JP2002086065A - 物品の製造方法 - Google Patents
物品の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】泡やむらがなく、平滑性に優れた硬化膜を有す
る物品の提供。 【解決手段】多孔質基材の表面が硬化膜で被覆された物
品の製造方法であって、多孔質基材に活性エネルギー線
硬化型組成物を塗工し、塗工膜を加温して塗工膜から泡
抜きをした後、活性エネルギー線を照射して前記組成物
を硬化させる物品の製造方法。
る物品の提供。 【解決手段】多孔質基材の表面が硬化膜で被覆された物
品の製造方法であって、多孔質基材に活性エネルギー線
硬化型組成物を塗工し、塗工膜を加温して塗工膜から泡
抜きをした後、活性エネルギー線を照射して前記組成物
を硬化させる物品の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、多孔質基材に平滑
な硬化膜を形成させることができる、物品の製造方法に
関するものである。
な硬化膜を形成させることができる、物品の製造方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】木材、紙、石膏ボード又は表面に凹凸の
あるような微細加工された金属等といった、その表面が
多孔質である基材の表面に活性エネルギー線硬化型組成
物を塗工し、これを硬化させる方法は、意匠性の向上及
び基材の保護等の目的で多くの分野で応用されている。
しかしながら、このような多孔質基材に、活性エネルギ
ー線硬化型組成物を塗工することは、前記組成物が無溶
剤で用いられることが多く、その粘度が高いために、基
材表面に均一に塗工することは困難であることがあっ
た。そこで従来、このような多孔質基材に活性エネルギ
ー線硬化型組成物を塗工する際には、塗工機を改良して
塗工する場合が多かった。例えば、リバースロールコー
ターで塗工し、多孔質基材の細孔に組成物を充填した
後、ナチュラルロールコーターで平滑な塗膜を得る方法
があった。又、活性エネルギー線硬化型組成物に、シリ
コーン系やフッ素系のレベリング剤や消泡剤を添加し
て、塗工性を改善する方法もある。しかしながら、この
ような方法によっても、多孔質基材に、泡やはじき等が
なく表面の平滑性が充分な硬化膜を得ることは困難であ
ることが多かった。
あるような微細加工された金属等といった、その表面が
多孔質である基材の表面に活性エネルギー線硬化型組成
物を塗工し、これを硬化させる方法は、意匠性の向上及
び基材の保護等の目的で多くの分野で応用されている。
しかしながら、このような多孔質基材に、活性エネルギ
ー線硬化型組成物を塗工することは、前記組成物が無溶
剤で用いられることが多く、その粘度が高いために、基
材表面に均一に塗工することは困難であることがあっ
た。そこで従来、このような多孔質基材に活性エネルギ
ー線硬化型組成物を塗工する際には、塗工機を改良して
塗工する場合が多かった。例えば、リバースロールコー
ターで塗工し、多孔質基材の細孔に組成物を充填した
後、ナチュラルロールコーターで平滑な塗膜を得る方法
があった。又、活性エネルギー線硬化型組成物に、シリ
コーン系やフッ素系のレベリング剤や消泡剤を添加し
て、塗工性を改善する方法もある。しかしながら、この
ような方法によっても、多孔質基材に、泡やはじき等が
なく表面の平滑性が充分な硬化膜を得ることは困難であ
ることが多かった。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者等は種々の検討
の結果、上記問題を解決するために、多孔質基材に活性
エネルギー線硬化型組成物を塗工し、塗工膜を加温して
前記基材の多孔から泡ぬきした後、活性エネルギー線を
照射して硬化させることにより、泡やむらがなく、平滑
性に優れた硬化膜を有する物品を得ることができること
を見出し、本発明を完成した。以下、本発明を詳細に説
明する。尚、本明細書では、アクリロイル基又はメタク
リロイル基を(メタ）アクリロイル基といい、アクリレ
ート又はメタクリレートを(メタ）アクリレートとい
う。
の結果、上記問題を解決するために、多孔質基材に活性
エネルギー線硬化型組成物を塗工し、塗工膜を加温して
前記基材の多孔から泡ぬきした後、活性エネルギー線を
照射して硬化させることにより、泡やむらがなく、平滑
性に優れた硬化膜を有する物品を得ることができること
を見出し、本発明を完成した。以下、本発明を詳細に説
明する。尚、本明細書では、アクリロイル基又はメタク
リロイル基を(メタ）アクリロイル基といい、アクリレ
ート又はメタクリレートを(メタ）アクリレートとい
う。
【０００４】
【発明の実施の形態】１．多孔質基材 本発明で使用する多孔質基材としては、細孔を有するも
のであれば種々のものが使用できる。例えば、木材、
紙、石膏ボード及びコンクリート等が挙げられる。本発
明においては、基材原料それ自体が多孔部を有しないも
のであっても、表面に多孔部が有する様に微細加工の加
工されたもの、具体的には凹凸の微細加工がなされた鉄
板等の金属板等も使用できる。
のであれば種々のものが使用できる。例えば、木材、
紙、石膏ボード及びコンクリート等が挙げられる。本発
明においては、基材原料それ自体が多孔部を有しないも
のであっても、表面に多孔部が有する様に微細加工の加
工されたもの、具体的には凹凸の微細加工がなされた鉄
板等の金属板等も使用できる。
【０００５】２．活性エネルギー線硬化型組成物 本発明で使用する活性エネルギー線硬化型組成物の構成
成分としては、（メタ）アクリレート及び不飽和ポリエ
ステル等のラジカル重合系化合物や、エポキシ化合物、
ビニルエーテル及びオキセタン等のカチオン重合系化合
物のいずれも使用でき、又ラジカル重合系化合物とカチ
オン重合系化合物の混合物でも使用できる。本発明にお
いては、塗工膜の表面平滑性に優れ、さらに多孔部への
浸透性に優れる点で、水溶性基を有するエチレン性不飽
和化合物（以下水溶性不飽和化合物という）を使用する
ことが好ましい。この場合、水溶性基としては、水酸基
及びカルボキシル基等が挙げられる。水溶性不飽和化合
物の具体例としては、ヒドロキシエチル(メタ）アクリ
レート、ヒドロキシプロピル(メタ）アクリレート、ヒ
ドロキシブチル(メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ）アクリレート及びグリシジルエーテ
ルを有する化合物と(メタ）アクリル酸との付加反応物
であるエポキシ(メタ）アクリレート等の水酸基含有
（メタ）アクリレートが好ましい。カルボキシル基を有
する化合物としては、水酸基含有（メタ）アクリレート
に、無水コハク酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフ
タル酸及び無水ヘキサヒドロフタル酸等の多塩基酸無水
物の付加反応物等が挙げられる。水溶性不飽和化合物と
してカルボキシル基を有する化合物を使用する場合は、
組成物の酸価として、塗膜表面のレベリング性を向上さ
せるために７０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇのものが好まし
い。組成物を紫外線で硬化させる場合には、光重合開始
剤を配合する。又組成物は、活性エネルギー線硬化型組
成物でその他の成分として通常配合される、レベリング
剤や消泡剤等を配合したものであっても良い。
成分としては、（メタ）アクリレート及び不飽和ポリエ
ステル等のラジカル重合系化合物や、エポキシ化合物、
ビニルエーテル及びオキセタン等のカチオン重合系化合
物のいずれも使用でき、又ラジカル重合系化合物とカチ
オン重合系化合物の混合物でも使用できる。本発明にお
いては、塗工膜の表面平滑性に優れ、さらに多孔部への
浸透性に優れる点で、水溶性基を有するエチレン性不飽
和化合物（以下水溶性不飽和化合物という）を使用する
ことが好ましい。この場合、水溶性基としては、水酸基
及びカルボキシル基等が挙げられる。水溶性不飽和化合
物の具体例としては、ヒドロキシエチル(メタ）アクリ
レート、ヒドロキシプロピル(メタ）アクリレート、ヒ
ドロキシブチル(メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ）アクリレート及びグリシジルエーテ
ルを有する化合物と(メタ）アクリル酸との付加反応物
であるエポキシ(メタ）アクリレート等の水酸基含有
（メタ）アクリレートが好ましい。カルボキシル基を有
する化合物としては、水酸基含有（メタ）アクリレート
に、無水コハク酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフ
タル酸及び無水ヘキサヒドロフタル酸等の多塩基酸無水
物の付加反応物等が挙げられる。水溶性不飽和化合物と
してカルボキシル基を有する化合物を使用する場合は、
組成物の酸価として、塗膜表面のレベリング性を向上さ
せるために７０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇのものが好まし
い。組成物を紫外線で硬化させる場合には、光重合開始
剤を配合する。又組成物は、活性エネルギー線硬化型組
成物でその他の成分として通常配合される、レベリング
剤や消泡剤等を配合したものであっても良い。
【０００６】３．物品の製造方法 本発明は、多孔質基材に活性エネルギー線硬化型組成物
を塗工し、塗工膜を加温して塗工膜から泡抜きをした
後、活性エネルギー線を照射して前記組成物を硬化させ
ることを特徴とする物品の製造方法である。
を塗工し、塗工膜を加温して塗工膜から泡抜きをした
後、活性エネルギー線を照射して前記組成物を硬化させ
ることを特徴とする物品の製造方法である。
【０００７】多孔質基材に活性エネルギー線硬化型組成
物を塗工する方法としては常法に従えば良く、例えばス
プレー、フローコート、バーコート、ロールコート、ダ
イコート、グラビアコート、マイクログラビアコート及
びディップコート等が挙げられる。
物を塗工する方法としては常法に従えば良く、例えばス
プレー、フローコート、バーコート、ロールコート、ダ
イコート、グラビアコート、マイクログラビアコート及
びディップコート等が挙げられる。
【０００８】本発明では、前記組成物の塗工後に加温
し、塗工膜中に残存する泡抜けを促進させるものであ
り、さらに塗工膜表面のレベリング性も大きく向上させ
る。塗工膜の加温方法としては、種々の方法が採用で
き、赤外線パネルヒーター等を使用する加温方法が、設
置場所も少なく効率的であり好ましい。塗工膜の加温温
度としては、４０〜１５０℃が好ましい。４０℃未満で
は効果が低く、泡かみがなく平滑な塗膜を得るには、多
くの時間を費やしてしまうことがあり、１５０℃を超え
ると活性エネルギー線硬化型組成物から低分子化合物や
光重合開始剤が揮発し設備を汚染したり、塗膜中の化合
物の一部が硬化することがある。
し、塗工膜中に残存する泡抜けを促進させるものであ
り、さらに塗工膜表面のレベリング性も大きく向上させ
る。塗工膜の加温方法としては、種々の方法が採用で
き、赤外線パネルヒーター等を使用する加温方法が、設
置場所も少なく効率的であり好ましい。塗工膜の加温温
度としては、４０〜１５０℃が好ましい。４０℃未満で
は効果が低く、泡かみがなく平滑な塗膜を得るには、多
くの時間を費やしてしまうことがあり、１５０℃を超え
ると活性エネルギー線硬化型組成物から低分子化合物や
光重合開始剤が揮発し設備を汚染したり、塗膜中の化合
物の一部が硬化することがある。
【０００９】本発明において、使用する活性エネルギー
線硬化型組成物をあらかじめ加温しておくことが好まし
い。これにより、塗工膜加温時の泡抜けを促進すること
ができる。この場合の加温温度としては、前記と同様の
理由で４０〜１５０℃が好ましい。
線硬化型組成物をあらかじめ加温しておくことが好まし
い。これにより、塗工膜加温時の泡抜けを促進すること
ができる。この場合の加温温度としては、前記と同様の
理由で４０〜１５０℃が好ましい。
【００１０】本発明において、塗工する多孔質基材をあ
らかじめ加温しておくことも好ましい。これにより、塗
工膜加温時の泡抜けを促進することができる。この場合
の加温温度としては、４０〜１５０℃が好ましい。４０
℃未満では効果が低く、泡かみがなく平滑な塗膜を得る
には、多くの時間を費やしてしまうことがあり、１５０
℃を超える温度では、基材が変形する場合がある。
らかじめ加温しておくことも好ましい。これにより、塗
工膜加温時の泡抜けを促進することができる。この場合
の加温温度としては、４０〜１５０℃が好ましい。４０
℃未満では効果が低く、泡かみがなく平滑な塗膜を得る
には、多くの時間を費やしてしまうことがあり、１５０
℃を超える温度では、基材が変形する場合がある。
【００１１】本発明では、塗工膜の加温処理をした後、
活性エネルギー線を照射して前記組成物を硬化させる。
活性エネルギー線の照射条件としては、使用する組成物
に応じて適宜設定すれば良い。具体的には、高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ等を使用して、紫外線や可
視光を照射しての硬化が挙げられる。
活性エネルギー線を照射して前記組成物を硬化させる。
活性エネルギー線の照射条件としては、使用する組成物
に応じて適宜設定すれば良い。具体的には、高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ等を使用して、紫外線や可
視光を照射しての硬化が挙げられる。
【００１２】４．用途 本発明は、種々の物品の製造に適用可能である。具体的
には前記した木材等の多孔質基材が硬化膜で被覆された
物品、基材として微細加工された金属板を使用する場合
の例としては、ソルダーレジスト及びエッチングレジス
ト等を使用した基板等が挙げられる。
には前記した木材等の多孔質基材が硬化膜で被覆された
物品、基材として微細加工された金属板を使用する場合
の例としては、ソルダーレジスト及びエッチングレジス
ト等を使用した基板等が挙げられる。
【００１３】
【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げて、本発明
をより具体的に説明する。なお、各例において、「部」
とは、質量部を意味する。 ○実施例１ アクリロイルオキシエチルモノフタレート６０部、トリ
メチロールプロパントリアクリレート４０部、メガファ
ックＦ−１７７〔大日本インキ化学工業（株）〕０．１
部及び１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの
５部を混合し、活性エネルギー線硬化型組成物を調製し
た。当該組成物の酸価は、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであっ
た。得られた組成物を１０℃に調整し、バーコーターを
用いナラ板に２０μｍの厚さで塗工し、塗工後、７０℃
で５分加熱を行った。得られた塗膜について、以下に従
い評価した。それらの結果を表１に示す。その後、塗膜
に紫外線を照射して硬化させたところ、ごく一部に気泡
が見られるものの、平滑性に優れた硬化膜が得られた。
をより具体的に説明する。なお、各例において、「部」
とは、質量部を意味する。 ○実施例１ アクリロイルオキシエチルモノフタレート６０部、トリ
メチロールプロパントリアクリレート４０部、メガファ
ックＦ−１７７〔大日本インキ化学工業（株）〕０．１
部及び１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの
５部を混合し、活性エネルギー線硬化型組成物を調製し
た。当該組成物の酸価は、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであっ
た。得られた組成物を１０℃に調整し、バーコーターを
用いナラ板に２０μｍの厚さで塗工し、塗工後、７０℃
で５分加熱を行った。得られた塗膜について、以下に従
い評価した。それらの結果を表１に示す。その後、塗膜
に紫外線を照射して硬化させたところ、ごく一部に気泡
が見られるものの、平滑性に優れた硬化膜が得られた。
【００１４】・評価 ＜塗膜中の泡＞ ○：全く気泡が無い。△：一部気泡が有る。×：全面に
気泡が有る。 ＜塗膜のはじき＞ ○：ハジキ無し。△：一部、ハジキ有り。×：ハジキが
多数発生した。
気泡が有る。 ＜塗膜のはじき＞ ○：ハジキ無し。△：一部、ハジキ有り。×：ハジキが
多数発生した。
【００１５】
【表１】
【００１６】○実施例２〜４ 加温温度を表１のように変更し、実施例１と同様の条件
で組成物を基材に塗布した。得られた塗膜について、実
施例１と同様に評価した。それらの結果を表１に示す。
その後、塗膜に紫外線を照射して硬化させたところ、実
施例２及び３ではごく一部に気泡が見られるものの、平
滑性に優れた硬化膜が得られ、実施例４では気泡が全く
なく平滑性に優れた硬化膜が得られた。
で組成物を基材に塗布した。得られた塗膜について、実
施例１と同様に評価した。それらの結果を表１に示す。
その後、塗膜に紫外線を照射して硬化させたところ、実
施例２及び３ではごく一部に気泡が見られるものの、平
滑性に優れた硬化膜が得られ、実施例４では気泡が全く
なく平滑性に優れた硬化膜が得られた。
【００１７】○比較例１ 加温温度を表１のように変更し、基材、組成物及び塗工
後で加温を行なわなかったこと以外は、実施例１と同様
の条件で組成物を基材に塗布した。得られた塗膜につい
て、実施例１と同様に評価した。それらの結果を表１に
示す。
後で加温を行なわなかったこと以外は、実施例１と同様
の条件で組成物を基材に塗布した。得られた塗膜につい
て、実施例１と同様に評価した。それらの結果を表１に
示す。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、簡便な方法により、気
泡やむらがなく、平滑性に優れた硬化膜を有する物品を
製造することができる。
泡やむらがなく、平滑性に優れた硬化膜を有する物品を
製造することができる。
フロントページの続き (72)発明者 伊藤 明子 愛知県名古屋市港区船見町１番地の１東亞 合成株式会社名古屋総合研究所内 Ｆターム(参考） 4D075 BB22X BB23X BB42Z BB93X CA47 EA21 EB13
Claims (5)
- 【請求項１】多孔質基材の表面が硬化膜で被覆された物
品の製造方法であって、多孔質基材に活性エネルギー線
硬化型組成物を塗工し、塗工膜を加温して塗工膜から泡
抜きをした後、活性エネルギー線を照射して前記組成物
を硬化させることを特徴とする物品の製造方法。 - 【請求項２】加温温度が、４０〜１５０℃であることを
特徴とする請求項１記載の物品の製造方法。 - 【請求項３】前記組成物の塗工前に、前記組成物を４０
〜１５０℃にあらかじめ加温しておくことを特徴とする
請求項１又は２に記載の物品の製造方法。 - 【請求項４】前記組成物の塗工前に、多孔質基材を４０
〜１５０℃にあらかじめ加温しておくことを特徴とする
請求項１又は２に記載の物品の製造方法。 - 【請求項５】前記組成物が、極性基を有するエチレン性
不飽和化合物からなることを特徴とする請求項１〜４の
いずれかに記載の物品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000286094A JP2002086065A (ja) | 2000-09-20 | 2000-09-20 | 物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000286094A JP2002086065A (ja) | 2000-09-20 | 2000-09-20 | 物品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002086065A true JP2002086065A (ja) | 2002-03-26 |
Family
ID=18770064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000286094A Pending JP2002086065A (ja) | 2000-09-20 | 2000-09-20 | 物品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002086065A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007256477A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | 光学補償シートの製造方法およびその製造方法により作製された光学補償シートを含む偏光板、および液晶表示装置 |
-
2000
- 2000-09-20 JP JP2000286094A patent/JP2002086065A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007256477A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | 光学補償シートの製造方法およびその製造方法により作製された光学補償シートを含む偏光板、および液晶表示装置 |
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