JP2002045380A - 歯科治療ユニット - Google Patents
歯科治療ユニットInfo
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- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
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- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
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Landscapes
- Dental Tools And Instruments Or Auxiliary Dental Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 給水ユニット内の滞留水中に発生するバクテ
リアの繁殖を防止する。 【解決手段】 １１（１１1〜１１4），１２は歯科治療
ユニット内に設けられた水回路で、該水回路にはバイパ
ス水回路２１，２２が設けられ、各バイパス水回路には
電磁弁３１，３２が設けられている。水回路に滞留され
た水は、手動操作によって、或いは、予め定められたプ
ログラムに従って電磁弁を開くことにより強制的に排出
される。水回路中に所定時間以上水が滞留しないよう
に、電磁弁をプログラム制御して排出し、或いは、歯科
治療の前に電磁弁を手動操作して排出し、滞留水中にバ
クテリアが繁殖しないようにする。
リアの繁殖を防止する。 【解決手段】 １１（１１1〜１１4），１２は歯科治療
ユニット内に設けられた水回路で、該水回路にはバイパ
ス水回路２１，２２が設けられ、各バイパス水回路には
電磁弁３１，３２が設けられている。水回路に滞留され
た水は、手動操作によって、或いは、予め定められたプ
ログラムに従って電磁弁を開くことにより強制的に排出
される。水回路中に所定時間以上水が滞留しないよう
に、電磁弁をプログラム制御して排出し、或いは、歯科
治療の前に電磁弁を手動操作して排出し、滞留水中にバ
クテリアが繁殖しないようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、歯科治療ユニッ
ト、より詳細には、歯科治療ユニット内の滞留水を時々
強制的に排水し、歯科治療ユニット内の滞留水中にバク
テリア等の細菌が繁殖するのを防止するようにした歯科
治療ユニットに関する。
ト、より詳細には、歯科治療ユニット内の滞留水を時々
強制的に排水し、歯科治療ユニット内の滞留水中にバク
テリア等の細菌が繁殖するのを防止するようにした歯科
治療ユニットに関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、本発明が適用される歯科治療ユ
ニットの一例を示す全体構成図で、図中、１０は歯科治
療ユニットを示し、該歯科治療用ユニット１０は、治療
椅子１，ワークテーブル２，スピットン洗浄用水噴水管
３，給排水ボックス４，インスツルメントホルダ５，ア
シスタント用インスツルメントホルダ６，術者用インス
ツルメント７，アシスタント用インスツルメント８等か
らなり、インスツルメントホルダ５には、歯科治療にお
いて術者が使用する、例えば、エアタービン，マイクロ
エンジン，スケーラ，シリンジ等のインスツルメント７
（７1〜７4）が、また、アシスタント用インスツルメン
トホルダ６にはアシスタントが使用する、例えば、バキ
ューム，排唾管，シリンジ等のインスツルメント８が収
納されており、周知のように、歯科治療に当たり、患者
は椅子１に座り、頭を安頭台に固定して治療を受ける。
治療中、術者は治療椅子１を上下動，倒起動，傾斜動等
させて、患者を治療しやすい姿勢にして治療を行う。
ニットの一例を示す全体構成図で、図中、１０は歯科治
療ユニットを示し、該歯科治療用ユニット１０は、治療
椅子１，ワークテーブル２，スピットン洗浄用水噴水管
３，給排水ボックス４，インスツルメントホルダ５，ア
シスタント用インスツルメントホルダ６，術者用インス
ツルメント７，アシスタント用インスツルメント８等か
らなり、インスツルメントホルダ５には、歯科治療にお
いて術者が使用する、例えば、エアタービン，マイクロ
エンジン，スケーラ，シリンジ等のインスツルメント７
（７1〜７4）が、また、アシスタント用インスツルメン
トホルダ６にはアシスタントが使用する、例えば、バキ
ューム，排唾管，シリンジ等のインスツルメント８が収
納されており、周知のように、歯科治療に当たり、患者
は椅子１に座り、頭を安頭台に固定して治療を受ける。
治療中、術者は治療椅子１を上下動，倒起動，傾斜動等
させて、患者を治療しやすい姿勢にして治療を行う。
【０００３】周知のように、エアタービン，マイクロモ
ータ，スケーラ，シリンジ等のインスツルメントは、こ
れらインスツルメントの先端部から冷却水或いは洗浄水
を噴射することができ、ユニット内にはそのための水回
路が設けられている。また、スピットンは、患者の口腔
内をうがいした水を排出するためのものであるが、この
スピットン部には、うがい水を供給するための水回路や
スピットンを洗浄するための水を供給する水回路が設け
られている。
ータ，スケーラ，シリンジ等のインスツルメントは、こ
れらインスツルメントの先端部から冷却水或いは洗浄水
を噴射することができ、ユニット内にはそのための水回
路が設けられている。また、スピットンは、患者の口腔
内をうがいした水を排出するためのものであるが、この
スピットン部には、うがい水を供給するための水回路や
スピットンを洗浄するための水を供給する水回路が設け
られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】而して、上述のごとき
水回路への水の供給は、給排水ボックス４を通して行わ
れるが、水を使用しない時は、該給排水ボックス４と各
インスツルメントやスピットンの水噴射口との間に水が
滞留しており、この水が長時間滞留していると、この滞
留水の中でバクテリアが繁殖し、不衛生である。
水回路への水の供給は、給排水ボックス４を通して行わ
れるが、水を使用しない時は、該給排水ボックス４と各
インスツルメントやスピットンの水噴射口との間に水が
滞留しており、この水が長時間滞留していると、この滞
留水の中でバクテリアが繁殖し、不衛生である。
【０００５】本発明は、上述の問題点を解決するために
なされたもので、歯科治療ユニット内の滞留水を時々手
動で又は自動的に強制排水することにより、歯科治療ユ
ニット内の滞留水中にバクテリアが繁殖するのをなくす
ことを目的としてなされたものである。
なされたもので、歯科治療ユニット内の滞留水を時々手
動で又は自動的に強制排水することにより、歯科治療ユ
ニット内の滞留水中にバクテリアが繁殖するのをなくす
ことを目的としてなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、給水
ユニットを有する歯科治療ユニットにおいて、前記給水
ユニット内の滞留水を所望の時刻に所望の量だけ強制的
に排水するようにしたことを特徴としたものである。
ユニットを有する歯科治療ユニットにおいて、前記給水
ユニット内の滞留水を所望の時刻に所望の量だけ強制的
に排水するようにしたことを特徴としたものである。
【０００７】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、当該歯科治療ユニット内の水回路にバイパス回路を
設け、該バイパス回路を通して前記滞留水を排出するよ
うにしたことを特徴としたものである。
て、当該歯科治療ユニット内の水回路にバイパス回路を
設け、該バイパス回路を通して前記滞留水を排出するよ
うにしたことを特徴としたものである。
【０００８】請求項３の発明は、請求項１または２の発
明において、歯科治療用のインスツルメントを有し、該
インスツルメントを通して前記滞留水を排出するように
したことを特徴としたものである。
明において、歯科治療用のインスツルメントを有し、該
インスツルメントを通して前記滞留水を排出するように
したことを特徴としたものである。
【０００９】請求項４の発明は、請求項１乃至３のいず
れかの発明において、うがい水供給路を有し、該うがい
水供給路にバイパス回路を設け、該バイパス回路を通し
て前記滞留水を排出するようにしたことを特徴としたも
のである。
れかの発明において、うがい水供給路を有し、該うがい
水供給路にバイパス回路を設け、該バイパス回路を通し
て前記滞留水を排出するようにしたことを特徴としたも
のである。
【００１０】請求項５の発明は、請求項１乃至４のいず
れかの発明において、うがい水供給路を有し、該うがい
水供給路を通して前記滞留水を排出するようにしたこと
を特徴としたものである。
れかの発明において、うがい水供給路を有し、該うがい
水供給路を通して前記滞留水を排出するようにしたこと
を特徴としたものである。
【００１１】請求項６の発明は、請求項１乃至５のいず
れかの発明において、前記滞留水を排水するための電磁
弁を有することを特徴としたものである。
れかの発明において、前記滞留水を排水するための電磁
弁を有することを特徴としたものである。
【００１２】請求項７の発明は、請求項６の発明におい
て、前記電磁弁は、予め設定されたプログラムにより、
所望の時刻に所望の時間だけ前記滞留水を排水するよう
に作動することを特徴としたものである。
て、前記電磁弁は、予め設定されたプログラムにより、
所望の時刻に所望の時間だけ前記滞留水を排水するよう
に作動することを特徴としたものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は、本発明による歯科治療ユ
ニット内の水回路及び該水回路内の滞留水を強制排出す
る制御回路の一例を説明するための要部概略構成図で、
図中、７（７ 1〜７4）は水噴射機能を持つインスツルメ
ント、３はスピットン洗浄水噴水管で、これらインスツ
ルメント７及び洗浄水噴水管３と給排水ボックス４との
間は、それぞれ水回路１１（１１1〜１１4），１２を通
して連結されており、該給排水ボックス４よりこれら水
回路を通して各インスツルメントやスピットン部に水が
供給されるようになっている。
ニット内の水回路及び該水回路内の滞留水を強制排出す
る制御回路の一例を説明するための要部概略構成図で、
図中、７（７ 1〜７4）は水噴射機能を持つインスツルメ
ント、３はスピットン洗浄水噴水管で、これらインスツ
ルメント７及び洗浄水噴水管３と給排水ボックス４との
間は、それぞれ水回路１１（１１1〜１１4），１２を通
して連結されており、該給排水ボックス４よりこれら水
回路を通して各インスツルメントやスピットン部に水が
供給されるようになっている。
【００１４】上記水回路１１（１１1〜１１4）及び１２
には、インスツルメントやスピットンを頻繁に使用して
いる間は、水が滞留せず、バクテリア等が繁殖すること
はないが、夜間，休日等、長時間使用しない時は、これ
ら水回路中に滞留した水の中にバクテリアが繁殖して不
衛生である。
には、インスツルメントやスピットンを頻繁に使用して
いる間は、水が滞留せず、バクテリア等が繁殖すること
はないが、夜間，休日等、長時間使用しない時は、これ
ら水回路中に滞留した水の中にバクテリアが繁殖して不
衛生である。
【００１５】本発明は、上述のごとき歯科治療ユニット
内に滞留した水内にバクテリアが繁殖するのを防止する
ようにしたもので、図中の２１，２２はそのためのバイ
パス水回路、３１，３２はこれらバイパス水回路に設け
られた電磁弁（又は手動弁）、４１，４２は電磁弁を制
御する制御線で、これら手動弁又は電磁弁を手動で又は
予め定めたプログラムに従って時々開くことにより、こ
れら水回路１１（１１ 1〜１１4），１２内の滞留水を強
制的に排出する。なお、各インスツルメント７（７1〜
７4）に対する水回路１１1〜１１4内の滞留水は各イン
スツルメントに設けられている弁を手動操作によって開
くことによって排出することができるが、好ましくは、
各インスツルメントに設けられている電磁弁３３1〜３
３4を各電磁弁の制御線４３1〜４３4を通して開くこと
によって、各インスツルメントの水回路１１1〜１１4を
通して排出することもできる。
内に滞留した水内にバクテリアが繁殖するのを防止する
ようにしたもので、図中の２１，２２はそのためのバイ
パス水回路、３１，３２はこれらバイパス水回路に設け
られた電磁弁（又は手動弁）、４１，４２は電磁弁を制
御する制御線で、これら手動弁又は電磁弁を手動で又は
予め定めたプログラムに従って時々開くことにより、こ
れら水回路１１（１１ 1〜１１4），１２内の滞留水を強
制的に排出する。なお、各インスツルメント７（７1〜
７4）に対する水回路１１1〜１１4内の滞留水は各イン
スツルメントに設けられている弁を手動操作によって開
くことによって排出することができるが、好ましくは、
各インスツルメントに設けられている電磁弁３３1〜３
３4を各電磁弁の制御線４３1〜４３4を通して開くこと
によって、各インスツルメントの水回路１１1〜１１4を
通して排出することもできる。
【００１６】前記電磁弁３１，３２，３３1〜３３4等の
開閉は、これら電磁弁の開閉を制御する制御線４１，４
２，４３1〜４３4等にて行われるが、この制御は、予め
プログラムされており、例えば、所定時間以上水が使用
されない時は、自動的に電磁弁を開いて所定時間排水
し、或いは、予め定められた時間に（例えば、開院時間
や昼休み時間等を考慮して、午前８時とか午後１時に）
予め定めた時間の間（例えば、１０分内）排水するよう
にプログラムされている。しかし、手動操作により、前
記制御線を電磁弁に開くことにより任意所望の時間に排
水させることも可能である。
開閉は、これら電磁弁の開閉を制御する制御線４１，４
２，４３1〜４３4等にて行われるが、この制御は、予め
プログラムされており、例えば、所定時間以上水が使用
されない時は、自動的に電磁弁を開いて所定時間排水
し、或いは、予め定められた時間に（例えば、開院時間
や昼休み時間等を考慮して、午前８時とか午後１時に）
予め定めた時間の間（例えば、１０分内）排水するよう
にプログラムされている。しかし、手動操作により、前
記制御線を電磁弁に開くことにより任意所望の時間に排
水させることも可能である。
【００１７】図３は、プログラム制御により、インスツ
ルメントを通して排水する場合の排水機構（排水受け）
の一例を示す要部構成図で、手動操作の場合には、イン
スツルメントをスピットンその他任意の水受けの上にお
いて排水すればよいが、プログラム制御により排水する
時は、インスツルメントの排水口に水受けが配設してい
ないと、排水された水により床面等が汚されてしまうの
で、図３に示すように、インスツルメント７の排水口部
に水受け５０を設けておく必要がある。このように、水
受け５０を設けておく時は、インスツルメントを移動す
ることなく、いつでも、安心して、排水することができ
る。
ルメントを通して排水する場合の排水機構（排水受け）
の一例を示す要部構成図で、手動操作の場合には、イン
スツルメントをスピットンその他任意の水受けの上にお
いて排水すればよいが、プログラム制御により排水する
時は、インスツルメントの排水口に水受けが配設してい
ないと、排水された水により床面等が汚されてしまうの
で、図３に示すように、インスツルメント７の排水口部
に水受け５０を設けておく必要がある。このように、水
受け５０を設けておく時は、インスツルメントを移動す
ることなく、いつでも、安心して、排水することができ
る。
【００１８】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、歯科治療ユニット内に所定時間以上水が滞留
している場合に、手動操作によって弁を開いて、或い
は、予めプログラムされた所定の時間に電磁弁を開い
て、その滞留水を強制排水するようにしたので、長時間
滞留していることによって水中に発生するバクテリアの
繁殖をなくすことができる。
によれば、歯科治療ユニット内に所定時間以上水が滞留
している場合に、手動操作によって弁を開いて、或い
は、予めプログラムされた所定の時間に電磁弁を開い
て、その滞留水を強制排水するようにしたので、長時間
滞留していることによって水中に発生するバクテリアの
繁殖をなくすことができる。
【図１】 本発明が適用される歯科治療ユニットの一例
を示す全体構成図である。
を示す全体構成図である。
【図２】 本発明が適用された歯科治療ユニット内の水
回路及び該水回路内の滞留水排出回路の一実施例を説明
するための要部概略構成図である。
回路及び該水回路内の滞留水排出回路の一実施例を説明
するための要部概略構成図である。
【図３】 排水受けの例を示す図である。
１…治療椅子、２…ワークテーブル、３…スピットン洗
浄用水噴射管、４…給排水ボックス、５…インスツルメ
ントホルダ、６…アシスタントインスツルメントホル
ダ、７…術者用インスツルメント、８…アシスタント用
インスツルメント、１０…歯科治療ユニット、１１，１
２…水回路、２１，２２…バイパス水回路、３１，３
２，３３1〜３３4…電磁弁、４１，４２，４３1〜４３4
…制御線、５０…排水受け。
浄用水噴射管、４…給排水ボックス、５…インスツルメ
ントホルダ、６…アシスタントインスツルメントホル
ダ、７…術者用インスツルメント、８…アシスタント用
インスツルメント、１０…歯科治療ユニット、１１，１
２…水回路、２１，２２…バイパス水回路、３１，３
２，３３1〜３３4…電磁弁、４１，４２，４３1〜４３4
…制御線、５０…排水受け。
Claims (7)
- 【請求項１】 給水ユニットを有する歯科治療ユニット
において、前記給水ユニット内の滞留水を所望の時刻に
所望の量だけ強制的に排水するようにしたことを特徴と
する歯科治療ユニット。 - 【請求項２】 請求項１に記載の歯科治療ユニットにお
いて、当該歯科治療ユニット内の水回路にバイパス回路
を設け、該バイパス回路を通して前記滞留水を排出する
ようにしたことを特徴とする歯科治療ユニット。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の歯科治療ユニ
ットにおいて、歯科治療用のインスツルメントを有し、
該インスツルメントを通して前記滞留水を排出するよう
にしたことを特徴とする歯科治療ユニット。 - 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれかに記載の歯科
治療ユニットにおいて、うがい水供給路を有し、該うが
い水供給路にバイパス回路を設け、該バイパス回路を通
して前記滞留水を排出するようにしたことを特徴とする
歯科治療ユニット。 - 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれかに記載の歯科
治療ユニットにおいて、うがい水供給路を有し、該うが
い水供給路を通して前記滞留水を排出するようにしたこ
とを特徴とする歯科治療ユニット。 - 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれかに記載の歯科
治療ユニットにおいて、前記滞留水を排水するための電
磁弁を有することを特徴とする歯科治療ユニット。 - 【請求項７】 請求項６に記載の歯科治療ユニットにお
いて、前記電磁弁は、予め設定されたプログラムによ
り、所望の時刻に所望の時間だけ前記滞留水を排水する
ように作動することを特徴とする歯科治療ユニット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000234510A JP2002045380A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 歯科治療ユニット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000234510A JP2002045380A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 歯科治療ユニット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002045380A true JP2002045380A (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=18726867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000234510A Pending JP2002045380A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 歯科治療ユニット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002045380A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007130394A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Osada Res Inst Ltd | 歯科用インスツルメントホルダ |
| JP2007151669A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Osada Res Inst Ltd | 歯科用インスツルメントホルダ |
-
2000
- 2000-08-02 JP JP2000234510A patent/JP2002045380A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007130394A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Osada Res Inst Ltd | 歯科用インスツルメントホルダ |
| JP4666368B2 (ja) * | 2005-11-14 | 2011-04-06 | 株式会社長田中央研究所 | 歯科用インスツルメントホルダ |
| JP2007151669A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Osada Res Inst Ltd | 歯科用インスツルメントホルダ |
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