JP2002038275A - Disk support - Google Patents

Disk support

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JP2002038275A
JP2002038275A JP2000224504A JP2000224504A JP2002038275A JP 2002038275 A JP2002038275 A JP 2002038275A JP 2000224504 A JP2000224504 A JP 2000224504A JP 2000224504 A JP2000224504 A JP 2000224504A JP 2002038275 A JP2002038275 A JP 2002038275A
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JP
Japan
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disk
support
groove
peripheral edge
magnetic disk
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000224504A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsunobu Kobayashi
達宜 小林
Hiroshi Tanaka
弘志 田中
Atsushi Sakamoto
敦 坂本
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a disk support which surely supports a disk. SOLUTION: The disk support 3 comprises an approximately round bar with a groove 4 which is formed around its whole outer circumferential face to support an inner edge 34 of a magnetic disk substrate 33 (a circle). A central part of a bottom face 4a of the groove 4 in a section view, comprises a convex surface swelled against both sides of the bottom face 4a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば磁気ディス
ク等に使用されるディスク基板のめっき処理など、内周
が開口された円板状の部材の加工に用いられる円板支持
具に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a disk support used for processing a disk-shaped member having an open inner periphery, for example, for plating a disk substrate used for a magnetic disk or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、情報処理システムの記録媒体に使
われる磁気ディスク基板は、内周が開口された円板状の
部材であって、その表面には、磁性体材料が塗布される
前に、下地形成のための無電解めっき処理が施される。
磁気ディスク基板に限らず、このように内周が開口され
た円板状の部材(以下、単に円板という)に対してめっ
き処理やその他の表面処理を行う場合には、円板の全面
を処理できるように、円板の全面を露出可能にして保持
することが必要である。このため、例えば円板にめっき
処理を施すめっき処理装置では、互いに離間した状態で
それぞれ軸線を略水平かつ同心にして配置される二枚の
円板状の回転板と、これら回転板間に着脱自在にして掛
け渡され、かつ回転板の周縁に沿って複数本配置される
略丸棒形状の円板支持具とを設けている。円板支持具
は、軸線を回転板の軸線と略平行にした状態、すなわち
軸線を略水平にした状態で回転板間に掛け渡されるもの
であって、その外周面には、円板の内周縁を受けるため
の溝が全周にわたって形成されている。この溝は、例え
ば断面視V字、U字、または矩形に形成されており、多
数の円板を支持できるように、円板支持具の軸方向に沿
って複数設けられている。また、円板支持具の外径は、
円板の内径よりも小さくとられており、円板支持具と円
板の内周縁との間には、適度な大きさのあそびが形成さ
れている。ここで、回転板は、駆動装置によって軸線回
りに回転駆動されるようになっている。また、円板支持
具は、回転板に対して軸線回りの回転を許容して取り付
けられており、駆動装置によって軸線回りに回転駆動さ
れるようになっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetic disk substrate used for a recording medium of an information processing system is a disk-shaped member having an inner periphery opened, and its surface is coated with a magnetic material before it is applied. Then, an electroless plating process for forming a base is performed.
When plating or other surface treatment is performed on a disk-shaped member (hereinafter simply referred to as a disk) having an inner periphery opened as described above, the entire surface of the disk is not limited to the magnetic disk substrate. It is necessary to expose and hold the entire surface of the disk so that it can be processed. For this reason, for example, in a plating apparatus that performs plating on a disk, two disk-shaped rotary plates that are arranged so as to be substantially horizontal and concentric with respect to each other while being separated from each other, and to be detached between these rotary plates A plurality of substantially round bar-shaped disc supports which are freely wrapped and arranged along the periphery of the rotating plate are provided. The disc support is placed between the rotating plates in a state where the axis is substantially parallel to the axis of the rotating plate, that is, in a state where the axis is substantially horizontal. A groove for receiving the peripheral edge is formed over the entire circumference. The groove is formed, for example, in a V-shape, U-shape, or rectangular shape in cross section, and is provided in a plurality along the axial direction of the disk support so as to support a large number of disks. The outer diameter of the disc support is
The inner diameter of the disk is smaller than the inner diameter of the disk, and a play of an appropriate size is formed between the disk support and the inner peripheral edge of the disk. Here, the rotating plate is driven to rotate around an axis by a driving device. The disk support is attached to the rotating plate so as to allow rotation about the axis, and is driven to rotate about the axis by the driving device.

【0003】このように構成されるめっき処理装置で
は、円板支持具に対して円板を取り付け、回転板及び円
板支持具ごと円板をめっき槽に浸漬し、この状態で回転
板と円板支持具とをそれぞれ軸線回りに回転させること
で、円板を、円板支持具の回転によって自転させなが
ら、回転板の回転によって回転板の軸線回りで公転させ
る。これによって、円板において円板支持具との接触部
位が連続的に変わることとなり、内周縁も含めて円板の
全面がめっき液に露出されてめっき処理が施される。こ
こで、無電解めっき処理工程中においては、化学反応に
よって円板の表面に水素ガス等の気泡が生じ、この気泡
を放置すると円板の表面にめっきむらが生じることか
ら、上述のようにして円板をめっき槽中で動かすことで
相対的なめっき液の流れを与えて、円板の表面から気泡
を除去している。
[0003] In the plating apparatus configured as described above, a disk is attached to a disk support, and the disk together with the rotary plate and the disk support is immersed in a plating tank. By rotating the plate support around the axis, the disk revolves around the axis of the rotary plate by rotation of the rotary plate while rotating by the rotation of the disk support. As a result, the contact area of the disk with the disk support is continuously changed, and the entire surface of the disk including the inner peripheral edge is exposed to the plating solution to perform plating. Here, during the electroless plating process, bubbles such as hydrogen gas are generated on the surface of the disk due to the chemical reaction, and if the bubbles are left, plating unevenness occurs on the surface of the disk. Moving the disk in the plating bath gives a relative flow of plating solution to remove air bubbles from the surface of the disk.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】円板は、円板支持具に
対して軸線を略平行にして支持されることが望ましい
が、上述したように、円板支持具と円板の内周縁との間
にはあそびが設けられているので、円板に何らかの力が
加わるなどして円板が傾いてしまうと、その傾きを修正
する作用がないために、円板の姿勢を元に戻すことはで
きなかった。このような円板の傾きを防止するために、
円板支持具と略平行にして、外周面に形成される溝によ
って円板支持具に支持される円板の外周縁を補助的に支
持するガイドシャフトを設けためっき処理装置もある
が、円板は重力を受けて円板支持軸の軸線に対して鉛直
下方に偏心するので、回転板の回転角度によっては、円
板がガイドシャフトから離間してしまい、円板の支持が
不十分となってしまう。そして、このように円板が傾い
た状態のまま処理を続けると、次第に傾きが大きくなっ
たり、隣接する溝に保持される円板(以下、単に隣接す
る円板という)が互いに近接する方向に移動するなどし
て、隣接する円板同士が接触して表面を損傷してしまっ
たり、このときに発生した削り屑等が他の円板に付着す
るなどして他の円板にも悪影響を与えることがある。ま
た、隣接する円板同士が異なる方向に傾斜した場合に
は、互いの一部同士を近接させ合うことになり、隣接す
る円板同士が接触しやすくなってしまう。さらに、場合
によっては円板が円板支持具の外周面に乗り上げて、隣
接する溝に移動してしまうことがある。この場合には、
二枚の円板が対向する面同士を密着させた状態でめっき
処理されることになり、この部分でのめっき処理が不良
になってしまうことがある。
The disk is desirably supported with its axis substantially parallel to the disk support. However, as described above, the disk support and the inner peripheral edge of the disk are not supported. Since there is a play between the discs, if the disc is tilted by applying any force to the disc, etc., there is no action to correct the tilt, so return the disc to its original position Could not. In order to prevent such disc tilt,
There is also a plating apparatus provided with a guide shaft that is substantially parallel to the disk support and that additionally supports the outer peripheral edge of the disk supported by the disk support by grooves formed on the outer peripheral surface. Because the plate is eccentric vertically downward with respect to the axis of the disk support shaft under gravity, the disk is separated from the guide shaft depending on the rotation angle of the rotating plate, and the support of the disk becomes insufficient Would. When the process is continued while the disc is tilted, the tilt gradually increases or the discs held in the adjacent grooves (hereinafter, simply referred to as adjacent discs) move in the direction of approaching each other. Adjacent disks come into contact with each other to cause damage to the surface, or the shavings generated at this time may adhere to other disks, adversely affecting other disks. May give. Further, when adjacent disks are inclined in different directions, a part of the disks comes close to each other, and the adjacent disks are likely to come into contact with each other. Further, in some cases, the disc may ride on the outer peripheral surface of the disc support and move to an adjacent groove. In this case,
The plating process is performed in a state where the two discs are in close contact with the opposing surfaces, and the plating process in this portion may be defective.

【0005】以下に、円板が傾いた場合の円板の挙動に
ついて具体的な例をあげて示す。図5(a)の側面図に
示すように、溝32の断面形状がV字である円板支持具
31の場合、円板33は、通常は内周縁34のうち最上
方に位置する部分の稜線部34a、34bで溝32の両
側面32a、32bに線接触している。そして、図5
(b)の一部拡大側面図に概略的に示すように、側方か
ら見て円板33に傾きが生じることで、円板33は、内
周縁34の最上方に位置する部分のうち、傾斜方向の側
の稜線部34aのみで溝32の一側面32aに線接触す
ることになる。すると、重力は円板33の重心Gを支点
P(内周縁34と側面32aとの接触点)の真下に移動
させる向き、すなわち円板33を傾斜させる向きに作用
するので、一旦円板33が傾斜すると、円板33の傾斜
状態が継続することになる。ここで、図5(b)におい
て、支点Pを通る鉛直線を符号Vで示す。さらに、この
ように側方からみて傾斜している場合だけでなく、上方
からみて傾斜している場合も含めて、円板33の傾斜状
態が継続すると、円板33及び円板支持具31の回転に
伴って、円板33の内周縁34と溝32との接触点が、
溝32の上端に向けて溝32の一側面32a上を螺旋状
に移動することになり、ついには円板33が円板支持具
21の外周面に乗り上げて、円板33が溝32から飛び
出してしまう。この場合に接触点が描く軌跡を、図5
(b)中に破線Lで示す。このことは、溝の断面形状が
U字である場合についても同様である。
[0005] A specific example of the behavior of the disk when the disk is tilted will be described below. As shown in the side view of FIG. 5A, in the case of the disk support 31 in which the cross-sectional shape of the groove 32 is V-shaped, the disk 33 usually has the uppermost part of the inner peripheral edge 34. The ridges 34a and 34b are in line contact with both side surfaces 32a and 32b of the groove 32. And FIG.
As schematically shown in the partially enlarged side view of (b), the disk 33 is inclined when viewed from the side, so that the disk 33 is positioned at the uppermost part of the inner peripheral edge 34. Only the ridge portion 34a on the side in the inclined direction comes into line contact with one side surface 32a of the groove 32. Then, the gravity acts in a direction of moving the center of gravity G of the disk 33 directly below the fulcrum P (the point of contact between the inner peripheral edge 34 and the side surface 32a), that is, in a direction in which the disk 33 is inclined. When the disk 33 is tilted, the disk 33 continues to be tilted. Here, in FIG. 5B, a vertical line passing through the fulcrum P is indicated by a reference numeral V. Furthermore, when the inclined state of the disk 33 continues, including not only the case where it is inclined when viewed from the side but also the case where it is inclined when viewed from above, the disk 33 and the disk With the rotation, the contact point between the inner peripheral edge 34 of the disk 33 and the groove 32 becomes
The disk 33 spirally moves on one side surface 32 a of the groove 32 toward the upper end of the groove 32, and finally the disk 33 rides on the outer peripheral surface of the disk support 21, and the disk 33 jumps out of the groove 32. Would. In this case, the locus drawn by the contact point is shown in FIG.
This is indicated by a broken line L in (b). The same applies to the case where the groove has a U-shaped cross section.

【0006】また、溝37の断面形状が矩形である円板
支持具36(図6の平面図参照)の場合、円板33は、
通常は内周縁34のうち最上方に位置する部分で溝37
の底面37aに面接触している(図7の側断面図参
照)。そして、図6に概略的に示すように、上方から見
て円板に傾きが生じることで、円板33及び円板支持具
36の回転に伴って、円板33の内周縁34と溝37と
の接触点が溝37の一方の側面37bに向けて螺旋状に
移動し、円板33がこの側面37bに近接することにな
る。そして、ついには図7に示すように円板33の内周
縁34が円板支持具36の外周面に引っかかり(図7中
の点Qの部分)、さらに円板33及び円板支持具31が
回転することで円板33が外周面に乗り上げることとな
り、円板33が溝から飛び出してしまう。
[0006] In the case of a disk support member 36 (see the plan view of FIG. 6) in which the cross-sectional shape of the groove 37 is rectangular, the disk 33
Usually, the groove 37 is formed at the uppermost portion of the inner peripheral edge 34.
(See side sectional view in FIG. 7). Then, as schematically shown in FIG. 6, when the disk is tilted when viewed from above, the inner peripheral edge 34 of the disk 33 and the groove 37 are formed with the rotation of the disk 33 and the disk support 36. Is spirally moved toward one side surface 37b of the groove 37, and the disk 33 approaches the side surface 37b. Finally, as shown in FIG. 7, the inner peripheral edge 34 of the disk 33 is caught on the outer peripheral surface of the disk support 36 (the point Q in FIG. 7), and the disk 33 and the disk support 31 are further moved. By rotating, the disk 33 rides on the outer peripheral surface, and the disk 33 jumps out of the groove.

【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、円板の支持を確実にすることができる円板支
持具を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a disk support that can reliably support a disk.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明の円板支持具は、略丸棒形状をなし、その外
周面には、内周が開口された円板の内周縁を受けるため
の溝が全周にわたって形成される円板支持具であって、
前記溝は、断面視において底面の中央部が前記底面の両
側部に対して盛り上がった形状に形成されていることを
特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a disk support according to the present invention has a substantially round bar shape, and has an outer peripheral surface provided with an inner peripheral edge of a disk having an inner peripheral opening. A disk support in which a groove for receiving is formed over the entire circumference,
The groove is characterized in that a central portion of the bottom surface is formed in a cross-sectional view so as to protrude from both sides of the bottom surface.

【0009】このように構成される円板支持具において
は、円板は、通常は内周縁のうち最上方に位置する部分
の中央で溝の中央部に線接触している。溝の底面は中央
部が盛り上がった形状に形成されているので、側方から
見て円板に傾きが生じると、円板は、内周縁において最
上方に位置する部分のうち、傾斜方向に位置する側では
底面に接触せず、他方の側で溝の底面に接触し、円板は
この部分を支点として円板支持具に支持される。する
と、重力は円板の重心を支点の真下に移動させる向き、
すなわち円板の傾斜を打ち消す向きに円板を傾斜させる
ように作用することとなり、円板の姿勢が元に戻され
る。さらに、上記のように円板が傾くことによって、円
板及び円板支持具の回転に伴って、円板の内周縁と溝と
の接触点が、溝の一側面に向けて溝の底面上を螺旋状に
移動することになり、円板が溝の中央に戻される。ま
た、上方からみて円板に傾きが生じることで、円板及び
円板支持具の回転に伴って、円板の内周縁と溝との接触
点が溝の一側面に向けて螺旋状に移動し、円板がこの側
面に近接することになる。しかし、溝の底面は、中央部
が盛り上がった形状に形成されているので、このように
円板が溝の中央部から外れると、円板に側方からみた傾
きが生じ、円板の傾きが、次第に上方からみた傾きか
ら、側方からみた傾きに変化する。このように円板の傾
きが側方からみた傾きに変化することで、上述したよう
に円板の姿勢が元に戻される。また、従来のように溝が
断面視V字形状に形成されている場合には、円板の内周
縁の周囲に形成される空間が小さくなるので、この部分
における円板の表面処理(例えばめっき処理など)の品
質が低下する恐れがあるが、本発明の円板支持具では、
円板の内周縁の周囲に十分な空間を確保することができ
るので、この部分における円板の表面処理も良好に行う
ことができる。ここで、溝の底面は、中央部が盛り上が
った凸曲面状に形成してもよく、また中央部を頂点とす
る山形に形成してもよい。
In the disk support thus constructed, the disk is usually in line contact with the center of the groove at the center of the uppermost portion of the inner peripheral edge. Since the bottom surface of the groove is formed in a shape in which the central part is raised, if the disk is inclined when viewed from the side, the disk is positioned in the inclined direction in the uppermost portion on the inner peripheral edge. On the other hand, the disc does not contact the bottom face, and the other side contacts the bottom face of the groove, and the disc is supported by the disc support with this portion as a fulcrum. Then, gravity moves the center of gravity of the disk just below the fulcrum,
That is, the disk acts to incline in a direction to cancel the inclination of the disk, and the posture of the disk is returned to the original position. Further, as the disk is tilted as described above, the contact point between the inner peripheral edge of the disk and the groove is raised on the bottom surface of the groove toward one side of the groove with the rotation of the disk and the disk support. Is moved spirally, and the disk is returned to the center of the groove. Also, when the disk is tilted when viewed from above, the contact point between the inner peripheral edge of the disk and the groove spirals toward one side of the groove as the disk and the disk support rotate. Then, the disk comes close to this side surface. However, since the bottom of the groove is formed in a shape in which the central portion is raised, if the disk comes off the central portion of the groove in this manner, the disk is inclined from the side, and the inclination of the disk is reduced. The inclination gradually changes from the inclination seen from above to the inclination seen from the side. By changing the inclination of the disk to the inclination seen from the side in this way, the attitude of the disk is returned to the original as described above. Further, when the groove is formed in a V-shape in cross section as in the conventional case, the space formed around the inner peripheral edge of the disk becomes small, so that the surface treatment of the disk in this portion (for example, plating) Processing, etc.) may deteriorate, but with the disc support of the present invention,
Since a sufficient space can be secured around the inner peripheral edge of the disk, the surface treatment of the disk in this portion can be performed well. Here, the bottom surface of the groove may be formed in a convex curved shape with a raised central portion, or may be formed in a mountain shape having the central portion as a vertex.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下より、本発明の一実施形態に
よる円板支持具について図面を参照して説明する。ここ
で、本実施の形態では、円板として磁気ディスク基板を
用い、磁気ディスク基板に表面処理を施す装置として、
ディスク基板の表面に下地形成のための無電解めっき処
理を施すめっき処理装置を例にとって説明する。図1は
本実施形態にかかる円板支持具を用いるめっき処理装置
の概略構成を示す縦断面図、図2は本実施形態にかかる
円板支持具を示す側面図、図3は本実施形態にかかる円
板支持具による磁気ディスク基板の支持の様子を示す一
部拡大側面図、図4は本実施形態にかかる円板支持具に
よる磁気ディスク基板の支持の様子を示す図であって、
(a)は一部拡大平面図、(b)は一部拡大側面図であ
る。めっき処理装置1は、図1に示すように、装置本体
に設けられる一対の支持部材1aと、それぞれ支持部材
1aによって互いに離間した状態でそれぞれ軸線を略水
平かつ同心にして配置される二枚の円板状の回転板2
と、これら回転板2間に着脱自在にして掛け渡され、か
つ回転板2の周縁に沿って複数本配置される略丸棒状の
円板支持具3とを有している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A disk support according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, in the present embodiment, a magnetic disk substrate is used as a disk, and an apparatus for performing a surface treatment on the magnetic disk substrate includes:
A description will be given of an example of a plating apparatus for performing electroless plating for forming a base on the surface of a disk substrate. FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a plating apparatus using a disk support according to the present embodiment, FIG. 2 is a side view showing the disk support according to the present embodiment, and FIG. FIG. 4 is a partially enlarged side view showing a state of supporting the magnetic disk substrate by the disk support, and FIG. 4 is a view showing a state of support of the magnetic disk substrate by the disk support according to the present embodiment;
(A) is a partially enlarged plan view, (b) is a partially enlarged side view. As shown in FIG. 1, the plating apparatus 1 has a pair of support members 1 a provided on the apparatus main body, and two support members 1 a arranged with their axes substantially horizontal and concentric with each other separated from each other by the support members 1 a. Disk-shaped rotating plate 2
And a plurality of substantially round bar-shaped disc supports 3 which are detachably mounted between the rotating plates 2 and are arranged along the peripheral edge of the rotating plate 2.

【0011】回転板2は支持部材1aによってその軸線
回りに回転可能にして支持されている。また、回転板2
には、その周縁に沿って、円板支持具4の端部を、その
軸線回りに回転を許容しつつ着脱を可能にして保持する
軸受2aが設けられている。円板支持具3は、軸線を回
転板2の軸線と略平行にした状態、すなわち軸線を略水
平にした状態で回転板2間に掛け渡されるものであっ
て、その外周面には、磁気ディスク基板33の内周縁3
4を受けるための溝4が全周にわたって形成されてい
る。この溝4は、図2に示すように、断面視において底
面4aの中央部が底面4の両側部に対して盛り上がった
凸曲面形状に形成されている。また、溝4は、縁部に面
取りが施されている。そして、円板支持具3において、
溝4は、多数の磁気ディスク基板33を支持できるよう
に、円板支持具3の軸方向に沿って複数設けられてい
る。また、円板支持具3の外径は、磁気ディスク基板3
3の内径よりも小さくとられており、円板支持具3と磁
気ディスク基板33の内周縁34との間には、適度な大
きさのあそびが形成されている。
The rotating plate 2 is supported by a supporting member 1a so as to be rotatable around its axis. Rotating plate 2
Is provided along its periphery with a bearing 2a for holding the end of the disk support 4 detachably while allowing rotation about its axis. The disk support 3 is placed between the rotary plates 2 with the axis substantially parallel to the axis of the rotary plate 2, that is, with the axis substantially horizontal. Inner peripheral edge 3 of disk substrate 33
A groove 4 for receiving the groove 4 is formed over the entire circumference. As shown in FIG. 2, the groove 4 is formed in a convex curved shape in which a central portion of the bottom surface 4 a rises with respect to both side portions of the bottom surface 4 in a sectional view. The groove 4 has a chamfered edge. And in the disk support 3,
A plurality of grooves 4 are provided along the axial direction of the disk support 3 so as to support a large number of magnetic disk substrates 33. The outer diameter of the disk support 3 is
3, and a play of an appropriate size is formed between the disk support 3 and the inner peripheral edge 34 of the magnetic disk substrate 33.

【0012】ここで、回転板2及び円板支持具3は、そ
れぞれ駆動装置によって軸線回りに回転駆動されるよう
になっている。本実施の形態では、図1に示すように、
回転板2のうちの少なくとも一方に、その外周全周にわ
たって歯が形成されたものを用い、図示せぬ駆動モータ
の駆動軸に、回転板2の歯に噛み合う駆動歯車6を設け
て、駆動モータの駆動力を回転板2に伝達し、回転板2
を円板支持具3ごと回転駆動するように構成している。
また、一方の支持部材1aに、回転板2と同軸にして太
陽歯車7を固定的に設け、各円板支持具3の一端に、太
陽歯車7と噛み合う遊星歯車8を設けて、回転板2が回
転して遊星歯車8を太陽歯車7の周方向に沿って移動さ
せることで、円板支持具3をその軸線回りに回転させる
ように構成している。さらに、回転板2の間には、各円
板支持具3と略平行にして、外周面に形成される溝9a
によって円板支持具3に支持される磁気ディスク基板3
3の外周縁を補助的に支持するガイドシャフト9を設け
ている。
Here, the rotating plate 2 and the disk support 3 are each driven to rotate about an axis by a driving device. In the present embodiment, as shown in FIG.
At least one of the rotary plates 2 has teeth formed over the entire outer periphery thereof. A drive shaft of a drive motor (not shown) is provided with a drive gear 6 meshing with the teeth of the rotary plate 2. Is transmitted to the rotating plate 2 and the rotating plate 2
Are configured to be rotationally driven together with the disk support 3.
Also, a sun gear 7 is fixedly provided on one of the support members 1a coaxially with the rotating plate 2, and a planetary gear 8 meshing with the sun gear 7 is provided at one end of each disk support 3 so that the rotating plate 2 Is rotated to move the planetary gear 8 along the circumferential direction of the sun gear 7, thereby rotating the disk support 3 around its axis. Further, a groove 9a formed on the outer peripheral surface is provided between the rotating plates 2 so as to be substantially parallel to each disk support 3.
Disk substrate 3 supported by disk support 3 by
3 is provided with a guide shaft 9 for supporting the outer peripheral edge.

【0013】このように構成されるめっき処理装置1に
おける磁気ディスク基板33のめっき処理は、円板支持
具3の各溝4に磁気ディスク基板33を取り付け、回転
板2及び円板支持具3ごと磁気ディスク基板33をめっ
き槽に浸漬し、この状態で回転板2と円板支持具3とを
それぞれ軸線回りに回転させることで、磁気ディスク基
板33を、円板支持具3の回転によって自転させなが
ら、回転板2の回転によって回転板2の軸線回りで公転
させる。このようにして、磁気ディスク基板33におい
て円板支持具3との接触部位を連続的に変えて、内周縁
34も含めて磁気ディスク基板33の全面がめっき液に
露出されてめっき処理が施されるとともに、磁気ディス
ク基板33をめっき槽中で動かして相対的なめっき液の
流れを与えて、磁気ディスク基板33の表面から気泡を
除去している。
In the plating treatment of the magnetic disk substrate 33 in the plating apparatus 1 having the above-described structure, the magnetic disk substrate 33 is attached to each groove 4 of the disk support 3, and the rotating plate 2 and the disk support 3 The magnetic disk substrate 33 is immersed in the plating bath, and in this state, the rotating plate 2 and the disk support 3 are respectively rotated around the axis, whereby the magnetic disk substrate 33 is rotated by the rotation of the disk support 3. While rotating, the rotating plate 2 revolves around the axis of the rotating plate 2. In this way, the contact area of the magnetic disk substrate 33 with the disk support 3 is continuously changed, and the entire surface of the magnetic disk substrate 33 including the inner peripheral edge 34 is exposed to the plating solution, and plating is performed. At the same time, the magnetic disk substrate 33 is moved in the plating bath to give a relative flow of the plating solution to remove bubbles from the surface of the magnetic disk substrate 33.

【0014】このとき、磁気ディスク基板33は、図2
中に二点鎖線で示すように、通常は内周縁34のうち最
上方に位置する部分の中央で溝4の中央部に線接触して
いる。そして、溝4の底面4aは、中央部が盛り上がっ
た凸曲面形状に形成されているので、図3に示すよう
に、側方から見て磁気ディスク基板33に傾きが生じる
と、磁気ディスク基板33は、内周縁34において最上
方に位置する部分のうち、傾斜方向に位置する側(側面
4b側)では底面4aに接触せず、他方の側(側面4c
側)で溝4の底面4aに接触し、磁気ディスク基板33
はこの部分を支点Pとして円板支持具3に支持される。
すると、重力は磁気ディスク基板33の重心Gを支点P
の真下に移動させる向き、すなわち磁気ディスク基板3
3の傾斜を打ち消す向きに円板を傾斜させるように作用
することとなり、磁気ディスク基板33の姿勢が元に戻
される。さらに、上記のように磁気ディスク基板33が
傾くことによって、磁気ディスク基板33及び円板支持
具3の回転に伴って、磁気ディスク基板33の内周縁3
4と溝4との接触点が、溝4の側面4cに向けて、溝4
の底面4a上を螺旋状に移動することになり、磁気ディ
スク基板33が溝4の中央に戻される。
At this time, the magnetic disk substrate 33 is
As shown by a two-dot chain line therein, the center of the uppermost portion of the inner peripheral edge 34 is usually in line contact with the center of the groove 4. Since the bottom surface 4a of the groove 4 is formed in a convex curved shape with a raised central portion, as shown in FIG. 3, when the magnetic disk substrate 33 is inclined from the side, as shown in FIG. Does not contact the bottom surface 4a on the side (side surface 4b side) located in the inclined direction of the uppermost portion of the inner peripheral edge 34, and does not contact the other side (side surface 4c
Side), and contacts the bottom surface 4a of the groove 4 so that the magnetic disk substrate 33
Is supported by the disk support 3 with this portion as a fulcrum P.
Then, gravity causes the center of gravity G of the magnetic disk substrate 33 to be a fulcrum P
, Ie, the magnetic disk substrate 3
3 acts to incline the disk in a direction to cancel the inclination of 3, and the posture of the magnetic disk substrate 33 is returned to the original position. Further, the inclination of the magnetic disk substrate 33 as described above causes the inner peripheral edge 3 of the magnetic disk substrate 33 to rotate as the magnetic disk substrate 33 and the disk support 3 rotate.
The contact point between the groove 4 and the groove 4 is directed toward the side surface 4 c of the groove 4.
The magnetic disk substrate 33 is returned to the center of the groove 4 on the bottom surface 4a of the groove 4 in a spiral shape.

【0015】また、図4(a)に示すように、上方から
みて磁気ディスク基板33に傾きが生じることで、磁気
ディスク基板33及び円板支持具3の回転に伴って、磁
気ディスク基板33の内周縁34と溝4との接触点が溝
4の一側面4bに向けて螺旋状に移動し、磁気ディスク
基板33がこの側面4bに近接することになる。しか
し、溝4の底面4aは、中央部が盛り上がった凸曲面形
状に形成されているので、このように磁気ディスク基板
33が溝4の中央部から外れると、図4(b)に示すよ
うに磁気ディスク基板33に側方からみた傾きが生じ、
磁気ディスク基板33の傾きが、次第に上方からみた傾
きから側方からみた傾きに変化する。そして、このよう
に磁気ディスク基板33の傾きが、側方からみた傾きに
変化することで、上述したように磁気ディスク基板33
の姿勢が元に戻され、同時に磁気ディスク基板33が溝
4の中央に戻される。
Further, as shown in FIG. 4A, when the magnetic disk substrate 33 is tilted when viewed from above, the magnetic disk substrate 33 and the disk support 3 rotate, thereby causing the magnetic disk substrate 33 to rotate. The contact point between the inner peripheral edge 34 and the groove 4 spirally moves toward one side surface 4b of the groove 4, and the magnetic disk substrate 33 approaches the side surface 4b. However, since the bottom surface 4a of the groove 4 is formed in a convex curved shape in which the central portion is raised, when the magnetic disk substrate 33 deviates from the central portion of the groove 4 as shown in FIG. The magnetic disk substrate 33 is tilted when viewed from the side,
The inclination of the magnetic disk substrate 33 gradually changes from the inclination seen from above to the inclination seen from the side. Then, the inclination of the magnetic disk substrate 33 changes to the inclination viewed from the side as described above, so that the magnetic disk
Is returned to the original position, and at the same time, the magnetic disk substrate 33 is returned to the center of the groove 4.

【0016】このように、本発明の円板支持具3によれ
ば、磁気ディスク基板33に、側方からみた傾き、上方
からみた傾きのいずれの傾きが生じても、磁気ディスク
基板33の姿勢が元に戻され、同時に磁気ディスク基板
33が溝4の中央に戻されるので、円板の支持を確実に
することができる。また、隣接する溝4に保持される磁
気ディスク基板33同士の接触を防止し、磁気ディスク
基板33のめっき処理を良好に行うことができる。ま
た、従来のように溝が断面視V字形状に形成されている
場合に比べ、磁気ディスク基板33の内周縁34の周囲
に十分な空間を確保することができるので、この部分に
おける磁気ディスク基板33のめっき処理も良好に行う
ことができる。
As described above, according to the disk support 3 of the present invention, even if the magnetic disk substrate 33 is inclined from the side or from above, the posture of the magnetic disk substrate 33 is maintained. Is returned to the original position, and at the same time, the magnetic disk substrate 33 is returned to the center of the groove 4, so that the disk can be reliably supported. Further, contact between the magnetic disk substrates 33 held in the adjacent grooves 4 can be prevented, and the plating of the magnetic disk substrates 33 can be performed favorably. Further, compared with the conventional case where the groove is formed in a V-shape in cross section, a sufficient space around the inner peripheral edge 34 of the magnetic disk substrate 33 can be ensured. 33 can also be performed favorably.

【0017】ここで、上記実施の形態では、溝4の底面
4aを中央部が盛り上がった凸曲面状に形成したが、こ
れに限られることなく、例えば中央部を頂点とする山形
に形成してもよい。
Here, in the above-described embodiment, the bottom surface 4a of the groove 4 is formed in a convex curved shape in which the central portion is raised. However, the present invention is not limited to this. Is also good.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明の円板支持具によれば、側方から
みて円板に傾きが生じても、重力は円板の重心を支点の
真下に移動させる向き、すなわち円板の傾斜をなくす向
きに作用することとなり、円板の姿勢が元に戻される。
また、上方からみて円板に傾きが生じても、円板の傾き
が、次第に上方からみた傾きから側方からみた傾きに変
化するので、上述したように円板の姿勢が元に戻され
る。このように、本発明の円板支持具によれば、円板
に、側方からみた傾き、上方からみた傾きのいずれの傾
きが生じても、円板の姿勢が元に戻されるので、円板の
支持を確実にすることができる。さらに、隣接する溝に
保持される円板同士の接触を防止し、円板の表面処理を
良好に行うことができる。また、従来のように溝が断面
視V字形状に形成されている場合に比べ、円板の内周縁
の周囲に十分な空間を確保することができるので、この
部分における円板の表面処理も良好に行うことができ
る。
According to the disk support of the present invention, even if the disk is inclined when viewed from the side, the gravity moves the center of gravity of the disk directly below the fulcrum, that is, the inclination of the disk. It acts in the direction in which it is lost, and the posture of the disc is restored.
Further, even if the disk is tilted when viewed from above, the tilt of the disk gradually changes from the tilt when viewed from above to the tilt as viewed from the side, so that the attitude of the disk is restored as described above. As described above, according to the disk support of the present invention, the disk is returned to its original position regardless of whether the disk is tilted when viewed from the side or tilted when viewed from above. Plate support can be ensured. Further, contact between the disks held in the adjacent grooves can be prevented, and the surface treatment of the disks can be performed favorably. In addition, since a sufficient space can be secured around the inner peripheral edge of the disk as compared with the case where the groove is formed in a V-shape in cross section as in the conventional case, the surface treatment of the disk in this portion is also possible. Can be performed well.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態にかかる円板支持具を用
いるめっき処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a plating apparatus using a disk support according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本実施形態にかかる円板支持具を示す側面図
である。
FIG. 2 is a side view showing the disk support according to the embodiment.

【図3】 本実施形態にかかる円板支持具による磁気デ
ィスク基板(円板)の支持の様子を示す一部拡大側面図
である。
FIG. 3 is a partially enlarged side view showing a state in which a magnetic disk substrate (disk) is supported by a disk support according to the present embodiment.

【図4】 本実施形態にかかる円板支持具による磁気デ
ィスク基板(円板)の支持の様子を示す図であって、
(a)は一部拡大平面図、(b)は一部拡大側面図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a state in which a magnetic disk substrate (disk) is supported by the disk support according to the embodiment;
(A) is a partially enlarged plan view, (b) is a partially enlarged side view.

【図5】 従来の円板支持具を用いためっき処理装置に
おいて、円板が傾いた場合の円板の挙動の一例を示す図
であって、(a)は側面図、(b)は一部拡大側面図で
ある。
5A and 5B are diagrams illustrating an example of the behavior of a disk when the disk is tilted in a conventional plating apparatus using a disk support, wherein FIG. 5A is a side view, and FIG. It is a part enlarged side view.

【図6】 従来の円板支持具を用いためっき処理装置に
おいて、円板が傾いた場合の円板の挙動の一例を示す平
面図である。
FIG. 6 is a plan view showing an example of a behavior of a disk when the disk is inclined in a conventional plating apparatus using a disk support.

【図7】 従来の円板支持具を用いためっき処理装置に
おいて、円板が傾いた場合の円板の挙動の一例を示す側
断面図である。
FIG. 7 is a side sectional view showing an example of a behavior of a disk when the disk is tilted in a plating apparatus using a conventional disk support.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 円板支持具 4 溝 33 磁気ディスク基板(円板) 3 Disk support 4 Groove 33 Magnetic disk substrate (disk)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂本 敦 埼玉県大宮市北袋町1丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社知能機器・システム開 発センター内 Fターム(参考) 4K022 AA31 AA44 DA01 DB15 5D112 AA02 AA24 EE01 KK01  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Atsushi Sakamoto 1-297 Kitabukuro-cho, Omiya-shi, Saitama Mitsubishi Materials Corporation Intelligent Equipment and System Development Center F-term (reference) 4K022 AA31 AA44 DA01 DB15 5D112 AA02 AA24 EE01 KK01

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 略丸棒形状をなし、その外周面には、内
周が開口された円板の内周縁を受けるための溝が全周に
わたって形成される円板支持具であって、 前記溝は、断面視において底面の中央部が前記底面の両
側部に対して盛り上がった形状に形成されていることを
特徴とする円板支持具。
1. A disc support having a substantially round bar shape, wherein a groove for receiving an inner peripheral edge of a disc having an inner periphery formed on an outer peripheral surface thereof is formed over the entire periphery. A disk support, wherein the groove is formed in a cross-sectional view such that a central portion of a bottom surface is raised to both sides of the bottom surface.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005336612A (en) * 2004-05-26 2005-12-08 Komag Inc Method and apparatus for applying voltage to substrate during plating
JPWO2020250935A1 (en) * 2019-06-14 2020-12-17

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