JPH10249613A - Holding chuck for rotating disc - Google Patents

Holding chuck for rotating disc

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Publication number
JPH10249613A
JPH10249613A JP5866197A JP5866197A JPH10249613A JP H10249613 A JPH10249613 A JP H10249613A JP 5866197 A JP5866197 A JP 5866197A JP 5866197 A JP5866197 A JP 5866197A JP H10249613 A JPH10249613 A JP H10249613A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disk
wafer
rotating
holding chuck
disc
Prior art date
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Pending
Application number
JP5866197A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Yuasa
研史 湯浅
Original Assignee
Yuasa Seisakusho:Kk
株式会社湯浅製作所
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Filing date
Publication date
Application filed by Yuasa Seisakusho:Kk, 株式会社湯浅製作所 filed Critical Yuasa Seisakusho:Kk
Priority to JP5866197A priority Critical patent/JPH10249613A/en
Publication of JPH10249613A publication Critical patent/JPH10249613A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To apply processing such as etching, cleaning, drying and the like to both the surfaces of a disc while the disc is being rotated. SOLUTION: Paired fixing pins 4a and 4B on which a wafer 21 is rested, are provided for each tip end of three supporting arms 2a through 2b whose base ends are mounted to a rotating shaft 3. An auxiliary supporting pins 8 are also provided for the aforesaid paired pins in such a way that the rotated wafer 21 can be supported horizontally regardless of the position of the orientation flat 22 of the wafer 22. Furthermore, paired movable pins 9a and 9b are provided for each tip end of the respective supporting arms 2a through 2b while each space between the paired movable pins is kept wider as specified than a chord L between the orientation flats 22, and the rocking in the radial direction of the wafer 21 of the aforesaid paired movable pins thereby allows the wafer 21 to be held at its outer circumferential part. Thus as mentioned above, processing is applied thereto while the water 21 is being rotated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、円板回転用保持チ
ャックに関し、特に、半導体ウェハや磁気記録媒体のハ
ードディスク等の円板を保持し、これを回転しながら、
エッチング、洗浄、乾燥等の処理を円板の両面に行なう
ための円板回転用保持チャックに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a holding chuck for rotating a disk, and more particularly, to holding a disk such as a semiconductor wafer or a hard disk of a magnetic recording medium while rotating the disk.
The present invention relates to a disc-rotating holding chuck for performing processes such as etching, cleaning, and drying on both surfaces of a disc.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体ウェハや磁気記録媒体のハ
ードディスク等の円板を保持し、この円板を自転させな
がら、エッチング、洗浄、乾燥等の処理を施すための代
表的な保持チャックとして、円板の下面中央部を真空吸
着する真空チャック方式がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a typical holding chuck for holding a disk such as a semiconductor wafer or a hard disk of a magnetic recording medium, and performing processes such as etching, washing and drying while rotating the disk, There is a vacuum chuck system that vacuum-adsorbs the center of the lower surface of a disk.
【0003】しかし、この真空チャック方式では、円板
の下面中央が吸着保持されているため、この部分に処理
を施すことができないという欠点があった。このため、
近年、円板の外周部を爪状機構で機械的に保持し、円板
の上下面全体が露出された状態で回転させながら処理を
行なう保持チャックが種々試行されている。
However, this vacuum chuck method has a drawback in that the center of the lower surface of the disk is held by suction, so that this portion cannot be processed. For this reason,
In recent years, various attempts have been made for holding chucks that mechanically hold the outer peripheral portion of a disk with a claw-shaped mechanism and perform processing while rotating the disk in a state where the entire upper and lower surfaces of the disk are exposed.
【0004】図7は、この爪状機構を有する従来の保持
チャックの一例を示す平面図であり、図8はその正面縦
断面図である。この保持チャック101 では、支持アーム
102a〜 102fの基端が回転軸 103に相互に等角に取り
付けられている。このうち支持アーム 102a〜 102cの
先端に設けた固定爪104 の段部で円板105 下面の外周部
付近を支持する一方、支持アーム 102d〜 102fに設け
られた可動の爪状部材106 で、円板105 の外周部を機械
的に保持するように構成されている。このため、保持チ
ャック101 の円板105 への接点が固定爪104 と爪状部材
106 のみであり、円板105 の下面に対してもエッチング
等の処理を施すことが可能である。
FIG. 7 is a plan view showing an example of a conventional holding chuck having the claw-like mechanism, and FIG. 8 is a front vertical sectional view thereof. In this holding chuck 101, the support arm
The base ends of 102 a to 102 f are attached to the rotating shaft 103 at an equal angle to each other. Among them, the step of the fixed claw 104 provided at the tip of the support arms 102a to 102c supports the vicinity of the outer periphery of the lower surface of the disk 105, while the movable claw member 106 provided on the support arms 102d to 102f forms a circle. The outer peripheral portion of the plate 105 is configured to be mechanically held. For this reason, the contact of the holding chuck 101 to the disk 105 is made up of the fixed claw 104 and the claw-shaped member.
Only 106, the lower surface of the disk 105 can be subjected to processing such as etching.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の円板回転用保持チャックでは、例えば半導体
ウェハのオリエンテーションフラットのように、外周の
一部に切り欠きがある円板を取り扱う場合には、切り欠
き部分にあたる爪状部材が円板外周部を十分に保持する
ことができないため、高速回転時の保持安定性が悪化す
るという問題点があった。
However, such a conventional rotating chuck for rotating a disk is required to handle a disk having a notch in a part of the outer periphery such as an orientation flat of a semiconductor wafer. However, since the claw-shaped member corresponding to the notch cannot sufficiently hold the outer peripheral portion of the disk, there has been a problem that the holding stability during high-speed rotation is deteriorated.
【0006】この点、高速回転時の保持安定性を考慮し
て、円板外周部を保持する爪状部材の数を増やし、円板
外周部を多数の点で保持する構成も考えられるが、爪状
部材を円板の外周上に均等に配置するために、爪状部材
の数と同じだけの支持アームを設けると、これにより円
板の下面に対して処理液体を均一に供給するのが困難に
なり、円板の上下面に対する処理が不均一になるという
問題点があった。
In this respect, in consideration of the holding stability at the time of high-speed rotation, it is conceivable to increase the number of claw-shaped members for holding the outer peripheral portion of the disk and to hold the outer peripheral portion of the disk at many points. In order to arrange the claw members evenly on the outer circumference of the disk, if the same number of support arms as the number of claw members are provided, it is possible to uniformly supply the processing liquid to the lower surface of the disk. However, there is a problem in that the processing on the upper and lower surfaces of the disk becomes uneven.
【0007】また、円板外周部を保持する爪状部材には
処理液体等が溜まり易く、この近傍における処理状態が
他所に比べて不均一になるという問題点があった。ま
た、固定爪上の所定箇所に正確に円板を載置しなけれ
ば、爪状部材が円板を十分に保持できないおそれもある
ため、円板の搬送位置を高精度で制御できる搬送装置が
必要とされるという問題点もあった。
Further, there is a problem in that the processing liquid or the like easily accumulates in the claw-shaped member holding the outer peripheral portion of the disk, and the processing state in the vicinity thereof becomes more uneven than in other places. In addition, if the disc is not accurately placed at a predetermined position on the fixed claw, the claw-shaped member may not be able to hold the disc sufficiently. Therefore, a transfer device capable of controlling the transfer position of the disc with high accuracy has been developed. There was also a problem that it was required.
【0008】本発明はこのような従来の問題点に鑑み、
円板を確実に保持し、回転させながら、エッチング、洗
浄、乾燥等の処理を、その両面に対して同時に均一に、
かつ短時間で行なうことのできる円板回転用保持チャッ
クを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such conventional problems,
While holding the disc securely and rotating it, processing such as etching, cleaning, drying, etc. on both sides simultaneously and uniformly,
It is another object of the present invention to provide a disk rotation holding chuck that can be performed in a short time.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】このため、請求項1に係
る円板回転用保持チャックは、回転軸に基端が取り付け
られた複数の支持アームと、該支持アーム各々の先端付
近に取り付けられ、円板下面の外周部付近が載置される
載置部と、前記支持アーム各々の先端に、前記円板の周
方向に所定距離を隔て、前記載置部を挟む形で配設さ
れ、前記円板の外周部にそれぞれの円筒面が接離可能で
ある一対の可動ピンと、を含んで構成される。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a disk rotating holding chuck according to the first aspect, wherein a plurality of support arms each having a base end mounted on a rotating shaft, and each support arm being mounted near a distal end thereof. A mounting portion on which the vicinity of the outer peripheral portion of the lower surface of the disk is mounted, and at the tip of each of the support arms, a predetermined distance in the circumferential direction of the disk, disposed in a manner to sandwich the mounting portion, And a pair of movable pins, each of which has a cylindrical surface that can be moved toward and away from the outer periphery of the disk.
【0010】これにより、1つの支持アームにつき2箇
所で円板の外周部を保持する。また、半導体ウェハのオ
リエンテーションフラットのように、外周の一部に切り
欠きがある円板でも、一対の可動ピンの間隔を切り欠き
の弦よりも大きくしておくことにより、少なくとも一方
の可動ピンが円板の外周部を保持する。さらに、円板外
周部を保持する可動ピンが円筒状なので、処理液等が溜
まらず、円滑に排出される。
Thus, the outer peripheral portion of the disk is held at two locations per support arm. Further, even in a disk having a notch in a part of the outer periphery, such as an orientation flat of a semiconductor wafer, at least one of the movable pins is formed by making the interval between the pair of movable pins larger than the string of the notch. Hold the outer periphery of the disc. Further, since the movable pin for holding the outer peripheral portion of the disk is cylindrical, the processing liquid and the like do not accumulate and are smoothly discharged.
【0011】また、請求項2に係る発明では、前記複数
の支持アームは、3本とすることで、円板の外周部を6
箇所で確実に保持する一方、円板下面への処理に対する
影響を可及的に少なくする。また、請求項3に係る発明
では、前記複数の支持アームは、前記回転軸を中心とし
た円の周方向に相互に等角を成すように配置し、より安
定的に円板を保持する構成とする。
In the invention according to claim 2, the plurality of support arms are three, so that the outer peripheral portion of the disc is 6
At the same time, the effect on the processing on the lower surface of the disk is reduced as much as possible. Further, in the invention according to claim 3, the plurality of support arms are arranged so as to be equiangular with each other in a circumferential direction of a circle centered on the rotation axis, so that the disc is more stably held. And
【0012】また、請求項4に係る発明では、前記可動
ピンは、前記円板に接触する箇所に、前記円板外周部の
形状に応じた溝を有するものとし、この溝で円板の外周
部を把持し、高速回転時の安定性を高める。また、請求
項5に係る発明では、前記溝の断面を楔型にして、円板
の外周部が溝に入り易くする。
Further, in the invention according to claim 4, the movable pin has a groove corresponding to the shape of the outer peripheral portion of the disk at a position where the movable pin comes into contact with the disk. Hold the part and increase the stability at high speed rotation. In the invention according to claim 5, the groove has a wedge-shaped cross section so that the outer peripheral portion of the disk can easily enter the groove.
【0013】また、請求項6に係る発明では、前記載置
部は、前記支持アームに突設した固定ピンの先端に形成
された段部であり、小さい接触面積で容易かつ確実に円
板が載置される。また、請求項7に係る発明では、前記
固定ピンの先端に形成された段部は、前記固定ピンの突
出方向に向かって先細りのテーパ状に形成されたものと
し、円板との接触面積を小さくする。
In the invention according to claim 6, the mounting portion is a step formed at the tip of a fixing pin protruding from the support arm, and the disk can be easily and reliably formed with a small contact area. Is placed. Further, in the invention according to claim 7, the step formed at the tip of the fixing pin is formed in a tapered shape tapering toward the projecting direction of the fixing pin, and the contact area with the disk is reduced. Make it smaller.
【0014】また、請求項8に係る発明では、前記固定
ピンは、その先端部に、前記円板を前記段部に導くガイ
ド部を有し、円板の搬送位置誤差の許容範囲を拡大し
て、円板の搬送を容易にする。また、請求項9に係る発
明では、前記ガイド部は、円錐形状の突起であり、円板
とガイド部との接触面積を小さくし、円板を固定ピン上
に円滑に導入する。
Further, in the invention according to claim 8, the fixing pin has a guide portion at a tip end thereof for guiding the disk to the stepped portion, thereby expanding a permissible range of an error in the transport position of the disk. To facilitate the transfer of the disk. Further, in the invention according to claim 9, the guide portion is a conical protrusion, which reduces the contact area between the disc and the guide portion, and smoothly introduces the disc onto the fixing pin.
【0015】また、請求項10に係る発明では、前記支持
アームの、前記載置部より所定距離だけ基端側に、前記
円板下面を先端部により支持する補助支持ピンを設け
て、外周の一部に切り欠きがある円板でも、確実に下方
から支持できるようにする。
In the invention according to a tenth aspect, an auxiliary support pin for supporting the lower surface of the disk by a distal end portion is provided on a base end side of the support arm by a predetermined distance from the mounting portion, and an outer peripheral pin is provided. Even if the disk has a notch, it can be supported from below.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図1は、本発明の円板回転用保持
チャックの一例であり、半導体ウェハを保持し、自転さ
せるための保持チャックを示す平面図である。また、図
2はその正面縦断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an example of a holding chuck for rotating a disk of the present invention, and is a plan view showing a holding chuck for holding and rotating a semiconductor wafer. FIG. 2 is a front vertical sectional view thereof.
【0017】ウェハ回転用保持チャック1の3本の支持
アーム2a〜2cは、それぞれの基端が回転軸3に取り
付けられており、回転軸3を中心とした円の周方向に相
互に等角(120°) を成すように配置してある。図3は図
2のA矢視図であり、支持アーム2a〜2cの先端の構
造を示している。
The three support arms 2a to 2c of the holding chuck 1 for rotating a wafer have their base ends attached to a rotating shaft 3, and are mutually equiangular in the circumferential direction of a circle centered on the rotating shaft 3. (120 °). FIG. 3 is a view taken in the direction of the arrow A in FIG. 2 and shows the structure of the distal ends of the support arms 2a to 2c.
【0018】支持アーム2a〜2c各々の先端には、一
対の固定ピン4a、4bが、回転軸3を中心とした同一
の円周上に位置するように設けてある。各固定ピン4
a、4bには、図4に示すように、突出方向に向かっ
て、先細りのテーパ部5、これに続くストレート部6、
更にこれに続く円錐形状のガイド部7が形成されてい
る。ウェハ21下面の外周部付近は、固定ピン4a、4b
の段部に相当するテーパ部5の斜面で支持されるので、
固定ピン4a、4bとウェハ21との相互の接触面積が小
さくなる。
A pair of fixing pins 4a and 4b are provided at the tip of each of the support arms 2a to 2c so as to be located on the same circumference around the rotation shaft 3. Each fixing pin 4
4A and 4B, as shown in FIG. 4, a tapered portion 5 tapering in a protruding direction, a straight portion 6 following the tapered portion 5,
Further, a conical guide portion 7 is formed following this. Fixed pins 4a, 4b
Is supported by the slope of the tapered portion 5 corresponding to the step portion of
The contact area between the fixing pins 4a and 4b and the wafer 21 is reduced.
【0019】図5は図3のB矢視図である。搬送された
ウェハ21のオリエンテーションフラット22の位置が固定
ピン4a、4bの位置と一致した場合、この固定ピン4
a、4bはウェハ21を支持することができず、ウェハ21
が傾いて、 これを保持するのが困難になるおそれがあ
る。このため、支持アーム2a〜2cには、固定ピン4
a、4bからオリエンテーションフラット22の切り込み
量より長い所定距離だけ基端側に、ウェハ21の下面を先
端で支持する補助支持ピン8を設けてある。これによ
り、オリエンテーションフラット22がどの位置にきて
も、ウェハ21を水平に支持できる。
FIG. 5 is a view taken in the direction of arrow B in FIG. When the position of the orientation flat 22 of the transferred wafer 21 matches the position of the fixing pins 4a and 4b,
a, 4b cannot support the wafer 21;
May tilt, making it difficult to hold. For this reason, the fixing pins 4 are provided on the support arms 2a to 2c.
Auxiliary support pins 8 for supporting the lower surface of the wafer 21 at the distal end thereof are provided on the base end side of the base plate a predetermined distance longer than the cut amount of the orientation flat 22 from a and 4b. This allows the wafer 21 to be supported horizontally regardless of the position of the orientation flat 22.
【0020】また、各支持アーム2a〜2cの先端に
は、ウェハ21の外周部を保持する一対の可動ピン9a、
9bが、ウェハ21のオリエンテーションフラット22の弦
Lよりも長い所定間隔を隔て、固定ピン4a、4bを挟
む形で設けてあり、それぞれが回転軸3を中心とした同
一の円周上に配置してある。この可動ピン9a、9b
は、相互にリンク機構10で接続されており、リンク機構
10の動きに連動して、ウェハ21の半径方向に揺動し、ウ
ェハ21の保持と解放とを行なう。
A pair of movable pins 9a for holding the outer peripheral portion of the wafer 21 are provided at the tips of the support arms 2a to 2c.
9b are provided at predetermined intervals longer than the chord L of the orientation flat 22 of the wafer 21 so as to sandwich the fixing pins 4a and 4b, each of which is disposed on the same circumference around the rotation shaft 3. It is. These movable pins 9a, 9b
Are connected to each other by a link mechanism 10, and the link mechanism
In conjunction with the movement of 10, the wafer 21 swings in the radial direction of the wafer 21 to hold and release the wafer 21.
【0021】可動ピン9a、9bは回転軸3と同方向の
軸線を有する円筒体で、図6に示すように、ウェハ21の
外周部に接する部位に断面楔状の周溝11が設けてある。
この周溝11にウェハ21の外周部を嵌め込み固定すること
で、容易かつ確実に保持することができる。また、上述
したように、可動ピン9aと9bとは、ウェハ21のオリ
エンテーションフラット22の弦Lよりも長い所定間隔を
隔てて設けてあるため、オリエンテーションフラット22
がどの位置にきても、一対の可動ピン9a、9bのうち
少なくとも一方は、ウェハ21の外周部を保持することが
できる。
The movable pins 9a and 9b are cylindrical bodies having axes in the same direction as the rotating shaft 3. As shown in FIG. 6, a peripheral groove 11 having a wedge-shaped cross section is provided at a portion in contact with the outer peripheral portion of the wafer 21.
By fitting the outer peripheral portion of the wafer 21 into the peripheral groove 11 and fixing it, the wafer 21 can be held easily and reliably. Further, as described above, since the movable pins 9a and 9b are provided at a predetermined interval longer than the chord L of the orientation flat 22 of the wafer 21, the orientation flat 22
In any position, at least one of the pair of movable pins 9a and 9b can hold the outer peripheral portion of the wafer 21.
【0022】このような構成の円板回転用保持チャック
1では、先ず、保持チャック1の上部に搬送されたウェ
ハ21が、搬送アーム23から解放されると、ウェハ21の外
周部が固定ピン4a、4bの円錐形状のガイド部7の傾
斜面に当接し、これに沿って降下する。そして、ウェハ
21の外周部は、テーパ部5の形斜面に当接して停止し、
水平に載置される。このとき、ウェハ21の搬送された位
置に誤差があっても、ウェハ21の外周部がガイド部7の
頂点よりも内側にあればよく、固定ピン4a、4bのテ
ーパ部5まで案内される。
In the holding chuck 1 for rotating a disk having such a configuration, first, when the wafer 21 transferred to the upper part of the holding chuck 1 is released from the transfer arm 23, the outer peripheral portion of the wafer 21 is fixed to the fixing pin 4a. 4b, comes into contact with the inclined surface of the conical guide portion 7 and descends along the inclined surface. And the wafer
The outer peripheral portion of 21 abuts against the slope of the tapered portion 5 and stops,
It is placed horizontally. At this time, even if there is an error in the transported position of the wafer 21, the outer peripheral portion of the wafer 21 only needs to be inside the vertex of the guide portion 7, and the wafer 21 is guided to the tapered portion 5 of the fixing pins 4a and 4b.
【0023】そして、図示しない駆動装置によりリンク
機構10が駆動され、これに連動して可動ピン9a、9b
が回転軸3へ向かう方向へ揺動する。このとき、可動ピ
ン9a、9bに設けられた楔型の周溝11の開口部にウェ
ハ21の外周部が入り、徐々に奥に嵌まり込む。こうし
て、ウェハ21は、僅かな接触面積でウェハ回転用保持チ
ャック1に確実に固定され、特に上下方向への変位が抑
制される。
The link mechanism 10 is driven by a drive device (not shown), and the movable pins 9a, 9b
Swings in the direction toward the rotating shaft 3. At this time, the outer peripheral portion of the wafer 21 enters the opening of the wedge-shaped peripheral groove 11 provided on the movable pins 9a and 9b, and gradually fits into the back. In this way, the wafer 21 is securely fixed to the wafer rotation holding chuck 1 with a small contact area, and the displacement in the vertical direction is particularly suppressed.
【0024】その後、図示しないモータにより回転軸3
が回転され、ウェハ回転用保持チャック1に保持された
ウェハ21が自転する。ウェハ21の自転中に、その上下面
に所定の薬液や純水等を供給すれば、エッチングや洗浄
を行なうことができ、ウェハ21全体を均一に処理するこ
とができる。このとき、ウェハ21の下面に対する薬液や
純水の供給が、3本の支持アーム2a〜2cにより若干
は妨げられるが、その影響は少なく、下面にも上面とほ
ぼ同様の処理を施すことができるので、処理時間を短縮
することもできる。
Thereafter, the rotating shaft 3 is driven by a motor (not shown).
Is rotated, and the wafer 21 held by the wafer rotation holding chuck 1 rotates. If a predetermined chemical solution, pure water, or the like is supplied to the upper and lower surfaces during the rotation of the wafer 21, etching and cleaning can be performed, and the entire wafer 21 can be uniformly processed. At this time, the supply of the chemical solution or pure water to the lower surface of the wafer 21 is slightly hindered by the three support arms 2a to 2c, but the influence is small, and the lower surface can be subjected to substantially the same processing as the upper surface. Therefore, the processing time can be reduced.
【0025】また、エッチングや洗浄後のウェハ21を高
速で自転させることで、表面に残留した薬液や水滴を飛
散させて乾燥することができる。ウェハ21とウェハ回転
用保持チャック1との接触面積は僅かであり、固定ピン
4a、4b、補助支持ピン8、および可動ピン9a、9
bの表面は滑らかな曲面になっているため、接触部に薬
液や純水等が溜まることもない。
Further, by rotating the etched or cleaned wafer 21 at a high speed, the chemical solution and water droplets remaining on the surface can be scattered and dried. The contact area between the wafer 21 and the wafer rotation holding chuck 1 is small, and the fixed pins 4a, 4b, the auxiliary support pins 8, and the movable pins 9a, 9
Since the surface of b is a smooth curved surface, a chemical solution, pure water, or the like does not accumulate in the contact portion.
【0026】尚、回転軸3の回転速度は、エッチング、
洗浄、乾燥等の目的に合わせて、適宜調節すればよい。
ウェハ21に対する所定の処理を終了すると、回転軸3が
停止する。そして、図示しない駆動装置によりリンク機
構10が駆動され、これに連動した可動ピン9a、9bが
ウェハ21を解放する方向へ揺動する。固定ピン4a、4
bのテーパ部5に載置された状態になったウェハ21は、
その後、搬送アーム23によって、次工程に搬送される。
The rotation speed of the rotating shaft 3 is determined by etching,
What is necessary is just to adjust suitably according to the objectives, such as washing and drying.
When the predetermined processing for the wafer 21 is completed, the rotating shaft 3 stops. Then, the link mechanism 10 is driven by a driving device (not shown), and the movable pins 9a and 9b interlocked with the link mechanism 10 swing in a direction to release the wafer 21. Fixing pins 4a, 4
The wafer 21 placed on the tapered portion 5 of FIG.
After that, it is transferred by the transfer arm 23 to the next step.
【0027】このように、ウェハ回転用保持チャック1
では、ウェハ21を確実に保持して自転させながら、その
上下面全体に対してほぼ同様の処理を施すことができ、
薬液や塵埃等の残滓を残さずに乾燥することができる。
尚、本発明の円板回転用保持チャックは、磁気記録媒体
のハードディスクをはじめとする他の円板にも同様に適
用することができる。
Thus, the holding chuck 1 for rotating the wafer 1
Then, while holding and rotating the wafer 21 securely, it is possible to perform substantially the same processing on the entire upper and lower surfaces thereof,
It can be dried without leaving residues such as chemicals and dust.
The disk rotation holding chuck of the present invention can be similarly applied to other disks such as a hard disk of a magnetic recording medium.
【0028】[0028]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明によれば、1つの支持アームにつき2つの可動ピンで
円板の外周部を保持するため、アームの数が少なくとも
円板を安定して保持することができるという効果があ
る。また、外周の一部に切り欠きがある円板でも、その
外周部を確実に保持することができるという効果があ
る。
As described above, according to the first aspect of the present invention, since the outer peripheral portion of the disk is held by two movable pins per support arm, the number of arms is at least stable. This has the effect of being able to be held. In addition, there is an effect that even in a disk having a notch in a part of the outer periphery, the outer periphery can be reliably held.
【0029】また、請求項2に係る発明によれば、支持
アームの数が3本と少ないので、円板下面への薬液等の
供給に対する影響が少なく、上下面ともほぼ均一な処理
を行なうことができると共に、処理時間の短縮を図るこ
とができるという効果がある。また、請求項3に係る発
明によれば、回転軸を中心とした円の周方向に相互に等
角を成すように配置された複数の支持アームにより、安
定して円板を保持することができるという効果がある。
According to the second aspect of the present invention, since the number of support arms is as small as three, there is little influence on the supply of a chemical solution or the like to the lower surface of the disk, and substantially uniform processing is performed on both the upper and lower surfaces. And the processing time can be shortened. According to the third aspect of the present invention, the disk can be stably held by the plurality of support arms arranged so as to be mutually equiangular in the circumferential direction of the circle about the rotation axis. There is an effect that can be.
【0030】また、請求項4に係る発明によれば、可動
ピンに設けた溝で円板の外周部を確実に把持することが
でき、これにより高速回転時の安定性を高めることがで
きるという効果がある。また、請求項5に係る発明によ
れば、可動ピンに設けた溝の断面を楔型にすることで、
円板の外周部が溝に入り易く、かつ確実に保持でき、特
に上下方向への変位を抑制して、遠心力や振動に対し安
定した保持状態を維持することができるという効果があ
る。また、可動ピンと円板の外周部との接触面積が小さ
くなるため、接触部への液溜りを抑制することができる
という効果もある。
According to the fourth aspect of the present invention, the outer peripheral portion of the disk can be reliably gripped by the groove provided in the movable pin, whereby the stability during high-speed rotation can be improved. effective. Further, according to the invention according to claim 5, the cross section of the groove provided in the movable pin is formed in a wedge shape,
There is an effect that the outer peripheral portion of the disc can be easily and reliably held in the groove, and particularly, the displacement in the vertical direction can be suppressed, and a stable holding state against centrifugal force and vibration can be maintained. Further, since the contact area between the movable pin and the outer peripheral portion of the disk is reduced, there is also an effect that the liquid pool at the contact portion can be suppressed.
【0031】また、請求項6に係る発明によれば、各支
持アームに突設した固定ピンの先端面に、小さい接触面
積で確実に円板を載置することができるという効果があ
る。また請求項7に係る発明によれば、さらに小さい接
触面積で円板が載置されるので、円板に対する汚染物質
の付着等を抑制することができるという効果がある。
Further, according to the invention of claim 6, there is an effect that the disk can be reliably mounted with a small contact area on the tip end surface of the fixing pin protruding from each support arm. According to the seventh aspect of the present invention, since the disk is placed with a smaller contact area, it is possible to suppress the attachment of contaminants to the disk.
【0032】また、請求項8に係る発明によれば、円板
の搬送位置誤差の許容範囲を拡大して、固定ピン上の所
定位置に円板を確実に案内することができるという効果
がある。また、また、請求項9に係る発明によれば、円
錐形状の突起でガイド部を形成することにより、円板と
ガイド部との接触面積が小さくなるので、塵埃等の汚染
物質がガイド部から円板に付着するのを可及的に防止す
ることができるという効果がある。
According to the eighth aspect of the present invention, there is an effect that the allowable range of the error of the transport position of the disk is expanded and the disk can be reliably guided to a predetermined position on the fixing pin. . According to the ninth aspect of the present invention, since the guide portion is formed by the conical projection, the contact area between the disk and the guide portion is reduced, so that contaminants such as dust are removed from the guide portion. There is an effect that adhesion to the disk can be prevented as much as possible.
【0033】また、請求項10に係る発明によれば、外周
の一部に切り欠きがある円板でも、特別な位置合わせを
必要とせずに、確実に下方から支持することができると
いう効果がある。
Further, according to the tenth aspect of the present invention, even a disk having a notch in a part of the outer periphery can be reliably supported from below without requiring special alignment. is there.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】 本発明の円板回転用保持チャックの一例を示
す平面図
FIG. 1 is a plan view showing an example of a holding chuck for rotating a disk according to the present invention.
【図2】 本発明の円板回転用保持チャックの一例を示
す正面縦断面図
FIG. 2 is a front longitudinal sectional view showing an example of a holding chuck for rotating a disk according to the present invention.
【図3】 図2のA矢視図FIG. 3 is a view taken in the direction of arrow A in FIG. 2;
【図4】 固定ピンの構造を説明する拡大図FIG. 4 is an enlarged view illustrating the structure of a fixing pin.
【図5】 図3のB矢視図FIG. 5 is a view taken in the direction of arrow B in FIG. 3;
【図6】 可動ピンの構造を説明する拡大図FIG. 6 is an enlarged view illustrating the structure of a movable pin.
【図7】 従来の保持チャックの一例を示す平面図FIG. 7 is a plan view showing an example of a conventional holding chuck.
【図8】 従来の保持チャックの一例を示す正面縦断面
FIG. 8 is a front vertical sectional view showing an example of a conventional holding chuck.
【符号の説明】[Explanation of symbols]
1 保持チャック 2a〜2c 支持アーム 3 回転軸 4a、4b 固定ピン 5 テーパ部 6 ストレート部 7 ガイド部 8 補助支持ピン 9a、9b 可動ピン 10 リンク機構 11 周溝 21 ウェハ 22 オリエンテーションフラット 23 搬送アーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Holding chuck 2a-2c Support arm 3 Rotating shaft 4a, 4b Fixed pin 5 Taper part 6 Straight part 7 Guide part 8 Auxiliary support pin 9a, 9b Movable pin 10 Link mechanism 11 Peripheral groove 21 Wafer 22 Orientation flat 23 Transfer arm

Claims (10)

    【特許請求の範囲】[Claims]
  1. 【請求項1】回転軸に基端が取り付けられた複数の支持
    アームと、 該支持アーム各々の先端に取り付けられ、円板下面の外
    周部付近が載置される載置部と、 前記支持アーム各々の先端に、前記円板の周方向に所定
    距離を隔て、前記載置部を挟む形で配設され、前記円板
    の外周部にそれぞれの円筒面が接離可能である一対の可
    動ピンと、 を含んで構成されることを特徴とする円板回転用保持チ
    ャック。
    1. A plurality of support arms each having a base end attached to a rotating shaft, a mounting portion attached to a distal end of each of the support arms, and mounted near an outer peripheral portion of a lower surface of the disc; A pair of movable pins, each of which is disposed at a predetermined distance in a circumferential direction of the disk and sandwiches the mounting portion, and a cylindrical surface of each of which is capable of coming into contact with and separating from the outer periphery of the disk. A holding chuck for rotating a disc, comprising:
  2. 【請求項2】前記複数の支持アームは、3本であること
    を特徴とする請求項1に記載の円板回転用保持チャッ
    ク。
    2. The holding chuck for rotating a disk according to claim 1, wherein the number of the plurality of support arms is three.
  3. 【請求項3】前記複数の支持アームは、前記回転軸を中
    心とした円の周方向に相互に等角を成すことを特徴とす
    る請求項1または請求項2に記載の円板回転用保持チャ
    ック。
    3. The disk rotation holder according to claim 1, wherein the plurality of support arms are mutually equiangular in a circumferential direction of a circle about the rotation axis. Chuck.
  4. 【請求項4】前記可動ピンは、前記円板に接触する円筒
    面に、前記円板外周部の形状に応じた溝を有することを
    特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1つに記載の
    円板回転用保持チャック。
    4. The movable pin according to claim 1, wherein the movable pin has a groove on a cylindrical surface that contacts the disk, the groove corresponding to a shape of an outer peripheral portion of the disk. A holding chuck for rotating a disc according to item 1.
  5. 【請求項5】前記溝は、断面が楔型であることを特徴と
    する請求項4に記載の円板回転用保持チャック。
    5. The holding chuck for rotating a disk according to claim 4, wherein the groove has a wedge-shaped cross section.
  6. 【請求項6】前記載置部は、前記支持アームに突設した
    固定ピンの先端に形成された段部であることを特徴とす
    る請求項1〜請求項5のいずれか1つに記載の円板回転
    用保持チャック。
    6. The apparatus according to claim 1, wherein the mounting portion is a step formed at a tip of a fixing pin protruding from the support arm. Holding chuck for disk rotation.
  7. 【請求項7】前記固定ピンの先端に形成された段部は、
    前記固定ピンの突出方向に向かって先細りのテーパ状に
    形成されたことを特徴とする請求項6に記載の円板回転
    用保持チャック。
    7. A step formed at a tip of the fixing pin,
    The holding chuck for rotating a disk according to claim 6, wherein the holding chuck is formed in a tapered shape tapering in a protruding direction of the fixing pin.
  8. 【請求項8】前記固定ピンは、その先端部に、前記円板
    を前記段部に導くガイド部を有することを特徴とする請
    求項6または請求項7に記載の円板回転用保持チャッ
    ク。
    8. The holding chuck for rotating a disk according to claim 6, wherein said fixing pin has a guide portion at a tip end thereof for guiding said disk to said stepped portion.
  9. 【請求項9】前記ガイド部は、円錐形状の突起であるこ
    とを特徴とする請求項8に記載の円板回転用保持チャッ
    ク。
    9. The holding chuck for rotating a disk according to claim 8, wherein the guide portion is a conical projection.
  10. 【請求項10】前記支持アームの、前記載置部より所定距
    離だけ基端側に、前記円板下面を先端部により支持する
    補助支持ピンを設けたことを特徴とする請求項1〜請求
    項9のいずれか1つに記載の円板回転用保持チャック。
    10. An auxiliary support pin for supporting a lower surface of the disc by a distal end thereof at a base end of the support arm by a predetermined distance from the mounting portion. 10. The holding chuck for rotating a disk according to any one of 9 above.
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