JP2002053498A - 流動床反応のための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
体とを触媒の流動床に導入する流動床不均質気相反応の
ための改良方法および装置を提供する。 【解決手段】 (a)少なくとも1種の気体反応体と
(b)反応体、冷却剤およびその混合物よりなる群から
選択される少なくとも1種の液体とを触媒の流動床の存
在下に接触させる方法および装置が提供され、液体を流
動化帯域内に位置する少なくとも1つの入口を介し反応
器中へ導入すると共に、気体反応体を支持体手段に隣接
した流動化帯域内に位置する少なくとも1つの入口を介
し反応器中へ導入する。
Description
気相反応およびその装置に関するものである。
めの固定触媒を用いる分子状酸素含有ガスに関与するそ
の方法における使用は、たとえばEP−A−05466
77号、EP−A−0685449号およびEP−A−
0847982号から公知である。
応帯域におけるエタンから酢酸への酸化方法を開示して
いる。EP−A−0546677号に示された例におい
てはエタンを水、CO、CO2、O2、エチレンおよび
エタンを含有する循環流と合し、合した流れを流動床反
応器に供給する。分子状酸素含有流と水蒸気とを別々に
流動床反応器に導入する。熱酸化生成物は反応器の頂部
から流出する。
と酢酸とを1つもしくはそれ以上の入口を介し流動床反
応器中へ供給し、酸素含有ガスを少なくとも1つの他の
入口を介し流動床反応器中へ供給し、酸素含有ガスとエ
チレンと酢酸とを流動床反応器にて合すると共に流動床
触媒物質と接触させて、エチレンと酢酸と酸素とを反応
させることにより酢酸ビニルを生成させ、流動床反応器
から酢酸ビニルを回収することからなる流動床反応器に
おける酢酸ビニルの製造方法を開示している。EP−A
−0685449号によれば、酸素は純粋型にて或いは
たとえば窒素もしくは二酸化炭素のような不活性ガスと
の混合物として添加することができる。酸素および炭化
水素はこれらが両者とも反応器の内側に存在するまで混
合されないので、触媒はこれらが合する際に存在させて
反応を直ちに進行させて酸素分圧を低下させる。すなわ
ち、酸素含有ガスをエチレンおよび酢酸反応体の他に少
なくとも1つの他の入口を介し供給する利点は、顕著に
高レベルの酸素を可燃性気体混合物の高い在庫なしに、
安全に用いうるようにする点である。
の製造方法を開示しており、ここでは流動床反応器にて
高められた温度でエチレンと酢酸と酸素含有ガスとを流
動床触媒物質の存在下に反応させ、液体をこの液体の蒸
発により熱を除去する目的で流動床中へ導入することを
特徴とする。EP−A−0847982号によれば、流
動床反応器中へ導入される液体は好適には反応体、不活
性液もしくは反応の生成物またはその2種もしくはそれ
以上の混合物とすることができる。すなわち、酢酸反応
体の少なくとも1部を液状にて流動床反応器に供給する
ことができる。適する生成物は、エチレンと酢酸と酸素
との反応の副生物として生成される水であると言われ
る。何故なら、これは比較的高い蒸発潜熱を有するから
である。酢酸ビニル生成物および/またはアセトアルデ
ヒド副生物も循環させることができ、液状にて流動床反
応器中へ導入しうると言われる。
体を適当に配置された注入手段により流動床反応器に導
入することができる。単一の注入手段を使用することが
でき或いは複数の注入手段を流動床反応器内に配置しう
ると言われる。EP−A−0847982号によれば、
液体を流動触媒床に導入するため、使用する注入手段の
個数は流動触媒床にわたる液体の良好な分散を達成する
各注入手段における液体の充分な浸透および分散を与え
るのに要する個数である。好適注入手段は、気体を用い
て液体の注入を促進するガス誘起噴霧ノズルまたは液体
オンリー噴霧型ノズルを包含する単一もしくは複数のノ
ズルであると言われる。EP−A−0847982号に
よれば、液体をエチレンおよび/または酸素含有ガスお
よび/または循環ガスと一緒に、好適にはエチレンおよ
び/または酸素含有ガスおよび/または循環ガスを反応
器中へ導入する前に液体中にバブリングさせることによ
り流動床反応器に供給することができる。他の代案にお
いて、液体は流入するエチレンおよび/または酸素含有
ガスおよび/または循環ガスとの接触が流動触媒床中へ
上方に液体を推進する流動床反応器の実質的部品を形成
するグリッドプレートの領域にポンピングすることがで
きる。さらに代案において、液体は必要に応じ1種もし
くはそれ以上の気体供給物と共にスパージバーを介し反
応器中へポンピングしうると言われる。
ズルは反応器グリッドまたはグリッド上方の反応器壁部
に位置せしめることができる。
の流動床製造法を開示しており、この方法はエチレンと
液体酢酸と酸素含有ガスとを流動床反応器中へ供給する
ことからなり、補助促進剤の量は触媒の6重量%までで
ある。ここには酢酸を液状にて反応器中へ必要に応じ蒸
気としての或る程度の酸と共に導入すること、並びに液
体酢酸を任意適する注入手段(たとえばガス誘起噴霧ノ
ズルもしくは液体オンリー噴霧型ノズルとしうるノズ
ル)により流動床反応器中へ導入しうることが述べられ
ている。さらに、ここには1個もしくはそれ以上のノズ
ルを使用しうること、並びにさらに循環酢酸を粗製酢酸
と予備混合し或いは別途の手段を用いて反応器中へ導入
しうることも述べられている。
においては、貯槽(1)からの新鮮酢酸と循環酢酸とを
或る程度の循環ガス(3)と一緒に流動床(2)内のツ
イン流体ノズルまでポンピングする。循環ガス供給物
(3)、新鮮エチレン(4)および酸素(5)の残部は
充気室に流入すると共に、焼結プレートを介し反応器中
へ流入する。新鮮酸素(6)は流動床中へ直接供給する
ことができる。フリーボードセクションを設けて触媒
(7)を脱着させる。気体生成物は焼結フィルタ部材
(図示せず)を介し出口(8)から反応器より流出す
る。
および少なくとも1種の液体を触媒の流動床に導入する
流動床不均質気相反応のための改良方法および装置につ
きニーズが存在する。
よれば、(a)少なくとも1種の気体反応体と、(b)
反応体、冷却剤およびその混合物よりなる群から選択さ
れる少なくとも1種の液体とを触媒の流動床の存在下に
接触させる方法が提供され、この方法は: (i)反応器における流動化帯域内の流動化性触媒の床
を流動化用ガスで流動化させ、前記反応器は触媒の前記
床のための流動化帯域を有すると共に前記流動化帯域内
に触媒の前記床を支持する手段を有し; (ii)前記少なくとも1種の液体を前記流動化帯域内
に位置する少なくとも1つの入口を介し前記反応器中へ
導入し; (iii)前記少なくとも1種の気体反応体を前記反応
器中へ前記支持手段に隣接した前記流動化帯域内に位置
する少なくとも1つの入口を介し導入することを特徴と
する。
とも1種の気体反応体および(b)反応体、冷却剤およ
びその混合物よりなる群から選択される少なくとも1種
の液体を触媒の流動床中へ導入する流動床不均質反応の
ための装置が提供され、この装置は: (1)触媒の流動床のための流動化帯域と; (2)前記流動化帯域内の触媒の流動床を支持する手段
と; (3)少なくとも1種の気体反応体を前記反応器中へ導
入するための少なくとも1つの入口と; (4)反応体、冷却剤およびその混合物よりなる群から
選択される少なくとも1種の液体を前記反応器中へ導入
するための少なくとも1つの入口とを有する反応器から
なり、液体のための前記少なくとも1つの入口は前記流
動化帯域内に位置すると共に、気体反応体のための前記
少なくとも1つの入口は前記支持体手段に隣接した前記
流動化帯域内に位置することを特徴とする。
流動床に導入される液体反応体および/または冷却剤は
流動化帯域内の支持体に対し任意の位置に導入すること
ができる。何故なら、流動化触媒の循環がこれを帯域全
体に分配させるからである。液体を流動化触媒により分
配させる利点は、液体のための少ない入口しか必要とし
ない点である。流動化触媒による液体の分配は触媒の適
する多孔度および/または適する化学薬品の使用により
容易化することができる。
応体を触媒の流動床中へ前記支持体手段に隣接した流動
化帯域内に位置する少なくとも1つの入口を介し導入す
れば、気体反応体と触媒の流動床との間の長い接触時間
を与えると共に、床から流出する気体反応体の高い濃度
をも与える。これは、反応速度がたとえば酢酸ビニルを
生成させるエチレンのアセトキシル化における酸素のよ
うな気体反応体の濃度に依存する反応につき有利であ
る。触媒床支持体の下の充気室に気体反応体を導入しな
がら気体反応体と触媒との間の長い接触時間を与える場
合、これは制限することができる。たとえば気体反応体
が分子状酸素からなる場合、潜在的爆発性混合物および
/または反応器内の分子状酸素含有ガスの大きい在庫を
回避する必要性が存在する。
オレフィンのアセトキシル化、たとえばEP−A−08
47982号(その内容を参考のためここに引用する)
に記載されたような酢酸ビニルを生成させるためのエチ
レンと酢酸と酸素との反応を包含する。この方法におい
て、気体反応体は分子状酸素含有ガスからなり、これを
エチレンと一緒に或いは好ましくは少なくとも部分的に
エチレンとは別途に反応器中へ導入することができる。
流動化用ガスは、新鮮供給物としておよび循環ガスの各
成分としてエチレンおよび酸素を含むことができる。酢
酸反応体の少なくとも1部は液体反応体および/または
冷却剤として導入される。他の液体を冷却剤として導入
することもできる。流動床支持手段に隣接した流動化帯
域内に位置した少なくとも1つの入口を介し分子状酸素
含有ガスを導入することにより、酸素と触媒との長い接
触時間が反応器の充気室における爆発性混合物の危険な
しに得られる。流動化帯域内に位置する少なくとも1つ
の入口を介し反応器における触媒の流動床に導入される
液体酢酸反応体および冷却剤は、触媒により吸収される
と共に触媒の流動床により反応器全体に分配される。従
って、液体入口は流動化帯域の底部に位置する必要がな
い。酢酸は部分的に無水酢酸で代替することができる。
エチレンから酢酸への酸化および/またはエタンからエ
チレンおよび/または酢酸への酸化であって、酢酸、水
およびその混合物から選択される液体を反応器中へ導入
する。
法はプロピレン、プロパンもしくはその混合物とアンモ
ニアおよび酸素含有ガスとの反応によるアクリロニトリ
ルの製造であり、ここでは反応熱を少なくとも部分的に
液体(反応体、冷却剤もしくはその混合物)の導入によ
り除去する。
テン、ブタンもしくはその混合物からの無水マレイン酸
の製造である。
明にて使用することができる。これら入口のための気体
反応体は、たとえば共通エンドボックスのような共通供
給源から供給することができる。気体反応体および他の
ガスをさらに他の入口により反応器に、たとえば循環ガ
スおよび/または混合供給ガスにおける各成分として導
入することができる。気体反応体および他のガスは、流
動化用ガスの成分として触媒支持手段の下の充気室を介
し反応器に導入することができる。
スを含むことができる。本発明に使用するのに適する分
子状酸素含有ガスは、たとえば0.1容量%未満の濃度
にて存在しうるアルゴンおよび窒素のような少量の不純
物を含む酸素ガスを包含する。分子状酸素含有ガスにお
ける酸素の濃度は好適には10〜100容量%の範囲、
好ましくは50〜100容量%の範囲、たとえば99.
5容量%より大の濃度であり、好適には少なくとも9
9.6容量%の濃度である。
ない危害を認識して気体反応体のための任意適する入口
を本発明にて使用することができる。たとえば触媒支持
手段に隣接して導入される気体反応体が分子状酸素含有
ガスからなる場合は、安全のため好ましくは潜在的火炎
長さより大の触媒支持手段からの距離に位置せしめる。
潜在的火炎長さは、たとえば入口パイプ直径および入口
ガス速度のような因子により決定される。各入口を、分
子状酸素含有ガスが入口の領域で分散かつ混合するよう
位置せしめると共に入口圧力および速度を選択すべきで
ある。各入口は、デトネーションに続く衝撃波が存在す
る場合は、反応器壁部に近過ぎないよう位置決めすべき
である。各入口は、分子状酸素含有ガスがたとえば他の
反応体のための入口のような反応器における表面または
他の構造体に直接衝突しないよう位置決めすべきであ
る。
体の蒸発により熱を除去する目的で或いは反応体として
或いはこれら目的の組合せとして触媒の流動床中へ導入
することができる。触媒の流動床中へ液体を導入すれ
ば、熱が発熱反応にて発生する箇所でこれを導入すると
いう利点が得られる。たとえば触媒の流動床中へ導入さ
れる液体は好適には反応体、不活性液もしくは反応の生
成物またはその2種もしくはそれ以上の混合物とするこ
とができる。分子状酸素含有ガスおよび酢酸でのエチレ
ンのアセトキシル化に際し、たとえば酢酸反応体は液状
にて流動床に供給することができ、触媒の流動床中へ導
入しうる適する物質は水であって、たとえばアセトキシ
ル化反応の副生物として生成されると共に比較的高い蒸
発潜熱を有し、さらに酢酸ビニル生成物および/または
アセトアルデヒド副生物をも液状で触媒の流動床中に酢
酸ビニルの生成過程で循環および導入することができ
る。
部に位置せしめ、これにより液体を触媒により分配させ
る機会を増大させる。好ましくは液体のための入口は、
液体が流動化帯域内の固体表面、たとえば流動化帯域内
に位置して反応熱を除去する冷却コイルの表面に衝突し
ないよう位置決めされる。反応帯域に導入される液体は
顕著なモーメントを有しうるので、流動床内の循環を発
生させ或いは安定化させるよう作用する。
応体をも反応器中へ一緒に或いは好ましくはたとえば分
子状酸素含有ガスのような気体反応体とは少なくとも部
分的に別途に導入することができる。この第2気体反応
体は、流動化用ガスの成分として導入することができ
る。流動化用ガスは新鮮気体反応体および/または循環
ガスを含みうる。反応器中へ導入される第2気体反応体
は、たとえば(i)エチレンおよび/または(ii)そ
れぞれ(i)酢酸および/または(ii)エチレンおよ
び/または酢酸を生成させるべく分子状酸素含有ガスと
反応させうるエタンとすることができる。エチレンを分
子状酸素含有ガスおよび酢酸と共に使用して酢酸ビニル
を生成させることもできる。これら反応におけるエチレ
ンおよび/またはエタンは実質的に純粋な形態で使用す
ることができ或いは窒素、メタン、エタン、二酸化炭素
および水蒸気の形態の水の1種もしくはそれ以上または
水素C3/C4アルケンもしくはアルカンの1種もしく
はそれ以上と混合することもできる。
物として或いは循環ガスとして)と反応器の外部で混合
する場合、得られる混合物は可燃性範囲外の組成を持た
ねばならない。
℃、好ましくは140〜400℃の温度にて操作するこ
とができる。この方法は好適には10〜3000kPa
ゲージ(0.1〜30barg)、好ましくは20〜2
500Paケージ(0.2〜25barg)の圧力にて
操作することができる。
媒の床を介する適するガス流により流動化状態に維持さ
れる。
ができる。触媒は支持触媒とすることができる。適する
触媒支持体は多孔質シリカ、アルミナ、シリカ/アルミ
ナ、チタニア、シリカ/チタニア、ジルコニアおよびそ
の混合物を包含する。好ましくは支持体はシリカであ
る。好適には、支持体は支持体1g当たり0.2〜3.
5mlの気孔容積と、支持体1g当たり5〜800m2
の表面積と、0.3〜5.0mlの見掛け嵩密度とを有
することができる。
寸法分布を有する: 0〜20μm 0−30重量% 20〜44μm 0−60重量% 44〜88μm 10−80重量% 88〜106μm 0−80重量% >106μm 0−40重量% >300μm 0−5重量% 当業者が理解するように、44、88、106および3
00μmの支持体粒子寸法は任意の尺度であって、これ
らは標準的篩寸法に基づく。粒子寸法および粒子寸法分
布はたとえばマイクロトラックX100のような自動化
レーザー装置により測定することができる。
密度、好ましくは0.5〜3g/cm3、特に0.5〜
2g/cm3の嵩密度を有する。
アンモキシド化およびアセトキシル化触媒を包含する。
ルを製造する際に使用するのに適する触媒は第VIII
族金属、触媒促進剤および適宜の補助促進剤を含みう
る。触媒は任意適する方法により、たとえばEP−A−
0672453号に記載された方法により作成すること
ができる。第VIII族金属は好ましくはパラジウムで
ある。第VIII族金属は触媒の合計重量に対し0.2
重量%より大、好ましくは0.5重量%より大の濃度で
存在させることができる。金属濃度は10重量%程度に
高くすることができる。適する促進剤は金、銅、セリウ
ムまたはその混合物を包含する。好適促進剤は金であ
る。促進剤金属は仕上げ触媒中に0.1〜10重量%の
量で存在することができる。適する補助促進剤は第I
族、第II族、ランタニド族もしくは遷移金属を包含
し、たとえばカドミウム、バリウム、カリウム、ナトリ
ウム、マンガン、アンチモン、ランタンおよびその混合
物よりなる群から選択され、仕上げ触媒中に塩(たとえ
ば酢酸塩)として存在する。好適塩は酢酸カリウムもし
くはナトリウムである。補助促進剤は好ましくは触媒組
成物中に0.1〜15重量%の触媒、より好ましくは1
〜5重量%の濃度にて存在させる。液体酢酸供給物を使
用する場合、補助促進剤塩の好適濃度は6重量%まで、
特に2.5〜5.5%である。酸を蒸気相にて導入する
場合、補助促進剤塩は好ましくは11重量%までの濃度
にて存在させる。
の酸化および/またはエチレンから酢酸への酸化に適す
る触媒はEP−A−1043064号およびWO99/
51339号(その内容を参考のためここに引用する)
に記載されている。
明をさらに説明する。
酸ビニルへのアセトキシル化のような流動床反応のため
の反応器は、使用に際し流動化性触媒(2)、たとえば
シリカ支持体に支持されたパラジウム/金触媒の流動床
を内蔵する。触媒の流動床は反応器(1)内の流動化帯
域内(3)に適する支持体グリッド(4)により支持さ
れる。反応器(1)には分子状酸素含有ガスのための少
なくとも1本の入口パイプ(5)を設け、この入口を支
持体グリッド(4)に隣接した流動化帯域(3)内に位
置せしめる。さらに反応器(1)には液体酢酸のための
少なくとも1つの入口(6)をも設け、この入口を流動
化帯域内に位置せしめる。さらに流動床反応器(1)に
は冷却コイル(8)および循環ガスとエチレン反応体と
必要に応じ酸素反応体とからなる流動化用ガスの供給部
をも、支持体グリッド(4)の下の充気室(10)に位
置する入口(7)を介して設ける。反応器には出口
(9)を設ける。冷却コイル(8)を用いて、熱流体の
供給源が設けられ触媒床を始動時点で加熱する。
チレンのアセトキシル化に使用することができる。使用
に際しエチレン反応体と循環ガスとを入口(7)を介し
充気室(10)に移送し、次いで支持体グリッド(4)
を介し反応器(1)の流動化帯域(3)における触媒床
(2)を流動化させる。液体酢酸反応体を、入口(6)
を介し流動化帯域(3)における流動床(2)中へ導入
する。分子状酸素含有ガスを、支持体グリッド(4)に
隣接した流動化帯域における少なくとも1本の入口パイ
プ(5)を介し流動化帯域内(3)における流動化触媒
床(2)中へ導入する。反応熱を少なくとも部分的に冷
却水の供給部が設けられた冷却コイル(8)により、お
よび部分的に液体酢酸の蒸発により除去する。気体反応
生成物を出口(9)から除去する。
帯域中へ導入される液体酢酸は流動化触媒の循環により
帯域全体に分配される。従って、これは触媒の流動床の
比較的高くまで導入することができる。流動床支持体に
隣接した流動化帯域内に位置する少なくとも1つの入口
を介し触媒の流動床に導入される分子状酸素含有ガスは
触媒の流動床との長い接触時間を有する。
含む他の反応につき、たとえばエチレンから酢酸への酸
化および/またはエタンからエチレンおよび/または酢
酸への酸化、アクリロニトリルを生成させるプロピレ
ン、プロパンもしくはその混合物のアンモキシド化、お
よびC4から無水マレイン酸への酸化につき使用するこ
とができる。
Claims (17)
- 【請求項1】 (a)少なくとも1種の気体反応体と、
(b)反応体、冷却剤およびその混合物よりなる群から
選択される少なくとも1種の液体とを触媒の流動床の存
在下に接触させる方法において: (i)流動化用ガスにより反応器における流動化帯域内
にて流動化性触媒の床を流動化させ、前記反応器は触媒
の前記床のための流動化帯域と前記流動化帯域内にて触
媒の前記床を支持する手段とを有し; (ii)前記少なくとも1種の液体を前記流動化帯域内
に位置する少なくとも1つの入口を介し前記反応器中へ
導入し; (iii)前記少なくとも1種の気体反応体を前記支持
体手段に隣接した前記流動化帯域内に位置する少なくと
も1つの入口を介し前記反応器中へ導入することを特徴
とする方法。 - 【請求項2】 液体のための前記少なくとも1つの入口
を流動化帯域の下半部に位置せしめる請求項1に記載の
方法。 - 【請求項3】 液体のための前記少なくとも1つの入口
を、液体が流動化帯域内の任意の固体表面に衝突しない
よう位置せしめる請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記気体反応体が分子状酸素含有ガスか
らなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項5】 気体反応体のための前記少なくとも1つ
の入口を、潜在的火炎長さよりも大きい前記触媒支持手
段からの距離に位置せしめる請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 1種もしくはそれ以上の第2気体反応体
を反応器中へ導入する請求項1〜5のいずれか一項に記
載の方法。 - 【請求項7】 前記1種もしくはそれ以上の第2反応体
を少なくとも部分的に前記第1気体反応体とは別途に導
入する請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 前記1種もしくはそれ以上の第2気体反
応体を流動化用のガスの成分として導入する請求項6ま
たは7に記載の方法。 - 【請求項9】 前記1種もしくはそれ以上の第2気体反
応体がエタン、エチレンもしくはその混合物からなる請
求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項10】 前記反応器中へ導入される前記液体が
酢酸からなり、酢酸ビニルを生成させる請求項9に記載
の方法。 - 【請求項11】 前記反応器中へ導入される前記液体を
酢酸、水およびその混合物よりなる群から選択し、エチ
レンの酸化により酢酸を生成させおよび/またはエタン
の酸化によりエチレンおよび/または酢酸を生成させる
請求項9に記載の方法。 - 【請求項12】 アクリロニトリルをアンモニアと分子
状酸素含有ガスとプロピレン、プロパンおよびその混合
物よりなる群から選択される第2反応体との反応により
生成させる請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項13】 無水マレイン酸を分子状酸素含有ガス
とブテン、ブタンおよびその混合物よりなる群から選択
される第2反応体との反応により形成させる請求項6〜
8のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項14】 (a)少なくとも1種の気体状反応体
および(b)反応体、冷却剤およびその混合物よりなる
群から選択される少なくとも1種の液体とを触媒の流動
床中へ導入する流動床不均質反応のための装置におい
て: (1)触媒の流動床のための流動床帯域と; (2)前記流動化帯域内に触媒の流動床を支持する手段
と; (3)前記反応器中へ少なくとも1種の気体反応体を導
入する少なくとも1つの入口と; (4)反応体、冷却剤およびその混合物よりなる群から
選択される少なくとも1種の液体を前記反応器中へ導入
する少なくとも1つの入口とを有する反応器からなり、
液体のための前記少なくとも1つの入口が前記流動化帯
域内に位置すると共に、気体状反応体のための前記少な
くとも1つの入口が前記支持手段に隣接した前記流動化
帯域内に位置することを特徴とする流動床不均質反応の
ための装置。 - 【請求項15】 液体のための前記少なくとも1つの入
口が流動化帯域の下半部に位置する請求項14に記載の
装置。 - 【請求項16】 液体のための前記少なくとも1つの入
口を、液体が流動化帯域内の固体表面に衝突しないよう
位置せしめた請求項14または15に記載の装置。 - 【請求項17】 気体状反応体のための前記1つの入口
を、前記気体反応体が分子状酸素含有ガスからなる場
合、潜在的火炎長さよりも大きい前記触媒支持手段から
の距離に位置せしめた請求項14〜16のいずれか一項
に記載の装置。
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