JP2002042389A - 光記録媒体の製造装置及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外線硬化樹脂を円盤状基体に回転塗布する
ときに円盤状基体の最外周での液溜まりの形成を防止し
かつ良好な膜厚に塗布できる光記録媒体の製造装置及び
製造方法を提供する。また、回転塗布時に振り切られた
紫外線硬化樹脂を効率よく確実にリサイクルできるよう
にする。 【解決手段】 この光記録媒体の製造装置は、記録層が
形成された円盤状基体上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂
層を有する光記録媒体を製造する。円盤状基体Ｄを回転
させながら紫外線硬化樹脂を滴下して回転塗布する回転
塗布手段１１と、回転塗布手段から離れて配置され紫外
線照射位置にある回転中の円盤状基体に紫外線を照射す
る紫外線照射手段２０とを具備し、回転塗布手段から円
盤状基体をその回転を保持したまま紫外線照射位置に移
動させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線硬化樹脂層
を有する光記録媒体の製造装置及び製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＭＤ（ミニディスク）やＤＶＤ（デジタ
ル・バーサタイル・ディスク）等の光記録媒体の表面を
保護する目的で主としてスピンコート法（回転塗布法）
によって形成される樹脂層は、紫外線硬化樹脂を塗布し
た後に、紫外線を照射して硬化するが、この場合、塗布
位置から紫外線照射位置まで搬送するために円盤状基体
の回転を停止しなければならない。このように回転を停
止した状態では、スピンコート時に振り切れずに最外周
に残った未硬化の紫外線硬化樹脂が内周側に戻り、図６
（ａ）に示すように、円盤状基体９０の外周部に液溜ま
り９２が発生する。この液溜まりが紫外線硬化樹脂層９
１とともにそのまま硬化すると、ＭＤのように液溜まり
が硬化した面を記録のためのへッドが接触する場合等は
問題となり、また、ＤＶＤ等のように円盤状基体の液溜
まりが硬化した面同士を貼り合わせる場合は、貼り合わ
せる際に邪魔になり、貼り合わせ工程に支障をきたして
しまう。

【０００３】そこで、これらの問題を解決するために、
特開平１−２８６１４６号公報、特開平１−２９９６７
０号公報、特開平２−１５４４１号公報などには、スピ
ンコート法で紫外線硬化樹脂を塗布し、最外周の液溜ま
りを振り切り、図６（ｂ）のように紫外線硬化樹脂層９
１の膜厚を良好にした後、スピンドル（回転軸）の回転
を止めずに、そのままの状態で紫外線照射して硬化させ
る技術が開示されている。

【０００４】一方で、環境ヘの配慮やコストダウンを目
的として、特開昭６２−１５５９６４号公報や特開平８
−７３４７号公報等では、未硬化の樹脂のリサイクル利
用が提案されている。

【０００５】上述の２つの技術を組み合わせれば、特性
の良い光ディスクが作製でき、コストダウンや環境への
配慮など、数々の問題が解決できることから、鋭意検討
され、特開平１１−２５５２３号公報では、基板上に回
転塗布された紫外線硬化樹脂にのみ紫外線を照射し振り
切られた紫外線硬化樹脂には照射しないようにするとと
もに振り切られた未硬化樹脂を回収するようにした装置
が提案されている。

【０００６】しかし、同公報開示の技術のように、紫外
線照射装置がスピンドル上部に移動してきて、回転して
いるターンテーブル上の円盤状基体の紫外線硬化樹脂に
紫外線を照射する一方、振り切られた紫外線硬化樹脂に
対して紫外線を完全に遮断するのは困難であり、少しで
も紫外線が照射されて僅かな硬化反応部分が発生する
と、それに起因して更に反応が進み、装置内の樹脂が硬
化反応を起こした状態となり、回収されてリサイクルに
供するときに、回収された樹脂の精製用フィルタに溜ま
ってフィルタ寿命を低下させたり、場合によっては半硬
化状態で再び塗布されてしまい光ディスクに欠陥ができ
てしまうおそれがある。

【０００７】そこで、同公報でも検討されているよう
に、回転塗布の終了したターンテーブル上の円盤状基体
をチャンバに囲まれた紫外線照射装置に移送してから紫
外線照射を行う。このため、ターンテーブルの回転を停
止せざるを得ない。

【０００８】しかし、ターンテーブルの回転を停止させ
て再び回転させても、最初に振り切った状態には戻らな
い。即ち、図６（ｂ）のように一度振り切って良好な膜
厚にしてから回転を止めてしまうと、樹脂は内周側に戻
ってしまい、再度回転させて樹脂を振り切ると、せっか
く良好な状態で塗布された膜厚が図６（ｃ）のように薄
くなってしまい、好ましくない。また、膜厚が薄くなら
ない程度の回転数では、内周側に戻ってきてしまった樹
脂を再び振り切ることができない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述のよう
な従来技術の問題に鑑み、紫外線硬化樹脂を円盤状基体
に回転塗布するときに円盤状基体の最外周での液溜まり
の形成を防止しかつ良好な膜厚に塗布できる光記録媒体
の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
また、回転塗布時に振り切られた紫外線硬化樹脂を効率
よく確実にリサイクルできる光記録媒体の製造装置及び
製造方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
には、本発明による光記録媒体の製造装置は、光学的に
情報の記録及び／又は再生が可能な記録層が形成された
円盤状基体上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を有する
光記録媒体を製造する装置であって、円盤状基体に紫外
線硬化樹脂を滴下して塗布する回転塗布手段と、前記回
転塗布手段から離れて位置する紫外線照射位置において
前記円盤状基体を回転させながら紫外線を照射する紫外
線照射手段とを具備し、前記回転塗布手段から前記円盤
状基体をその回転状態を保持したまま前記紫外線照射位
置に移動させるように構成したことを特徴とする。

【００１１】この光記録媒体の製造装置によれば、紫外
線硬化樹脂が塗布された円盤状基体をそのままの回転状
態で回転塗布手段から離れた紫外線照射位置に移動させ
るので、移動のために円盤状基体の回転を停止する必要
はなく、適度な回転数で回転を保持し続けることができ
る。このため、紫外線硬化樹脂の良好な塗布状態が確保
され続け、膜厚が薄くなったり、最外周の紫外線硬化樹
脂が逆流することもない回転状態で、円盤状基体に紫外
線を照射し紫外線硬化樹脂を硬化させることができ、適
切で良好な膜厚の樹脂層を形成することができる。ま
た、紫外線照射位置は回転塗布手段と離れているから、
回転塗布時に振り切られた紫外線硬化樹脂に紫外線が照
射されることを防止でき、紫外線硬化樹脂を効率よく回
収することができ、確実にリサイクルできる。

【００１２】上述の円盤状基体を回転保持状態で紫外線
照射位置に移動させるために、前記回転塗布手段の回転
と同期して回転しながら前記円盤状基体を保持し移動さ
せる回転状態保持移動手段と、前記円盤状基体を前記紫
外線照射位置で回転させる照射位置回転手段とを備え、
前記回転塗布手段で前記円盤状基体を回転させたまま前
記回転状態保持移動手段により保持して前記照射位置回
転手段まで移動させ、前記回転状態保持移動手段の回転
と同期して回転中の前記照射位置回転手段に移すように
構成できる。

【００１３】この構成によれば、回転塗布手段から紫外
線照射位置の照射位置回転手段まで円盤状基体を回転状
態で移動させることができる。この場合、前記円盤状基
体を移動した後の前記回転塗布手段に次の円盤状基体を
セットし、前記紫外線照射の終了した円盤状基体を排出
位置まで移動させるように構成することにより、連続的
に回転塗布及び紫外線照射を行うことができ、大量生産
が可能となる。

【００１４】また、同様に円盤状基体を回転保持状態で
移動させるために、第１の回転手段を一端側に第２の回
転手段を他端側にそれぞれ配置するとともに、前記第１
の回転手段及び前記第２の回転手段が回転（自転）しな
がら回転塗布位置と前記紫外線照射位置との間を回動軸
を中心に回動（公転）するように構成された回動部材を
備え、前記回転塗布位置で前記第１の回転手段により第
１の円盤状基体に前記紫外線硬化樹脂を回転塗布し、前
記紫外線照射位置で、前記第２の回転手段により前記紫
外線硬化樹脂が回転塗布された第２の円盤状基体を回転
させながら、前記紫外線照射手段により紫外線を照射
し、前記紫外線照射の終了後に前記第２の回転手段から
前記第２の円盤状基体を排出位置まで移動させ排出する
とともに、前記回転塗布後に前記回動部材を回動させる
ことにより前記第１の回転手段を前記第１の円盤状基体
を回転させたまま前記紫外線照射位置に移動させるとと
もに前記第２の回転手段を前記回転塗布位置に移動させ
て前記第２の回転手段に次の円盤状基体をセットするよ
うに構成できる。

【００１５】この構成によれば、円盤状基体を回転させ
た状態で各回転手段を回転塗布位置から紫外線照射位置
まで移動させることができる。そして、一方の回転手段
を回転塗布位置から紫外線照射位置に移動させると同時
に、他方の回転手段を紫外線照射位置から回転塗布位置
に移動させることができるので、効率よく回転塗布と紫
外線照射を行うことができる。また、紫外線照射の終了
した円盤状基体を回転手段から外部に排出する一方、そ
の回転手段に回転塗布位置で次の円盤状基体をセットで
きるので、連続的に回転塗布及び紫外線照射を行うこと
ができ、連続生産ができ、大量生産が可能となる。

【００１６】また、前記回転塗布位置の周囲に配置さ
れ、前記回転塗布を行うときに前記円盤状基体の最外周
から振り切られた紫外線硬化樹脂液を回収する回収手段
を備え、前記回収手段と前記回転塗布手段とが相対的に
移動してから前記円盤状基体の各移動を行うように構成
されていることが好ましい。これにより、回収手段と回
転塗布手段との相対移動と、円盤状基体の各移動とが干
渉しない。

【００１７】また、前記紫外線照射手段を包囲して紫外
線を遮断する遮断手段を備え、前記遮断手段及び前記紫
外線照射手段と前記照射位置回転手段または前記第１ま
たは第２の回転手段とが相対的に移動してから前記円盤
状基体の各移動を行うように構成されていることが好ま
しい。これにより、遮断手段・紫外線照射手段と照射位
置回転手段または第１または第２の回転手段との相対移
動と、円盤状基体の各移動とが干渉しない。

【００１８】なお、前記紫外線照射手段は紫外線を照射
しないときに前記円盤状基体から離れた位置にあり、紫
外線を照射するときに前記円盤状基体の上方に移動する
ことが好ましい。これにより、紫外線照射手段が円盤状
基体の移動や回転手段の移動と干渉することがなく、紫
外線照射を確実に行うことができる。この場合、紫外線
照射は一定位置に停止して行ってもよく、また円盤状基
体と紫外線照射手段とを相対的に移動させながら行って
もよい。

【００１９】また、本発明による光記録媒体の製造方法
は、光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な記録層
が形成された円盤状基体上に紫外線硬化樹脂からなる樹
脂層を有する光記録媒体を製造する方法であって、回転
塗布位置で円盤状基体に紫外線硬化樹脂を滴下して回転
塗布する工程と、前記回転塗布中に前記円盤状基体の最
外周から振り切られた前記紫外線硬化樹脂を回収する工
程と、前記回転塗布が行われた前記円盤状基体をその回
転状態を保持したまま前記回転塗布位置と離れた紫外線
照射位置に移動させる工程と、回転中の前記円盤状基体
に紫外線を照射する工程とを含むことを特徴とする。

【００２０】この場合、前記移動工程は、円盤状基体の
回転状態を保持し移動させる回転状態保持移動手段を前
記回転塗布位置の円盤状基体の回転と同期して回転させ
ながら前記円盤状基体を回転状態で保持し前記紫外線照
射位置に移動させる工程と、前記紫外線照射位置にある
回転手段を前記回転状態で保持された円盤状基体の回転
と同期して回転させながら前記円盤状基体を前記回転保
持移動手段から前記回転手段に移す工程とを含むことが
好ましい。

【００２１】また、上述の製造方法は、前記円盤状基体
を移動した後の回転塗布位置に次の円盤状基体をセット
する工程と、前記紫外線照射の終了した円盤状基体を排
出位置まで移動させる工程とを更に含むことが好まし
い。

【００２２】また、本発明による別の光記録媒体の製造
方法は、光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な記
録層が形成された円盤状基体上に紫外線硬化樹脂からな
る樹脂層を有する光記録媒体を製造する方法であって、
第１の回転手段により第１の円盤状基体に回転塗布位置
で紫外線硬化樹脂を滴下して回転塗布する工程と、前記
回転塗布中に前記第１の円盤状基体の最外周から振り切
られた前記紫外線硬化樹脂の液を回収する工程と、紫外
線硬化樹脂が回転塗布された第２の円盤状基体を第２の
回転手段により回転させながら前記回転塗布位置と離れ
た紫外線照射位置で紫外線を照射する工程と、前記紫外
線照射の終了した前記第２の円盤状基体を前記第２の回
転手段から排出する工程と、前記回転塗布の終了した前
記第１の円盤状基体を回転状態で前記第１の回転手段と
ともに前記紫外線照射位置に移動させるとともに、この
移動に同期して前記第２の回転手段を前記回転塗布位置
に移動させる工程と、前記第２の回転手段に別の円盤状
基体をセットしてから前記回転塗布を行う工程と、前記
第１の円盤状基体を前記第１の回転手段により回転状態
として前記紫外線照射位置で紫外線を照射する工程とを
含むことを特徴とする。

【００２３】なお、上述の製造方法において、紫外線を
照射する紫外線照射手段を前記移動工程時に前記紫外線
照射位置の円盤状基体から離れた位置に退避させること
が好ましい。

【００２４】また、回転手段の回転数は回転塗布後に減
少させ、回転塗布時回転数よりも低い適度な回転数を保
持した回転状態で紫外線照射位置への移動を実行すると
ともに紫外線照射を行うことが好ましい。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明による第１の実施の
形態及び第２の実施の形態について図面を用いて説明す
る。

【００２６】〈第１の実施の形態〉

【００２７】図１は本発明の第１の実施の形態による光
記録媒体の製造装置の概略的構成を示す斜視図であり、
図２は図１の製造装置の回転状態保持移動機構の概略的
な縦断面図であり、図３は図１の製造装置による光記録
媒体の製造工程を示すフローチャート図である。

【００２８】図１に示す光記録媒体の製造装置は、回転
軸１１ａと円盤状基体Ｄを載置して回転するターンテー
ブル１１ｂとターンテーブル１１ｂを回転させるモータ
１１ｃとを有しスピンコート法の回転塗布手段であるコ
ータ部１１と、回転軸１２ａと円盤状基体Ｄを載置して
回転するターンテーブル１２ｂとターンテーブル１２ｂ
を回転させるモータ１２ｃとを有しコータ部１１から離
れた紫外線照射位置で紫外線照射を行うように配置され
た照射位置回転部１２と、円盤状基体Ｄを回転状態で吸
着する回転吸着部１６と回転吸着部１６を回動させる回
動軸１７と回動軸１７を中心に回動しかつ回転吸着部１
６を回転させるモータ１５ａを保持する保持部材１８と
を有する回転状態保持移動機構１５とを備える。

【００２９】また、図１の製造装置は、コータ部１１の
円盤状基体Ｄの表面に適当量の紫外線樹脂を滴下するた
めのノズル１３と、コータ部１１を包囲するようにその
周囲に配置され円盤状基体ｄに紫外線硬化樹脂を回転塗
布したときにその最外周から振り切られた紫外線硬化樹
脂ｄを回収するための回収部１４と、照射位置回転部１
２の上方に配置された紫外線光源２０とを備える。紫外
線光源２０は不使用時には紫外線照射位置から離れて位
置し、円盤状基体Ｄに紫外線を照射するときに紫外線光
源２０と円盤状基体Ｄとが相対的に図の矢印方向Ｈまた
はその反対方向に移動するように構成されている。ノズ
ル１３は、樹脂滴下が終了すると、コータ部１１の上方
から退避するようになっている。また、回転状態保持移
動機構１５は、回動軸１７を回動方向Ｒ、Ｒ’及び上下
方向Ｖ、Ｖ’に駆動する駆動機構（図示省略）を備え
る。

【００３０】次に、図２により回転状態保持移動機構１
５の回転吸着部１６を説明する。回転吸着部１６は、円
柱状に構成され保持部材１８に保持されたモータ１５ａ
により回転方向ｒに回転駆動され、その下端面１６ａに
は円周状の吸引孔１９が回転吸着部１６の回転軸を中心
に同心円状に複数形成されている。回転吸着部１６内に
は吸引孔１９と連通した連通路１９ａが形成され、その
端部は管１９ｂを介して外部の真空吸引装置（図示省
略）に接続されており、回転吸着部１６は回転しながら
吸引孔１９で円盤状基体を吸着し持ち上げることができ
るようになっている。また、モータ１５ａはコータ部１
１及び照射位置回転部１２の各モータ１１ｃ、１２ｃと
同期して回転するようになっている。

【００３１】次に、上述のような製造装置による光記録
媒体の樹脂層の製造工程について図１〜図３を参照しな
がら説明する。まず、所定の記録層が形成された円盤状
基体Ｄをコータ部１１のターンテーブル１１ｂ上にセッ
トし、モータ１１ｃの回転により回転軸１１ａ、ターン
テーブル１１ｂを回転方向ｒに回転させてノズル１３か
ら円盤状基体Ｄの表面に紫外線硬化樹脂の液体を滴下す
ることにより、紫外線硬化樹脂を円盤状基体Ｄの表面に
回転塗布する（Ｓ０１）。なお、この場合、ノズルが停
止した円盤状基体に対して円弧状に移動するようにして
もよく、相対的に回転滴下を行うようにすればよい。

【００３２】このとき、モータ１１ｃによりターンテー
ブル１１ｂは所定の回転数に達して、円盤状基体Ｄの最
外周から紫外線硬化樹脂を振り切り、その振り切られた
紫外線硬化樹脂は回収部１４により回収され（Ｓ０
２）、貯蔵されて後にリサイクルに供することができ
る。この場合、コータ部１１は、紫外線が照射される照
射位置回転部１２から離れた位置にあるので、回収され
る紫外線硬化樹脂に紫外線が照射されることがなく、硬
化部分が生じる影響はない。なお、この効果を確実にす
るために、紫外線光源２０を包囲して紫外線を遮蔽する
遮蔽手段を配置してもよい。また、コータ部１１の回転
塗布時の回転数は紫外線硬化樹脂を振り切る程度の高回
転数とし、回転塗布終了後はその回転数よりも低い回転
数でコータ部１１が回転する。この回転塗布終了後の回
転数は、紫外線硬化樹脂を再度振り切ることなく膜厚を
良好に維持できるような回転数である。

【００３３】次に、回転状態保持移動機構１５の回動軸
１７が回動方向Ｒ’に回動し、回転吸着部１６が図１の
破線に示す位置に移動してから、回動軸１７が下方向
Ｖ’に下降し、回転吸着部１６が回転中の円盤状基体Ｄ
に接近する。このとき、回転状態保持移動機構１５のモ
ータ１５ａはコータ部１１のモータ１１ｃと同期しなが
ら同じ回転方向ｒに回転するとともに、真空吸引装置
（図示省略）が作動し、吸引孔１９が円盤状基体に吸着
可能となっている。この状態で回転吸着部１６の吸引孔
１９が回転中の円盤状基体Ｄの内径部の外側に吸着して
から、回動軸１７が上方向Ｖに上昇して回転吸着部１６
が円盤状基体Ｄをターンテーブル１１ｂから持ち上げ
る。次に、回動軸１７が回動方向Ｒに回動し、回転吸着
部１６が紫外線照射位置である照射位置回転部１２の上
方まで移動する（Ｓ０３）。なお、この工程の前にノズ
ル１３はコータ部１１の上方から離れた位置に退避して
いるので、回転吸着部１６の移動と干渉しない。

【００３４】次に、回動軸１７が下方向Ｖ’に下降し、
回転吸着部１６に回転しながら吸着されている円盤状基
体Ｄが照射位置回転部１２のターンテーブル１２ｂに接
近する。このとき、照射位置回転部１２のモータ１２ｃ
は回転状態保持移動機構１５のモータ１５ａと同期しな
がら同じ回転方向ｒに回転している。この状態で円盤状
基体Ｄがターンテーブル１２ｂに載ると、回転状態保持
移動機構１５の真空吸引装置（図示省略）による吸引を
停止することによって、円盤状基体Ｄを照射位置回転部
１２に移す（Ｓ０４）。なお、この工程の前に紫外線光
源２０は照射位置回転部１２の上方から離れた位置に退
避しているので、回転吸着部１６の移動と干渉しない。

【００３５】次に、紫外線光源２０が照射位置回転部１
２の上方で円盤状基体Ｄと相対的に水平方向Ｈまたはそ
の反対方向に移動しながら照射位置回転部１２で回転中
の円盤状基体Ｄに紫外線を照射し（Ｓ０５）、円盤状基
体上に回転塗布された紫外線硬化樹脂を硬化させること
により樹脂層を形成する。なお、この紫外線照射は紫外
線光源２０が円盤状基体Ｄのほぼ中央の上方で停止して
行ってもよい。

【００３６】次に、紫外線照射の終了した円盤状基体を
排出位置（図示省略）まで移動させ、外部に排出する
（Ｓ０６）。このための円盤状基体の移動は、例えば、
回転状態保持移動機構１５により排出する円盤状基体を
吸着して持ち上げ回動軸１７を回動方向Ｒに更に回動さ
せ排出位置まで移動させることによって行うことができ
る。また、回転状態保持移動機構１５と同様の機構を別
に配置して行うようにしてもよい。

【００３７】一方、円盤状基体Ｄが移動したコータ部１
１ではターンテーブル１１ｂ上に次の円盤状基体がセッ
トされ（Ｓ０７）、次の回転塗布が同様にして行われ
る。このための円盤状基体のセットは、図１の回転状態
保持移動機構１５と同様の機構を別に配置して行うこと
ができる。また、図１の回転状態保持移動機構１５の回
動軸１７に別の保持部材及び回転吸着部を設けて行うよ
うにしてもよい。上述の紫外線照射の終了した円盤状基
体の排出及びコータ部１１への次の円盤状基体のセット
を次々と行うことにより、連続生産が可能となる。

【００３８】以上のように、第１の実施の形態の光記録
媒体の製造装置及び製造方法によれば、記録層の形成さ
れた円盤状基体に紫外線硬化樹脂の樹脂層を形成する際
に、紫外線硬化樹脂が回転塗布された円盤状基体を適度
な回転数で回転を保持しながら紫外線照射位置に移すこ
とができるので、円盤状基体の紫外線硬化樹脂は紫外線
照射開始まで良好な塗布状態を確保し続け、外周部に液
溜まりができたり、膜厚が薄くなったり、最外周の樹脂
が逆流することもない。このため、円盤状基体上に適切
で良好な膜厚の樹脂層を形成することができる。

【００３９】また、回転塗布時に円盤状基体から振り切
られて回収された紫外線硬化樹脂は、紫外線が照射され
ず、硬化部分が生じないので、効率よく確実にリサイク
ルに供することができ、装置内の樹脂が硬化反応を起こ
した状態ともならず、更に、リサイクルに供する際に、
回収された樹脂の精製用フィルタに溜まりフィルタ寿命
を低下させず、また再び塗布されて光記録媒体に欠陥が
できることもない。

【００４０】

【実施例】次に、上述の光記録媒体の製造装置による実
施例１〜４及び比較例１〜１０について説明する。

【００４１】〈実施例１〉光透過性の熱可塑性樹脂であ
るポリカーボネートにより厚さ０．６ｍｍ、直径１２０
ｍｍの円盤状基体を成形し、この上に公知の相変化記録
層を形成した。紫外線硬化樹脂として日本化薬（株）製
ＭＤ３４１（粘度７０ｃｐｓ）を用い、製造装置として
図１の装置を用いて円盤状基体の上に回転数３５００ｒ
ｐｍ、２秒間保持による振りきりで回転塗布により塗膜
を形成した後、８０ｒｐｍで円盤状基体の回転を保持し
て移動後、同様に８０ｒｐｍで回転状態を保持したまま
紫外線照射を行った。硬化後の樹脂膜厚を円盤状基体の
外周エッジ側及び内周側（光記録媒体の記録エリアに相
当する部分）で測定した。その結果、図６（ａ）の液溜
まり９２の紫外線硬化樹脂層９１の平坦な表面からの高
さ（盛上り量＝外周エッジ膜厚−記録エリア膜厚）ｈは
約２μｍであり、貼り合わせや印刷には問題がなく、良
好な状態であった。また、記録エリアにおける紫外線硬
化樹脂層９１の膜厚は減少せず、一定値に維持できた。

【００４２】〈実施例２〉実施例２では、紫外線硬化樹
脂として大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ３１８（粘
度１３０ｃｐｓ）を用い、回転数４０００ｒｐｍ、１秒
間保持で回転塗布した後、１５０ｒｐｍで円盤状基体の
回転を保持して移動後、同様に１５０ｒｐｍで回転状態
を保持したまま紫外線照射を行った以外は、実施例１と
同様の条件とした。その結果、図６（ａ）の液溜まり９
２の高さ（盛上り量）ｈは約３μｍであり、貼り合わせ
や印刷には問題がなく、良好な状態であった。また、記
録エリアにおける紫外線硬化樹脂層９１の膜厚は減少せ
ず、一定値に維持できた。

【００４３】〈実施例３〉実施例３では、３０００ｒｐ
ｍの回転数で回転塗布した後、２００ｒｐｍで円盤状基
体の回転を保持して移動後、同様に２００ｒｐｍで回転
状態を保持したまま紫外線照射を行った以外は、実施例
２と同様の条件とした。その結果、図６（ａ）の液溜ま
り９２の高さ（盛上り量）ｈは約１μｍであり、貼り合
わせや印刷には問題がなく、良好な状態であった。ま
た、記録エリアにおける紫外線硬化樹脂層９１の膜厚は
減少せず、一定値に維持できた。

【００４４】〈実施例４〉実施例４では、紫外線硬化樹
脂として大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ３０１（粘
度５００ｃｐｓ）を用い、回転数１０００ｒｐｍ、２秒
間保持で回転塗布した後、３００ｒｐｍで円盤状基体の
回転を保持して移動後、同様に３００ｒｐｍで回転状態
を保持したまま紫外線照射を行った以外は、実施例２と
同様の条件とした。その結果、図６（ａ）の液溜まり９
２の高さ（盛上り量）ｈは約２μｍであり、貼り合わせ
や印刷には問題がなく、良好な状態であった。また、記
録エリアにおける紫外線硬化樹脂層９１の膜厚は減少せ
ず、一定値に維持できた。

【００４５】〈比較例１〜３〉実施例１と同条件で円盤
状基体に紫外線樹脂を回転塗布した後、コータ部の回転
を停止し移動した後、比較例１として停止したまま紫外
線照射をし、比較例２として回転数８０ｒｐｍで再び回
転させて紫外線照射をし、更に比較例３として回転数８
００ｒｐｍで再び回転させて紫外線照射をした。その結
果、図６（ａ）の液溜まり９２の高さ（盛上り量）ｈ
は、比較例１，２では１０μｍ前後であり、印刷および
貼り合わせに支障を来たす結果であり、また、比較例３
では約２μｍと小さいが、比較的高回転数で紫外線硬化
樹脂を振り切ったため紫外線硬化樹脂層９１の膜厚ｔが
減少してしまった。

【００４６】〈比較例４〜６〉実施例２と同条件で円盤
状基体に紫外線樹脂を回転塗布した後、コータ部の回転
を停止し移動した後、比較例４として停止したまま紫外
線照射をし、比較例５として回転数１５０ｒｐｍで再び
回転させて紫外線照射をし、更に比較例６として回転数
１０００ｒｐｍで再び回転させて紫外線照射をした。そ
の結果、図６（ａ）の液溜まり９２の高さ（盛上り量）
ｈは、比較例４，５では十数μｍであり、印刷および貼
り合わせに支障を来たす結果であり、また、比較例６で
は約３μｍと小さいが、比較的高回転数で紫外線硬化樹
脂を振り切ったため紫外線硬化樹脂層９１の膜厚ｔが減
少してしまった。

【００４７】〈比較例７〉実施例３と同条件で円盤状基
体に紫外線樹脂を回転塗布した後、コータ部の回転を停
止し移動した後、停止したまま紫外線照射をした。図６
（ｃ）の紫外線硬化樹脂層９１の膜厚ｔは実施例３と同
様の約２０μｍであったが、図６（ａ）の液溜まり９２
の紫外線硬化樹脂層の平坦な表面からの高さ（盛上り
量）ｈは約２５μｍであり、印刷および貼り合わせに支
障を来たす結果であった。

【００４８】〈比較例８〜１０〉実施例４と同条件で円
盤状基体に紫外線樹脂を回転塗布した後、コータ部の回
転を停止し移動した後、比較例８として停止したまま紫
外線照射をし、比較例９として回転数３００ｒｐｍで再
び回転させて紫外線照射をし、更に比較例１０として回
転数５００ｒｐｍで再び回転させて紫外線照射をした。
図６（ａ）の液溜まり９２の紫外線硬化樹脂層の平坦な
表面からの高さ（盛上り量）ｈは、比較例８，９では５
０〜７０μｍ程度であり、印刷および貼り合わせに支障
を来たす結果であり、また、比較例１０では約２μｍと
小さいが、比較的高回転数で紫外線硬化樹脂を振り切っ
たため紫外線硬化樹脂層の膜厚ｔが減少してしまった。

【００４９】以上の実施例１〜４及び比較例１〜１０の
各条件及び膜厚測定の結果を表１に示す。表１から分か
るように、回転塗布後に低回転数の回転状態を円盤状基
体の回転塗布位置からの移動時及び紫外線照射時まで維
持するとともにその回転数を調整することにより、塗布
膜厚の円盤状基体の外周における盛り上がりを抑え、記
録エリアにおける膜厚を維持できた。比較例７〜９から
分かるように記録エリアにおける膜厚が大きいほど盛り
上がり量ｈが大きくなるが、実施例３，４によれば、か
かる盛り上がりを効果的に抑制できた。また、比較例
３，６，１０のように紫外線照射時に比較的高回転数で
再回転をして紫外線硬化樹脂を振り切ると、例えば光記
録媒体の保護層としての樹脂層が薄くなってしまい、光
記録媒体の信頼性に影響を及ぼしてしまうのであるが、
実施例１〜４によれば、かかる膜厚の減少は生じなかっ
た。また、紫外線照射位置における未硬化樹脂の飛び散
りや樹脂の硬化による汚染を防止できた。

【００５０】

【表１】

【００５１】〈第２の実施の形態〉

【００５２】図４は本発明の第２の実施の形態による光
記録媒体の製造装置の概略的構成を示す斜視図であり、
図５は図４の製造装置による光記録媒体の製造工程を示
すフローチャート図である。

【００５３】図４に示す光記録媒体の製造装置は、円盤
状基体Ｄを回転方向ｒに回転させる第１の回転部２１を
一端側に、同じく円盤状基体Ｄを回転方向ｒに回転させ
る第２の回転部２２を他端側に有し回動軸２６を中心に
回動するとともに上下方向に移動が可能な回動部材２５
と、回転塗布位置にある回転部２１または２２により回
転中の円盤状基体Ｄに紫外線硬化樹脂を滴下するための
ノズル２３と、回転塗布時に円盤状基体Ｄから振り切ら
れた紫外線硬化樹脂を回収するための回収部２４と、紫
外線照射位置にある回転部２２または２１により回転中
の円盤状基体Ｄ（紫外線硬化樹脂が回転塗布された）に
紫外線を照射する紫外線光源２７と、紫外線光源２７を
包囲し紫外線を遮断する遮断部２８と、回転塗布位置か
ら退避した回転部２１または２２に対しストック部３１
から円盤状基体を供給する円盤状基体供給機構２９と、
紫外線照射位置から退避した回転部２２または２１から
紫外線照射の終了した円盤状基体Ｄを排出位置にあるス
トック部３２に排出する円盤状基体排出機構３０とを備
える。

【００５４】第１の回転部２１は、回転軸２１ａと円盤
状基体Ｄを載置して回転するターンテーブル２１ｂとタ
ーンテーブル２１ｂを回転させるモータ２１ｃとを備え
る。同様に、第２の回転部２２は、回転軸２２ａと円盤
状基体Ｄを載置して回転するターンテーブル２２ｂとタ
ーンテーブル２２ｂを回転させるモータ２２ｃとを備え
る。

【００５５】また、回動部材２５は、回動軸２６を回動
方向Ｓ、Ｓ’及び上下方向Ｖ、Ｖ’に駆動する駆動機構
（図示省略）を備え、図４の上方の回転塗布位置及び紫
外線照射位置と下方の退避位置（実線で示す位置）との
間を上下動し、下方の退避位置で回動軸２６の回動によ
り第１の回転部２１と第２の回転部２２とが１８０度移
動しその位置が逆転するようになっている。

【００５６】また、円盤状基体供給機構２９は、先端に
吸着部を有する供給回動部材２９ａと回動軸２９ｂとを
備え、上下方向Ｖ、Ｖ’に上下動しかつ回動方向Ｔ、
Ｔ’に回動しながら、所定の記録層が形成された円盤状
基体が多数枚積層されているストック部３１から円盤状
基体を吸着部で吸着して持ち上げ回転塗布位置から退避
した位置の回転部２１または２２まで搬送する。

【００５７】また、円盤状基体排出機構３０は、同じ
く、先端に吸着部を有する排出回動部材３０ａと回動軸
３０ｂとを備え、上下方向Ｖ、Ｖ’に上下動しかつ回動
方向Ｕ，Ｕ’に回動しながら、紫外線照射位置から退避
した位置の回転部２２または２１から紫外線照射の終了
した円盤状基体を吸着部で吸着して持ち上げストック部
３２まで搬送する。

【００５８】次に、図４の製造装置による光記録媒体の
樹脂層の製造工程について図４，図５を参照しながら説
明する。まず、回動部材２５は図４の位置から上方に移
動し、第１の回転部２１にセットされた第１の円盤状基
体Ｄ１（破線で示す）が回転塗布位置にあり、第２の回
転部２２にセットされた第２の円盤状基体Ｄ２（破線で
示し、紫外線硬化樹脂が回転塗布されている）が紫外線
照射位置にある。この状態で、第１の回転部２１のター
ンテーブル２１ｂ上の第１の円盤状基体Ｄ１をモータ２
１ｃの回転により回転方向ｒに回転させてからノズル２
３から円盤状基体Ｄ１の表面に紫外線硬化樹脂の液体を
滴下することにより、紫外線硬化樹脂を円盤状基体Ｄ１
の表面に回転塗布する（Ｓ１１）。

【００５９】この後、モータ２１ｃによりターンテーブ
ル２１ｂは所定の回転数に達して、円盤状基体Ｄ１の最
外周から紫外線硬化樹脂を振り切り、その振り切られた
紫外線硬化樹脂は回収部２４により回収され（Ｓ１
２）、貯蔵されて後にリサイクルに供することができ
る。一方、第２の回転部２２のターンテーブル２２ｂ上
の第２の円盤状基体Ｄ２がモータ２２ｃの回転により回
転方向ｒに回転しており、この状態で第２の円盤状基体
Ｄ２上の紫外線硬化樹脂に紫外線光源２７から紫外線を
照射する（Ｓ１３）。この場合、第１の回転部２１は、
紫外線光源２７からほぼ回動部材２５の長さに相当する
距離だけ離れた位置にあり、紫外線光源２０を包囲した
遮蔽部２７が紫外線を遮蔽し外部に漏れないので、工程
Ｓ１２で回収される紫外線硬化樹脂に対する紫外線照射
を確実に防止し、回収された紫外線硬化樹脂に硬化部分
が生じる可能性を確実に排除することができる。また、
第１の回転部２１の回転塗布時の回転数は紫外線硬化樹
脂を振り切る程度の高回転数とし、回転塗布終了後はそ
の回転数よりも低い回転数で第１の回転部２１が回転す
る。この回転塗布終了後の回転数は、紫外線硬化樹脂を
再度振り切ることなく膜厚を良好に維持できるような回
転数である。

【００６０】次に、回動部材２５を下方向Ｖ’に図４の
実線で示す退避位置まで移動させる（Ｓ１４）。この状
態で、回転塗布の終了した第１の回転部２１は回転した
ままであるが、紫外線照射の終了した第２の回転部２２
は回転が停止している。また、各回転部２１，２２は、
下方の退避位置にあるので、円盤状基体排出機構３０、
円盤状基体供給機構２９及び回動部材２５の各動作時に
それらの各部分と干渉することはない。

【００６１】次に、円盤状基体排出機構３０の排出回動
部材３０ａを回動軸３０ｂで回動方向Ｕ’に図４の実線
位置まで回動させてから下方向Ｖ’に移動させ、その吸
着部で第２の回転部２２上の紫外線照射の終了した第２
の円盤状基体Ｄ２を吸着し持ち上げてから上方向Ｖに移
動させる。そして、排出回動部材３０ａを回動方向Ｕに
図４の破線位置まで回動させてから下方向Ｖ’に移動さ
せ、第２の円盤状基体Ｄ２をストック部３２の上に載せ
る（Ｓ１５）。

【００６２】工程Ｓ１５で第２の回転部２２から第２の
円盤状基体Ｄ２が持ち上げられると、回動部材２５を回
動軸２６の回動方向Ｓへの回動により１８０度回動させ
る（Ｓ１６）。これにより、第１の回転部２１が第１の
円盤状基体Ｄ１とともに回転したまま紫外線照射位置の
下方の退避位置側に移動し、同時に円盤状基体の載って
いない第２の回転部２２が回転塗布位置の下方の退避位
置側に移動し、第１と第２の回転部２１，２２が逆の位
置になる。

【００６３】次に、円盤状基体供給機構２９の供給回動
部材２９ａを回動軸２９ｂで回動方向Ｔ’に図４の実線
位置まで回動させてから下方向Ｖ’に移動させ、その吸
着部でストック部３１に重ねられている円盤状基体Ｄを
１枚吸着し持ち上げてから上方向Ｖに移動させる。そし
て、供給回動部材２９ａを回動方向Ｔに図４の破線位置
まで回動させてから下方向Ｖ’に移動させ、次の円盤状
基体Ｄを第２の回転部２２上にセットする（Ｓ１７）。

【００６４】次に、回動部材２５を上方向Ｖに移動さ
せ、第２の回転部２２上の次の円盤状基体Ｄを回転塗布
位置まで移動させるとともに第１の回転部２１上の第１
の円盤状基体Ｄ２（紫外線硬化樹脂が回転塗布されてい
る）を紫外線照射位置まで移動させる（Ｓ１８）。

【００６５】そして、第２の回転部２２で次の円盤状基
体Ｄに工程Ｓ１１と同様にして紫外線樹脂を回転塗布す
る（Ｓ１９）とともに、第１の回転部２１で回転中の第
１の基板Ｄ１の紫外線硬化樹脂に工程１３と同様にして
紫外線を照射する（Ｓ２０）。続いて、各工程Ｓ１２、
Ｓ１４〜Ｓ１８と同様の工程を行う。

【００６６】以上の各工程Ｓ１１〜Ｓ２０を繰り返すこ
とにより、記録層の形成された円盤状基体の上に紫外線
硬化樹脂からなる樹脂層を連続的に形成することがで
き、連続生産をすることができる。

【００６７】以上のように、第２の実施の形態の光記録
媒体の製造装置及び製造方法によれば、記録層の形成さ
れた円盤状基体に紫外線硬化樹脂の樹脂層を形成する際
に、紫外線硬化樹脂が回転塗布された円盤状基体を載せ
た回転部を適度な回転数で回転を保持して紫外線照射位
置まで移動させることができるので、円盤状基体の紫外
線硬化樹脂は紫外線照射開始まで良好な塗布状態を確保
し続け、外周部に液溜まりができたり、膜厚が薄くなっ
たり、最外周の樹脂が逆流することもない。このため、
円盤状基体上に適切で良好な膜厚の樹脂層を形成するこ
とができる。

【００６８】また、回転塗布時に円盤状基体から振り切
られて回収された紫外線硬化樹脂は、紫外線が照射され
ず、硬化部分が生じないので、効率よく確実にリサイク
ルに供することができ、硬化部分が装置内に堆積される
こともなく、更に、リサイクルに供する際に、回収され
た樹脂の精製用フィルタに溜まりフィルタ寿命を低下さ
せず、また再び塗布されて光記録媒体に欠陥ができるこ
ともない。

【００６９】以上のように本発明を実施の形態及び実施
例により説明したが、本発明はこれらに限定されるもの
ではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が
可能である。例えば、図１の回転状態保持移動機構は吸
引による円盤状基体の保持のみならず他の方法であって
もよく、例えば円盤状基体の内径孔を回転しながら爪部
で機械的に掴むようにしてもよい。また、紫外線照射位
置が独立しているため、紫外線光源を内蔵する遮蔽部で
は、嫌気性の紫外線硬化樹脂を使用する場合に窒素ガス
を導入すること等も可能である。

【００７０】

【発明の効果】本発明の光記録媒体の製造装置及び製造
方法によれば、紫外線硬化樹脂を円盤状基体に回転塗布
するときに円盤状基体の最外周での液溜まりの形成を防
止しかつ良好な膜厚に塗布できる。また、回転塗布時に
振り切られた紫外線硬化樹脂を効率よく確実にリサイク
ルできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施の形態による光記録媒体の製
造装置を概略的に示す斜視図である。

【図２】図１の製造装置の回転状態保持移動機構の要部
を示す断面図である。

【図３】図１の製造装置による光記録媒体の製造工程を
示すフローチャート図である。

【図４】本発明の第２実施の形態による光記録媒体の製
造装置を概略的に示す斜視図である。

【図５】図４の製造装置による光記録媒体の製造工程を
示すフローチャート図である。

【図６】円盤状基体上に紫外線硬化樹脂を回転塗布した
とき、従来の問題点である液溜まりが生じることを示す
図（ａ）、紫外線硬化樹脂層が適度な厚さで形成された
ことを示す図（ｂ）、及び回転塗布後に回転を停止し再
び回転させた場合に従来の問題点である紫外線硬化樹脂
層が薄くなることを示す図（ｃ）である。

【符号の説明】

１１ コータ部 １２ 照射位置回転部 １３，２３ ノズル １４，２４ 回収部 １５ 回転状態保持移動機構 １６ 回転吸着部 ２０，２７ 紫外線光源 ２１ 第１の回転部 ２２ 第２の回転部 ２５ 回動部材 ２８ 遮蔽部 ２９ 円盤状基体供給機構 ３０ 円盤状基体排出機構 Ｄ，Ｄ１，Ｄ２ 円盤状基体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丑田 智樹 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D121 AA04 EE22 EE23 EE24 GG02

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学的に情報の記録及び／又は再生が可
   能な記録層が形成された円盤状基体上に紫外線硬化樹脂
   からなる樹脂層を有する光記録媒体を製造する装置であ
   って、 円盤状基体に紫外線硬化樹脂を滴下して塗布する回転塗
   布手段と、 前記回転塗布手段から離れて位置する紫外線照射位置に
   おいて前記円盤状基体を回転させながら紫外線を照射す
   る紫外線照射手段と、を具備し、 前記回転塗布手段から前記円盤状基体をその回転状態を
   保持したまま前記紫外線照射位置に移動させるように構
   成したことを特徴とする光記録媒体の製造装置。
2. 【請求項２】 前記回転塗布手段の回転と同期して回転
   しながら前記円盤状基体を保持し移動させる回転状態保
   持移動手段と、 前記円盤状基体を前記紫外線照射位置で回転させる照射
   位置回転手段と、を備え、 前記回転塗布手段で前記円盤状基体を回転させたまま前
   記回転状態保持移動手段により保持して前記照射位置回
   転手段まで移動させ、前記回転状態保持移動手段の回転
   と同期して回転中の前記照射位置回転手段に移すことを
   特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造装置。
3. 【請求項３】 前記円盤状基体を移動した後の前記回転
   塗布手段に次の円盤状基体をセットするとともに、前記
   紫外線照射の終了した円盤状基体を排出位置まで移動さ
   せるように構成したことを特徴とする請求項１または２
   に記載の光記録媒体の製造装置。
4. 【請求項４】 第１の回転手段を一端側に第２の回転手
   段を他端側にそれぞれ配置するとともに、前記第１の回
   転手段及び前記第２の回転手段が回転しながら回転塗布
   位置と前記紫外線照射位置との間を回動軸を中心に回動
   するように構成された回動部材を備え、 前記回転塗布位置で前記第１の回転手段により第１の円
   盤状基体に前記紫外線硬化樹脂を回転塗布し、 前記紫外線照射位置で、前記第２の回転手段により前記
   紫外線硬化樹脂が回転塗布された第２の円盤状基体を回
   転させながら、前記紫外線照射手段により紫外線を照射
   し、 前記紫外線照射の終了後に前記第２の回転手段から前記
   第２の円盤状基体を排出位置まで移動させ排出するとと
   もに、前記回転塗布後に前記回動部材を回動させること
   により前記第１の回転手段を前記第１の円盤状基体を回
   転させたまま前記紫外線照射位置に移動させるとともに
   前記第２の回転手段を前記回転塗布位置に移動させて前
   記第２の回転手段に次の円盤状基体をセットすることを
   特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造装置。
5. 【請求項５】 前記回転塗布位置の周囲に配置され、前
   記回転塗布を行うときに前記円盤状基体の最外周から振
   り切られた紫外線硬化樹脂液を回収する回収手段を備
   え、 前記回収手段と前記回転塗布手段とが相対的に移動して
   から前記円盤状基体の各移動を行うように構成されてい
   ることを特徴とする請求項１，２，３または４に記載の
   光記録媒体の製造装置。
6. 【請求項６】 前記紫外線照射手段を包囲して紫外線を
   遮断する遮断手段を備え、 前記遮断手段及び前記紫外線照射手段と前記照射位置回
   転手段または前記第１または第２の回転手段とが相対的
   に移動してから前記円盤状基体の各移動を行うように構
   成されていることを特徴とする請求項２または４に記載
   の光記録媒体の製造装置。
7. 【請求項７】 光学的に情報の記録及び／又は再生が可
   能な記録層が形成された円盤状基体上に紫外線硬化樹脂
   からなる樹脂層を有する光記録媒体を製造する方法であ
   って、 回転塗布位置で円盤状基体に紫外線硬化樹脂を滴下して
   回転塗布する工程と、 前記回転塗布中に前記円盤状基体の最外周から振り切ら
   れた前記紫外線硬化樹脂を回収する工程と、 前記回転塗布が行われた前記円盤状基体をその回転状態
   を保持したまま前記回転塗布位置と離れた紫外線照射位
   置に移動させる工程と、 回転中の前記円盤状基体に紫外線を照射する工程と、を
   含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記移動工程は、円盤状基体の回転状態
   を保持し移動させる回転状態保持移動手段を前記回転塗
   布位置の円盤状基体の回転と同期して回転させながら前
   記円盤状基体を回転状態で保持し前記紫外線照射位置に
   移動させる工程と、前記紫外線照射位置にある回転手段
   を前記回転状態で保持された円盤状基体の回転と同期し
   て回転させながら前記円盤状基体を前記回転保持移動手
   段から前記回転手段に移す工程と、を含むことを特徴と
   する請求項７に記載の光記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】 前記円盤状基体を移動した後の回転塗布
   位置に次の円盤状基体をセットする工程と、 前記紫外線照射の終了した円盤状基体を排出位置まで移
   動させる工程と、を更に含むことを特徴とする請求項７
   または８に記載の光記録媒体の製造方法。
10. 【請求項１０】 光学的に情報の記録及び／又は再生が
    可能な記録層が形成された円盤状基体上に紫外線硬化樹
    脂からなる樹脂層を有する光記録媒体を製造する方法で
    あって、 第１の回転手段により第１の円盤状基体に回転塗布位置
    で紫外線硬化樹脂を滴下して回転塗布する工程と、 前記回転塗布中に前記第１の円盤状基体の最外周から振
    り切られた前記紫外線硬化樹脂の液を回収する工程と、 紫外線硬化樹脂が回転塗布された第２の円盤状基体を第
    ２の回転手段により回転させながら前記回転塗布位置と
    離れた紫外線照射位置で紫外線を照射する工程と、 前記紫外線照射の終了した前記第２の円盤状基体を前記
    第２の回転手段から排出する工程と、 前記回転塗布の終了した前記第１の円盤状基体を回転状
    態で前記第１の回転手段とともに前記紫外線照射位置に
    移動させるとともに、この移動に同期して前記第２の回
    転手段を前記回転塗布位置に移動させる工程と、 前記第２の回転手段に別の円盤状基体をセットしてから
    前記回転塗布を行う工程と、 前記第１の円盤状基体を前記第１の回転手段により回転
    状態として前記紫外線照射位置で紫外線を照射する工程
    と、を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。