JP2002047268A - 光学活性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法 - Google Patents
光学活性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光学分割手段による光学活性ジオキソピロリジ
ン誘導体の製造方法であって、高価なシンコニジンを容
易に回収して再利用し得る様に改良された光学活性ジオ
キソピロリジン誘導体の製造方法を提供する。 【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されるジオキソピロ
リジン誘導体のシンコニジン塩をエステル又はケトン溶
媒と混合処理してシンコニジンを溶媒中に析出させた
後、シンコニジンとジオキソピロリジン誘導体とを固液
分離して夫々回収する。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、＊はＲ体またはＳ体、Ｒは炭素数１
〜５の直鎖または分岐のアルキル基、Ｘは、水素原子、
アミノ基、ベンジルアミノ基、（ ベンジルオキシカル
ボニル）アミノ基、（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ
基またはピロール基を表す。）
ン誘導体の製造方法であって、高価なシンコニジンを容
易に回収して再利用し得る様に改良された光学活性ジオ
キソピロリジン誘導体の製造方法を提供する。 【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されるジオキソピロ
リジン誘導体のシンコニジン塩をエステル又はケトン溶
媒と混合処理してシンコニジンを溶媒中に析出させた
後、シンコニジンとジオキソピロリジン誘導体とを固液
分離して夫々回収する。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、＊はＲ体またはＳ体、Ｒは炭素数１
〜５の直鎖または分岐のアルキル基、Ｘは、水素原子、
アミノ基、ベンジルアミノ基、（ ベンジルオキシカル
ボニル）アミノ基、（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ
基またはピロール基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性ジオキソ
ピロリジン誘導体の製造方法に関し、詳しくは、工業的
に有利な光学活性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法
に関する。
ピロリジン誘導体の製造方法に関し、詳しくは、工業的
に有利な光学活性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表され
る光学活性ジオキソピロリジン誘導体は医薬中間体とし
て注目されている物質である。
る光学活性ジオキソピロリジン誘導体は医薬中間体とし
て注目されている物質である。
【０００３】上記の一般式（Ｉ）で表される光学活性ジ
オキソピロリジン誘導体は、先ず、そのラセミ体を塩基
性分割剤のシンコニジン処理してジアステレオマーに変
換し、次いで、ジアステレオマー同士の物理的性質の差
を利用して夫々のジアステレオマーに分離した後に塩酸
で処理する光学分割手段により得ることが出来る。そし
て、夫々のジアステレオマーへの分割手段としては、温
度による溶解度差を利用した通常の晶析法が公知である
（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９９８，４１，４１１８−
４１２９）。
オキソピロリジン誘導体は、先ず、そのラセミ体を塩基
性分割剤のシンコニジン処理してジアステレオマーに変
換し、次いで、ジアステレオマー同士の物理的性質の差
を利用して夫々のジアステレオマーに分離した後に塩酸
で処理する光学分割手段により得ることが出来る。そし
て、夫々のジアステレオマーへの分割手段としては、温
度による溶解度差を利用した通常の晶析法が公知である
（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９９８，４１，４１１８−
４１２９）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の様な光学分割手段による光学活性ジオキソピロリジン
誘導体の製造方法であって、高価なシンコニジンを容易
に回収して再利用し得る様に改良された光学活性ジオキ
ソピロリジン誘導体の製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、晶析後の固液分離操作が容
易であり且つ高い収率が得られる様に改良された光学活
性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法を提供すること
にある。
の様な光学分割手段による光学活性ジオキソピロリジン
誘導体の製造方法であって、高価なシンコニジンを容易
に回収して再利用し得る様に改良された光学活性ジオキ
ソピロリジン誘導体の製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、晶析後の固液分離操作が容
易であり且つ高い収率が得られる様に改良された光学活
性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第１
の要旨は、下記一般式（Ｉ）で表されるジオキソピロリ
ジン誘導体のシンコニジン塩をエステル又はケトン溶媒
と混合処理してシンコニジンを溶媒中に析出させた後、
シンコニジンとジオキソピロリジン誘導体とを固液分離
して夫々回収することを特徴とする光学活性ジオキソピ
ロリジン誘導体の製造方法に存する。
の要旨は、下記一般式（Ｉ）で表されるジオキソピロリ
ジン誘導体のシンコニジン塩をエステル又はケトン溶媒
と混合処理してシンコニジンを溶媒中に析出させた後、
シンコニジンとジオキソピロリジン誘導体とを固液分離
して夫々回収することを特徴とする光学活性ジオキソピ
ロリジン誘導体の製造方法に存する。
【０００６】
【化２】
【０００７】一般式（Ｉ）中、＊はＲ体またはＳ体、Ｒ
は炭素数１〜５の直鎖または分岐のアルキル基、Ｘは、
水素原子、アミノ基、（ｔ−ブトキシカルボニル）アミ
ノ基、（ベンジルオキシカルボニル）アミノ基またはピ
ロール基を表す。
は炭素数１〜５の直鎖または分岐のアルキル基、Ｘは、
水素原子、アミノ基、（ｔ−ブトキシカルボニル）アミ
ノ基、（ベンジルオキシカルボニル）アミノ基またはピ
ロール基を表す。
【０００８】そして、本発明の第２の要旨は、上記の一
般式（Ｉ）で表される光学活性ジオキソピロリジン誘導
体のラセミ体と塩基性分割剤であるシンコニジンとを良
溶媒中で加熱溶解し、必要に応じて冷却し、貧溶媒を添
加することによりＲ体シンコニジン塩を選択的に析出さ
せ、次いで、固液分離により回収されたＲ体シンコニジ
ン塩またはＳ体シンコニジン塩の溶液をエステル又はケ
トン溶媒と混合処理してシンコニジンを溶媒中に析出さ
せた後、シンコニジンとジオキソピロリジン誘導体とを
固液分離して夫々回収することを特徴とする光学活性ジ
オキソピロリジン誘導体の製造方法に存する。
般式（Ｉ）で表される光学活性ジオキソピロリジン誘導
体のラセミ体と塩基性分割剤であるシンコニジンとを良
溶媒中で加熱溶解し、必要に応じて冷却し、貧溶媒を添
加することによりＲ体シンコニジン塩を選択的に析出さ
せ、次いで、固液分離により回収されたＲ体シンコニジ
ン塩またはＳ体シンコニジン塩の溶液をエステル又はケ
トン溶媒と混合処理してシンコニジンを溶媒中に析出さ
せた後、シンコニジンとジオキソピロリジン誘導体とを
固液分離して夫々回収することを特徴とする光学活性ジ
オキソピロリジン誘導体の製造方法に存する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
前記の一般式（Ｉ）で表されるジオキソピロリジン誘導
体のシンコニジン塩は、ラセミ体と塩基性分割剤である
シンコニジンとを良溶媒中で加熱溶解し、必要に応じて
冷却し、貧溶媒を添加することによりＲ体シンコニジン
塩を選択的に析出させ、次いで、固液分離することによ
り得ることが出来る。Ｒ体シンコニジン塩は固体とし
て、Ｓ体シンコニジン塩は溶液として回収される。
前記の一般式（Ｉ）で表されるジオキソピロリジン誘導
体のシンコニジン塩は、ラセミ体と塩基性分割剤である
シンコニジンとを良溶媒中で加熱溶解し、必要に応じて
冷却し、貧溶媒を添加することによりＲ体シンコニジン
塩を選択的に析出させ、次いで、固液分離することによ
り得ることが出来る。Ｒ体シンコニジン塩は固体とし
て、Ｓ体シンコニジン塩は溶液として回収される。
【００１０】上記の方法によれば、温度による溶解度差
を利用した通常の晶析法に比して、その後の固液分離操
作が容易であり且つ高い収率が得られるという利点があ
る。すなわち、本発明者の知見によれば、ジオキソピロ
リジン誘導体と塩基性分割剤との反応によって形成され
るＲ体の塩は結晶であるが、Ｓ体の塩は結晶ではなく固
液分離することが出来ない。
を利用した通常の晶析法に比して、その後の固液分離操
作が容易であり且つ高い収率が得られるという利点があ
る。すなわち、本発明者の知見によれば、ジオキソピロ
リジン誘導体と塩基性分割剤との反応によって形成され
るＲ体の塩は結晶であるが、Ｓ体の塩は結晶ではなく固
液分離することが出来ない。
【００１１】そのため、上記で得られた溶液に貧溶媒を
添加せず、通常の晶析に従って温度を低下させてＲ体の
塩を析出させた場合は、析出するＲ体の塩中に液状のＳ
体の塩が混入してＲ体の塩の固液分離（濾過）操作が困
難となり、しかも、溶液側に多量のＲ体の塩が残存し、
Ｒ体の塩が収率が悪化する。
添加せず、通常の晶析に従って温度を低下させてＲ体の
塩を析出させた場合は、析出するＲ体の塩中に液状のＳ
体の塩が混入してＲ体の塩の固液分離（濾過）操作が困
難となり、しかも、溶液側に多量のＲ体の塩が残存し、
Ｒ体の塩が収率が悪化する。
【００１２】これに対し、上記の溶液に貧溶媒を添加し
た場合は、選択的にＲ体の塩を析出させることが出来
る。すなわち、上記の溶液を必要に応じて冷却した場合
は、それに伴う析出も見られるが、貧溶媒の添加により
多量のＲ体の塩が析出する。
た場合は、選択的にＲ体の塩を析出させることが出来
る。すなわち、上記の溶液を必要に応じて冷却した場合
は、それに伴う析出も見られるが、貧溶媒の添加により
多量のＲ体の塩が析出する。
【００１３】一般式（Ｉ）の各符号は上記に定義された
意義を有するが、炭素数１〜５の直鎖または分岐のアル
キル基を表すＲの具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などが挙げら
れる。
意義を有するが、炭素数１〜５の直鎖または分岐のアル
キル基を表すＲの具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などが挙げら
れる。
【００１４】本発明で使用することの出来る代表的なジ
オキソピロリジン誘導体としては、例えば、３−（ベン
ジルアミノ）−３−（エトキシカルボニル）−２，５−
ジオキソピロリジン、３−［（ベンジルオキシカルボニ
ル）アミノ］−３−（エトキシカルボニル）−２，５−
ジオキソピロリジン、３−［（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）アミノ］−３−（エトキシカルボニル）−２，５−
ジオキソピロリジン等が挙げられる。
オキソピロリジン誘導体としては、例えば、３−（ベン
ジルアミノ）−３−（エトキシカルボニル）−２，５−
ジオキソピロリジン、３−［（ベンジルオキシカルボニ
ル）アミノ］−３−（エトキシカルボニル）−２，５−
ジオキソピロリジン、３−［（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）アミノ］−３−（エトキシカルボニル）−２，５−
ジオキソピロリジン等が挙げられる。
【００１５】良溶媒は、Ｒ体シンコニジン塩を溶解し得
る溶媒を意味する。斯かる良溶媒としては、炭素数１〜
５の直鎖または分岐のアルコール、具体的には、メチル
アルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓ−
ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチ
ルアルコール等が挙げられる。貧溶媒としては、炭素数
１〜５の直鎖もしくは分岐の炭化水素、環状の炭化水素
またはエーテル、具体的には、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプ
タン、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチル
エーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
る溶媒を意味する。斯かる良溶媒としては、炭素数１〜
５の直鎖または分岐のアルコール、具体的には、メチル
アルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓ−
ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチ
ルアルコール等が挙げられる。貧溶媒としては、炭素数
１〜５の直鎖もしくは分岐の炭化水素、環状の炭化水素
またはエーテル、具体的には、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプ
タン、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチル
エーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００１６】ラセミ体とシンコニジンとの加熱溶解は次
の様に条件で行われる。すなわち、良溶媒の使用量は、
ラセミ体１重量部に対し、通常１〜３重量部、好ましく
は１．５〜２重量部である。シンコニジンの使用量は、
ラセミ体１当量部に対し、通常０．５〜２当量部、好ま
しくは０．８〜１．１当量部である。ラセミ体とシンコ
ニジンとの加熱溶解温度は、良溶媒の種類および使用量
によって異なるが、通常６０〜９０℃、好ましくは７０
〜８０℃であり、時間は、通常２時間以内、好ましくは
１時間以内である。ラセミ体はシンコニジンによりジア
ステレオマーに変換される。
の様に条件で行われる。すなわち、良溶媒の使用量は、
ラセミ体１重量部に対し、通常１〜３重量部、好ましく
は１．５〜２重量部である。シンコニジンの使用量は、
ラセミ体１当量部に対し、通常０．５〜２当量部、好ま
しくは０．８〜１．１当量部である。ラセミ体とシンコ
ニジンとの加熱溶解温度は、良溶媒の種類および使用量
によって異なるが、通常６０〜９０℃、好ましくは７０
〜８０℃であり、時間は、通常２時間以内、好ましくは
１時間以内である。ラセミ体はシンコニジンによりジア
ステレオマーに変換される。
【００１７】Ｒ体シンコニジン塩の析出は次の様に条件
で行われる。すなわち、貧溶媒の使用量は、ラセミ体１
重量部に対し、通常１〜４重量部、好ましくは２〜３重
量部である。貧溶媒の添加速度は、特に制限されない
が、通常３０〜７０ｍｌ／ｍｉｎ、好ましくは４０〜６
０ｍｌ／ｍｉｎである。また、貧溶媒を添加する際の溶
液の温度は、通常３０〜５５℃、好ましくは４０〜５０
℃である。本発明においては、貧溶媒の添加後に、溶液
の温度を更に低下させてＲ体の塩の析出を促すことも出
来る。析出したＲ体の塩は、濾過などの固液分離手段に
より回収される。Ｓ体の塩は、Ｒ体の塩の回収が行われ
た溶液から溶媒を留去させて濃縮することにより回収す
ることが出来る。
で行われる。すなわち、貧溶媒の使用量は、ラセミ体１
重量部に対し、通常１〜４重量部、好ましくは２〜３重
量部である。貧溶媒の添加速度は、特に制限されない
が、通常３０〜７０ｍｌ／ｍｉｎ、好ましくは４０〜６
０ｍｌ／ｍｉｎである。また、貧溶媒を添加する際の溶
液の温度は、通常３０〜５５℃、好ましくは４０〜５０
℃である。本発明においては、貧溶媒の添加後に、溶液
の温度を更に低下させてＲ体の塩の析出を促すことも出
来る。析出したＲ体の塩は、濾過などの固液分離手段に
より回収される。Ｓ体の塩は、Ｒ体の塩の回収が行われ
た溶液から溶媒を留去させて濃縮することにより回収す
ることが出来る。
【００１８】本発明の最大の特徴は、上記に様にして得
られたジオキソピロリジン誘導体のＲ体シンコニジン塩
またはＳ体シンコニジン塩をエステル又はケトン溶媒と
混合処理してシンコニジンを析出させた後、シンコニジ
ンとジオキソピロリジン誘導体とを固液分離して夫々回
収する点にある。
られたジオキソピロリジン誘導体のＲ体シンコニジン塩
またはＳ体シンコニジン塩をエステル又はケトン溶媒と
混合処理してシンコニジンを析出させた後、シンコニジ
ンとジオキソピロリジン誘導体とを固液分離して夫々回
収する点にある。
【００１９】上記のエステル溶媒としては、例えば、酢
酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエ
ステル等が挙げられ、上記のケトン溶媒としては、例え
ば、ジメチルケトン（アセトン）、メチルエチルケト
ン、メチルイソプロピルケトン等が挙げられる。
酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエ
ステル等が挙げられ、上記のケトン溶媒としては、例え
ば、ジメチルケトン（アセトン）、メチルエチルケト
ン、メチルイソプロピルケトン等が挙げられる。
【００２０】シンコニジン塩とエステル又はケトン溶媒
との混合処理は次の条件で次の条件で行われる。すなわ
ち、溶媒の使用量は、シンコニジン塩１重量部に対し、
通常１〜２０重量部、好ましくは５〜１５重量部であ
る。そして、必要に応じて加熱して撹拌処理する。これ
により、シンコニジン塩が解離し、シンコニジンのみが
固体として析出する。析出したシンコニジンは、濾過な
どの固液分離手段により回収される。ジオキソピロリジ
ン誘導体は、溶媒を留去させて濃縮することにより回収
することが出来る。
との混合処理は次の条件で次の条件で行われる。すなわ
ち、溶媒の使用量は、シンコニジン塩１重量部に対し、
通常１〜２０重量部、好ましくは５〜１５重量部であ
る。そして、必要に応じて加熱して撹拌処理する。これ
により、シンコニジン塩が解離し、シンコニジンのみが
固体として析出する。析出したシンコニジンは、濾過な
どの固液分離手段により回収される。ジオキソピロリジ
ン誘導体は、溶媒を留去させて濃縮することにより回収
することが出来る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
【００２２】実施例１ 化合物として、３−［（ベンジルオキシカルボニル）ア
ミノ］−３−（エトキシカルボニル）−２，５−ジオキ
ソピロリジン（以下、ジオキソピロリジンと略記する）
を使用した。
ミノ］−３−（エトキシカルボニル）−２，５−ジオキ
ソピロリジン（以下、ジオキソピロリジンと略記する）
を使用した。
【００２３】先ず、上記のジオキソピロリジンのラセミ
体１００ｇとシンコニジン９０．７ｇをエチルアルコー
ル５３０ｇに７９℃で攪拌して溶解した。次いで、攪拌
下に溶液を５０℃まで冷却し、ヘキサン６６０ｇを添加
速度４０ｍｌ／ｍｉｎで添加し、更に、溶液を０℃まで
冷却し、Ｒ体シンコニジン塩を析出させた。そして、濾
過によりＲ体シンコニジン塩を回収した。Ｒ体シンコニ
ジン塩の濾過性は良好であった。
体１００ｇとシンコニジン９０．７ｇをエチルアルコー
ル５３０ｇに７９℃で攪拌して溶解した。次いで、攪拌
下に溶液を５０℃まで冷却し、ヘキサン６６０ｇを添加
速度４０ｍｌ／ｍｉｎで添加し、更に、溶液を０℃まで
冷却し、Ｒ体シンコニジン塩を析出させた。そして、濾
過によりＲ体シンコニジン塩を回収した。Ｒ体シンコニ
ジン塩の濾過性は良好であった。
【００２４】次いで、上記のＲ体シンコニジン塩をエチ
ルアルコール４９０ｇに７９℃で攪拌して溶解し、攪拌
下に溶液を５０℃まで冷却し、ヘキサン６１０ｇを添加
速度６２ｍｌ／ｍｉｎで添加し、更に、溶液を０℃まで
冷却し、Ｒ体シンコニジン塩を析出させた。そして、同
様の再結晶操作を再度繰り返し、光学純度９９．４％ｅ
ｅのＲ体シンコニジン塩８８ｇ（収率４２重量％）を得
た。なお、光学活性ジオキソピロリジンの光学純度は、
ＨＰＬＣ（カラム：ダイセル社製「ＣｈｉｒａｌＰＡＣ
ＡＳ（４．６ｍｍ×２５ｃｍ）」で行なった。
ルアルコール４９０ｇに７９℃で攪拌して溶解し、攪拌
下に溶液を５０℃まで冷却し、ヘキサン６１０ｇを添加
速度６２ｍｌ／ｍｉｎで添加し、更に、溶液を０℃まで
冷却し、Ｒ体シンコニジン塩を析出させた。そして、同
様の再結晶操作を再度繰り返し、光学純度９９．４％ｅ
ｅのＲ体シンコニジン塩８８ｇ（収率４２重量％）を得
た。なお、光学活性ジオキソピロリジンの光学純度は、
ＨＰＬＣ（カラム：ダイセル社製「ＣｈｉｒａｌＰＡＣ
ＡＳ（４．６ｍｍ×２５ｃｍ）」で行なった。
【００２５】次いで、酢酸エチルエステル３６０ｇ中に
上記のＲ体シンコニジン塩８８ｇ入れて撹拌処理しシン
コニジンを析出させた。そして、濾過により、３７ｇの
シンコニジン回収した。
上記のＲ体シンコニジン塩８８ｇ入れて撹拌処理しシン
コニジンを析出させた。そして、濾過により、３７ｇの
シンコニジン回収した。
【００２６】実施例２ 先ず、実施例１と同様のジオキソピロリジンのラセミ体
１０ｇとシンコニジン９．０７ｇをイソプロピルアルコ
ール５３ｇに８２℃で攪拌して溶解した。次いで、攪拌
下に溶液を５０℃まで冷却し、ヘキサン８８ｇを添加速
度４０ｍｌ／ｍｉｎで添加し、更に、溶液を０℃まで冷
却し、Ｒ体の塩を析出させた。そして、濾過によりＲ体
の塩を回収した。
１０ｇとシンコニジン９．０７ｇをイソプロピルアルコ
ール５３ｇに８２℃で攪拌して溶解した。次いで、攪拌
下に溶液を５０℃まで冷却し、ヘキサン８８ｇを添加速
度４０ｍｌ／ｍｉｎで添加し、更に、溶液を０℃まで冷
却し、Ｒ体の塩を析出させた。そして、濾過によりＲ体
の塩を回収した。
【００２７】次いで、アセトン１８ｇ中に上記のＲ体シ
ンコニジン塩２ｇ入れて撹拌処理しシンコニジンを析出
させた。そして、濾過により、０．７６ｇのシンコニジ
ン回収した。
ンコニジン塩２ｇ入れて撹拌処理しシンコニジンを析出
させた。そして、濾過により、０．７６ｇのシンコニジ
ン回収した。
【００２８】実施例３ 実施例１においてＲ体シンコニジン塩を濾過することに
より回収された溶液を使用した。先ず、減圧濃縮して光
学純度６０．２％ｅｅのＳ体シンコニジン塩過剰溶液
（エチルアルコール含有）２４５ｇを得、これに酢酸エ
チルエステル６００ｍｌを添加し、撹拌下１時間７０℃
に加熱した。次いで、５℃まで冷却し、析出物を濾過
し、冷酢酸エチルエステルで洗浄し、１０６ｇのシンコ
ニジン回収した。また、濾液の濃縮により、フリーのジ
オキソピロリジン１０９．９ｇ（光学純度２０．３％ｅ
ｅ）が得られた。
より回収された溶液を使用した。先ず、減圧濃縮して光
学純度６０．２％ｅｅのＳ体シンコニジン塩過剰溶液
（エチルアルコール含有）２４５ｇを得、これに酢酸エ
チルエステル６００ｍｌを添加し、撹拌下１時間７０℃
に加熱した。次いで、５℃まで冷却し、析出物を濾過
し、冷酢酸エチルエステルで洗浄し、１０６ｇのシンコ
ニジン回収した。また、濾液の濃縮により、フリーのジ
オキソピロリジン１０９．９ｇ（光学純度２０．３％ｅ
ｅ）が得られた。
【００２９】比較例１ 先ず、ジオキソピロリジンのラセミ体７３．６ｇとシン
コニジン６７．６ｇをエチルアルコール２９０ｇに８２
℃で攪拌して溶解した。次いで、攪拌下に溶液を２５℃
まで冷却し、Ｒ体の塩を析出させた。そして、濾過によ
りＲ体の塩を回収した。次いで、上記のＲ体の塩をエチ
ルアルコールで２回再結晶し、光学純度９９．９％ｅｅ
のＲ体の塩３５．２ｇ（収率２４．９重量％）を得た。
コニジン６７．６ｇをエチルアルコール２９０ｇに８２
℃で攪拌して溶解した。次いで、攪拌下に溶液を２５℃
まで冷却し、Ｒ体の塩を析出させた。そして、濾過によ
りＲ体の塩を回収した。次いで、上記のＲ体の塩をエチ
ルアルコールで２回再結晶し、光学純度９９．９％ｅｅ
のＲ体の塩３５．２ｇ（収率２４．９重量％）を得た。
【００３０】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、高価なシ
ンコニジンを容易に回収して再利用し得る様に改良さ
れ、また、晶析後の固液分離操作が容易であり且つ高い
収率が得られる様に改良された光学活性ジオキソピロリ
ジン誘導体の製造方法が提供され、本発明の工業的価値
は顕著である。
ンコニジンを容易に回収して再利用し得る様に改良さ
れ、また、晶析後の固液分離操作が容易であり且つ高い
収率が得られる様に改良された光学活性ジオキソピロリ
ジン誘導体の製造方法が提供され、本発明の工業的価値
は顕著である。
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されるジオキソピ
ロリジン誘導体のシンコニジン塩をエステル又はケトン
溶媒と混合処理してシンコニジンを溶媒中に析出させた
後、シンコニジンとジオキソピロリジン誘導体とを固液
分離して夫々回収することを特徴とする光学活性ジオキ
ソピロリジン誘導体の製造方法。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、＊はＲ体またはＳ体、Ｒは炭素数１
〜５の直鎖または分岐のアルキル基、Ｘは、水素原子、
アミノ基、（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ基、（ベ
ンジルオキシカルボニル）アミノ基またはピロール基を
表す。） - 【請求項２】 請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表され
る光学活性ジオキソピロリジン誘導体のラセミ体と塩基
性分割剤であるシンコニジンとを良溶媒中で加熱溶解
し、必要に応じて冷却し、貧溶媒を添加することにより
Ｒ体シンコニジン塩を選択的に析出させ、次いで、固液
分離により回収されたＲ体シンコニジン塩またはＳ体シ
ンコニジン塩の溶液をエステル又はケトン溶媒と混合処
理してシンコニジンを溶媒中に析出させた後、シンコニ
ジンとジオキソピロリジン誘導体とを固液分離して夫々
回収することを特徴とする光学活性ジオキソピロリジン
誘導体の製造方法。 - 【請求項３】 良溶媒として炭素数１〜５の直鎖または
分岐のアルコールを使用し、貧溶媒として、炭素数１〜
５の直鎖もしくは分岐の炭化水素、環状の炭化水素また
はエーテルを使用する請求項２に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000227004A JP2002047268A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 光学活性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000227004A JP2002047268A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 光学活性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002047268A true JP2002047268A (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=18720524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000227004A Withdrawn JP2002047268A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 光学活性ジオキソピロリジン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002047268A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008035735A1 (fr) | 2006-09-20 | 2008-03-27 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Procédé de production d'un composé de succinimide optiquement actif |
-
2000
- 2000-07-27 JP JP2000227004A patent/JP2002047268A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008035735A1 (fr) | 2006-09-20 | 2008-03-27 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Procédé de production d'un composé de succinimide optiquement actif |
| EP2071033A4 (en) * | 2006-09-20 | 2010-05-26 | Nissan Chemical Ind Ltd | PROCESS FOR PRODUCING OPTICALLY ACTIVE SUCCINIMIDE COMPOUND |
| US7994342B2 (en) | 2006-09-20 | 2011-08-09 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Method for producing optically active succinimide compound |
| JP5149802B2 (ja) * | 2006-09-20 | 2013-02-20 | 日産化学工業株式会社 | 光学活性コハク酸イミド化合物の製造法 |
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