JP2002038222A - 残留応力改善方法 - Google Patents
残留応力改善方法Info
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- JP2002038222A JP2002038222A JP2000226316A JP2000226316A JP2002038222A JP 2002038222 A JP2002038222 A JP 2002038222A JP 2000226316 A JP2000226316 A JP 2000226316A JP 2000226316 A JP2000226316 A JP 2000226316A JP 2002038222 A JP2002038222 A JP 2002038222A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】構造物内部の残留応力を改善する方法を提供す
る。 【解決手段】構造物１の表面上の複数箇所に衝撃２を与
え、この衝撃２により発生する複数の応力波３を前記構
造物１の内部で互いに干渉させることによって前記構造
物内部の残留応力を改善する。又、構造物１の全体ある
いは少くとも衝撃を与える部位を透明な液体中に浸漬
し、前記部位にパルスレーザを照射することによって衝
撃２を与えることもできる。
る。 【解決手段】構造物１の表面上の複数箇所に衝撃２を与
え、この衝撃２により発生する複数の応力波３を前記構
造物１の内部で互いに干渉させることによって前記構造
物内部の残留応力を改善する。又、構造物１の全体ある
いは少くとも衝撃を与える部位を透明な液体中に浸漬
し、前記部位にパルスレーザを照射することによって衝
撃２を与えることもできる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電力産業分野、一
般産業分野等における装置や設備等の構造物におけるき
裂発生を防止し、あるいは既に発生したき裂の進展を抑
制するための残留応力改善方法に関する。
般産業分野等における装置や設備等の構造物におけるき
裂発生を防止し、あるいは既に発生したき裂の進展を抑
制するための残留応力改善方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、構造物表面でのき裂の発生を抑制
する方法としてショットピーニングやレーザピーニング
による残留応力改善方法が実施されている。しかし、こ
れらの従来の方法は、構造物表面近傍の残留応力を改善
することを目的として実施されており、構造物内部の残
留応力を改善することは困難である。
する方法としてショットピーニングやレーザピーニング
による残留応力改善方法が実施されている。しかし、こ
れらの従来の方法は、構造物表面近傍の残留応力を改善
することを目的として実施されており、構造物内部の残
留応力を改善することは困難である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の残留応力改善方
法では、その効果が構造物表面に限定されるため、例え
ばはじめから構造物内部に存在していた欠陥からの疲労
現象などによるき裂の発生や進展を抑制することは困難
である。そのため、これら残留応力改善方法の適用され
る範囲も自ずと限定されている。本発明はこのような事
情に基づいてなされたもので、構造物内部の残留応力を
改善する方法を提供することを目的とする。
法では、その効果が構造物表面に限定されるため、例え
ばはじめから構造物内部に存在していた欠陥からの疲労
現象などによるき裂の発生や進展を抑制することは困難
である。そのため、これら残留応力改善方法の適用され
る範囲も自ずと限定されている。本発明はこのような事
情に基づいてなされたもので、構造物内部の残留応力を
改善する方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、構造
物の表面上の複数箇所に衝撃を与え、この衝撃により発
生する複数の応力波を前記構造物の内部で互いに干渉さ
せることによって前記構造物内部の残留応力を改善する
構成とする。この発明によれば、応力波による応力が構
造物の構成材料の圧縮の降伏応力を超えることによっ
て、構造物内部の残留応力を改善することができる。
物の表面上の複数箇所に衝撃を与え、この衝撃により発
生する複数の応力波を前記構造物の内部で互いに干渉さ
せることによって前記構造物内部の残留応力を改善する
構成とする。この発明によれば、応力波による応力が構
造物の構成材料の圧縮の降伏応力を超えることによっ
て、構造物内部の残留応力を改善することができる。
【０００５】請求項２の発明は、複数の応力波の干渉に
よって生じる焦点が構造物内の欠陥の先端に位置するよ
うにする構成とする。この発明によれば、欠陥先端の応
力集中を緩和して、欠陥からのき裂の発生や進展を抑制
することができる。
よって生じる焦点が構造物内の欠陥の先端に位置するよ
うにする構成とする。この発明によれば、欠陥先端の応
力集中を緩和して、欠陥からのき裂の発生や進展を抑制
することができる。
【０００６】請求項３の発明は、構造物の全体あるいは
少なくとも衝撃を与える部位を透明な液体中に浸漬し、
前記部位にパルスレーザを照射することによって衝撃を
与える構成とする。この発明によれば、パルスレーザと
いう電気的物理的手段によって空間的時間的に広狭多様
な衝撃を構造物に与えることができる。
少なくとも衝撃を与える部位を透明な液体中に浸漬し、
前記部位にパルスレーザを照射することによって衝撃を
与える構成とする。この発明によれば、パルスレーザと
いう電気的物理的手段によって空間的時間的に広狭多様
な衝撃を構造物に与えることができる。
【０００７】請求項４の発明は、パルスレーザのパルス
幅は10 psecから1 msecであり、レーザの１パルスあた
りのエネルギEＪと、パルス時間幅tｓと構造物表面での
レーザスポット面積Scm2との間に、106<E/(t×S)<1012
W/cm2の関係がある構成とする。この発明によれば、現
有の技術および材料において最も望ましい衝撃を構造物
に与えることができる。
幅は10 psecから1 msecであり、レーザの１パルスあた
りのエネルギEＪと、パルス時間幅tｓと構造物表面での
レーザスポット面積Scm2との間に、106<E/(t×S)<1012
W/cm2の関係がある構成とする。この発明によれば、現
有の技術および材料において最も望ましい衝撃を構造物
に与えることができる。
【０００８】請求項５の発明は、構造物表面上の複数箇
所に与える衝撃の時期をずらすことにより、複数の応力
波の焦点の位置を制御する構成とする。この発明によれ
ば、構造物の形状や設置状態から許容される便利な部位
から衝撃点を移動することなく、構造物内の任意の部分
に応力波の焦点をあてることができる。
所に与える衝撃の時期をずらすことにより、複数の応力
波の焦点の位置を制御する構成とする。この発明によれ
ば、構造物の形状や設置状態から許容される便利な部位
から衝撃点を移動することなく、構造物内の任意の部分
に応力波の焦点をあてることができる。
【０００９】請求項６の発明は、構造物表面上の複数箇
所に与える衝撃の時期のずれを連続的に変化させること
により、複数の応力波の焦点を移動させる構成とする。
この発明によれば、構造物内部の広い範囲にわたって残
留応力を改善することができる。
所に与える衝撃の時期のずれを連続的に変化させること
により、複数の応力波の焦点を移動させる構成とする。
この発明によれば、構造物内部の広い範囲にわたって残
留応力を改善することができる。
【００１０】請求項７の発明は、回転及びまたは平行移
動する反射手段を用いてレーザ光を反射し、構造物表面
の衝撃を与える部位を移動する構成とする。この発明に
よれば、レーザ光発生装置を移動することなく、構造物
内部の広い範囲にわたって残留応力を改善することがで
きる。
動する反射手段を用いてレーザ光を反射し、構造物表面
の衝撃を与える部位を移動する構成とする。この発明に
よれば、レーザ光発生装置を移動することなく、構造物
内部の広い範囲にわたって残留応力を改善することがで
きる。
【００１１】請求項８の発明は、構造物はステンレス鋼
製であり、前記構造物の表面の酸化膜を除去してステン
レス鋼基材層を露出させた後にレーザ光を透過しない被
覆層を形成し、この被覆層の表面にレーザ光を照射する
構成とする。この発明によれば、レーザ光照射時に発生
する熱を被覆層で遮断することにより構造物表面の過度
の温度上昇や溶融を防止し、応力波のみを構造物内部へ
伝達することができる。また、構造物表面の酸化物を除
去して被覆層とステンレス鋼基材の密着性を高め、構造
物内部へ伝達される応力波の減衰を少なくすることがで
きる。
製であり、前記構造物の表面の酸化膜を除去してステン
レス鋼基材層を露出させた後にレーザ光を透過しない被
覆層を形成し、この被覆層の表面にレーザ光を照射する
構成とする。この発明によれば、レーザ光照射時に発生
する熱を被覆層で遮断することにより構造物表面の過度
の温度上昇や溶融を防止し、応力波のみを構造物内部へ
伝達することができる。また、構造物表面の酸化物を除
去して被覆層とステンレス鋼基材の密着性を高め、構造
物内部へ伝達される応力波の減衰を少なくすることがで
きる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の残留応力改善方法
の実施の形態を図面を参照して説明する。図１は本発明
の第１の実施の形態を示す図である。すなわち、構造物
１の表面上の２箇所に衝撃２を与え、これにより発生す
る応力波３が構造物１内部を進行し、ある１点（焦点）
で干渉して強度を強め合い、構造物１の構成材料に塑性
変形を生ぜしめて、残留応力を改善する。
の実施の形態を図面を参照して説明する。図１は本発明
の第１の実施の形態を示す図である。すなわち、構造物
１の表面上の２箇所に衝撃２を与え、これにより発生す
る応力波３が構造物１内部を進行し、ある１点（焦点）
で干渉して強度を強め合い、構造物１の構成材料に塑性
変形を生ぜしめて、残留応力を改善する。
【００１３】図２は、本発明の第２の実施の形態を示す
図である。すなわち、構造物１の表面上２箇所において
衝撃２を与えるが、これにより発生する応力波３の焦点
が、内部に存在する欠陥４の先端に位置するよう、衝撃
２を与える位置を設定したものである。これにより、有
害な欠陥からのき裂発生および進展を選択的に抑制する
ことが可能となる。なお、欠陥は必ずしも構造物１内部
に完全に埋没しておらず、一部が構造物１の表面に現れ
ていてもかまわない。
図である。すなわち、構造物１の表面上２箇所において
衝撃２を与えるが、これにより発生する応力波３の焦点
が、内部に存在する欠陥４の先端に位置するよう、衝撃
２を与える位置を設定したものである。これにより、有
害な欠陥からのき裂発生および進展を選択的に抑制する
ことが可能となる。なお、欠陥は必ずしも構造物１内部
に完全に埋没しておらず、一部が構造物１の表面に現れ
ていてもかまわない。
【００１４】図３は本発明の第３の実施の形態を示す図
である。すなわち、２台のパルスレーザ発振器５が設置
され、これらパルスレーザ発振器５はレーザ発振の時期
を制御するタイミングコントローラ６に接続されてい
る。また、構造物１は液槽８の中で透明な液体９に浸漬
されている。
である。すなわち、２台のパルスレーザ発振器５が設置
され、これらパルスレーザ発振器５はレーザ発振の時期
を制御するタイミングコントローラ６に接続されてい
る。また、構造物１は液槽８の中で透明な液体９に浸漬
されている。
【００１５】２つのパルスレーザ発振器５はタイミング
コントローラ６により発せられた信号を受けてレーザ光
７を発射し、このレーザ光７が構造物１の表面２箇所に
衝突することにより、構造物１内部に応力波３を発生さ
せる。レーザ光７が構造物１の表面に衝突する際にプラ
ズマを発生するが、透明な液体９はこのプラズマを閉じ
込めて、いわば反力受けの役割を果たして構造物１によ
り高い圧力を与える。構造物１に発生した応力波３は上
記第１および第２の実施の形態におけると同様に構造物
１内部で干渉し残留応力を改善する。
コントローラ６により発せられた信号を受けてレーザ光
７を発射し、このレーザ光７が構造物１の表面２箇所に
衝突することにより、構造物１内部に応力波３を発生さ
せる。レーザ光７が構造物１の表面に衝突する際にプラ
ズマを発生するが、透明な液体９はこのプラズマを閉じ
込めて、いわば反力受けの役割を果たして構造物１によ
り高い圧力を与える。構造物１に発生した応力波３は上
記第１および第２の実施の形態におけると同様に構造物
１内部で干渉し残留応力を改善する。
【００１６】ここで、パルスレーザのパルス幅は10 pse
cから1 msecとし、レーザの１パルスあたりのエネルギE
ジュールと、パルス時間幅t秒と構造物１表面でのレー
ザスポット面積Scm2との間に、106<E/(t×S)<1012 W/cm
2の関係があるようにするのがよい。
cから1 msecとし、レーザの１パルスあたりのエネルギE
ジュールと、パルス時間幅t秒と構造物１表面でのレー
ザスポット面積Scm2との間に、106<E/(t×S)<1012 W/cm
2の関係があるようにするのがよい。
【００１７】さらに構造物１の内部に欠陥４が存在する
が、欠陥４の先端から適切な距離の位置にパルスレーザ
発振器５を設置することが困難な場合に、タイミングコ
ントローラ６により、２つのパルスレーザを発振器５発
振するタイミングをずらすことにより、２つの応力波３
の焦点を欠陥４の先端に位置させる。
が、欠陥４の先端から適切な距離の位置にパルスレーザ
発振器５を設置することが困難な場合に、タイミングコ
ントローラ６により、２つのパルスレーザを発振器５発
振するタイミングをずらすことにより、２つの応力波３
の焦点を欠陥４の先端に位置させる。
【００１８】すなわち、図３に示すように欠陥４の先端
から一方の衝撃２を与える点までの距離をd1、他方の衝
撃10を与える点までの距離をd2（ただし、d2>d1)、構造
物１中の応力波３の伝播速度をVとすると、衝撃２を与
える時期を衝撃10を与える時期よりも、 ｔ＝（ｄ２−ｄ１）／Ｖ …(1) で計算される時間tだけ遅らせることにより、欠陥４の
先端で応力波３の干渉を起こさせることができる。
から一方の衝撃２を与える点までの距離をd1、他方の衝
撃10を与える点までの距離をd2（ただし、d2>d1)、構造
物１中の応力波３の伝播速度をVとすると、衝撃２を与
える時期を衝撃10を与える時期よりも、 ｔ＝（ｄ２−ｄ１）／Ｖ …(1) で計算される時間tだけ遅らせることにより、欠陥４の
先端で応力波３の干渉を起こさせることができる。
【００１９】さらにタイミングコントローラ６により、
２つのパルスレーザ発振器５からレーザ光７を発振する
時期を連続的にずらすことで、２つの応力波３の焦点を
揺動させることにより、パルスレーザ発振器５を移動さ
せることなく、構造物１中の広い範囲にわたり残留応力
を改善することができる。
２つのパルスレーザ発振器５からレーザ光７を発振する
時期を連続的にずらすことで、２つの応力波３の焦点を
揺動させることにより、パルスレーザ発振器５を移動さ
せることなく、構造物１中の広い範囲にわたり残留応力
を改善することができる。
【００２０】さらに、２つの応力波３の振幅が構造物１
を構成する材料の降伏応力の１／２より大きい弾性波と
することで、構造物１の表面には残留応力その他の材質
的変化を与えずに、２つの応力波３が干渉する位置にお
いてのみ残留応力を改善することができる。
を構成する材料の降伏応力の１／２より大きい弾性波と
することで、構造物１の表面には残留応力その他の材質
的変化を与えずに、２つの応力波３が干渉する位置にお
いてのみ残留応力を改善することができる。
【００２１】すなわち、それぞれ単独の応力波３の大き
さは弾性範囲内にあるため、この応力波３が通過する部
位には材質的変化を生じないが、２つの応力波３が合成
されるときに構成材料の降伏応力を超えることにより塑
性変形を生じて残留応力を改善することが可能となる。
さは弾性範囲内にあるため、この応力波３が通過する部
位には材質的変化を生じないが、２つの応力波３が合成
されるときに構成材料の降伏応力を超えることにより塑
性変形を生じて残留応力を改善することが可能となる。
【００２２】また、図には示さないがパルスレーザ発振
器５が移動機構に据え付けられるかあるいは構造物１が
移動機構に据え付けられ、移動することにより衝撃２お
よび他方の衝撃10を与える位置を走査することで、広い
範囲の残留応力を改善することが可能である。この移動
機構は回転または平行移動またはその両方のいずれの動
作をしてもよく、一次元、二次元、三次元のいずれの方
向に動いてもよい。
器５が移動機構に据え付けられるかあるいは構造物１が
移動機構に据え付けられ、移動することにより衝撃２お
よび他方の衝撃10を与える位置を走査することで、広い
範囲の残留応力を改善することが可能である。この移動
機構は回転または平行移動またはその両方のいずれの動
作をしてもよく、一次元、二次元、三次元のいずれの方
向に動いてもよい。
【００２３】さらに、図には示さないが、レーザ光７は
回転または平行移動またはその両方の動作をする鏡によ
り反射された後に、構造物１の表面に照射され、この鏡
の向きあるいは位置を変えることにより衝撃２および他
方の衝撃10を与える位置を走査することで、広い範囲の
残留応力を改善することが可能である。
回転または平行移動またはその両方の動作をする鏡によ
り反射された後に、構造物１の表面に照射され、この鏡
の向きあるいは位置を変えることにより衝撃２および他
方の衝撃10を与える位置を走査することで、広い範囲の
残留応力を改善することが可能である。
【００２４】図４は本発明の第４の実施の形態を示す図
である。すなわち、構造物１の表面にはレーザ光７を透
過しない被覆層11が形成されており、レーザ光７はこの
被覆層11の表面に照射される。レーザ光７が被覆層11に
衝突する際に、高温、高圧のプラズマを発生するが、被
覆層11が遮熱することにより構造物１を溶融することな
く、応力波３を構造物１へ伝達して内部の残留応力を改
善することができる。ここで、構造物１がステンレス鋼
製である場合には、前処理として酸化膜を除去してステ
ンレス鋼基材層を露出させた後に被覆層11を形成する。
である。すなわち、構造物１の表面にはレーザ光７を透
過しない被覆層11が形成されており、レーザ光７はこの
被覆層11の表面に照射される。レーザ光７が被覆層11に
衝突する際に、高温、高圧のプラズマを発生するが、被
覆層11が遮熱することにより構造物１を溶融することな
く、応力波３を構造物１へ伝達して内部の残留応力を改
善することができる。ここで、構造物１がステンレス鋼
製である場合には、前処理として酸化膜を除去してステ
ンレス鋼基材層を露出させた後に被覆層11を形成する。
【００２５】また、構造物１がステンレス鋼製である場
合に、被覆層11は、Al，Sn，Inの低融点金属、または
Ｗ，Mo，Ta，Nb，Ti，Zr，Hfの高融点金属またはPt，A
u，Pdの貴金属から選択された少なくとも一種類からな
り、その被覆層の厚さは低融点金属の場合には、0.05mm
から0.2mm、高融点金属の場合には0.03mmから0.15mm、
貴金属の場合には0.03mmから0.25mmの範囲とするのがよ
い。構造物１がステンレス鋼製以外の材料からなり、被
覆層11が構造物１の材料と同一材料からなる場合には、
被覆層11の厚さは0.2mmから0.25mmの範囲がよい。
合に、被覆層11は、Al，Sn，Inの低融点金属、または
Ｗ，Mo，Ta，Nb，Ti，Zr，Hfの高融点金属またはPt，A
u，Pdの貴金属から選択された少なくとも一種類からな
り、その被覆層の厚さは低融点金属の場合には、0.05mm
から0.2mm、高融点金属の場合には0.03mmから0.15mm、
貴金属の場合には0.03mmから0.25mmの範囲とするのがよ
い。構造物１がステンレス鋼製以外の材料からなり、被
覆層11が構造物１の材料と同一材料からなる場合には、
被覆層11の厚さは0.2mmから0.25mmの範囲がよい。
【００２６】なお、以上の４つの実施の形態において
は、構造物１上の衝撃点が２個の場合を説明したが、こ
の衝撃点は３個以上であってもよい。３個以上の場合
は、応力波３の干渉の焦点を一層正確に位置決めするこ
とができる。また、立体的な構造物１内の任意の部分に
合わせることができる。
は、構造物１上の衝撃点が２個の場合を説明したが、こ
の衝撃点は３個以上であってもよい。３個以上の場合
は、応力波３の干渉の焦点を一層正確に位置決めするこ
とができる。また、立体的な構造物１内の任意の部分に
合わせることができる。
【００２７】
【発明の効果】本発明の残留応力改善方法によれば、構
造物の内部の残留応力を改善することができ、内部の欠
陥を起点とするき裂の発生、あるいは進展を抑制するこ
とができる。
造物の内部の残留応力を改善することができ、内部の欠
陥を起点とするき裂の発生、あるいは進展を抑制するこ
とができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態の残留応力改善方法
を示す模式図。
を示す模式図。
【図２】本発明の第２の実施の形態の残留応力改善方法
を示す模式図。
を示す模式図。
【図３】本発明の第３の実施の形態の残留応力改善方法
を示す模式図。
を示す模式図。
【図４】本発明の第４の実施の形態の残留応力改善方法
を示す模式図。
を示す模式図。
１…構造物、２…衝撃、３…応力波、４…欠陥、５…パ
ルスレーザ発振器、６…タイミングコントローラ、７…
レーザ光、８…液槽、９…透明な液体、10…他方の衝
撃、11…被覆層。
ルスレーザ発振器、６…タイミングコントローラ、７…
レーザ光、８…液槽、９…透明な液体、10…他方の衝
撃、11…被覆層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ２４Ｃ 1/10 Ｂ２４Ｃ 1/10 Ｚ Ｂ２３Ｋ 103:04 Ｂ２３Ｋ 103:04
Claims (8)
- 【請求項１】 構造物の表面上の複数箇所に衝撃を与
え、この衝撃により発生する複数の応力波を前記構造物
の内部で互いに干渉させることによって前記構造物内部
の残留応力を改善することを特徴とする残留応力改善方
法。 - 【請求項２】 複数の応力波の干渉によって生じる焦点
が構造物内の欠陥の先端に位置するようにすることを特
徴とする請求項１記載の残留応力改善方法。 - 【請求項３】 構造物の全体あるいは少なくとも衝撃を
与える部位を透明な液体中に浸漬し、前記部位にパルス
レーザを照射することによって衝撃を与えることを特徴
とする請求項１または２記載の残留応力改善方法。 - 【請求項４】 パルスレーザのパルス幅は10 psecから1
msecであり、レーザの１パルスあたりのエネルギEＪ
と、パルス時間幅tｓと構造物表面でのレーザスポット
面積Scm2との間に、106<E/(t×S)<1012 W/cm2の関係が
あることを特徴とする請求項3記載の残留応力改善方
法。 - 【請求項５】 構造物表面上の複数箇所に与える衝撃の
時期をずらすことにより、複数の応力波の焦点の位置を
制御することを特徴とする請求項1ないし４記載の残留
応力改善方法。 - 【請求項６】 構造物表面上の複数箇所に与える衝撃の
時期のずれを連続的に変化させることにより、複数の応
力波の焦点を移動させることを特徴とする請求項５記載
の残留応力改善方法。 - 【請求項７】 回転及びまたは平行移動する反射手段を
用いてレーザ光を反射し、構造物表面の衝撃を与える部
位を移動することを特徴とする請求項３または４記載の
残留応力改善方法。 - 【請求項８】 構造物はステンレス鋼製であり、前記構
造物の表面の酸化膜を除去してステンレス鋼基材層を露
出させた後にレーザ光を透過しない被覆層を形成し、こ
の被覆層の表面にレーザ光を照射することを特徴とする
請求項３または４記載の残留応力改善方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000226316A JP2002038222A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 残留応力改善方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000226316A JP2002038222A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 残留応力改善方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002038222A true JP2002038222A (ja) | 2002-02-06 |
Family
ID=18719953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000226316A Pending JP2002038222A (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | 残留応力改善方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002038222A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013525113A (ja) * | 2010-04-16 | 2013-06-20 | メタル インプルーブメント カンパニー エルエルシー | 高出力レーザシステムの為のフレキシブルビーム供給システム |
| JP7408378B2 (ja) | 2019-12-25 | 2024-01-05 | 株式会社ディスコ | ウエーハ生成方法、及びウエーハ生成装置 |
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2000
- 2000-07-27 JP JP2000226316A patent/JP2002038222A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013525113A (ja) * | 2010-04-16 | 2013-06-20 | メタル インプルーブメント カンパニー エルエルシー | 高出力レーザシステムの為のフレキシブルビーム供給システム |
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