JP2002088029A - 芳香族アミン類の製造方法 - Google Patents

芳香族アミン類の製造方法

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JP2002088029A
JP2002088029A JP2000271599A JP2000271599A JP2002088029A JP 2002088029 A JP2002088029 A JP 2002088029A JP 2000271599 A JP2000271599 A JP 2000271599A JP 2000271599 A JP2000271599 A JP 2000271599A JP 2002088029 A JP2002088029 A JP 2002088029A
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JP2000271599A
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Mitsuhiko Fujiwara
光彦 藤原
Ken Suzuki
憲 鈴木
Toru Kobayashi
透 小林
Yasushi Hori
容嗣 堀
Toshimitsu Hagiwara
利光 萩原
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Takasago International Corp
Original Assignee
Takasago International Corp
Takasago Perfumery Industry Co
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/04Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by substitution of functional groups by amino groups
    • C07C209/06Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by substitution of functional groups by amino groups by substitution of halogen atoms
    • C07C209/10Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by substitution of functional groups by amino groups by substitution of halogen atoms with formation of amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings or from amines having nitrogen atoms bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的はパラジウム化合物を触媒とし
て用いるアリールアミノ化反応における、より安定で、
且つ性能的にも従来のホスフィン化合物よりも優れた活
性化剤を提供することにある。 【解決手段】 本発明は、脱離基を有する芳香族化合物
を、ホスフィンスルフィド類及びパラジウム化合物の存
在下に、アミン類と反応させることを特徴とする、芳香
族アミン類の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は脱離基を有する芳香
族化合物とアミン類との反応による芳香族アミン類の製
造方法に関するものであり、より詳しくは、ホスフィン
スルフィド類を配位子とするパラジウム触媒の存在下に
脱離基を有する芳香族化合物とアミン類とを反応させて
芳香族アミン類を製造する方法に関するものである。本
発明の方法により得られる芳香族アミン類は、とくに有
機電子材料や医薬品などの材料として有用である。
【0002】
【従来の技術】芳香族アミン類をアリールハライドとア
ミンとの縮合により製造する方法に関しては、これまで
に数多く報告されている。例えば、1999年のJOC
の670ページには、銅触媒存在下に行うUllmann反応
の最近の進歩が示されている。この反応の特徴でもあ
り、また欠点でもあるところは、アリールハライドとし
て反応性の高いヨウ化物しか利用できず、より安価な臭
化物が利用できないということといえる。一方、パラジ
ウム化合物を触媒として用いると、アリールハライドと
して臭化物や塩化物でも基質として利用できる事が知ら
れている。例えば、Buchwaldら、Hartwigらにより、ホ
スフィンを活性化剤として用いる方法が示されている
(Acc. Chem. Res. 1998 (31), 805及び852)。しかし
ながら、活性化剤であるホスフィンは一般的に酸化反応
を受けやすく、取り扱いに注意を要する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記した如く、ホスフ
ィンを活性化剤として用いるアリールアミノ化反応は、
ホスフィンが酸化反応を受けやすいことから、ホスフィ
ンの種類や品質に非常に敏感であるため、これに代わる
より安定な活性化剤が望まれていた。従って、本発明の
目的はパラジウム化合物を触媒として用いるアリールア
ミノ化反応における、より安定な活性化剤を提供するこ
とにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、酸化を受け難いホ
スフィンスルフィド類がパラジウム触媒を活性化する配
位子として効果的に作用し、反応を著しく活性化する事
を見出し、本発明を完成した。即ち、本発明は、脱離基
を有する芳香族化合物を、ホスフィンスルフィド類及び
パラジウム化合物の存在下に、アミン類と反応させるこ
とを特徴とする、芳香族アミン類の製造方法である。
【0005】本発明に係るホスフィンスルフィド類を活
性化剤として用いた場合には、対応するホスフィンを活
性化剤として用いた場合よりも反応の選択性が明らかに
向上し、目的とする芳香族アミンの収率も顕著にアップ
する。この事実は、ホスフィンスルフィドが反応系内で
ホスフィンまで還元されたことにより反応に関与してい
るのではないことを如実に示している。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明に於いて用いられるホスフィンスルフィド
類としては、例えば下記一般式[1]
【0007】
【化2】
【0008】[式中、R、R、Rはそれぞれ独立
して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してい
てもよいアルケニル基又は置換基を有していてもよいア
リール基を表し、R、R、Rの何れか二つが互い
に結合してアルキレン鎖を形成していてもよい(但し、
、R、Rのうち少なくとも一つはアルケニル基
又はアリール基である。)。]で示されるものが挙げら
れる。
【0009】一般式[1]に於いて、R、R、R
で表される置換基を有していてもよいアルキル基のアル
キル基としては、例えば、炭素数が1〜20、好ましく
は1〜10、より好ましくは1〜6の直鎖状又は分枝状
のアルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。ま
た、置換基としては、当該ホスフィンスルフィドを用い
る本発明のアリールアミノ化反応に大きな支障を及ぼさ
ないものであればどのような置換基でもよい。置換基を
有していてもよいシクロアルキル基のシクロアルキル基
としては、例えば、炭素数3〜30、好ましくは3〜2
0、より好ましくは3〜10の単環、多環又は縮合環式
のシクロアルキル基が挙げられ、より具体的には、シク
ロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロオクチル基等が挙げられる。また、置換基として
は、当該ホスフィンスルフィドを用いる本発明のアリー
ルアミノ化反応に大きな支障を及ぼさないものであれば
どのような置換基でもよい。置換基を有していてもよい
アルケニル基としては、例えば、前記した如きアルキル
基、フェニル基等の置換基を有していてもよいビニル
基、アリル基等が挙げられ、より具体的には、例えば、
ビニル基、アリル基、1−メチル−2,2−ジフェニル
ビニル基、1,2,2−トリフェニルビニル基等が挙げ
られる。置換基を有していてもよいアリール基のアリー
ル基としては、例えば、炭素数6〜30、好ましくは6
〜20、より好ましくは6〜15の単環、多環又は縮合
環式の芳香族炭化水素基が挙げられ、より具体的には、
例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル
基、メチルナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。
また、置換基としては、当該ホスフィンスルフィドを用
いる本発明のアリールアミノ化反応に大きな支障を及ぼ
さないものであればどのような置換基でもよい。
【0010】本発明に於いて用いられるホスフィンスル
フィドの具体例としては、例えば、トリフェニルホスフ
ィンスルフィド、P,P−ジシクロヘキシル−o−ビフ
ェニルホスフィンスルフィド、P,P−ジ−tert−
ブチル−o−ビフェニルホスフィンスルフィド、P,P
−ジシクロヘキシル−(1−メチル−2,2−ジフェニ
ルビニル)ホスフィンスルフィド、P,P−ジ−ter
t−ブチル−(1−メチル−2,2−ジフェニルビニ
ル)ホスフィンスルフィド、P,P−ジシクロヘキシル
−(1,2,2−トリフェニルビニル)ホスフィンスル
フィド、P,P−ジ−tert−ブチル−(1,2,2
−トリフェニルビニル)ホスフィンスルフィド等が挙げ
られる。これら化合物は市販されているものを用いても
よいが、対応するホスフィン化合物と硫黄を反応させる
事によっても容易に得る事が出来る(J. Chem. Soc., D
alton Trans. 1973, 1024)。
【0011】本発明に於いて用いられる脱離基を有する
芳香族化合物としては、例えば一般式[2] ArX [2] (式中、Arは、置換基を有していてもよいアリール基
又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表
し、Xは、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トル
エンスルホニルオキシ基を表す。)で示される化合物が
挙げられる。
【0012】一般式[2]に於いて、Arで表される置
換基を有していてもよいアリール基のアリール基として
は、例えば、炭素数6〜30、好ましくは6〜20、よ
り好ましくは6〜15の単環、多環又は縮合環式の芳香
族炭化水素基が挙げられ、より具体的には、例えば、フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、メチル
ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェ
ニル基等が挙げられる。 また、これらアリール基の置
換基としては、例えば、ヒドロキシル基、例えばメトキ
シ基,エトキシ基,プロポキシ基,ブトキシ基等のアル
コキシ基、例えばヒドロキシメチル基,ヒドロキシエチ
ル基等のヒドロキシアルキル基、トリフルオロメチル
基、トリフルオロメトキシ基、メチレンジオキシ基等が
挙げられるが、これらに限定されるものではなく、本発
明のアリールアミノ化反応に大きな支障を及ぼさないも
のであればどのような置換基でもよい。置換基を有して
いてもよいヘテロアリール基のヘテロアリール基として
は、環中に少なくとも1個以上の窒素原子、酸素原子又
は硫黄原子を有し、1個の環の大きさが5〜20員、好
ましくは5〜10員、より好ましくは5〜7員であっ
て、シクロアルキル基、シクロアルケニル基又はアリー
ル基などの炭素環式基と縮合していてもよい不飽和の単
環、多環又は縮合環式のものが挙げられ、より具体的に
は、例えば、ピリジル基、チエニル基、チアゾリル基、
フリル基、イミダゾリル基、インドリル基、キノリル
基、ピリミジニル基等が挙げられる。また、これらヘテ
ロアルキル基の置換基としては、例えば、上記アリール
基の置換基と同じものが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではなく、本発明のアリールアミノ化反応に大
きな支障を及ぼさないものであればどのような置換基で
もよい。
【0013】本発明に於いて用いられる脱離基を有する
芳香族化合物の具体例としては、特に限定されるもので
はないが、例えば、ブロモベンゼン、o−ブロモアニソ
ール、m−ブロモアニソール、p−ブロモアニソール、
o−ブロモトルエン、m−ブロモトルエン、p−ブロモ
トルエン、o−ブロモフェノール、m−ブロモフェノー
ル、p−ブロモフェノール、2−ブロモベンゾトリフル
オリド、3−ブロモベンゾトリフルオリド、4−ブロモ
ベンゾトリフルオリド、1−ブロモ−2,4−ジメトキ
シベンゼン、1−ブロモ−2,5−ジメトキシベンゼ
ン、2−ブロモフェネチルアルコール、3−ブロモフェ
ネチルアルコール、4−ブロモフェネチルアルコール、
5−ブロモ−1,2,4−トリメチルベンゼン、2−ブ
ロモ−m−キシレン、2−ブロモ−p−キシレン、3−
ブロモ−o−キシレン、4−ブロモ−o−キシレン、4
−ブロモ−m−キシレン、5−ブロモ−m−キシレン、
1−ブロモ−3−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、
1−ブロモ−4−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、
2−ブロモビフェニル、3−ブロモビフェニル、4−ブ
ロモビフェニル、4−ブロモ−1,2−(メチレンジオ
キシ)ベンゼン、1−ブロモナフタレン、2−ブロモナ
フタレン、1−ブロモ−2−メチルナフタレン、1−ブ
ロモ−4−メチルナフタレン、1,4−ジブロモナフタ
レン、4,4’−ジブロモビフェニル、2−ブロモチオ
フェン、3−ブロモチオフェン、2−ブロモピリジン、
3−ブロモピリジン、4−ブロモピリジン、9−ブロモ
フェナントレン、2−ブロモフラン、3−ブロモフラ
ン、等のアリールブロマイド類;クロロベンゼン、o−
クロロアニソール、m−クロロアニソール、p−クロロ
アニソール、o−クロロトルエン、m−クロロトルエ
ン、p−クロロトルエン、o−クロロフェノール、m−
クロロフェノール、p−クロロフェノール、2−クロロ
ベンゾトリフルオリド、3−クロロベンゾトリフルオリ
ド、4−クロロベンゾトリフルオリド、1−クロロ−
2,4−ジメトキシベンゼン、1−クロロ−2,5−ジ
メトキシベンゼン、2−クロロフェネチルアルコール、
3−クロロフェネチルアルコール、4−クロロフェネチ
ルアルコール、5−クロロ−1、2、4−トリメチルベ
ンゼン、2−クロロ−m−キシレン、2−クロロ−p−
キシレン、3−クロロ−o−キシレン、4−クロロ−o
−キシレン、4−クロロ−m−キシレン、5−クロロ−
m−キシレン、1−クロロ−3−(トリフルオロメトキ
シ)ベンゼン、1−クロロ−4−(トリフルオロメトキ
シ)ベンゼン、2−クロロビフェニル、3−クロロビフ
ェニル、4−クロロビフェニル、1−クロロナフタレ
ン、2−クロロナフタレン、1−クロロ−2−メチルナ
フタレン、1−クロロ−4−メチルナフタレン、1,4
−ジクロロナフタレン、4,4’−ジクロロビフェニ
ル、2−クロロチオフェン、3−クロロチオフェン、2
−クロロピリジン、3−クロロピリジン、4−クロロピ
リジン、9−クロロフェナントレン、2−クロロフラ
ン、3−クロロフラン、等のアリールクロライド類;
【0014】ヨードベンゼン、o−ヨードアニソール、
m−ヨードアニソール、p−ヨードアニソール、o−ヨ
ードトルエン、m−ヨードトルエン、p−ヨードトルエ
ン、o−ヨードフェノール、m−ヨードフェノール、p
−ヨードフェノール、2−ヨードベンゾトリフルオリ
ド、3−ヨードベンゾトリフルオリド、4−ヨードベン
ゾトリフルオリド、1−ヨード−2,4−ジメトキシベ
ンゼン、1−ヨード−2,5−ジメトキシベンゼン、2
−ヨードフェネチルアルコール、3−ヨードフェネチル
アルコール、4−ヨードフェネチルアルコール、5−ヨ
ード−1,2,4−トリメチルベンゼン、2−ヨード−
m−キシレン、2−ヨード−p−キシレン、3−ヨード
−o−キシレン、4−ヨード−o−キシレン、4−ヨー
ド−m−キシレン、5−ヨード−m−キシレン、1−ヨ
ード−3−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、1−ヨ
ード−4−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、2−ヨ
ードビフェニル、3−ヨードビフェニル、4−ヨードビ
フェニル、1−ヨードナフタレン、2−ヨードナフタレ
ン、1−ヨード−2−メチルナフタレン、1−ヨード−
4−メチルナフタレン、1,4−ジヨードナフタレン、
4,4’−ジヨードビフェニル、2−ヨードチオフェ
ン、3−ヨードチオフェン、2−ヨードピリジン、3−
ヨードピリジン、4−ヨードピリジン、9−ヨードフェ
ナントレン、2−ヨードフラン、3−ヨードフラン、等
のアリールアイオダイド類;フルオロベンゼン、o−フ
ルオロアニソール、m−フルオロアニソール、p−フル
オロアニソール、o−フルオロトルエン、m−フルオロ
トルエン、p−フルオロトルエン、o−フルオロフェノ
ール、m−フルオロフェノール、p−フルオロフェノー
ル、2−フルオロベンゾトリフルオリド、3−フルオロ
ベンゾトリフルオリド、4−フルオロベンゾトリフルオ
リド、1−フルオロ−2,4−ジメトキシベンゼン、1
−フルオロ−2,5−ジメトキシベンゼン、2−フルオ
ロフェネチルアルコール、3−フルオロフェネチルアル
コール、4−フルオロフェネチルアルコール、5−フル
オロ−1,2,4−トリメチルベンゼン、2−フルオロ
−m−キシレン、2−フルオロ−p−キシレン、3−フ
ルオロ−o−キシレン、4−フルオロ−o−キシレン、
4−フルオロ−m−キシレン、5−フルオロ−m−キシ
レン、1−フルオロ−3−(トリフルオロメトキシ)ベ
ンゼン、1−フルオロ−4−(トリフルオロメトキシ)
ベンゼン、2−フルオロビフェニル、3−フルオロビフ
ェニル、4−フルオロビフェニル、4−フルオロ−1,
2−(メチレンジオキシ)ベンゼン、1−フルオロナフ
タレン、2−フルオロナフタレン、1−フルオロ−2−
メチルナフタレン、1−フルオロ−4−メチルナフタレ
ン、1,4−ジフルオロナフタレン、4,4’−ジフル
オロビフェニル、2−フルオロチオフェン、3−フルオ
ロチオフェン、2−フルオロピリジン、3−フルオロピ
リジン、4−フルオロピリジン、9−フルオロフェナン
トレン、2−フルオロフラン、3−フルオロフラン等の
アリールフルオリド類;
【0015】トリフルオロメタンスルホニルオキシベン
ゼン、o−トリフルオロメタンスルホニルオキシアニソ
ール、m−トリフルオロメタンスルホニルオキシアニソ
ール、p−トリフルオロメタンスルホニルオキシアニソ
ール、o−トリフルオロメタンスルホニルオキシトルエ
ン、m−トリフルオロメタンスルホニルオキシトルエ
ン、p−トリフルオロメタンスルホニルオキシトルエ
ン、o−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェノー
ル、m−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェノー
ル、p−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェノー
ル、2−トリフルオロメタンスルホニルオキシベンゾト
リフルオリド、3−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シベンゾトリフルオリド、4−トリフルオロメタンスル
ホニルオキシベンゾトリフルオリド、1−トリフルオロ
メタンスルホニルオキシ2,4−ジメトキシベンゼン、
1−トリフルオロメタンスルホニルオキシ2,5−ジメ
トキシベンゼン、2−トリフルオロメタンスルホニルオ
キシフェネチルアルコール、3−トリフルオロメタンス
ルホニルオキシフェネチルアルコール、4−トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシフェネチルアルコール、5−
トリフルオロメタンスルホニルオキシ1,2,4−トリ
メチルベンゼン、2−トリフルオロメタンスルホニルオ
キシm−キシレン、2−トリフルオロメタンスルホニル
オキシp−キシレン、3−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシo−キシレン、4−トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシo−キシレン、4−トリフルオロメタンスル
ホニルオキシm−キシレン、5−トリフルオロメタンス
ルホニルオキシm−キシレン、1−トリフルオロメタン
スルホニルオキシ3−(トリフルオロメトキシ)ベンゼ
ン、1−トリフルオロメタンスルホニルオキシ4−(ト
リトフルオロメトキシ)ベンゼン、2−トリフルオロメ
タンスルホニルオキシビフェニル、3−トリフルオロメ
タンスルホニルオキシビフェニル、4−トリフルオロメ
タンスルホニルオキシビフェニル、4−トリフルオロメ
タンスルホニルオキシ1,2−(メチレンジオキシ)ベ
ンゼン、1−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフ
タレン、2−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフ
タレン、1−トリフルオロメタンスルホニルオキシ2−
メチルナフタレン、1−トリフルオロメタンスルホニル
オキシ4−メチルナフタレン、1,4−ジトリフルオロ
メタンスルホニルオキシナフタレン、4,4’−ジトリ
フルオロメタンスルホニルオキシビフェニル、2−トリ
フルオロメタンスルホニルオキシチオフェン、3−トリ
フルオロメタンスルホニルオキシチオフェン、2−トリ
フルオロメタンスルホニルオキシピリジン、3−トリフ
ルオロメタンスルホニルオキシピリジン、4−トリフル
オロメタンスルホニルオキシピリジン、9−トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシフェナントレン、2−トリフ
ルオロメタンスルホニルオキシフラン、3−トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシフラン等のアリールトリフル
オロメタンスルホニルオキシド類;
【0016】メタンスルホニルオキシベンゼン、o−メ
タンスルホニルオキシアニソール、m−メタンスルホニ
ルオキシアニソール、p−メタンスルホニルオキシアニ
ソール、o−メタンスルホニルオキシトルエン、m−メ
タンスルホニルオキシトルエン、p−メタンスルホニル
オキシトルエン、o−メタンスルホニルオキシフェノー
ル、m−メタンスルホニルオキシフェノール、p−メタ
ンスルホニルオキシフェノール、2−メタンスルホニル
オキシベンゾトリフルオリド、3−メタンスルホニルオ
キシベンゾトリフルオリド、4−メタンスルホニルオキ
シベンゾトリフルオリド、1−メタンスルホニルオキシ
2,4−ジメトキシベンゼン、1−メタンスルホニルオ
キシ2,5−ジメトキシベンゼン、2−メタンスルホニ
ルオキシフェネチルアルコール、3−メタンスルホニル
オキシフェネチルアルコール、4−メタンスルホニルオ
キシフェネチルアルコール、5−メタンスルホニルオキ
シ1,2,4−トリメチルベンゼン、2−メタンスルホ
ニルオキシm−キシレン、2−メタンスルホニルオキシ
p−キシレン、3−メタンスルホニルオキシo−キシレ
ン、4−メタンスルホニルオキシo−キシレン、4−メ
タンスルホニルオキシm−キシレン、5−メタンスルホ
ニルオキシm−キシレン、1−メタンスルホニルオキシ
3−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、1−メタンス
ルホニルオキシ4−(トリフルオロメトキシ)ベンゼ
ン、2−メタンスルホニルオキシビフェニル、3−メタ
ンスルホニルオキシビフェニル、4−メタンスルホニル
オキシビフェニル、4−メタンスルホニルオキシ1,2
−(メチレンジオキシ)ベンゼン、1−メタンスルホニ
ルオキシナフタレン、2−メタンスルホニルオキシナフ
タレン、1−メタンスルホニルオキシ2−メチルナフタ
レン、1−メタンスルホニルオキシ4−メチルナフタレ
ン、1,4−ジメタンスルホニルオキシナフタレン、
4,4’−ジメタンスルホニルオキシビフェニル、2−
メタンスルホニルオキシチオフェン、3−メタンスルホ
ニルオキシチオフェン、2−メタンスルホニルオキシピ
リジン、3−メタンスルホニルオキシピリジン、4−メ
タンスルホニルオキシピリジン、9−メタンスルホニル
オキシフェナントレン、2−メタンスルホニルオキシフ
ラン、3−メタンスルホニルオキシフラン等のアリール
メタンスルホニルオキシド類;
【0017】p−トルエンスルホニルオキシベンゼン、
o−(p−トルエンスルホニルオキシ)アニソール、m
−(p−トルエンスルホニルオキシ)アニソール、p−
(p−トルエンスルホニルオキシ)アニソール、o−
(p−トルエンスルホニルオキシ)トルエン、m−(p
−トルエンスルホニルオキシ)トルエン、p−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)トルエン、o−(p−トルエ
ンスルホニルオキシ)フェノール、m−(p−トルエン
スルホニルオキシ)フェノール、p−(p−トルエンス
ルホニルオキシ)フェノール、2−(p−トルエンスル
ホニルオキシ)ベンゾトリフルオリド、3−(p−トル
エンスルホニルオキシ)ベンゾトリフルオリド、4−
(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゾトリフルオリ
ド、1−(p−トルエンスルホニルオキシ)−2,4−
ジメトキシベンゼン、1−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)2,5−ジメトキシベンゼン、2−(p−トルエ
ンスルホニルオキシ)フェネチルアルコール、3−(p
−トルエンスルホニルオキシ)フェネチルアルコール、
4−(p−トルエンスルホニルオキシ)フェネチルアル
コール、5−(p−トルエンスルホニルオキシ)−1,
2,4−トリメチルベンゼン、2−(p−トルエンスル
ホニルオキシ)−m−キシレン、2−(p−トルエンス
ルホニルオキシ)−p−キシレン、3−(p−トルエン
スルホニルオキシ)−o−キシレン、4−(p−トルエ
ンスルホニルオキシ)−o−キシレン、4−(p−トル
エンスルホニルオキシ)−m−キシレン、5−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)−m−キシレン、1−(p−
トルエンスルホニルオキシ)−3−(トリトリフルオロ
メトキシ)ベンゼン、1−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)−4−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、2−
(p−トルエンスルホニルオキシ)ビフェニル、3−
(p−トルエンスルホニルオキシ)ビフェニル、4−
(p−トルエンスルホニルオキシ)ビフェニル、4−
(p−トルエンスルホニルオキシ)−1,2−(メチレ
ンジオキシ)ベンゼン、1−(p−トルエンスルホニル
オキシ)ナフタレン、2−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)ナフタレン、1−(p−トルエンスルホニルオキ
シ)−2−メチルナフタレン、1−(p−トルエンスル
ホニルオキシ)−4−メチルナフタレン、1,4−ジ
(p−トルエンスルホニルオキシ)ナフタレン、4,
4’−ジ(p−トルエンスルホニルオキシ)ビフェニ
ル、2−(p−トルエンスルホニルオキシ)チオフェ
ン、3−(p−トルエンスルホニルオキシ)チオフェ
ン、2−(p−トルエンスルホニルオキシ)ピリジン、
3−(p−トルエンスルホニルオキシ)ピリジン、4−
(p−トルエンスルホニルオキシ)ピリジン、9−(p
−トルエンスルホニルオキシ)フェナントレン、2−
(p−トルエンスルホニルオキシ)フラン、3−(p−
トルエンスルホニルオキシ)フラン等のアリールp−ト
ルエンスルホニルオキシド類等が例示される。
【0018】また、1,2−ジブロモベンゼン、1,3
−ジブロモベンゼン、1,4−ジブロモベンゼン、9,
10−ジブロモアントラセン、9,10−ジクロロアン
トラセン、1−ブロモ−2−フルオロベンゼン、1−ブ
ロモ−3−フルオロベンゼン、1−ブロモ−4−フルオ
ロベンゼン、2−ブロモクロロベンゼン、3−ブロモク
ロロベンゼン、4−ブロモクロロベンゼン、2−ブロモ
−5−クロロトルエン、3−ブロモ−4−クロロベンゾ
トリフルオリド、5−ブロモ−2−クロロベンゾトリフ
ルオリド、1−ブロモ−2,3−ジクロロベンゼン、1
−ブロモ−2,6−ジクロロベンゼン、1−ブロモ−
3,5−ジクロロベンゼン、2−ブロモ−4−フルオロ
トルエン、2−ブロモ−5−フルオロトルエン、3−ブ
ロモ−4−フルオロトルエン、4−ブロモ−2−フルオ
ロトルエン、4−ブロモ−3−フルオロトルエン等のハ
ロゲン原子を二つ以上有するアリールハライドも本発明
において使用される脱離基を有する芳香族化合物として
例示することができる。
【0019】本発明において用いられるアミン類として
は、一級アミン類、二級アミン類、イミン類、アミド類
等が挙げられる。一級アミン類としては、特に限定され
るものではないが、例えば、エチルアミン、プロピルア
ミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、tert−ブ
チルアミン、ペンチルアミン、シクロペンチルアミン、
ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミ
ン、オクチルアミン等の脂肪族一級アミン類、アニリ
ン、o−フルオロアニリン、m−フルオロアニリン、p
−フルオロアニリン、o−アニシジン、m−アニシジ
ン、p−アニシジン、o−トルイジン、m−トルイジ
ン、p−トルイジン、2−ナフチルアミン、2−アミノ
ビフェニル、4−アミノビフェニル、3,4−メチレン
ジオキシアニリン、m−キシリジン、p−キシリジン等
の芳香族一級アミン類等が挙げられる。二級アミン類と
しては、特に限定されるものではないが、例えば、ピペ
ラジン、2−メチルピペラジン、ホモピペラジン、N−
メチルホモピペラジン、2,6−ジメチルピペラジン、
N−メチルピペラジン、N−エチルピペラジン、N−エ
トキシカルボニルピペラジン、N−ベンジルピペラジ
ン、モルホリン、2,6−ジメチルモルホリン、ピペリ
ジン、2,6−ジメチルピペリジン、3,3−ジメチル
ピペリジン、3,5−ジメチルピペリジン、2−エチル
ピペリジン、4−ピペリドンエチレンケタール、ピロリ
ジン、2,5−ジメチルピロリジン、カルバゾール、イ
ンドール、インドリン等の環状二級アミン類、ジメチル
アミン、ジエチルアミン、芳香環に置換基を有してもよ
いN−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N−メチ
ルベンジルアミン、N−メチルフェネチルアミン、ジフ
ェニルアミン誘導体等のような非環状二級アミン類等が
挙げられる。
【0020】イミン類としては、特に限定されるもので
はないが、例えば、ベンゾフェノンイミン、4,4’−
ジメトキシベンゾフェノン等が挙げられる。アミド類と
しては、特に限定されるものではないが、例えば、2−
アセチジノン(β−ラクタム)、γ−ブチロラクタム、
δ−バレロラクタム、ε−カプロラクタム、アセトアミ
ド、プロピロアミド、シクロヘキシルカルボキサアミ
ド、ベンズアミド、N−メチルホルムアミド、N−メチ
ルアセトアミド、N−エチルアセトアミド、N−メチル
シクロヘキシリカルボキサアミド、N−メチルベンズア
ミド等が挙げられる。
【0021】本発明に於いて用いられるパラジウム化合
物としては、特に限定されるものではないが、好適なも
のは所謂低原子価のものであり、特に0価のパラジウム
塩及びパラジウム錯体が好ましいが、二価や四価のパラ
ジウム化合物であっても系内で容易に還元されて二価や
0価のパラジウム化合物に変化する化合物であれば同様
に使用可能である。本発明で用いられるパラジウム化合
物の具体例としては、例えば、ヘキサクロロパラジウム
(IV)酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム
(IV)酸カリウム等の4価パラジウム化合物類、塩化パ
ラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、酢酸パラジウ
ム(II)、パラジウムアセチルアセトナート(II)、ジ
クロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジク
ロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロ
ロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、
ジクロロテトラアンミンパラジウム(II)、ジクロロ
(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(II)、
パラジウムトリフルオロアセテート(II)、アリルパラ
ジウムクロライド(II)、π−アリルパラジウムクロラ
イドダイマー(II)等の2価パラジウム化合物類、トリ
ス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)、ト
リス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウムクロロホ
ルム錯体(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(0)等の0価パラジウム化合物類等が
挙げられる。
【0022】アミノ化反応の方法は、Buchwaldらにより
報告されている方法(J. Org. Chem., 2000, 1158)と同
様に行う事が出来る。本発明に於いて用いられるアミン
類は、脱離基を有する芳香族化合物1モルに対して0.
5〜30モルの範囲、又は脱離基を有する芳香族化合物
の環上の脱離基1モルに対し0.5〜10モルの範囲で
反応系に存在すればよいが、アミン類の量が少ないと当
然のことながら目的とする芳香族アミン類の収率が低く
なるし、アミン類の量が多すぎると未反応のアミン類の
回収が煩雑になるので、好ましくは、脱離基を有する芳
香族化合物1モルに対してアミン類は1〜10倍モルの
範囲、より好ましくは、1〜5倍モルの範囲、又は脱離
基を有する芳香族化合物の環上の脱離基1モルに対して
好ましくは、1〜5倍モルの範囲、より好ましくは、1
〜3倍モルの範囲で反応系に存在すればよい。本発明に
於いて用いられるパラジウム化合物の使用量は、脱離基
を有する芳香族化合物に対して0.1〜30モル%、好
ましくは、0.5〜20モル%、より好ましくは、1〜
10モル%である。また、本発明に於いて用いられるホ
スフィンスルフィド類の使用量はパラジウム化合物に対
して0.1〜10倍モル、好ましくは、1〜7倍モル、
より好ましくは、2〜5倍モルである。
【0023】本発明の方法は、通常塩基の存在下で行わ
れる。本発明において使用される塩基としては、無機塩
基及び/又は有機塩基の何れでもよく、特に限定される
ものではないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸バリウム等のようなアルカリ金属またはアルカ
リ土類金属の炭酸塩;リン酸リチウム、リン酸カリウ
ム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属のリン酸塩;ナ
トリウム−メトキシド、ナトリウム−エトキシド、カリ
ウム−メトキシド、カリウム−エトキシド、リチウム−
tert−ブトキシド、ナトリウム−tert−ブトキ
シド、カリウム−tert−ブトキシド等のようなアル
カリ金属アルコキシド等が挙げられる。 これらの塩基
の中でより好ましいものとしては、例えばナトリウム−
メトキシド、ナトリウム−エトキシド、カリウム−メト
キシド、カリウム−エトキシド、リチウム−tert−
ブトキシド、ナトリウム−tert−ブトキシド、カリ
ウム−tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シドが挙げられる。使用される塩基の量は、反応に用い
られる、脱離基を有する芳香族化合物の脱離基に対し、
0.5〜5倍モル程度、より好ましくは1〜3倍程度使
用するのが望ましい。塩基の量が0.5倍モル未満で
は、芳香族アミン類の収率が低くなる場合があるし、ま
た、塩基を大過剰に加えても芳香族アミン類の収率に変
化はないが、反応終了後の後処理操作が煩雑になるから
である。
【0024】本発明における反応は、通常不活性溶媒中
で行われる。使用される溶媒としては、本反応を著しく
阻害しない溶媒であればよく、特に限定されるものでは
ないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン等の脂肪族炭化水素;シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン等の脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類;ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルホスホトリアミド等を挙げること
ができる。これらのうちでより好ましいものとしては、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素や、
ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類が挙げられる。
【0025】本発明の方法を実施するに際しては、a)
前記のホスフィンスルフィド類、脱離基を有する芳香族
化合物、アミン化合物、パラジウム化合物及び要すれば
塩基を同時に仕込む方法、b)アミン化合物と要すれば
塩基とを仕込んであるところへ、パラジウム化合物と、
ホスフィンスルフィド類と、脱離基を有する芳香族化合
物とをそれぞれ別々に仕込む方法、c)予め、パラジウ
ム化合物とホスフィンスルフィド類とを反応容器中で混
合して触媒を調製しておき、そこへ要すれば塩基と、ア
ミン化合物と、脱離基を有する芳香族化合物を仕込む方
法、d)予め、パラジウム化合物とホスフィンスルフィ
ド類とを混合して触媒を別に調製しておき、該触媒とア
ミン化合物と、脱離基を有する芳香族化合物と、要すれ
ば塩基とをそれぞれ別々に仕込む方法等が挙げられる
が、何れの方法によっても同等の結果が得られる。
【0026】本発明の製造方法は、通常、窒素、アルゴ
ン等の不活性ガス雰囲気中、常圧下又は加圧下で行われ
る。反応温度は通常20〜300℃、好ましくは50〜
200℃の範囲で行われる。反応時間は、芳香族化合物
やアミンの種類、触媒の種類や量、反応温度等によって
変化するが、通常数分〜数十時間である。反応終了後
は、常法に従って後処理することにより目的とする芳香
族アミンを得ることができる。
【0027】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定される
ものではない。
【0028】実施例1 アリルパラジウムクロライド(11mg,0.060m
mol)、トリフェニルホスフィンスルフィド(69m
g,0.23mmol)、ナトリウムt−ブトキシド
(90mg,0.93mmol)を封管に入れ、アルゴ
ン置換し、そこに、ジフェニルアミン(137mg,
0.81mmol)、p−臭化ビフェニル(188m
g,0.81mmol)、o−ターフェニル(内部標準
用、122mg)を含むトルエン溶液(2ml)を加
え、100℃にて2時間加熱攪拌した。冷却後、水で洗
浄し、GLCにて定量分析した結果、ジフェニルアミン
の転化率は70%、(p−ビフェニル)ジフェニルアミ
ンの収率は58%であった。
【0029】比較例1 アリルパラジウムクロライド(12mg,0.065m
mol)、トリフェニルホスフィン(68mg,0.2
6mmol)、ナトリウムt−ブトキシド(89mg,
0.93mmol)を封管に入れ、アルゴン置換し、そ
こに、ジフェニルアミン(137mg,0.81mmo
l)、p−臭化ビフェニル(188mg,0.81mm
ol)、o−ターフェニル(内部標準用、122mg)
を含むトルエン溶液(2ml)を加え、100℃にて2
時間加熱攪拌した。冷却後、水で洗浄し、GLCにて定
量分析した結果、ジフェニルアミンの転化率は37%、
(p−ビフェニル)ジフェニルアミンの収率は29%で
あった。
【0030】実施例2 実施例1に於いて、触媒のアリルパラジウムクロライド
の量をp−臭化ビフェニルに対し2.5モル%とし、反
応温度を200℃、反応時間を0.75時間とした以外
は実施例1と全く同様にして反応及び後処理を行い、G
LCにて定量分析した結果、ジフェニルアミンの転化率
は69%、(p−ビフェニル)ジフェニルアミンの収率
は50%であった。
【0031】実施例3 実施例1に於いて、トリフェニルホスフィンスルフィド
の代わりにP,P−ジシクロヘキシル−o−ビフェニル
ホスフィンスルフィドを用い、触媒のアリルパラジウム
クロライドの量をp−臭化ビフェニルに対し3.6モル
%とし、反応時間を1.5時間とした以外は実施例1と
全く同様にして反応及び後処理を行い、GLCにて定量
分析した結果、ジフェニルアミンの転化率は79%、
(p−ビフェニル)ジフェニルアミンの収率は62%で
あった。
【0032】比較例2 実施例3に於いて、P,P−ジシクロヘキシル−o−ビ
フェニルホスフィンスルフィドの代わりにP,P−ジシ
クロヘキシル−o−ビフェニルホスフィンを用い、触媒
のアリルパラジウムクロライドの量をp−臭化ビフェニ
ルに対し4.5モル%とした以外は実施例3と全く同様
にして反応及び後処理を行い、GLCにて定量分析した
結果、ジフェニルアミンの転化率は61%、(p−ビフ
ェニル)ジフェニルアミンの収率は44%であった。
【0033】実施例4 実施例1に於いて、トリフェニルホスフィンスルフィド
の代わりにP,P−ジシクロヘキシル−(1−メチル−
2,2−ジフェニルビニル)ホスフィンスルフィドを用
い、触媒のアリルパラジウムクロライドの量をp−臭化
ビフェニルに対し1.6モル%とし、反応時間を1時間
とした以外は実施例1と全く同様にして反応及び後処理
を行い、GLCにて定量分析した結果、ジフェニルアミ
ンの転化率は66%、(p−ビフェニル)ジフェニルア
ミンの収率は50%であった。
【0034】
【発明の効果】本発明は、パラジウム化合物を触媒とし
て用いるアリールアミノ化反応における、より安定で、
且つ性能的にも従来のホスフィン類に比べて優れた性能
を示す活性化剤を提供するものであり、本発明に係るホ
スフィンスルフィド類を活性化剤として用いて、パラジ
ウム化合物を触媒として用いるアリールアミノ化反応を
行った場合には、対応するホスフィン類を活性化剤とし
て用いた場合よりも反応の選択性が向上し、目的とする
芳香族アミンの収率も明らかにアップする。しかも、本
発明に係る活性化剤であるホスフィンスルフィド類は、
化合物自体酸化を受け難く、空気中で安定に存在する
為、工業的な規模での使用に充分耐え得るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 透 神奈川県平塚市西八幡一丁目4番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 堀 容嗣 神奈川県平塚市西八幡一丁目4番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 萩原 利光 神奈川県平塚市西八幡一丁目4番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC52 BA02 BA03 BA06 BA25 BA32 BA35 BA37 BA39 BA45 BA52 BA53 BB11 BB15 BB20 BB22 BB25 BB26 BB61 BC10 BC19 4H039 CA71 CD20 CG20

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 脱離基を有する芳香族化合物を、ホスフ
    ィンスルフィド類及びパラジウム化合物の存在下に、ア
    ミン類と反応させることを特徴とする、芳香族アミン類
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 塩基の存在下に反応を行う請求項1に記
    載の製造方法。
  3. 【請求項3】 脱離基がハロゲン原子、トリフルオロメ
    タンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又
    はp−トルエンスルホニルオキシ基である請求項1又は
    2に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 脱離基がハロゲン原子である請求項1又
    は2に記載の製造方法。
  5. 【請求項5】 ホスフィンスルフィド類が下記一般式
    [1] 【化1】 [式中、R、R、Rはそれぞれ独立して、置換基
    を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
    よいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアル
    ケニル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表
    し、R、R、Rの何れか二つが互いに結合してア
    ルキレン鎖を形成していてもよい(但し、R、R
    のうち少なくとも一つはアルケニル基又はアリール
    基である。)。]で示される化合物である請求項1〜4
    の何れかに記載の製造方法。
  6. 【請求項6】 アミン類が一級アミン類、二級アミン
    類、イミン類又はアミド類である請求項1〜5の何れか
    に記載の製造方法。
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