JP2002087802A - 燃料改質装置 - Google Patents
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Abstract
の触媒層の活性温度に達するまでの時間を短縮する。 【解決手段】 燃料改質装置は水素を含む改質ガスを生
成する改質器(1)と、改質ガスに含まれる一酸化炭素
を除去する触媒層を備えた一酸化炭素除去装置(3)
と、一酸化炭素除去装置(3)に高温ガスを供給する手
段(4)と、一酸化炭素除去装置に酸化剤を供給する手
段(7)と、を備える。一酸化炭素除去装置(3)の触
媒層の温度が所定温度以下の場合に、改質ガスと高温ガ
スと酸化剤を混合した混合ガスを一酸化炭素除去装置
(3)に供給するので、一酸化炭素除去装置(3)の触
媒層の活性温度に達するまでの時間を短縮することがで
きる。
Description
改質用燃料を改質することにより、水素を含む改質ガス
を生成する燃料改質装置の改良に関する。
00−063104号公報に記載されるように改質器、
一酸化炭素除去装置、蒸発器等から構成される。
充填されており、改質ガス中の一酸化炭素を優先的に酸
化させて、改質ガス中の一酸化炭素濃度を低下させるこ
とができる。
では、燃料改質装置の起動時に酸化触媒層が活性化する
までに時間が掛かるという問題があり、これを解決する
ための手段として特開平5−303970号公報に記載
のバーナーで生成した燃焼ガスを触媒層に導入したり、
ヒーターを触媒層の近傍に設置する方法がある。また、
特開平11−67256号公報には燃焼ガスと熱交換し
て高温となった空気を触媒層に導入する方法が、特開2
000−63104号公報には一酸化炭素除去装置の上
流に設置した燃焼器で、噴霧した燃料をグロープラグで
着火、燃焼し、その燃焼ガスを触媒層に導入する方法が
開示されている。
に記載の技術は、まず改質器を起動して改質ガスを生成
し、この改質ガスに過剰量の酸化剤を混合して触媒層に
導入して、触媒層が酸化反応することで、活性化するよ
うにしている。
従来技術はそれぞれ課題を有している。
や特開平11−67256号公報に記載の技術では導入
された箇所が局部的に高温となり、触媒の耐熱温度、例
えばRuをAl2O3に担持させた触媒では300℃を超
えると触媒が焼結し、触媒の活性が低下するという問題
が生じる。この問題を解決するには、触媒を耐熱温度以
下に保持した上で、触媒層全体を所定温度(RuをAl
2O3に担持させた触媒では100〜200℃)にするた
めには熱量を抑えて、加熱時間を長くする手立てしかな
く、これでは起動時間に時間がかかるという問題が生じ
る。これは特開2000−63104号公報に記載され
た技術でも触媒層に供給される熱量には限度があるた
め、解決されない課題である。
術では、改質器が十分に起動するまでは可燃性ガス、す
なわち酸化反応で自己発熱するための反応物の量が少な
く、触媒層での酸化反応による発熱量が少ないため触媒
層全体を適温にするまでの時間が掛かるという問題があ
る。
る燃料改質装置を提供することを目的とする。
む改質ガスを生成する改質器と、改質ガスに含まれる一
酸化炭素を除去する触媒層を備えた一酸化炭素除去装置
と、前記一酸化炭素除去装置に高温ガスを供給する手段
と、前記一酸化炭素除去装置に酸化剤を供給する手段
と、を備えた燃料改質装置において、前記一酸化炭素除
去装置の触媒層の温度が所定温度以下の場合に、改質ガ
スと高温ガスと酸化剤を混合した混合ガスを一酸化炭素
除去装置に供給する。
一酸化炭素除去装置の触媒層の温度が所定温度以上の場
合に、一酸化炭素除去装置への高温ガスの供給を停止す
る。
て、前記高温ガスは、原燃料と空気を理論空燃比よりも
濃い状態で燃焼させることにより生成した、可燃性ガス
を含有する燃焼ガスとする。
の発明において、前記触媒層の温度を検出する手段と、
前記高温ガスの導入量を調整する手段とを備え、触媒層
の温度が所定値となるように高温ガスの導入量を触媒層
毎に調整する。
の発明において、前記混合ガスの温度を検出する手段
と、前記触媒層の温度を検出する手段と、前記高温ガス
の導入量を調整する手段と、前記酸化剤の導入量を調整
する手段とを備え、混合ガスの温度が所定値となるよう
に高温ガスの導入量を調整するとともに、触媒層の温度
が所定値となるように酸化剤の導入量を調整する。
の発明において、前記一酸化炭素除去装置として、複数
の一酸化炭素除去装置を直列に配置する。
去装置の触媒層が所定温度に達していない場合に、改質
器で生成される改質ガスと高温ガスと空気との混合ガス
を一酸化炭素除去装置に供給するようにしたので、一酸
化炭素除去装置の触媒層は高温の混合ガスによる加熱と
ともに、水素および一酸化炭素と酸素との反応熱によっ
ても触媒層が加熱されることにより、触媒層が活性温度
に達するまでの所要時間を短縮することが可能となる。
気を理論空燃比よりも濃い状態で燃焼させることにより
生成した、可燃性ガスを含有する燃焼ガスとしたので、
改質器が十分に機能していない、改質ガス中の可燃性ガ
スの含有量が少ない場合でも一酸化炭素除去装置の触媒
層を加熱するための十分な反応熱を発生することができ
る。したがって触媒層を活性温度までの時間を短縮する
ことができる。
なるように高温ガスの導入量を調整するようにしたの
で、触媒層が耐熱温度を超えることを抑制しながら、起
動時に触媒層の温度が活性温度に達するまでの時間を短
縮することができる。
となるように高温ガスの導入量を調整するとともに、触
媒層の温度が所定値となるように酸化剤の導入量を調整
するようにしたので、触媒層が耐熱温度を超えることを
抑制しながら、起動時に触媒層の温度が活性温度に達す
るまでの時間を短縮することができる。
置を直列に配置するようにしたので、一酸化炭素の除去
能力が向上するとともに、それぞれの一酸化炭素除去装
置で触媒層の温度制御を行うことができる。
装置の構成図を示し、図1は起動運転時の状態を示し、
図2は定常運転時の状態を示し、図3は改質器と起動燃
焼器とプリミキサの作動概念図を示している。
明する。
改質器1と、改質器1から供給される改質ガス中の一酸
化炭素濃度を燃料電池スタック2の許容濃度まで低減す
る一酸化炭素除去装置3と、起動時に原燃料を燃焼し、
高温ガスを生成する起動燃焼器4と、この高温ガスと原
燃料を混合し、混合したガスを気化し、改質器1に供給
するプリミキサ5から主要部が構成される。
プ20から供給された原燃料(例えばメタノールなどの
炭化水素系燃料)は、調整弁6を介して起動燃焼器4に
導入される。一方、起動燃焼器4にはコンプレッサ7か
ら空気が調整弁8を介して導入される。起動燃焼器4に
は点火手段としてグロープラグ9が備えられており、起
動燃焼器4内に導入された原燃料と空気の混合ガスを点
火、燃焼させる。この燃焼によって高温ガスが生成され
てプリミキサ5へ供給される。
さらに燃料ポンプ20からの原燃料とコンプレッサ7か
らの空気が調整弁11、空気調整弁12を介して供給さ
れる。プリミキサ5では原燃料と空気の混合ガスが高温
ガスによって気化され、これらが改質器1に供給され
る。
に供給された混合ガスは所定温度域において触媒層で酸
化反応と改質反応(吸熱反応)とが同時に生じ、水素を含
む改質ガスが生成される。
3に送り込む通路には高温ガス調整弁10と空気調整弁
18が設けられ、一酸化炭素除去装置3の触媒温度が所
定温以下の時に起動燃焼器4で生成された高温ガスが高
温ガス調整弁10を介して、さらにコンプレッサ7から
供給される空気が空気調整弁18を介して導入され、こ
れらが一酸化炭素除去装置3に供給される。
素を選択的に酸化する触媒物質を担体にコーティングし
た触媒層を充填する。たとえば、RuやPtなどの貴金
属をAl2O3などに担持させ、セラミック製や金属製の
ハニカムにコーティングしたものである。
ス中の一酸化炭素は触媒によって反応して低減される。
炭素除去装置3の下流に設置された切換弁15が閉じ一
酸化炭素が除去された改質ガスは燃料電池スタック2に
は供給されず、一酸化炭素除去装置3の下流に設置され
た切換弁14を介して全量が排水素燃焼器13に供給さ
れる。この排水素燃焼器13は外部に余剰水素が排出さ
れるのを防ぐもので、余剰水素を完全に燃焼させる。排
水素燃焼器13にはコンプレッサ7からの空気が空気調
整弁19を介して供給され、改質ガスと空気との混合ガ
スを、排水素燃焼器13に備えられた触媒によって燃焼
し、高温ガスを発生する。この高温ガスは下流に配置さ
れた原燃料を加熱気化させるための蒸発器17に流入
し、蒸発器17を昇温させた後、外部に放出される。
使用されない経路を示し、例えば後述する定常運転時に
使用されるものである。
定常運転時の構成について説明する。
し、プリミキサ5には蒸発器17からの気化燃料とコン
プレッサ7からの空気が供給される。プリミキサ5内で
高温燃料と空気が混合し、改質器1に供給される。
ガスを生成する。改質器1を流出した改質ガスにコンプ
レッサ7からの空気が空気調整弁18を介して混合し、
一酸化炭素除去装置3に導入される。
定濃度、すなわち燃料電池スタック2が許容する一酸化
炭素濃度まで一酸化炭素を除去し、改質ガスを切換弁1
5を通して全て燃料電池スタック2に供給する。
質ガス以外の余剰の改質ガスは燃料電池スタック2から
排水素燃焼器13に送られる。改質ガスは排水素燃焼器
13で触媒燃焼により高温ガスとなり、蒸発器17に供
給される。
とともに、燃料ポンプ20から供給される原燃料と、水
ポンプ24から供給される水が、それぞれの調整弁2
1、22を介して蒸発器17に供給され、昇温された蒸
発器17において熱交換されることにより気化し、プリ
ミキサ5に流入する。
ミキサ5への原燃料の供給は停止されている。
質器1の作動概念図を示す。
ンプレッサ7から供給される空気はそれぞれ調整弁6、
8によって調圧されてからインジェクタ27A、スワラ
ー27Bを介して、起動燃焼器4内に噴射される。原燃
料と空気からなる混合ガスはグロープラグ9によって着
火燃焼し、高温ガスとなる。この高温ガスは起動燃焼器
4内に設置された温度検出器23によって測温され、所
定温度となるように燃料量、空気量を調整することがで
きる。
し、ここでさらに原燃料と空気が調整弁11、12を介
してインジェクタ28A、スワラー28Bにより噴射さ
れて、高温ガスと混合する。
からなる改質部に供給されて、水素を含む改質ガスが生
成される。
達していない場合には、図1のように改質器1で生成さ
れた改質ガスに空気調整弁18からのこの空気と、さら
に起動燃焼器4からの高温ガスを調整弁10を介して導
入し、混合した上で一酸化炭素除去装置3に供給する。
以下であると判断する手段としては、触媒層に設置した
温度検出器25、あるいは改質ガスの温度を検出する温
度検出器26の出力をもとに図示しないコントローラに
よって判断させてもよいし、起動時においては温度を検
出せずに所定温度以下であると判断してもよい。
導入される改質ガス、空気、高温ガスの混合ガスは高温
ガスによって高温となっており、高温の混合ガスの熱が
触媒層に伝熱されることで、触媒層が徐々に加熱され
る。
媒層の活性が低く、改質ガス中の水素や一酸化炭素など
の可燃性ガスの濃度が低い。また未反応のメタノールガ
スは十分に昇温されていない改質器1の触媒層や配管に
凝縮するため、一酸化炭素除去装置3に導入されない。
性が高まるに従って、改質ガス中の水素や一酸化炭素の
割合が徐々に増加し、一酸化炭素除去装置3に導入され
るようになる。一酸化炭素除去装置3の触媒層で水素と
一酸化炭素は、空気調整弁18から導入された空気中の
酸素と反応して反応熱を発生する。この反応熱によって
触媒層の温度は上昇する。
層は高温の混合ガスによる加熱と併行して、水素および
一酸化炭素と酸素との反応熱によっても触媒層が自己加
熱されることにより、触媒層が活性温度に達するまでの
所要時間を短縮することが可能となる。
いる定常時においては図2に示したように、改質器1で
生成した改質ガスに空気調整弁18から空気を導入した
上で、一酸化炭素除去装置3の触媒層に改質ガスを導入
する。この場合、一酸化炭素除去装置3の触媒は十分に
活性化しているので、起動燃焼器4から高温ガスを導入
する必要はなく、一酸化炭素を効率よく反応除去でき
る。
これは第1の実施形態に対して、起動用燃焼器4で燃焼
する原燃料と空気の混合ガスの混合比を理論空燃比より
も濃い状態、すなわちリッチ状態に設定したものであ
る。
の混合ガスを燃焼すると(図4中のリーン燃焼)、燃焼
ガスには可燃性ガスがほとんど存在しないが、図4中リ
ッチ燃焼で示したリッチ状態の混合ガスを燃焼した場合
には、可燃性ガスが存在し、例えば、混合ガスが燃焼し
た際の火炎温度が900℃の時には、燃焼ガス中には約
25vol%の水素と約15vol%の一酸化炭素が存
在している。
4から排出される高温ガスとして用いることによって、
改質器1が十分に機能していない、改質ガス中の可燃性
ガスの含有量が少ない場合でも一酸化炭素除去装置3の
触媒層を加熱するための十分な反応熱を発生することの
できる可燃性ガスを含む燃焼ガスを一酸化炭素除去装置
3に導入することができる。
燃性ガスを含む燃焼ガスを一酸化炭素除去装置3に導入
することによって、一酸化炭素除去装置3の触媒層を自
己発熱による反応熱によって十分に加熱することができ
る。したがって触媒層全体の温度が触媒の活性温度に達
するまでの時間をさらに短縮することができる。
る。これは一酸化炭素除去装置3に備えた温度検出器2
5を用いて、一酸化炭素除去装置3の触媒層の温度を活
性温度に維持するように制御するものである。
トローラ30に入力され、検出した温度が触媒の活性下
限温度未満の場合に高温ガス調整弁10を開き、一酸化
炭素除去装置3に燃焼ガスを導入する。
2O3に担持させた触媒では100〜200℃であるの
で、下限温度は100℃とする。
れ、触媒層が昇温し、活性下限温度に近づくと、図6に
示すように高温ガスの導入量を徐々に少なくし、触媒層
の温度が活性温度より高くなりすぎないようにコントロ
ーラ30が高温ガス調整弁10を制御する。なお図1と
同一部材に同符号を付し、説明を省略する。
示すフローチャートを用いて説明する。
る。続いてステップS2で温度検出器25を用いて触媒
層の温度を検出し、ステップS3で入力した触媒温度に
基づき、高温ガスの導入量を図6から算出する。
高温ガスの導入量に対応する高温ガス調整弁10の開度
を調整する。
温度を温度検出器25で再検出し、ステップS6では、
触媒層の温度が活性下限温度、例えばRuをAl2O3に
担持させた触媒では100℃以上かどうかを判定し、1
00℃以上の場合にはステップS7に進み高温ガス調整
弁10を閉じて制御を終了する。
戻り、高温ガスを導入し、触媒層の温度が100℃以上
になるまで制御を継続する。
導入量との関係を示している。高温ガスの導入によって
まず触媒層の入り口付近の温度が上昇し、続いて出口付
近の温度が活性温度に達する。これはまず入り口付近で
活発に発熱反応が生じ、入り口付近の温度が上昇し、追
って発熱反応が出口側に移動していくためである。
図6に示すようにステップ状に制御しているが、より細
かく制御し、滑らかな曲線状に制御してもよい。
が耐熱温度を超えることを抑制しながら、起動時に触媒
層の温度が活性温度に達するまでの時間を短縮すること
ができる。
明する。
酸化炭素除去装置3に導入される、改質ガスと高温ガス
調整弁10から供給される高温ガスと空気調整弁18か
ら供給される空気との混合ガスの温度を一酸化炭素除去
装置3の上流に設置された温度検出器26によって検出
し、混合ガスの温度が触媒層の活性温度を維持するよう
にコントローラ30が空気調整弁18の開度を制御する
ものである。
の信号はコントローラ30に送られ、図6に示すように
混合ガスの温度が触媒層の活性下限温度に近づくほど高
温ガス調整弁10の開度を絞り、高温ガスの導入量を少
なくするように制御する。
25は、その検出信号をコントローラ30に出力する。
触媒層の温度が活性下限温度未満の場合にはコントロー
ラ30は空気調整弁18の開度を大きくするように指令
を出力し、空気調整弁18の開度は増加し、空気量が増
加する。図10に示すように触媒層の温度が低ければ低
いほど空気調整弁18の開度は大きくし、空気導入量を
増やし、活性下限温度に近づくほど空気調整弁18の開
度を絞り、空気の導入量を少なく制御する。図10では
空気導入量と温度計検出値との関係をステップ状として
が、曲線状としてより精度を向上することも可能であ
る。
態のコントローラの制御内容を説明する。
る。
とに分かれ、ステップS2では温度検出器26を用いて
混合ガスの温度を検出する。
から高温ガスの導入量を図6から算出する。
た高温ガスの導入量に基づいて高温ガス調整弁10の開
度を制御する。
いて触媒層の温度を検出する。
温度(例えばRuをAl2O3に担持させた触媒では10
0℃)以上かどうかを判定する。触媒層の温度が100
℃以上の場合にはステップS7に進み、高温ガス調整弁
10を閉じて制御を終了する。100℃未満の場合には
ステップS3に戻り、触媒層の温度が100℃以上にな
るまで制御を継続する。
を用いて触媒層の温度を検出する。ステップS9で検出
した触媒層の温度に基づいて図8から空気導入量を算出
する。
基づき空気調整弁18の開度を調整する。
いて触媒層の温度を検出する。
限温度(例えばRuをAl2O3に担持させた触媒では1
00℃)以上かどうかを判定する。触媒層の温度が10
0℃以上の場合にはステップS13に進み、空気調整弁
18の開度制御を図示しない定常運転時の制御内容にし
て、制御を終了する。100℃未満の場合にはステップ
S9に戻り、触媒層の温度が100℃以上になるまで制
御を継続する。
および空気の導入量との関係を示している。高温ガスお
よび空気の導入によってまず触媒層の入り口付近の温度
が上昇し、続いて出口付近の温度が活性温度に達する。
これはまず入り口付近で活発に発熱反応が生じ、入り口
付近の温度が上昇し、追って発熱反応が出口側に移動し
ていくためである。しかしながら第3の実施形態に対し
て出口側の温度上昇の遅れが本実施形態では小さくなっ
ている。これは空気の導入によってさらに触媒層での発
熱反応が促進されたためである。
層が耐熱温度を超えることを抑制しながら、起動時に触
媒層の温度が活性温度に達するまでの時間をさらに短縮
することができる。
去装置3を用いたが、一酸化炭素除去装置3を複数直列
に配列することも可能である。
置3を直列に配置し、それぞれの上流に高温ガス調整弁
10と空気調整弁18を配置する。また温度検出器2
5、26について、他の実施形態と同様にそれぞれの一
酸化炭素除去装置3に備える。
化炭素の除去能力が向上するとともに、それぞれの一酸
化炭素除去装置3で触媒層の温度制御を行うことができ
る。
構成を示す図である。
である。
動概念図である。
示す図である。
構成を示す図である。
す図である。
ローチャートである。
量との関係を示す図である。
構成を示す図である。
図である。
内容を示すフローチャートである。
び空気の導入量との関係を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】水素を含む改質ガスを生成する改質器と、 改質ガスに含まれる一酸化炭素を除去する触媒層を備え
た一酸化炭素除去装置とを備えた燃料改質装置におい
て、 前記一酸化炭素除去装置に高温ガスを供給する手段と、 前記一酸化炭素除去装置に酸化剤を供給する手段とを備
え、 前記一酸化炭素除去装置の触媒層の温度が所定温度以下
の場合に、改質ガスと高温ガスと酸化剤を混合した混合
ガスを一酸化炭素除去装置に供給する、ことを特徴とす
る燃料改質装置。 - 【請求項2】前記一酸化炭素除去装置の触媒層の温度が
所定温度以上の場合に、一酸化炭素除去装置への高温ガ
スの供給を停止する、ことを特徴とする請求項1に記載
の燃料改質装置。 - 【請求項3】前記高温ガスが、原燃料と空気を理論空燃
比よりも濃い状態で燃焼させることにより生成した、可
燃性ガスを含有する燃焼ガスであることを特徴とする請
求項1または2に記載の燃料改質装置。 - 【請求項4】前記触媒層の温度を検出する手段と、前記
高温ガスの導入量を調整する手段とを備え、触媒層の温
度が所定値となるように高温ガスの導入量を調整するこ
とを特徴とする請求項1から3のいずれか一つに記載の
燃料改質装置。 - 【請求項5】前記混合ガスの温度を検出する手段と、前
記触媒層の温度を検出する手段と、前記高温ガスの導入
量を調整する手段と、前記酸化剤の導入量を調整する手
段とを備え、混合ガスの温度が所定値となるように高温
ガスの導入量を調整するとともに、触媒層の温度が所定
値となるように酸化剤の導入量を調整することを特徴と
する請求項1から3のいずれか一つに記載の燃料改質装
置。 - 【請求項6】前記一酸化炭素除去装置として、複数の一
酸化炭素除去装置を直列に配置することを特徴とする請
求項1から5のいずれか一つに記載の燃料改質装置。
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