方法の概要について説明する。図１は本発明
に係る機能性フィルムの製造方法の一例を説明する図で
ある。

【００１５】機能性フィルムは、反応性スパッタリング
によって形成される。すなわち、真空室内にて、機能性
フィルムの基となるフィルム基材に対して、Ｏ₂ガス
（酸素）やＮ₂ガス（窒素）等といった反応性ガスを噴
出し、その反応性ガスをターゲット材料と化学反応させ
て、そのフィルム基材上に金属酸化膜や金属窒化膜等の
光学薄膜を成膜することによって、反射防止機能と光透
過性とを有した機能性フィルムが形成される。

【００１６】機能性フィルムの基となるフィルム基材と
しては、例えば、ある一定の幅を有した長尺状のロール
フィルムを用いる。そのため、そのフィルム基材に対す
る反応性ガスの噴出は、フィルム基材の幅方向の全域に
わたって光学薄膜を成膜し得るように、幅方向に沿って
適当な間隔で配設された複数のガス噴出口から行う。つ
まり、機能性フィルムの形成は、複数のガス噴出口から
反応性ガスを噴出するとともに、そのときにガス噴出口
の配設位置上をフィルム基材が通過するようにそのフィ
ルム基材を移動させることによって行う。

【００１７】ここまでは従来における機能性フィルムの
製造方法と略同様であるが、本実施形態で説明する製造
方法は、以下に述べるように、上述したガス噴出口から
の反応性ガスの噴出量の制御が従来と異なる。

【００１８】すなわち、ガス噴出口からの反応性ガスの
噴出量制御のために、本実施形態で説明する製造方法で
は、先ず、図１（ａ）に示すように、図中のハッチング
部分にて実行される反応性ガスの噴出によって光学薄膜
が成膜された直後の機能性フィルム１に対して、その分
光透過率（単色光に対する透過率）を、機能性フィルム
１の幅方向に沿った複数の測定位置２にて測定する。こ
のときの分光透過率の測定は、例えば周知技術を利用し
た分光光度計を用いて行えばよい。

【００１９】そして、分光透過率の測定結果から、例え
ば図１（ｂ）の分圧調整前透過率に示すように、機能性
フィルム１上の幅方向における分光透過率の分布状態を
認識する。これにより、光学薄膜成膜後における機能性
フィルム１の分光透過率の値が所望値と合致しているか
否かと、その分光透過率が機能性フィルム１の幅方向で
どの程度ばらついているかとが分かるようになる。

【００２０】このとき、分光透過率の測定値が所望値ま
たは他の測定値の平均値よりも高い部分は、成膜された
光学薄膜の光学膜厚が所望する膜厚または他の部分の光
学膜厚よりも薄いと考えられる。また、分光透過率の測
定値が所望値または他の測定値の平均値よりも低い部分
は、成膜された光学薄膜の光学膜厚が所望する膜厚また
は他の部分の光学膜厚よりも厚いと考えられる。

【００２１】このことから、分光透過率の分布状態を認
識すると、例えば図１（ｃ）に示すように、その認識結
果に応じて反応性ガスの分圧調整を行い、これにより光
学薄膜の光学膜厚調整を行うようにする。すなわち、分
光透過率の測定値が高い部分については、反応性ガスの
噴出量を増大させて、成膜される光学膜厚が厚くなるよ
うにする。また、分光透過率の測定値が低い部分につい
ては、反応性ガスの噴出量を減少させて、成膜される光
学膜厚が薄くなるようにする。

【００２２】さらに、反応性ガスの分圧調整にあたって
は、次に述べる点も考慮する。すなわち、反応性ガスを
用いた反応性スパッタリングでは、真空室内のＡｒ（ア
ルゴン）雰囲気中における反応性ガスの分圧が相対的に
高いほど、スパッタレートが低くなる。逆に、反応性ガ
スの分圧が低いほど、スパッタレートが高くなる。この
ような周知の事実も利用して、適宜、反応性ガスの分圧
調整を実施する。

【００２３】反応性ガスの分圧調整は、複数箇所での分
光透過率の測定に対応して、複数配設された各ガス噴出
口毎に個別に反応性ガスの噴出量を可変させることで行
えばよい。ただし、各ガス噴出口毎ではなく、幾つかの
ガス噴出口を一つの単位とし、各単位毎に反応性ガスの
噴出量を可変させるようにしても、反応性ガスの分圧調
整は可能である。この場合には、各単位がフィルム基材
上の異なる領域に対して反応性ガスの噴出を行っている
ものとする。

【００２４】また、反応性ガスの噴出量の可変は、各ガ
ス噴出口毎の場合であっても、あるいは幾つかのガス噴
出口を一つの単位とした場合であっても、次に述べるよ
うにして行えばよい。その一例としては、例えばガス噴
出口に取り付けられたアタッチメントを交換したり、ガ
ス噴出口に可変バルブ機構を取り付けることにより、ガ
ス噴出口の口径を変化させることで、反応性ガスの噴出
量を可変可能にすることが挙げられる。また、他の例と
しては、各ガス噴出口または各単位へ供給する反応性ガ
スの流量を変化させ、これによって反応性ガスの噴出量
を可変可能にすることが挙げられる。

【００２５】ただし、反応性ガスの噴出量可変を、例え
ば真空室外からコントロール可能な可変バルブ機構また
は反応性ガスの流量変化を利用して行った場合には、真
空室内を大気開放することなく、反応性ガスの分圧調整
を行うことができる。すなわち、反応性ガスの分圧調整
のために真空室内を大気開放する必要がなくなるので、
真空室内の環境維持が容易となる。

【００２６】そして、このような反応性ガスの分圧調整
を、分光透過率の測定結果を基にしつつ、その測定結果
が所望値と略合致するまで繰り返して行う。これによ
り、反応性ガスの分圧調整後に形成される機能性フィル
ム１は、分光透過率と光学薄膜の光学膜厚との相関関係
の算出を必要とすることなく、分光透過率が所望値と略
合致するようになり、しかもその透過率分布を機能性フ
ィルム１の幅方向にわたって略均一を保つことができる
ようになる。

【００２７】具体的には、例えば図１（ｃ）に示すよう
な反応性ガスの分圧調整を行うことによって、幅方向に
わたって均一な光学膜厚の光学薄膜が成膜されるように
なるので、例えば図１（ｂ）の分圧調整後透過率に示す
ように、分圧調整後に形成される機能性フィルム１につ
いては、その幅方向に関する透過率分布の均一性を保ち
つつ、その分光透過率の値を基準値（所望値）の±０．
１％以内程度の範囲に収めることが可能になる。

【００２８】なお、上述した手順のうち、分光透過率の
分布状態の認識および反応性ガスの分圧調整は、反応性
スパッタリングを行う機能性フィルムの製造装置が自動
的に行うようにしても、あるいはその製造装置のオペレ
ータが手動で行うようにしても良い。

【００２９】次に、以上のような手順の機能性フィルム
の製造方法を実施する製造装置、すなわち本発明に係る
機能性フィルムの製造装置について説明する。図２は、
本発明に係る機能性フィルムの製造装置の一例を示す概
略構成図である。

【００３０】図例のように、本実施形態で説明する機能
性フィルムの製造装置（以下、「本装置」という）は、
反応性スパッタリングを行う真空室１１内にて、機能性
フィルム１の基となるフィルム基材１ａを一方向に送り
得るように構成されている。さらには、真空室１１内
に、フィルム基材１ａの幅方向に沿って延びる反応性ガ
スの噴出ノズル１２と、その噴出ノズル１２を挟んで配
設されたターゲット材料１３と、そのターゲット材料１
３をフィルム基材１ａに向けてはじき出すためのカソー
ド１４と、これらの下方側を覆うように配設された隔壁
板１５と、を備えている。このうち、噴出ノズル１２に
は、フィルム基材１ａの幅方向に沿って適当な間隔で配
設された複数のガス噴出口１２ａが設けられている。

【００３１】そして、本装置では、噴出ノズル１２の配
設位置上をフィルム基材１ａが通過するようにそのフィ
ルム基材１ａを移動させつつ、そのフィルム基材１ａに
対して噴出ノズル１２のガス噴出口１２ａから反応性ガ
スを噴出し、その反応性ガスをカソード１４によっては
じき出されたターゲット材料１３と化学反応させて、そ
のフィルム基材１ａ上に光学薄膜を成膜することによっ
て、機能性フィルム１を形成するようになっている。

【００３２】また、本装置は、真空室１１内における隔
壁板１５の近傍で、かつ、機能性フィルム１の進行方向
の下流側に、その機能性フィルム１の分光透過率を測定
するための透過率検出センサ１６を備えている。透過率
検出センサ１６は、機能性フィルム１の幅方向に沿って
複数箇所に配設されているものとする。ただし、その配
設間隔および配設個数は、必要に応じて適宜決定すれば
良く、特に限定するものではない。例えば、透過率検出
センサ１６は、機能性フィルム１の幅方向に沿って均等
間隔で配設してもよいが、成膜される光学薄膜の光学膜
厚のばらつきが大きいと考えられる機能性フィルム１の
端縁近傍を特に密に配することも考えられる。

【００３３】これら複数の透過率検出センサ１６は、本
装置が真空室１１外に備えるコンピュータ１７に信号線
１８ａを介して接続されており、分光透過率の測定結果
をそのコンピュータ１７に通知するようになっている。

【００３４】コンピュータ１７には、各透過率検出セン
サ１６からの通知を基に機能性フィルム１の分光透過率
の分布状態を認識するためのプログラムと、その認識結
果を基に噴出ノズル１２のガス噴出口１２ａから噴出さ
れる反応性ガスの分圧調整を指示するためのプログラム
とが、予めインストールされている。さらに、コンピュ
ータ１７は、反応性ガスの分圧調整の際に必要となる分
光透過率の基準値（所望値）を設定するための操作手段
（キーボード等）を有している。

【００３５】また、本装置では、図示しない反応性ガス
の供給源と噴出ノズル１２との間に調整機能付ガス分配
器（以下、「ＭＦＣ」と略す）１９が設けられている。
そして、コンピュータ１７がそのＭＦＣ１９と信号線１
８ｂを介して接続しており、コンピュータ１７からＭＦ
Ｃ１９に対して反応性ガスの分圧調整を指示するように
なっている。

【００３６】このコンピュータ１７からの指示を受け
て、ＭＦＣ１９は、既に説明した手法（例えば反応性ガ
スの流量変化）を用いて、噴出ノズル１２における各ガ
ス噴出口１２ａ毎、あるいは幾つかのガス噴出口１２ａ
を一つの単位として、フィルム基材１ａに対して噴出す
る反応性ガスの噴出量を可変させるようになっている。
つまり、噴出ノズル１２からの反応性ガスの噴出量は、
コンピュータ１７およびＭＦＣ１９によって可変制御さ
れる。

【００３７】したがって、本装置では、反応性ガスの分
圧調整を行う場合であっても、真空室１１内を大気開放
する必要がない。つまり、真空室１１内の環境維持が容
易となる。

【００３８】続いて、以上のような構成の本装置におけ
る処理動作例について説明する。図３は、本発明に係る
機能性フィルムの製造装置における処理動作例を示すフ
ローチャートである。

【００３９】図例のように、本装置で機能性フィルム１
を形成する場合は、先ず、成膜可能な条件にてカソード
１４の電源をＯＮするとともに（ステップ１０１、以下
ステップを「Ｓ」と略す）、本装置への投入電力を設定
し（Ｓ１０２）、噴出ノズル１２から真空室１１内に反
応性ガスを注入する（Ｓ１０３）。これにより、フィル
ム基材１ａ上に光学薄膜がスパッタされ、機能性フィル
ム１となる。

【００４０】ただし、本装置では、その過程で、機能性
フィルム１の重要な品質である透過率を、基準値（例え
ば、７５％±０．５％）に合致するように調整してい
る。詳しくは、その調整にあたって、各透過率検出セン
サ１６にて終始モニタリングされている機能性フィルム
１の分光透過率が、常に基準値の範囲内にあるようにフ
ィードバック制御を行う。

【００４１】このフィードバック制御は、以下のように
して行う。先ず、信号のやり取りとして、各透過率検出
センサ１６からコンピュータ１７に時系列の分光透過率
測定結果を伝達する。この通知されたデータにより、コ
ンピュータ１７は、機能性フィルム１の分光透過率の測
定結果をディスプレイ等にインライン透過率モニターと
して表示するとともに（Ｓ１０４）、その分光透過率の
測定結果が予め操作手段にて設定された調整基準値（例
えば、７５％±０．３％といったように、本体の基準値
よりも厳しく設定された値）の範囲内にあるか否かを判
断する（Ｓ１０５）。

【００４２】この判断の結果、分光透過率の測定結果が
調整基準値の範囲内にあれば、コンピュータ１７は、そ
のときの反応性ガスの分圧を維持するようにＭＦＣ１９
に対して指示を与えるとともに、引き続き機能性フィル
ム１の分光透過率のモニタリングを継続して行う（Ｓ１
０６）。

【００４３】一方、分光透過率の測定結果が調整基準値
の範囲を超えている場合には、コンピュータ１７は、そ
の調整基準値を超えた箇所のみについて部分的に反応性
ガスの分圧調整を行うように、ＭＦＣ１９に対して指示
を与える。この指示を受けて、ＭＦＣ１９は、反応性ガ
スの分圧調整を実施し、噴出ノズル１２がフィルム基材
１ａに対して噴出する反応性ガスの噴出量を部分的に可
変させる（Ｓ１０７）。そして、透過率検出センサ１６
による分光透過率の測定結果が調整基準値の範囲内に収
まるようになるまで（Ｓ１０８）、反応性ガスの分圧調
整を行う。

【００４４】このときの分圧調整量としては、反応性ガ
スの全流量に対して０．１〜１０％程度毎の流量変化が
適当である。したがって、分光透過率の応答量によって
は、反応性ガスの分圧調整を複数回継続して行うことも
考えられる。

【００４５】このような反応性ガスの分圧調整によっ
て、分光透過率の測定結果が調整基準値の範囲内に収ま
れば、コンピュータ１７は、調整後の分圧を維持するよ
うにＭＦＣ１９に対して指示を与えて、引き続き分光透
過率のモニタリングを行う（Ｓ１０６）。そして、分光
透過率の測定結果が調整基準値の範囲を超えると、再び
上述した処理動作を繰り返して行い（Ｓ１０５〜Ｓ１０
８）、常にフィードバックをかけるようにする。

【００４６】したがって、本装置を用いて機能性フィル
ム１を形成すれば、その機能性フィルム１は、各透過率
検出センサ１６、コンピュータ１７およびＭＦＣ１９に
よるフィードバック制御によって、分光透過率と光学薄
膜の光学膜厚との相関関係の算出を必要とすることな
く、分光透過率が調整基準値の範囲内に収まるようにな
り、しかもその透過率分布を機能性フィルム１の幅方向
にわたって略均一に保つことができるようになる。

【００４７】なお、本装置は、上述したフィードバック
制御を行う際に、安全保障機能を実現するようにしても
よい。すなわち、フィードバック制御を行う際における
反応性ガスの調整流量が、設定値条件によっても異なる
が、例えば全流量の３０％を超えた場合や、フィードバ
ック制御を行っているにも拘わらず分光透過率の測定結
果が調整基準値の範囲を超える場合等には、光学薄膜の
光学膜厚ではなく他の要因によって透過率が変化してい
る可能性が高いため、オペレータに対してアラーム出力
を行って、その旨を警告することが考えられる。

【００４８】以上のように、本実施形態で説明した機能
性フィルムの製造方法および製造装置によれば、光学薄
膜が成膜された後の機能性フィルム１に対する分光透過
率の測定結果に基づいて、反応性ガスの噴出量を可変さ
せて光学薄膜の光学膜厚を調整するようになっているの
で、これにより機能性フィルム１の透過率が正しく補正
され、結果として機能性フィルム１の透過率が所望値と
合致するようコントロールすることができる。つまり、
所望の透過率を満足し得るようになるので、例えば低反
射率特定透過率の機能性フィルム１を形成する場合であ
っても、これに容易かつ適切に対応することが可能とな
る。

【００４９】しかも、上述したコントロールは、分光透
過率の測定結果を基に反応性ガスの噴出量を増減させ、
その増減を所望の分光透過率が得られるまで行う、とい
った非常に単純な制御アルゴリズムを用いているので、
例えば分光透過率と光学薄膜の光学膜厚との相関関係の
算出をはじめとした事前のシミュレーション処理等を必
要とすることがなく、低反射率特定透過率の機能性フィ
ルム等に対応する場合であっても、迅速な対応が可能と
なる。

【００５０】その上、本実施形態における機能性フィル
ムの製造方法および製造装置では、分光透過率の測定を
機能性フィルム１の幅方向（その進行方向と略直交する
方向）に沿った複数箇所で行うとともに、各箇所での測
定結果に応じてフィルム基材１ａの幅方向における反応
性ガスの噴出量分布の可変、すなわち反応性ガスの噴出
量の部分的な増減を行うようになっている。したがっ
て、機能性フィルム１の透過率を所望値と合致させるの
みならず、その透過率分布を機能性フィルム１の幅方向
にわたって略均一に保つことができる。

【００５１】機能性フィルム１における透過率の均一性
は、特に陰極線管のパネル表面に貼着して用いる場合に
非常に重要となる。これは、例えば機能性フィルムにお
ける透過率分布が変化すると、陰極線管の画面の明るさ
または表示色の均一性（ユニフォミティ）が変わってし
まい、結果として表示画像の画質低下を招いてしまうか
らである。このことから、本実施形態で説明した製造方
法および製造装置により形成した機能性フィルム１は、
その幅方向における透過率分布を略均一に保てるので、
特に陰極線管のパネル表面に貼着するのに好適なものと
いえる。

【００５２】また、本実施形態で説明した機能性フィル
ムの装置のように、分光透過率の測定結果を基にした反
応性ガスの分圧調整を、コンピュータ１７等が自動的に
行うようにした場合には、常にフィードバック制御を行
い続けるようになるため、より正確な透過率および光学
膜厚の制御が行えるようになる。

【００５３】さらには、その透過率および光学膜厚の制
御のために、真空室１１内を大気開放したり、人手を介
する必要もなくなるので、成膜プロセス中（いわゆるイ
ンライン）でのコントロールが可能となる。すなわち、
例えば反応性ガスの分圧調整のために反応性スパッタリ
ングを中断するといったことがないので迅速な対応が可
能となるとともに、多くの人員を投入することなく一定
の品質を保つことが可能になるため、結果として機能性
フィルム１の生産効率の向上およびコスト削減が期待で
きる。具体的には、真空室１１内の大気開放等が必要な
いことから、従来のように大気開放時に行っていた真空
室１１内の清掃作業、その後の真空ポンピングの時間、
生産再開時に行う光学特性の条件出し等が不要となり、
これらの工数を大気開放する場合の約１／４に低減でき
る。

【００５４】しかも、インラインでのコントロールを可
能にしたことから、光学膜厚の連続成膜も可能となる。
つまり、真空室１１内の大気開放等が必要な場合には、
その真空室１１内の環境を長い間にわたって保持できな
いため連続成膜が困難となるが、インラインでのコント
ロールを可能にすれば、真空室１１内の環境を適切に維
持することが容易であるため、フィルム基材１ａの供給
を続ける限り、例えば薄膜材料であるターゲット材料１
３の寿命まで連続成膜を行うことが可能になる。具体的
には、現状の実力として、約２６０００ｍ程度の連続成
膜を実現できている。ただし、ターゲット材料１３の寿
命の変更により、さらに連続成膜長の増加は可能であ
る。

【００５５】なお、本実施形態では、機能性フィルムが
陰極線管のパネル表面に貼着されるものである場合を例
に挙げたが、本発明はこれに限定されるものではなく、
反応性スパッタリングによって形成され、かつ、光透過
性を有したものであれば、他の機能性フィルムであって
も同様に適用することが可能である。

【００５６】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係る機
能性フィルムの製造方法および製造装置では、成膜後に
おける分光透過率の測定結果に基づいて、その後に成膜
する際の反応性ガスの噴出量を可変させて光学薄膜の光
学膜厚を調整しているので、機能性フィルムの透過率を
定量的かつ迅速にコントロールすることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る機能性フィルムの製造方法の一例
を説明する図であり、（ａ）はその概要を説明する模式
図、（ｂ）はその製造方法による調整前後の透過率分布
の具体例を示すグラフ、（ｃ）はその製造方法による反
応性ガスの分圧調整の具体例を示すイメージ図である。

【図２】本発明に係る機能性フィルムの製造装置の一例
を示す概略構成図である。

【図３】本発明に係る機能性フィルムの製造装置におけ
る処理動作例を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１…機能性フィルム、１ａ…フィルム基材、２…測定位
置、１１…真空室、１２…噴出ノズル、１２ａ…ガス噴
出口、１３…ターゲット材料、１４…カソード、１６…
透過率検出センサ、１７…コンピュータ、１９…ＭＦＣ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 機能性フィルムの基となるフィルム基材
   に反応性ガスを噴出して反応性スパッタリングを行うこ
   とにより前記フィルム基材上に光学薄膜を成膜して前記
   機能性フィルムを形成する機能性フィルムの製造方法に
   おいて、 前記光学薄膜が成膜された後の機能性フィルムの分光透
   過率を測定し、 前記分光透過率の測定結果に基づいて前記反応性ガスを
   噴出する際の噴出量を可変させることを特徴とする機能
   性フィルムの製造方法。
2. 【請求項２】 一方向に送られるフィルム基材に対して
   反応性スパッタリングを行う場合に、前記分光透過率の
   測定を前記フィルム基材の進行方向と略直交する方向に
   沿った複数箇所にて行い、 前記複数箇所での分光透過率の測定結果に応じて前記フ
   ィルム基材の進行方向と略直交する方向における前記反
   応性ガスの噴出量分布をも可変させることを特徴とする
   請求項１記載の機能性フィルムの製造方法。
3. 【請求項３】 機能性フィルムの基となるフィルム基材
   を一方向に送るフィルム送り手段と、 前記フィルム送り手段によって送られるフィルム基材に
   対し反応性ガスを噴出して反応性スパッタリングを行い
   該フィルム基材上に光学薄膜を成膜して前記機能性フィ
   ルムを形成するスパッタリング手段と、 前記スパッタリング手段による成膜後の機能性フィルム
   についての分光透過率を測定する透過率測定手段と、 前記透過率測定手段による分光透過率の測定結果を基に
   前記スパッタリング手段での反応性ガスの噴出量を可変
   制御するガス噴出量制御手段とを備えることを特徴とす
   る機能性フィルムの製造装置。
4. 【請求項４】 前記透過率測定手段は、前記フィルム送
   り手段によるフィルム基材の送り方向と略直交する方向
   に沿った複数箇所にて分光透過率の測定を行うものであ
   り、 前記ガス噴出量制御手段は、前記透過率測定手段による
   複数箇所での分光透過率の測定結果に応じて前記フィル
   ム基材の進行方向と略直交する方向における前記反応性
   ガスの噴出量分布をも可変制御するものであることを特
   徴とする請求項３記載の機能性フィルムの製造装置。