JP2002047219A - ビニルハライド誘導体および製造方法 - Google Patents
ビニルハライド誘導体および製造方法Info
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- JP2002047219A JP2002047219A JP2000228525A JP2000228525A JP2002047219A JP 2002047219 A JP2002047219 A JP 2002047219A JP 2000228525 A JP2000228525 A JP 2000228525A JP 2000228525 A JP2000228525 A JP 2000228525A JP 2002047219 A JP2002047219 A JP 2002047219A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 ビニルハライド誘導体及びその製法を提供す
ること。 【解決手段】 一般式(1) (式中、X1はハロゲン、Aはアルキル、アルケニル、
アルカジエニル基。)で示されるビニルハライド誘導体
および、一般式(2)及び/または一般式(3)で示さ
れるアリルハライド誘導体を塩基と反応させ、一般式
(4)及び/または一般式(5)で示されるビニルハラ
イド誘導体を製造する。 (式中、YはX2もしくはOR2を意味し、X1および
X2は同一又は相異なりハロゲン原子を示し、R1およ
びR2は、同一または相異なり水酸基の保護基を示し、
波線E/Zは幾何異性体の混合物を示す。)
ること。 【解決手段】 一般式(1) (式中、X1はハロゲン、Aはアルキル、アルケニル、
アルカジエニル基。)で示されるビニルハライド誘導体
および、一般式(2)及び/または一般式(3)で示さ
れるアリルハライド誘導体を塩基と反応させ、一般式
(4)及び/または一般式(5)で示されるビニルハラ
イド誘導体を製造する。 (式中、YはX2もしくはOR2を意味し、X1および
X2は同一又は相異なりハロゲン原子を示し、R1およ
びR2は、同一または相異なり水酸基の保護基を示し、
波線E/Zは幾何異性体の混合物を示す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、生理活性を有する
ポリエン化合物、例えばカロテノイド等の中間体として
有用なビニルハライド誘導体およびその製造方法に関す
る。
ポリエン化合物、例えばカロテノイド等の中間体として
有用なビニルハライド誘導体およびその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】本発明の下記一般式(1)で示されるビ
ニルハライド誘導体(1)は知られていない。従来、鎖
状のビニルハライド誘導体の合成法としては、アセチレ
ン誘導体にMe3AlとCp2ZrCl2により増炭し、さらに沃素
で中間体をクエンチすることでビニルヨーダイドを合成
する方法(Synlett 1999, 150-152)やアリルジオール
をPBr3でジブロモ化し、さらに塩基で脱ハロゲン化水素
する方法(Synth Commun,21(5), 721-726(1991))など
が報告されている。しかしながら、上記方法では、目的
物である一般式(1)で示されるビニルハライド誘導体
を簡便に製造することは必ずしも容易ではなかった。
ニルハライド誘導体(1)は知られていない。従来、鎖
状のビニルハライド誘導体の合成法としては、アセチレ
ン誘導体にMe3AlとCp2ZrCl2により増炭し、さらに沃素
で中間体をクエンチすることでビニルヨーダイドを合成
する方法(Synlett 1999, 150-152)やアリルジオール
をPBr3でジブロモ化し、さらに塩基で脱ハロゲン化水素
する方法(Synth Commun,21(5), 721-726(1991))など
が報告されている。しかしながら、上記方法では、目的
物である一般式(1)で示されるビニルハライド誘導体
を簡便に製造することは必ずしも容易ではなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような状況下、本
発明者らは、ビニルハライド誘導体の簡便な製造方法を
開発すべく鋭意検討した結果、下記アリルハライド誘導
体(2)および/または(3)と塩基を反応させること
により、目的とするビニルハライド誘導体(4)および
/または(5)を簡便に製造できることを見出し、本発
明に至った。
発明者らは、ビニルハライド誘導体の簡便な製造方法を
開発すべく鋭意検討した結果、下記アリルハライド誘導
体(2)および/または(3)と塩基を反応させること
により、目的とするビニルハライド誘導体(4)および
/または(5)を簡便に製造できることを見出し、本発
明に至った。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式(1) (式中、X1はハロゲン原子を示し、Aは直鎖もしくは
分岐状のC1〜C10アルキル基、直鎖もしくは分岐状
のC2〜C10のアルケニル基または直鎖もしくは分岐
状のC3〜C10アルカジエニル基を表す。ここで、ア
ルキル基、アルケニル基、アルカジエニル基は、それぞ
れアルコキシ基、水酸基で置換されていてもよい。ま
た、水酸基は保護基で保護されていてもよい。波線はE
/Z幾何異性体の混合物を示す。)で示されるビニルハ
ライド誘導体および製造方法を提供するものである。
般式(1) (式中、X1はハロゲン原子を示し、Aは直鎖もしくは
分岐状のC1〜C10アルキル基、直鎖もしくは分岐状
のC2〜C10のアルケニル基または直鎖もしくは分岐
状のC3〜C10アルカジエニル基を表す。ここで、ア
ルキル基、アルケニル基、アルカジエニル基は、それぞ
れアルコキシ基、水酸基で置換されていてもよい。ま
た、水酸基は保護基で保護されていてもよい。波線はE
/Z幾何異性体の混合物を示す。)で示されるビニルハ
ライド誘導体および製造方法を提供するものである。
【0005】一般式(1)で示されるビニルハライド誘
導体の中でも、特に一般式(4) (式中、X1、Rおよび波線は前記と同じ意味を示
す。)および一般式(5) (式中、X1および波線は前記と同じ意味を表す。)で
示されるビニルハライド誘導体がカロテノイド等の中間
体として有用である。
導体の中でも、特に一般式(4) (式中、X1、Rおよび波線は前記と同じ意味を示
す。)および一般式(5) (式中、X1および波線は前記と同じ意味を表す。)で
示されるビニルハライド誘導体がカロテノイド等の中間
体として有用である。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明のビニルハライド誘導体(1)は、例えば
下記スキーム1に示すルートにより合成することができ
る。
する。本発明のビニルハライド誘導体(1)は、例えば
下記スキーム1に示すルートにより合成することができ
る。
【0007】また、一般式(4)および(5)で示され
るビニルハライド誘導体は、例えば一般式(2) (式中、YはX2もしくはOR2を意味し、X1およびX2
は同一または相異なりハロゲン原子を示し、R1および
R2は、同一または相異なり水酸基の保護基を示し、波
線はE/Z幾何異性体の混合物を示す。)および/また
は一般式(3) (式中、X1、YおよびR1および波線は前記と同じ意味
を示す。)で示されるアリルハライド誘導体を塩基の存
在下反応させることにより得ることができる。
るビニルハライド誘導体は、例えば一般式(2) (式中、YはX2もしくはOR2を意味し、X1およびX2
は同一または相異なりハロゲン原子を示し、R1および
R2は、同一または相異なり水酸基の保護基を示し、波
線はE/Z幾何異性体の混合物を示す。)および/また
は一般式(3) (式中、X1、YおよびR1および波線は前記と同じ意味
を示す。)で示されるアリルハライド誘導体を塩基の存
在下反応させることにより得ることができる。
【0008】本発明の一般式(1)で示されるビニルハ
ライド誘導体について説明する。一般式(1)におい
て、Aは、直鎖もしくは分岐状のC1〜C10アルキル
基、直鎖もしくは分岐状のC2〜C10のアルケニル基
または直鎖もしくは分岐状のC3〜C10アルカジエニ
ル基を表す。ここで、アルキル基、アルケニル基、アル
カジエニル基は、それぞれアルコキシ基、水酸基で置換
されていてもよい。また、水酸基は保護基で保護されて
いてもよい。
ライド誘導体について説明する。一般式(1)におい
て、Aは、直鎖もしくは分岐状のC1〜C10アルキル
基、直鎖もしくは分岐状のC2〜C10のアルケニル基
または直鎖もしくは分岐状のC3〜C10アルカジエニ
ル基を表す。ここで、アルキル基、アルケニル基、アル
カジエニル基は、それぞれアルコキシ基、水酸基で置換
されていてもよい。また、水酸基は保護基で保護されて
いてもよい。
【0009】C1〜C10のアルキル基としては、具体
的には、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピ
ル、n−ブチル、s−ブチル、n−ペンチルなどが挙げ
られる。C2〜C10のアルケニル基としては、具体的
には、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、2−メ
チル−4−アセトキシ−2−ブテニル基などが挙げられ
る。C3〜C10のアルカジエニル基としては、具体的
には、アレニル基、ブタジエニル基、2−メチル−1,
3−ブタジエニル基、1,3−ペンタジエニル基、1,
3−ヘキサジエニル基等が挙げられる。アルコシキ基と
しては、C1〜C10のアルコキシ基が挙げられ、具体
的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、t−ブトキシ、s−ブトキ
シ、n−ペントキシなどが挙げられる。
的には、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピ
ル、n−ブチル、s−ブチル、n−ペンチルなどが挙げ
られる。C2〜C10のアルケニル基としては、具体的
には、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、2−メ
チル−4−アセトキシ−2−ブテニル基などが挙げられ
る。C3〜C10のアルカジエニル基としては、具体的
には、アレニル基、ブタジエニル基、2−メチル−1,
3−ブタジエニル基、1,3−ペンタジエニル基、1,
3−ヘキサジエニル基等が挙げられる。アルコシキ基と
しては、C1〜C10のアルコキシ基が挙げられ、具体
的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、t−ブトキシ、s−ブトキ
シ、n−ペントキシなどが挙げられる。
【0010】一般式(1)、(2)、(3)、(4)、
(5)、(6)、(7)におけるX1および一般式
(2)、(3)におけるX2は同一または相異なりハロ
ゲン原子を表し、具体的には塩素原子、臭素原子、沃素
原子が挙げられる。
(5)、(6)、(7)におけるX1および一般式
(2)、(3)におけるX2は同一または相異なりハロ
ゲン原子を表し、具体的には塩素原子、臭素原子、沃素
原子が挙げられる。
【0011】一般式(4)におけるRは水素原子もしく
は水酸基の保護基を示し、一般式(2)、(3)、
(6)、(7)における置換基R1および一般式
(2)、(3)におけるR2は同一または相異なり水酸
基の保護基を示す。かかる水酸基の保護基としては、ホ
ルミル、アセチル、エトキシアセチル、フルオロアセチ
ル、ジフルオロアセチル、トリフルオロアセチル、クロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
ブロモアセチル、ジブロモアセチル、トリブロモアセチ
ル、プロピオニル、2−クロロプロピオニル、3−クロ
ロプロピオニル、ブチリル、2−クロロブチリル、3−
クロロブチリル、4−クロロブチリル、2−メチルブチ
リル、2−エチルブチリル、バレリル、2−メチルバレ
リル、4−メチルバレリル、ヘキサノイル、イソブチリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ベンゾイル、o−クロ
ロベンゾイル、m−クロロベンゾイル、p−クロロベン
ゾイル、 o−ヒドロキシベンゾイル、m−ヒドロキシ
ベンゾイル、p−ヒドロキシベンゾイル、 o−アセト
キシベンゾイル、 o−メトキシベンゾイル、m−メト
キシベンゾイル、p−メトキシベンゾイル、p−ニトロ
ベンゾイル等のアシル基、トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフ
ェニルシリルなどのシリル基、テトラヒドロピラニル、
メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、1−エトキ
シエチルなどのアルコキシメチル基、ベンジル基、p−
メトキシベンジル基、t−ブチル基、トリチル基、メチ
ル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、
アリルオキシカルボニル基等が挙げられ、通常、アセチ
ルが好んで用いられる。
は水酸基の保護基を示し、一般式(2)、(3)、
(6)、(7)における置換基R1および一般式
(2)、(3)におけるR2は同一または相異なり水酸
基の保護基を示す。かかる水酸基の保護基としては、ホ
ルミル、アセチル、エトキシアセチル、フルオロアセチ
ル、ジフルオロアセチル、トリフルオロアセチル、クロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
ブロモアセチル、ジブロモアセチル、トリブロモアセチ
ル、プロピオニル、2−クロロプロピオニル、3−クロ
ロプロピオニル、ブチリル、2−クロロブチリル、3−
クロロブチリル、4−クロロブチリル、2−メチルブチ
リル、2−エチルブチリル、バレリル、2−メチルバレ
リル、4−メチルバレリル、ヘキサノイル、イソブチリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ベンゾイル、o−クロ
ロベンゾイル、m−クロロベンゾイル、p−クロロベン
ゾイル、 o−ヒドロキシベンゾイル、m−ヒドロキシ
ベンゾイル、p−ヒドロキシベンゾイル、 o−アセト
キシベンゾイル、 o−メトキシベンゾイル、m−メト
キシベンゾイル、p−メトキシベンゾイル、p−ニトロ
ベンゾイル等のアシル基、トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフ
ェニルシリルなどのシリル基、テトラヒドロピラニル、
メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、1−エトキ
シエチルなどのアルコキシメチル基、ベンジル基、p−
メトキシベンジル基、t−ブチル基、トリチル基、メチ
ル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、
アリルオキシカルボニル基等が挙げられ、通常、アセチ
ルが好んで用いられる。
【0012】
【0013】一般式(4)および/または一般式(5)
で示されるビニルハライド誘導体は、一般式(2)およ
び/または一般式(3)で示されるアリルハライド誘導
体を塩基と反応させることにより製造することができ
る。
で示されるビニルハライド誘導体は、一般式(2)およ
び/または一般式(3)で示されるアリルハライド誘導
体を塩基と反応させることにより製造することができ
る。
【0014】原料化合物であるアリルハライド誘導体
(2)および(3)は、下記スキーム2に示すごとく比
較的安価なゲラニオールから誘導できるハロヒドリン誘
導体(6)および(7)の水酸基をハロゲン化もしくは
水酸基に保護基を導入することによって容易に合成でき
る(特開平11-130730号公報、特開平11-236357号公
報)。
(2)および(3)は、下記スキーム2に示すごとく比
較的安価なゲラニオールから誘導できるハロヒドリン誘
導体(6)および(7)の水酸基をハロゲン化もしくは
水酸基に保護基を導入することによって容易に合成でき
る(特開平11-130730号公報、特開平11-236357号公
報)。
【0015】一般式(2)および/または一般式(3)
で示されるアリルハライド誘導体を塩基と反応させる製
造方法に用いられる塩基としては、アルカリ金属のアル
コキシド、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ金属の炭
酸塩などが用いられ、具体的には、 ナトリウムメトキ
シド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、ナトリウ
ムt−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが挙げられる。
かかる塩基の使用量は一般式(2)および/または一般
式(3)で示されるアリルハライド誘導体に対して通
常、1〜5モル倍程度であり、好ましくは、1〜2モル
倍程度である。
で示されるアリルハライド誘導体を塩基と反応させる製
造方法に用いられる塩基としては、アルカリ金属のアル
コキシド、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ金属の炭
酸塩などが用いられ、具体的には、 ナトリウムメトキ
シド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、ナトリウ
ムt−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが挙げられる。
かかる塩基の使用量は一般式(2)および/または一般
式(3)で示されるアリルハライド誘導体に対して通
常、1〜5モル倍程度であり、好ましくは、1〜2モル
倍程度である。
【0016】上記反応には、通常、有機溶媒が用いら
れ、かかる溶媒としては、 N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、n
―ヘプタン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、またはジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アニソー
ル等のエーテル系溶媒が挙げられ、好ましくは、非プロ
トン性極性溶媒が用いられる。また2種以上の溶媒を混
合して使用してもよい。
れ、かかる溶媒としては、 N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、n
―ヘプタン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、またはジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アニソー
ル等のエーテル系溶媒が挙げられ、好ましくは、非プロ
トン性極性溶媒が用いられる。また2種以上の溶媒を混
合して使用してもよい。
【0017】反応温度は、通常、−78℃から使用する溶
媒の沸点の範囲であるが、-20℃以下がより好ましい。
また、反応時間は、反応で用いる塩基の種類ならびに反
応温度によって異なるが、通常15分から5時間程度の範
囲である。反応後、通常の後処理、例えば抽出、各種ク
ロマトグラフィーなどの操作をすることによりビニルハ
ライド誘導体(4)および/または(5)を得ることが
できる。
媒の沸点の範囲であるが、-20℃以下がより好ましい。
また、反応時間は、反応で用いる塩基の種類ならびに反
応温度によって異なるが、通常15分から5時間程度の範
囲である。反応後、通常の後処理、例えば抽出、各種ク
ロマトグラフィーなどの操作をすることによりビニルハ
ライド誘導体(4)および/または(5)を得ることが
できる。
【0018】
【発明の効果】かくして、本発明の方法によれば、生理
活性を有するポリエン化合物、例えばカロテノイド等の
中間体として有用なビニルハライド誘導体を簡便にかつ
工業的有利に製造することができる。
活性を有するポリエン化合物、例えばカロテノイド等の
中間体として有用なビニルハライド誘導体を簡便にかつ
工業的有利に製造することができる。
【0019】
【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらにより限定されるものでは
ない。
説明するが、本発明はこれらにより限定されるものでは
ない。
【0020】(実施例1)アリルハライド(I)1.09g(4mm
ol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)10mlに
溶解し、-60℃に冷却した。そこへ、カリウム-t-ブトキ
シド0.54g(8mmol)のDMF溶液10mlをゆっくりと滴下
し、同温度で3時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液でクエンチし、酢酸エチルで抽出した。得
られた有機層は飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去することにより、ビニルハ
ライドを含有する粗生成物を得た。得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ビ
ニルハライド(IV)を収率45%で得た。 ビニルハライド(IV)1 H―NMR(CDCl3):δ 1.83(3H,s), 1.85(3H,s), 5.02-5.27(2H,m), 5.98(1H,
s), 6.06-6.17(1H,m),6.32-6.96(3H,m)
ol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)10mlに
溶解し、-60℃に冷却した。そこへ、カリウム-t-ブトキ
シド0.54g(8mmol)のDMF溶液10mlをゆっくりと滴下
し、同温度で3時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液でクエンチし、酢酸エチルで抽出した。得
られた有機層は飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去することにより、ビニルハ
ライドを含有する粗生成物を得た。得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ビ
ニルハライド(IV)を収率45%で得た。 ビニルハライド(IV)1 H―NMR(CDCl3):δ 1.83(3H,s), 1.85(3H,s), 5.02-5.27(2H,m), 5.98(1H,
s), 6.06-6.17(1H,m),6.32-6.96(3H,m)
【0021】(実施例2)アリルハライド(I)1.09g(4mm
ol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)10mlに
溶解し、-60℃に冷却した。そこへ、ナトリウム-t-ブト
キシド0.77g(8mmol)のDMF溶液10mlをゆっくりと滴下
し、同温度で3時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液でクエンチし、酢酸エチルで抽出した。得
られた有機層は飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去することにより、ビニルハ
ライドを含有する粗生成物を得た。得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ビ
ニルハライド(IV)を収率28%、ビニルハライド(V)を
収率41%で得た。 ビニルハライド(V)1 H―NMR(CDCl3):δ 1.78(3H,s), 1.88(3H,s), 2.06(3H,s), 2.89(2H,d,J=7H
z), 4.60(2H,d,J=7Hz),5.39(1H,t,J=7Hz), 5.67-5.89(1
H,m), 6.00(1H,s), 6.60(1H,d,J=15Hz)
ol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)10mlに
溶解し、-60℃に冷却した。そこへ、ナトリウム-t-ブト
キシド0.77g(8mmol)のDMF溶液10mlをゆっくりと滴下
し、同温度で3時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液でクエンチし、酢酸エチルで抽出した。得
られた有機層は飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去することにより、ビニルハ
ライドを含有する粗生成物を得た。得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ビ
ニルハライド(IV)を収率28%、ビニルハライド(V)を
収率41%で得た。 ビニルハライド(V)1 H―NMR(CDCl3):δ 1.78(3H,s), 1.88(3H,s), 2.06(3H,s), 2.89(2H,d,J=7H
z), 4.60(2H,d,J=7Hz),5.39(1H,t,J=7Hz), 5.67-5.89(1
H,m), 6.00(1H,s), 6.60(1H,d,J=15Hz)
【0022】(実施例3)アリルハライド(II)0.35g(1m
mol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)5mlに
溶解し、-60℃に冷却した。そこへ、ナトリウム-t-ブト
キシド0.19g(2mmol)のDMF溶液5mlをゆっくりと滴下
し、同温度で3時間攪拌後、さらに、-30℃で3時間攪拌
した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチ
し、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層は飽和食塩
水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去することにより、ビニルハライドを含有する粗生成
物を得た。得られた粗生成物を液体クロマトグラフィー
にて定量したところ、ビニルハライド(IV)の収率は16
%、ビニルハライド(V)の収率は48%であった。
mol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)5mlに
溶解し、-60℃に冷却した。そこへ、ナトリウム-t-ブト
キシド0.19g(2mmol)のDMF溶液5mlをゆっくりと滴下
し、同温度で3時間攪拌後、さらに、-30℃で3時間攪拌
した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチ
し、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層は飽和食塩
水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去することにより、ビニルハライドを含有する粗生成
物を得た。得られた粗生成物を液体クロマトグラフィー
にて定量したところ、ビニルハライド(IV)の収率は16
%、ビニルハライド(V)の収率は48%であった。
【0023】(実施例4)アリルハライド(III)0.33g(1mm
ol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)5mlに溶
解し、-30℃に冷却した。そこへ、カリウム-t-ブトキシ
ド0.17g(1.5mmol)のDMF溶液5mlをゆっくりと滴下
し、同温度で2時間攪拌後、さらに、-10℃で2時間攪拌
した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチ
し、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層は飽和食塩
水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去することにより、ビニルハライドを含有する粗生成
物を得た。得られた粗生成物を液体クロマトグラフィー
にて定量したところ、ビニルハライド(IV)の収率は7%
で、ビニルハライド(V)の収率は10%であった。
ol)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)5mlに溶
解し、-30℃に冷却した。そこへ、カリウム-t-ブトキシ
ド0.17g(1.5mmol)のDMF溶液5mlをゆっくりと滴下
し、同温度で2時間攪拌後、さらに、-10℃で2時間攪拌
した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチ
し、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層は飽和食塩
水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去することにより、ビニルハライドを含有する粗生成
物を得た。得られた粗生成物を液体クロマトグラフィー
にて定量したところ、ビニルハライド(IV)の収率は7%
で、ビニルハライド(V)の収率は10%であった。
【0024】以下に実施例の化合物の構造式を記す。
Claims (7)
- 【請求項1】一般式(1) (式中、X1はハロゲン原子を示し、Aは直鎖もしくは
分岐状のC1〜C10アルキル基、直鎖もしくは分岐状
のC2〜C10のアルケニル基または直鎖もしくは分岐
状のC3〜C10アルカジエニル基を表す。ここで、ア
ルキル基、アルケニル基、アルカジエニル基は、それぞ
れアルコキシ基、水酸基で置換されていてもよい。ま
た、水酸基は保護基で保護されていてもよい。波線はE
/Z幾何異性体の混合物を示す。)で示されるビニルハ
ライド誘導体。 - 【請求項2】一般式(1)におけるAが、直鎖もしくは
分岐状のC2〜C10のアルケニル基または直鎖もしく
は分岐状のC3〜C10アルカジエニル基(アルケニル
基、アルカジエニル基は、それぞれアルコキシ基、水酸
基で置換されていてもよく、また、水酸基は保護基で保
護されていてもよい。)である請求項1に記載のビニル
ハライド誘導体。 - 【請求項3】一般式(1)におけるAが下記式で示され
る基である請求項1に記載のビニルハライド誘導体。 (式中、Rは水素原子もしくは水酸基の保護基を示し、
●は結合部位を示す。) - 【請求項4】一般式(2) (式中、YはX2もしくはOR2を意味し、X1およびX2
は同一または相異なりハロゲン原子を示し、R1および
R2は、同一または相異なり水酸基の保護基を示し、波
線は前記と同じ意味を示す。)および/または一般式
(3) (式中、X1、YおよびR1および波線は前記と同じ意味
を示す。)で示されるアリルハライド誘導体を塩基と反
応させることを特徴とする一般式(4) (式中、R、X1および波線は前記と同じ意味を示
す。)および/または一般式(5) (式中、X1および波線は前記と同じ意味を示す。)で
示されるビニルハライド誘導体の製造方法。 - 【請求項5】塩基がアルカリ金属のアルコキシドである
請求項4に記載の製造方法。 - 【請求項6】X1が臭素原子でX2が塩素原子である請求
項4または5に記載の製造方法。 - 【請求項7】R1がアセチル基である請求項4、5また
は6に記載の製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000228525A JP2002047219A (ja) | 2000-07-28 | 2000-07-28 | ビニルハライド誘導体および製造方法 |
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JP2000228525A JP2002047219A (ja) | 2000-07-28 | 2000-07-28 | ビニルハライド誘導体および製造方法 |
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ID=18721794
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JP2000228525A Pending JP2002047219A (ja) | 2000-07-28 | 2000-07-28 | ビニルハライド誘導体および製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2002047219A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106349002A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-25 | 厦门大学 | 一种番茄红素中间体的制备方法 |
-
2000
- 2000-07-28 JP JP2000228525A patent/JP2002047219A/ja active Pending
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