JP2002079539A

JP2002079539A - 光学素子およびその製造方法ならびに光ヘッドおよび光ディスク装置

Info

Publication number: JP2002079539A
Application number: JP2000272190A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Murata; 淳村田; Akira Morimoto; 章森本; Toshiaki Takano; 利昭高野
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-09-07
Filing date: 2000-09-07
Publication date: 2002-03-19

Abstract

(57)【要約】【課題】光学性能がよく性能が均一な光学素子および
その製造方法、ならびにそれを用いた光ヘッドおよび光
ディスク装置を提供する。【解決手段】樹脂からなる部材を研磨することによっ
て、球状の樹脂材３１を形成する第１の工程と、第１の
光学有効面を形成するための第１の型３４と第１の光学
有効面よりも曲率半径が小さい第２の光学有効面を形成
するための第２の型３５とを備える成形型３２を用い、
第２の型３５のみを移動させて樹脂材３１を加熱加圧成
形する第２の工程とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子およびそ
の製造方法、ならびに光ヘッドおよび光ディスク装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】光学素子は、光ディスク装置などの光ヘ
ッド等に利用されている。プラスチック材料を用いて光
学素子を成形する従来の方法としては、たとえば、射出
成形法や圧縮成形法などがある。射出成形法は、ペレッ
トを加熱して溶融し、インサートで形成されたキャビテ
ィ内に射出充填する方法である。また、圧縮成形法は、
射出成形によって略最終形状に前加工されたプラスチッ
ク素材を一定温度に保持された成形型内に供給したのち
加圧する方法である（特開平５−１７７７２５号公報参
照）。以下に、従来の成形方法、成形型および光学素子
について図を用いて簡単に説明する。

【０００３】従来の成形型を用いた場合の成形状態につ
いて、概略断面図を図５に示す。図５を参照して、従来
の成形型は、胴型１ａおよび１ｂからなる胴型１と、胴
型１の上下から嵌挿される上型２および下型３とからな
る。

【０００４】従来の製造方法では、まず、射出成形によ
って略最終形状（光学素子の形状）に前加工された光学
素子材料（ポリカーボネイト）４ａを、胴型１と上型２
と下型３とによって形成されるキャビティー内部に配置
する。成形型は、加熱加圧機構を有するプレスヘッド５
と、加熱機構を有するプレスステージ６とによって荷重
たわみ温度以上でガラス転移点未満の温度に予め昇温さ
れている。光学素子材料４ａの温度が胴型１、上型２お
よび下型３の温度と略一致し、荷重たわみ温度以上でガ
ラス転移点未満の一定温度になったとき、プレスヘッド
５を下降させ、上型２によって、光学素子材料４ａに約
９．８×１０⁶Ｐａ（約１００ｋｇｆ／ｃｍ²）の加圧力
を加えて変形させ、その状態を一定時間保持する。その
後、加圧力を解除し、荷重たわみ温度まで冷却した後、
上型２を取り外して成形された光学素子４を取り出す。
このようにして成形された光学素子４の断面図を図６に
示す。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、略最終
形状に前加工された光学素子材料（ポリカーボネイト）
４ａには、射出成形によって形成されることに基づく表
面欠陥が存在する。このため、上記従来の製造方法で
は、光学素子の表面に欠陥が残って光学性能に影響を及
ぼしやすいという問題があった。また、射出成形で複数
個の光学素子材料を同時に成形する際に、重量がわずか
にばらつく場合があり、図６に示すようなバリ４ｂが発
生する可能性があった。また、ゲート部に残留歪みがで
きることなどによって、光学素子の性能がばらつく原因
となるという問題があった。

【０００６】表面欠陥のある光学素子や、光学性能にば
らつきがある光学素子を用いて光ヘッドや光ディスクな
どを製造すると、これらの性能もばらつくという問題が
ある。

【０００７】上記問題を解決するため、本発明は、光学
性能がよく性能が均一な光学素子およびその製造方法、
ならびにそれを用いた光ヘッドおよび光ディスク装置を
提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の光学素子は、第１の光学有効面と前記第１
の光学有効面よりも曲率半径が小さい第２の光学有効面
とを備える光学素子であって、前記第１の光学有効面を
形成するための第１の型と前記第２の光学有効面を形成
するための第２の型とを備える成形型を用い、樹脂から
なり研磨によって球状に加工された樹脂材を、前記第２
の型のみを移動させて加熱加圧成形することによって形
成されたことを特徴とする。ここで、光学有効面とは、
光学素子のうち光学的な機能を発揮する部分の面をい
う。研磨によって球状に加工された樹脂材は、透明性が
高くバラツキが小さいため、上記光学素子は、光学性能
がよく性能が均一である。また、上記光学素子は、第２
の型のみを移動させて加熱加圧成形されるため、成形の
際に軸対称性が保たれたまま樹脂材が成形される。この
ため、成形された光学素子が冷却時に不均一に収縮する
こと抑制される。したがって、上記光学素子は、性能が
均一である。また、上記光学素子は、球状の樹脂材を用
いて成形されるため、バリの発生が抑制されている。

【０００９】上記光学素子では、前記樹脂材が、前記樹
脂のガラス転移点未満の温度で熱処理することによって
水分を除去されていることが好ましい。本発明者らは、
光学素子の材料である樹脂の水分を除去してから成形を
行うことによって、透過波面収差を抑制できることを見
出した。すなわち、上記構成によれば、透過波面収差が
小さい光学素子が得られる。

【００１０】また、本発明の光学素子の製造方法は、第
１の光学有効面と前記第１の光学有効面よりも曲率半径
が小さい第２の光学有効面とを備える光学素子の製造方
法であって、樹脂からなる部材を研磨することによっ
て、球状の樹脂材を形成する第１の工程と、前記第１の
光学有効面を形成するための第１の型と前記第２の光学
有効面を形成するための第２の型とを備える成形型を用
い、前記第２の型のみを移動させて前記樹脂材を加熱加
圧成形する第２の工程とを含むことを特徴とする。上記
製造方法によれば、上記本発明の光学素子で説明したよ
うに、光学性能がよく性能が均一である光学素子を製造
できる。

【００１１】上記製造方法では、前記第１の工程ののち
であって前記第２の工程の前に、前記樹脂のガラス転移
点未満の温度で前記樹脂材を熱処理することによって前
記樹脂材の水分を除去する工程を含むことが好ましい。
上記構成によれば、透過波面収差が小さい光学素子を製
造できる。

【００１２】また、本発明の光ヘッドは、光源と前記光
源の光軸上に配置された光学素子とを備える光ヘッドで
あって、前記光学素子が上記本発明の光学素子であるこ
とを特徴とする。

【００１３】また、本発明の光ディスク装置は、光ディ
スクに対して情報の記録または再生を行う光ディスク装
置であって、光源と、前記光源と前記光ディスクとの間
に配置された光学素子とを備え、前記光学素子が、上記
本発明の光学素子であることを特徴とする。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。

【００１５】（実施形態１）実施形態１では、本発明の
光学素子について説明する。実施形態１の光学素子１０
について、平面図を図１（ａ）に、図１（ａ）の線Ｘ−
Ｘにおける断面図を図１（ｂ）に示す。

【００１６】図１を参照して、光学素子１０は、第１の
光学有効面１０ａと、第１の光学有効面１０ａよりも曲
率半径が小さい第２の光学有効面１０ｂとを備える。す
なわち、第２の光学有効面１０ｂの曲率半径Ｒ２は、第
１の光学有効面１０ａの曲率半径Ｒ１よりも小さい。

【００１７】光学素子１０は、第１の光学有効面１０ａ
を形成するための第１の型と第２の光学有効面１０ｂを
形成するための第２の型とを備える成形型を用いて形成
される。具体的には、第２の型のみを移動させて樹脂か
らなる球状（好ましくは真球状）の樹脂材を加熱加圧成
形することによって形成される。樹脂材は、加熱加圧成
形の前に、ガラス転移点未満の温度で熱処理することに
よって水分が除去されていることが好ましい。

【００１８】球状の樹脂材の材料である樹脂には、光学
素子の材料として用いられる樹脂であれば特に限定なく
用いることができる。具体的には、たとえば、ポリエチ
レンやポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂や、ア
クリル樹脂、ポリカーボネート、スチレン樹脂などを用
いることができる。球状の樹脂材は、略球状に前加工さ
れた樹脂塊を研磨することによって形成される。このた
め、材料である樹脂は、研磨加工しやすいものであるこ
とが好ましい。球状の樹脂材は、光学素子性能を安定さ
せるため、±５μｍ程度の外径精度に加工することが好
ましい。

【００１９】（実施形態２）実施形態２では、本発明の
光学素子の製造方法について説明する。この製造方法
は、実施形態１で説明した光学素子１０を製造するため
の製造方法である。なお、実施形態１で説明した部分と
同様の部分については重複する説明を省略する。

【００２０】まず、樹脂からなる部材を研磨することに
よって、球状（好ましくは真球状）の樹脂材を形成する
（第１の工程）。樹脂材の原料となる樹脂には、実施形
態１で説明した樹脂を用いることができる。

【００２１】次に、第１の光学有効面１０ａを形成する
ための第１の型と第２の光学有効面１０ｂを形成するた
めの第２の型とを備える成形型によって、樹脂材を加熱
加圧成形する（第２の工程）。すなわち、第２の型のプ
レス面は、第１の型のプレス面よりも光学有効面を形成
する部分の曲率半径が小さい。第２の工程においては、
第２の型のみを移動させて樹脂材を加熱加圧成形する。

【００２２】上記第１の工程ののちであって上記第２の
工程の前に、樹脂のガラス転移点未満の温度で熱処理す
ることによって樹脂材の水分を除去することが好まし
い。熱処理は、たとえば、（荷重たわみ温度−５０℃）
以上でガラス転移点未満の温度で、３０分〜１８０分の
範囲内の処理を行えばよい。

【００２３】上記実施形態２の製造方法によれば、特性
がよく性能が均一な光学素子を製造できる。特に、実施
形態２の製造方法では、真球に近い球状の樹脂材を用い
て加熱加圧成形を行うため、成形時において樹脂が胴型
の内面の全周にほぼ同時に到達し、また、到達時間も従
来の材料に比べて長くなる。したがって、実施形態２の
製造方法によればバリが発生することを抑制できる。

【００２４】（実施形態３）実施形態３では、本発明の
光ヘッドについて、一例を説明する。

【００２５】実施形態３の光ヘッドについて、図２（ハ
ッチングは省略する）に構成を模式的に示す。図２を参
照して、光ヘッド２０は、光源（レーザ光源）２１と、
ハーフミラー２２と、コリメートレンズ２３と、光学素
子（対物レンズ）２４と、受光素子２５を備える。光学
素子２４は、実施形態１で説明した光学素子１０（実施
形態２の製造方法で製造される光学素子）である。光学
素子２４は、光源２１の光軸上に配置されている。

【００２６】光ヘッド２０では、光源２１から出射され
た光は、ハーフミラー２２によって反射され、コリメー
トレンズ２３によって略平行光にされる。この略平行光
は、次に、光学素子２４によって情報媒体２６に集光さ
れ、反射される。ここで、情報媒体２６は、たとえば光
ディスクである。情報媒体２６からの反射光は、光学素
子２４、コリメートレンズ２３およびハーフミラー２２
を透過し、受光素子２５に到達する。受光素子２５は、
入射した光を電気信号に変換して出力する。このように
して、情報媒体２６に記録された情報信号を再生する。

【００２７】上記実施形態３の光ヘッドでは、本発明の
光学素子を用いているため、光学性能が優れた光ヘッド
が得られる。

【００２８】なお、図２に示した光ヘッドの構成は一例
であり、本発明の光学素子を用いる光ヘッドであれば、
他の構成はいかなるものであってもよい。

【００２９】また、本発明の光ディスク装置は、光ディ
スクについて情報の記録または再生を行う光ディスク装
置であって、光源と、光源と光ディスクとの間に配置さ
れた光学素子とを備え、光学素子が、実施形態１で説明
した光学素子１０（実施形態２の製造方法で製造される
光学素子）である。すなわち、本発明の光ディスク装置
は、上記光ヘッド２０を備える光ディスク装置である。
上記光ディスク装置では、光学性能が優れた光ディスク
装置が得られる。

【００３０】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に
説明する。

【００３１】（実施例１）実施例１では、実施形態１で
説明した光学素子を実施形態２の製造方法で製造した一
例について、図３および図４を参照しながら説明する。
なお、この実施例では、第１の光学有効面（第１の光学
有効面１０ａに対応）の曲率半径Ｒ１＝８ｍｍ、第２の
光学有効面（第２の光学有効面１０ｂに対応）の曲率半
径Ｒ２＝２．０ｍｍ、中心厚ｔ＝２．２ｍｍ、外径＝
５．８ｍｍである光学素子３０を製造した。

【００３２】まず、ポリオレフィン樹脂（ガラス転移点
Ｔｇ＝１４０℃、荷重たわみ温度Ｔｔ＝１２３℃）を射
出成形することによって略球状の樹脂塊（直径約６ｍ
ｍ）を形成した。その後、樹脂塊を研磨加工することに
よって球状の樹脂材３１（直径３．８ｍｍ）を形成し
た。その後、図３（ａ）に示すように、樹脂材３１を、
成形型３２内に配置した。

【００３３】成形型３２は、略円筒状の胴型３３と、胴
型３３に嵌挿される第１の型３４および第２の型３５と
を備える。胴型３３はステンレスからなる。第１の型３
４および第２の型３５は超硬材料からなる。第１の型３
４は下方（地面側、つまり重力によって引かれる側）か
ら胴型３３に嵌挿され、第２の型３５は上方から胴型３
３に嵌挿される。第１の型３４は、光学有効面１０ａを
形成するための型である。第２の型３５は、光学有効面
１０ｂを形成するための型である。したがって、第２の
型３５のプレス面３５ａは、第１の型３４のプレス面３
４ａよりも、光学有効面を形成する部分の曲率半径が小
さい。

【００３４】その後、図３（ｂ）に示すように、第１の
型３４を固定し、第２の型３５のみを上方から移動させ
ることによって、樹脂材３１を加熱加圧成形した。この
ようにして、図３（ｃ）に示す光学素子３０を製造し
た。加熱加圧成形は、図４に示す成形装置４０を用いて
行った。

【００３５】成形装置４０は、ステージ４０ａ〜４０ｄ
と、投入ステージ４１と、取り出しステージ４２とを備
える。ステージ４０ａ〜４０ｄは、第１の型３４と接す
るプレスステージ４３と、第２の型３５を加圧するプレ
スヘッド４４とを備える。プレスステージ４３およびプ
レスヘッド４４には、それぞれヒータが内蔵されてお
り、温度を自由に設定できるようになっている。各ステ
ージはあらかじめ所望の温度に昇温されており、所定の
時間毎に、成形型３２が次のステージに順次搬送される
ようになっている。成形型３２は、搬送アーム（図示せ
ず）によって搬送される。この実施例では、タクトタイ
ムを５０ｓｅｃに設定して成形を行った。各ステージの
設定温度を表１に示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】以下、加熱加圧成形の方法を説明する。ま
ず、樹脂材３１を配置した成形型３２を、成形装置４０
の投入ステージ４１にロボット（図示せず）によって搬
送し、投入扉を開けて予熱ステージ４０ａに投入した。
投入扉は次の型を投入するまで閉じた状態である。

【００３８】次に、予熱ステージ４０ａのプレスヘッド
４４を第２の型３５に当接させた。予熱ステージ４０ａ
では、プレスステージ４３およびプレスヘッド４４に組
み込まれたヒータによって樹脂材３１が加熱される。し
かし、予熱ステージ４０ａでは、タクトタイム内に樹脂
材３１の温度が変形可能な温度に達しない。このため、
加圧力が樹脂材３１に加わらないように、プレスヘッド
４４の下死点を設定した。

【００３９】そして、タクトタイム経過後に、搬送アー
ムによって成形型３２を次のステージである成形ステー
ジ４０ｂへ搬送した。そして、成形ステージ４０ｂのプ
レスヘッド４４を第２の型３５に当接させた。成形ステ
ージ４０ｂでも、予熱ステージ４０ａと同様に、樹脂材
３１を加熱した。成形ステージ４０ｂでは、樹脂材３１
が変形可能な温度（荷重たわみ温度）に到達したのち、
第２の型３５のみをプレスヘッド４４によって移動させ
て加熱加圧成形を行った。プレス圧力は、約２９．４Ｎ
（３ｋｇｆ）以下とした。このとき、樹脂材３１は成形
可能な粘度となっているため、低い加圧力でも変形し
た。

【００４０】次に、成形型３２を第１冷却ステージ４０
ｃに搬送した。そして、第１冷却ステージ４０ｃのプレ
スヘッド４４を下降させて第２の型３５に当接させ、約
４９０Ｎ（約５０ｋｇｆ）の加圧力で加圧した。第１冷
却ステージ４０ｃは、タクト終了時点において、成形さ
れた光学素子が荷重たわみ温度以下となるような設定温
度とした。

【００４１】次に、成形型３２を第２冷却ステージ４０
ｄに搬送した。そして、第１冷却ステージ４０ｃと同様
に、第２の型３５にプレスヘッド４４を当接させて冷却
を行った。このとき、第１冷却ステージ４０ｃと同等の
加圧力で加圧を行った。そして、ロボットで取り出すこ
とが可能な温度まで光学素子３０を冷却したのち、取り
出しステージ５２に成形型３２を搬送した。その後、ロ
ボットによって成形型３２を分解組立ステージ（図示せ
ず）に移送した。分解組立ステージでは、成形型３２を
分解して、光学素子３０を取り出した。このようにし
て、光学素子３０を製造した。

【００４２】なお、胴型３３と第２の型３５とのクリア
ランス部には、成形途中に軟化した樹脂材３１が入り込
む隙間がある。しかし、実施例１の方法では、クリアラ
ンス部には樹脂材３１がほとんど入り込まなかった。こ
れは、予熱ステージ４０ａにおいて第２の型３５に加圧
力が加わらないように下死点を決めたこと、および、成
形ステージ４０ｂにおいて低い加圧力で加圧変形させた
ことによるものである。

【００４３】実施例１の製造方法で得られた光学素子３
０には、バリがなく、光学性能に優れていた。また、複
数個の光学素子間における特性のばらつきも非常に少な
かった。このように、第２の型３５（曲率半径が小さい
光学有効面を形成するための型）のみを上方から移動さ
せて加熱加圧成形することによって、冷却時の樹脂の収
縮を緩和させることができ、光学素子の光学有効面の形
状が設計値からずれることを抑制できた。

【００４４】また、実施例１では、これまでの製造方法
とは異なり研磨によって球状に加工した樹脂材を用いて
いるため、材料の透明性が高い。このため、製造された
光学素子３０は、インジェクション成形で製造された従
来の光学素子よりも透過率が向上した。

【００４５】次に、実施例１の光学素子３０を用いて光
ヘッドおよび光ディスク装置を製造した。光学素子３０
は、従来の光学素子に比べて内部ひずみの量が少なく透
過率も良好であるため、光学素子３０を搭載した光ヘッ
ドまたは光ディスク装置は初期特性が良好であった。

【００４６】また、光学素子３０にはバリが発生しなか
ったため、特に光ヘッドを組み立てる際に、バリによっ
て生ずる光軸に対するレンズ有効面の傾きがほとんど発
生せず、組立工数を削減できた。さらに、従来の光学素
子を用いて光ヘッドを組み立てる場合、ボビンと光学素
子とを接着する工程において、バリの影響で接着層がば
らついて接着後の光学性能が劣化するという問題があっ
たが、光学素子３０ではこの問題も発生しなかった。

【００４７】このように、本発明の光学素子を用いた光
ヘッドを搭載した光ディスク装置は、光学性能が従来の
光ディスク装置に比べて光学性能に優れたものとなっ
た。

【００４８】（実施例２）実施例２では、実施形態１で
説明した光学素子を実施形態２の製造方法で製造した他
の一例について説明する。なお、実施例２では、第１の
光学有効面（第１の光学有効面１０ａに対応）の曲率半
径Ｒ１＝６ｍｍ、第２の光学有効面（第２の光学有効面
１０ｂに対応）の曲率半径Ｒ２＝１．５ｍｍ、中心厚ｔ
＝１．３ｍｍ、外径＝４ｍｍである光学素子を製造し
た。また、実施例２では、実施例１と同様の成形型およ
び成形装置を用いて光学素子を製造した。

【００４９】まず、ポリオレフィン樹脂（ガラス転移点
Ｔｇ＝１４０℃、荷重たわみ温度Ｔｔ＝１２３℃）を射
出成形することによって略球状の樹脂塊（直径約４．５
ｍｍ）を形成した。その後、樹脂塊を研磨加工すること
によって球状の樹脂材（直径２．３ｍｍ）を形成した。
その後、この樹脂材を、オーブンを用いて９０℃で１時
間熱処理することによって樹脂材内部の水分を除去し
た。なお、ガラス転移点以上の温度に加熱すると、樹脂
材が自重によって変形してしまう可能性があるため好ま
しくない。

【００５０】その後、図３（ａ）の工程と同様に、樹脂
材を成形型内に配置した。そして、実施例１と同様の方
法で光学素子を製造した。実施例２でも、第２の光学素
子有効面を形成する第２の型を、胴型の上方に配置し、
第２の型のみを移動させて加熱加圧成形を行った。

【００５１】実施例２の光学素子は、実施例１の光学素
子３０と同様にバリがなかった。さらに、実施例２の光
学素子は、透過波面収差のうちの球面収差が特に小さく
なった。また、実施例２の製造方法で複数個の光学素子
を製造したところ、収差性能のばらつきが非常に少なか
った。

【００５２】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき、他の実施形態へ適用
することができる。

【００５３】たとえば、成形温度、加熱時間、保持時
間、および成形温度から荷重たわみ温度までの冷却時間
は、上記実施例に限定されない。

【００５４】また、一つのステージで予熱、加圧成形お
よび冷却を行う成形装置を用いて光学素子材料を成形し
てもよい。この場合には、加圧成形時における加圧力を
約２９．４Ｎ（３ｋｇｆ）以下とすればよい。

【００５５】

【発明の効果】以上のように、本発明の光学素子および
光学素子の製造方法によれば、特性がよく性能が均一な
光学素子が得られる。特に、研磨によって球状にした樹
脂材はインジェクション成形によって形成された樹脂材
に比べて表面の鏡面性が高いため、透過率が高い光学素
子が得られる。また、本発明によれば、バリがない光学
素子が得られる。このため、本発明の製造方法では、成
形後にバリを除去する必要がなく、光学素子に傷が発生
する場合があるバリ除去工程が不要となる。したがっ
て、本発明の製造方法によれば、歩留まりよく低コスト
に光学素子を製造できる。また、本発明の製造方法によ
れば、バリに起因する成形型への光学素子材料の付着を
抑制できるため、成形型のメンテナンスの回数を減らす
ことが可能となる。

【００５６】また、本発明の光ヘッドまたは光ディスク
装置では、本発明の光学素子を用いているため、光学性
能に優れた光ヘッドまたは光ディスク装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学素子について一例を示す（ａ）
平面図および（ｂ）断面図である。

【図２】本発明の光ヘッドについて一例の構成を示す
模式図である。

【図３】本発明の光学素子の製造方法について一例を
示す工程図である。

【図４】本発明の光学素子の製造方法に用いる製造装
置について一例を示す模式図である。

【図５】従来の光学素子の製造方法について一例を示
す断面図である。

【図６】従来の製造方法で製造された光学素子につい
て一例を示す断面図である。

【符号の説明】

１０、３０光学素子１０ａ第１の光学有効面１０ｂ第２の光学有効面２０光ヘッド２１光源２４光学素子３１樹脂材３２成形型３３胴型３４第１の型３５第２の型４０成形装置

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 (72)発明者高野利昭大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内Ｆターム(参考） 4F202 AA03 AH74 CA09 CB01 CC01 CK41 CN01 CN05 4F204 AA03 AH74 FA01 FB01 FE06 FF01 FH16 FN11 FN15 5D119 AA38 BA01 JA02 JA43 NA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１の光学有効面と前記第１の光学有効
面よりも曲率半径が小さい第２の光学有効面とを備える
光学素子であって、前記第１の光学有効面を形成するための第１の型と前記
第２の光学有効面を形成するための第２の型とを備える
成形型を用い、樹脂からなり研磨によって球状に加工さ
れた樹脂材を、前記第２の型のみを移動させて加熱加圧
成形することによって形成されたことを特徴とする光学
素子。
【請求項２】前記樹脂材が、前記樹脂のガラス転移点
未満の温度で熱処理することによって水分を除去されて
いる請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】第１の光学有効面と前記第１の光学有効
面よりも曲率半径が小さい第２の光学有効面とを備える
光学素子の製造方法であって、樹脂からなる部材を研磨することによって、球状の樹脂
材を形成する第１の工程と、前記第１の光学有効面を形成するための第１の型と前記
第２の光学有効面を形成するための第２の型とを備える
成形型を用い、前記第２の型のみを移動させて前記樹脂
材を加熱加圧成形する第２の工程とを含むことを特徴と
する光学素子の製造方法。
【請求項４】前記第１の工程ののちであって前記第２
の工程の前に、前記樹脂のガラス転移点未満の温度で前
記樹脂材を熱処理することによって前記樹脂材の水分を
除去する工程を含む請求項３に記載の光学素子の製造方
法。
【請求項５】光源と前記光源の光軸上に配置された光
学素子とを備える光ヘッドであって、前記光学素子が、請求項１または２に記載の光学素子で
あることを特徴とする光ヘッド。
【請求項６】光ディスクに対して情報の記録または再
生を行う光ディスク装置であって、光源と、前記光源と前記光ディスクとの間に配置された
光学素子とを備え、前記光学素子が、請求項１または２に記載の光学素子で
あることを特徴とする光ディスク装置。