JP2002035569A - 気−液触媒反応装置及び方法 - Google Patents
気−液触媒反応装置及び方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機化合物の水素化や酸化において使用され
るような気−液触媒反応に適した装置と、気−液反応方
法の提供。 【解決手段】 液の導入のための少なくとも１つの入
口、液の取り出しのための少なくとも１つの出口、及び
ガスの取り出しのための少なくとも１つの出口を有する
タンク４と、入口及び出口を有するポンプ６と、液を受
け入れるための少なくとも１つの入口、反応物ガスを受
け入れるための少なくとも１つの入口、及び当該液と当
該反応物ガスとの混合物をモノリス触媒反応器１０へ排
出するための少なくとも１つの出口を有する液体駆動式
のガスエジェクター８を含む装置とする。液をタンク４
からエジェクター８と反応器１０へ循環させてタンク４
へ戻し、ガスをタンク４から抜き出しエジェクター８へ
送り液と混合してから反応器１０に入れる。
るような気−液触媒反応に適した装置と、気−液反応方
法の提供。 【解決手段】 液の導入のための少なくとも１つの入
口、液の取り出しのための少なくとも１つの出口、及び
ガスの取り出しのための少なくとも１つの出口を有する
タンク４と、入口及び出口を有するポンプ６と、液を受
け入れるための少なくとも１つの入口、反応物ガスを受
け入れるための少なくとも１つの入口、及び当該液と当
該反応物ガスとの混合物をモノリス触媒反応器１０へ排
出するための少なくとも１つの出口を有する液体駆動式
のガスエジェクター８を含む装置とする。液をタンク４
からエジェクター８と反応器１０へ循環させてタンク４
へ戻し、ガスをタンク４から抜き出しエジェクター８へ
送り液と混合してから反応器１０に入れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機化合物の水素
化や酸化で使用されるような気−液触媒反応に適した装
置と方法に関する。
化や酸化で使用されるような気−液触媒反応に適した装
置と方法に関する。
【０００２】多くの工業的な反応、特に有機化合物の水
素化を伴うものは、スラリー触媒系を使用する撹拌タン
ク反応器で行われる。スラリー触媒は固相の微細粉体で
あり、液体反応媒体でもって搬送される。次に、反応性
ガス、例えば水素あるいは酸素といったものを、固相触
媒の存在下で液体有機化合物と接触させることにより、
触媒反応を行わせる。反応が終了したら、触媒を、一般
にはろ過により、除去し、そして反応生成物を回収す
る。
素化を伴うものは、スラリー触媒系を使用する撹拌タン
ク反応器で行われる。スラリー触媒は固相の微細粉体で
あり、液体反応媒体でもって搬送される。次に、反応性
ガス、例えば水素あるいは酸素といったものを、固相触
媒の存在下で液体有機化合物と接触させることにより、
触媒反応を行わせる。反応が終了したら、触媒を、一般
にはろ過により、除去し、そして反応生成物を回収す
る。
【０００３】スラリー触媒系は、産業衛生、安全性、環
境、廃棄物の生産、操作性、選択性及び生産性を含め
た、多数の分野において本質的に問題のあるものであ
る。例えば、一つの問題は、これらの触媒は撹拌タンク
反応器での一般的な水素化の作業の際に手で取り扱われ
ることがよくあることである。もう一つは、触媒の多
く、特に水素化触媒は、自然発火性でありそれにより付
加的な安全上の懸念を生じさせることである。反応速度
は大抵は触媒濃度の関数であり、それゆえ触媒濃度は一
般に高レベルに保持されることから、これらの問題はあ
る程度複合する。
境、廃棄物の生産、操作性、選択性及び生産性を含め
た、多数の分野において本質的に問題のあるものであ
る。例えば、一つの問題は、これらの触媒は撹拌タンク
反応器での一般的な水素化の作業の際に手で取り扱われ
ることがよくあることである。もう一つは、触媒の多
く、特に水素化触媒は、自然発火性でありそれにより付
加的な安全上の懸念を生じさせることである。反応速度
は大抵は触媒濃度の関数であり、それゆえ触媒濃度は一
般に高レベルに保持されることから、これらの問題はあ
る程度複合する。
【０００４】工業用の気−液反応で使用するのにモノリ
ス触媒が提案されているが、それらの成果は限られてい
る。スラリー触媒を上回るモノリス触媒の利点の一つ
は、それらが、触媒を詰めるのと反応が完了したならろ
過するのを含めて、粉体触媒の取り扱いをなくすことで
ある。
ス触媒が提案されているが、それらの成果は限られてい
る。スラリー触媒を上回るモノリス触媒の利点の一つ
は、それらが、触媒を詰めるのと反応が完了したならろ
過するのを含めて、粉体触媒の取り扱いをなくすことで
ある。
【０００５】次に示す論文と特許文献が、有機化合物の
水素化を含めて触媒プロセスの代表的なものである。
水素化を含めて触媒プロセスの代表的なものである。
【０００６】Ｈａｔｚｉａｎｔｏｎｉｏｕ， ｅｔ ａ
ｌ．，“Ｔｈｅ Ｓｅｇｍｅｎｔｅｄ Ｔｗｏ−Ｐｈａ
ｓｅ Ｆｌｏｗ Ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ Ｃａｔａｌｙ
ｓｔ Ｒｅａｃｔｏｒ． Ａｎ Ａｌｔｅｒｎａｔｉｖ
ｅ ｆｏｒ Ｌｉｑｕｉｄ−Ｐｈａｓｅ Ｈｙｄｒｏｇ
ｅｎａｔｉｏｎｓ”， Ｉｎｄ． Ｅｎｇ． Ｃｈｅ
ｍ． Ｆｕｎｄａｍ．， Ｖｏｌ．２３， Ｎｏ．１，
８２−８８（１９８４）には、固体パラジウムモノリ
ス触媒の存在下でのニトロ安息香酸のアミノ安息香酸へ
の液相での水素化が開示されている。このモノリス触媒
は、流路（ｃｈａｎｎｅｌ）当たりの断面積が１ｍｍ2
の平行流路の系を形成する波形面により互いに分離され
た多数の平行プレートからなっていた。このモノリスの
構成物には、アスベスト繊維により強化されたガラス、
アルミナ及び少量のこのほかの酸化物の混合物が、２．
５質量％のパラジウム量でモノリス中に取り込まれた金
属パラジウムとともに含まれていた。反応器系は、シミ
ュレーションされた等温バッチプロセスとして運転され
た。５０モル／ｍ3と１００モル／ｍ3の間の原料濃度
を、最終転化率が５０％と９８％の間になるまで１回の
通過当たり１０％未満の転化率で反応器を通し循環させ
た。
ｌ．，“Ｔｈｅ Ｓｅｇｍｅｎｔｅｄ Ｔｗｏ−Ｐｈａ
ｓｅ Ｆｌｏｗ Ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ Ｃａｔａｌｙ
ｓｔ Ｒｅａｃｔｏｒ． Ａｎ Ａｌｔｅｒｎａｔｉｖ
ｅ ｆｏｒ Ｌｉｑｕｉｄ−Ｐｈａｓｅ Ｈｙｄｒｏｇ
ｅｎａｔｉｏｎｓ”， Ｉｎｄ． Ｅｎｇ． Ｃｈｅ
ｍ． Ｆｕｎｄａｍ．， Ｖｏｌ．２３， Ｎｏ．１，
８２−８８（１９８４）には、固体パラジウムモノリ
ス触媒の存在下でのニトロ安息香酸のアミノ安息香酸へ
の液相での水素化が開示されている。このモノリス触媒
は、流路（ｃｈａｎｎｅｌ）当たりの断面積が１ｍｍ2
の平行流路の系を形成する波形面により互いに分離され
た多数の平行プレートからなっていた。このモノリスの
構成物には、アスベスト繊維により強化されたガラス、
アルミナ及び少量のこのほかの酸化物の混合物が、２．
５質量％のパラジウム量でモノリス中に取り込まれた金
属パラジウムとともに含まれていた。反応器系は、シミ
ュレーションされた等温バッチプロセスとして運転され
た。５０モル／ｍ3と１００モル／ｍ3の間の原料濃度
を、最終転化率が５０％と９８％の間になるまで１回の
通過当たり１０％未満の転化率で反応器を通し循環させ
た。
【０００７】Ｈａｔｚｉａｎｔｏｎｉｏｕ， ｅｔ ａ
ｌ．， “Ｍａｓｓ Ｔｒａｎｓｆｅｒ ａｎｄ Ｓｅ
ｌｅｃｔｉｖｉｔｙ ｉｎ Ｌｉｑｕｉｄ−Ｐｈａｓｅ
Ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ ｏｆ Ｎｉｔｒｏ Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄｓ ｉｎ ａＭｏｎｏｌｉｔｈｉｃ Ｃ
ａｔａｌｙｓｔ Ｒｅａｃｔｏｒ ｗｉｔｈ Ｓｅｇｍ
ｅｎｔｅｄ Ｇａｓ−Ｌｉｑｕｉｄ Ｆｌｏｗ”， Ｉ
ｎｄ． Ｅｍｇ．Ｃｈｅｍ． Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｄｅ
ｓ． Ｄｅｖ．， Ｖｏｌ．２５， Ｎｏ．４， ９６
４−９７０（１９８６）には、パラジウムを含浸したモ
ノリス触媒でのニトロベンゼンとｍ−ニトロトルエンの
等温の水素化が開示されている。著者らは、触媒の活性
は高く従って物質移動が速度を決定したと報告してい
る。水素化は５９０及び９８０ｋＰａにて７３及び１０
３℃の温度で行われた。１回の通過当たり１０％未満の
転化率が達成された。
ｌ．， “Ｍａｓｓ Ｔｒａｎｓｆｅｒ ａｎｄ Ｓｅ
ｌｅｃｔｉｖｉｔｙ ｉｎ Ｌｉｑｕｉｄ−Ｐｈａｓｅ
Ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ ｏｆ Ｎｉｔｒｏ Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄｓ ｉｎ ａＭｏｎｏｌｉｔｈｉｃ Ｃ
ａｔａｌｙｓｔ Ｒｅａｃｔｏｒ ｗｉｔｈ Ｓｅｇｍ
ｅｎｔｅｄ Ｇａｓ−Ｌｉｑｕｉｄ Ｆｌｏｗ”， Ｉ
ｎｄ． Ｅｍｇ．Ｃｈｅｍ． Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｄｅ
ｓ． Ｄｅｖ．， Ｖｏｌ．２５， Ｎｏ．４， ９６
４−９７０（１９８６）には、パラジウムを含浸したモ
ノリス触媒でのニトロベンゼンとｍ−ニトロトルエンの
等温の水素化が開示されている。著者らは、触媒の活性
は高く従って物質移動が速度を決定したと報告してい
る。水素化は５９０及び９８０ｋＰａにて７３及び１０
３℃の温度で行われた。１回の通過当たり１０％未満の
転化率が達成された。
【０００８】米国特許第４７４３５７７号明細書には、
水素化及び脱カルボニル化反応で使用するための、多孔
質の燒結金属基材上に薄い表面層として延ばした金属触
媒が開示されている。モノリスを作るには、パラジウム
等の第１の活性触媒材料を、多孔質の焼結基材の形で存
在している第２の金属の表面へ薄い金属層として延ば
し、その結果得られた触媒を水素化、脱酸素化及びその
他の化学反応のために使用する。このモノリス金属触媒
は、例えばパラジウム、ニッケル及びロジウム等の触媒
物質も、白金、銅、ルテニウム、コバルト及び混合物と
いったような触媒物質も組み入れる。担持用金属は、チ
タン、ジルコニウム、クロム、ニッケル及び合金類を包
含する。
水素化及び脱カルボニル化反応で使用するための、多孔
質の燒結金属基材上に薄い表面層として延ばした金属触
媒が開示されている。モノリスを作るには、パラジウム
等の第１の活性触媒材料を、多孔質の焼結基材の形で存
在している第２の金属の表面へ薄い金属層として延ば
し、その結果得られた触媒を水素化、脱酸素化及びその
他の化学反応のために使用する。このモノリス金属触媒
は、例えばパラジウム、ニッケル及びロジウム等の触媒
物質も、白金、銅、ルテニウム、コバルト及び混合物と
いったような触媒物質も組み入れる。担持用金属は、チ
タン、ジルコニウム、クロム、ニッケル及び合金類を包
含する。
【０００９】米国特許第５０６３０４３号明細書には、
モノリス反応器を使ってアントラキノンを水素化するた
めの方法が開示されている。この反応器は、反応器の頂
部へ液を分配し、降下する液による重力の作用によって
水素を反応器へ引き寄せるダウンフロー様式でもって運
転される。反応器の入口と出口の間に正味の圧力差のな
い、好ましい実施態様において、この様式の運転は重力
ダウンフローとして特徴づけることができる。
モノリス反応器を使ってアントラキノンを水素化するた
めの方法が開示されている。この反応器は、反応器の頂
部へ液を分配し、降下する液による重力の作用によって
水素を反応器へ引き寄せるダウンフロー様式でもって運
転される。反応器の入口と出口の間に正味の圧力差のな
い、好ましい実施態様において、この様式の運転は重力
ダウンフローとして特徴づけることができる。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、有機化合物の
水素化あるいは酸化において使用されるような気−液反
応に適した装置と、気−液反応を行うための方法に関す
る。この装置は、液の導入のための少なくとも１つの入
口、液の取り出しのための少なくとも１つの出口、及び
ガスの取り出しのための少なくとも１つの出口を有する
タンク、入口と出口とを有するポンプ、液を受け入れる
ための少なくとも１つの入口、反応物ガスを受け入れる
ための少なくとも１つの入口、及び当該液と当該反応物
ガスとの混合物を排出するための少なくとも１つの出口
を有する液体駆動式のガスエジェクター、入口と出口と
を有するモノリス触媒反応器、を含み、上記ポンプの上
記入口は液の取り出しのための上記タンクからの上記出
口に通じ、上記ポンプの上記出口は液を受け入れるため
の上記液体駆動式ガスエジェクターの上記入口に通じて
おり、得られた液とガス反応物との混合物を排出するた
めの上記液体駆動式ガスエジェクターからの出口は上記
モノリス触媒反応器への入口に通じ、当該モノリス触媒
反応器の出口は上記タンクへの少なくとも１つの入口に
通じており、そしてガスの取り出しのための上記タンク
からの出口はガスを受け入れるための上記液体駆動式ガ
スエジェクターの上記入口に通じている。
水素化あるいは酸化において使用されるような気−液反
応に適した装置と、気−液反応を行うための方法に関す
る。この装置は、液の導入のための少なくとも１つの入
口、液の取り出しのための少なくとも１つの出口、及び
ガスの取り出しのための少なくとも１つの出口を有する
タンク、入口と出口とを有するポンプ、液を受け入れる
ための少なくとも１つの入口、反応物ガスを受け入れる
ための少なくとも１つの入口、及び当該液と当該反応物
ガスとの混合物を排出するための少なくとも１つの出口
を有する液体駆動式のガスエジェクター、入口と出口と
を有するモノリス触媒反応器、を含み、上記ポンプの上
記入口は液の取り出しのための上記タンクからの上記出
口に通じ、上記ポンプの上記出口は液を受け入れるため
の上記液体駆動式ガスエジェクターの上記入口に通じて
おり、得られた液とガス反応物との混合物を排出するた
めの上記液体駆動式ガスエジェクターからの出口は上記
モノリス触媒反応器への入口に通じ、当該モノリス触媒
反応器の出口は上記タンクへの少なくとも１つの入口に
通じており、そしてガスの取り出しのための上記タンク
からの出口はガスを受け入れるための上記液体駆動式ガ
スエジェクターの上記入口に通じている。
【００１１】ここに記載された装置は、スラリー反応器
の触媒の改更（ｒｅｔｒｏｆｉｔ）を行うのを可能に
し、それにより次に掲げる利点の多くを提供するのを可
能にする。 ・スラリー触媒をなくし、それによりスラリー触媒プロ
セスにつきまとう取り扱い上の問題、環境問題、及び安
全上の問題を最小限にできること。 ・同じ装置において化学反応を別のものに変更する際に
触媒反応器を交換できること。 ・直列かあるいは並列に配置した複数の触媒反応器を使
うことにより複数の（順次又は並列の）反応を行うこと
ができること。 ・昇温及び冷却の際に反応物と反応生成物を触媒から切
り離しておき、それにより副生物の生成と触媒の失活を
最小限にできること。 ・液体駆動式ガスエジェクターとモノリス触媒反応器を
通しての反応器内容物の循環を開始又は停止することに
より反応を精密に開始又は停止させることができるこ
と。
の触媒の改更（ｒｅｔｒｏｆｉｔ）を行うのを可能に
し、それにより次に掲げる利点の多くを提供するのを可
能にする。 ・スラリー触媒をなくし、それによりスラリー触媒プロ
セスにつきまとう取り扱い上の問題、環境問題、及び安
全上の問題を最小限にできること。 ・同じ装置において化学反応を別のものに変更する際に
触媒反応器を交換できること。 ・直列かあるいは並列に配置した複数の触媒反応器を使
うことにより複数の（順次又は並列の）反応を行うこと
ができること。 ・昇温及び冷却の際に反応物と反応生成物を触媒から切
り離しておき、それにより副生物の生成と触媒の失活を
最小限にできること。 ・液体駆動式ガスエジェクターとモノリス触媒反応器を
通しての反応器内容物の循環を開始又は停止することに
より反応を精密に開始又は停止させることができるこ
と。
【００１２】
【発明の実施の形態】スラリープロセスは、過剰の副生
物の生成と触媒の汚染又は失活の問題に悩まされること
がよくある。これらの問題は、スラリー触媒での運転に
おける取り扱いと分離の問題に付加されるものである。
副生物の生成と触媒の失活についての１つの説明は、プ
ロセスの始動と停止の際に、触媒は液相及びこの液相中
の反応物及び／又は反応生成物と長い間接触することで
ある。始動と停止の際の条件には昇温、冷却、昇圧、そ
して撹拌タンクの通気が含まれ、それらは製品の品質と
触媒の活性に有害な影響を及ぼすことがある。例えば、
変更を行う際の条件は、特に触媒が反応生成物と接して
いるときの停止の際のものは、副生物の生成と触媒の失
活を促進することがよくある。こうして、触媒と反応物
及び反応生成物との長い接触は運転員が反応条件を制御
する能力を制限する。
物の生成と触媒の汚染又は失活の問題に悩まされること
がよくある。これらの問題は、スラリー触媒での運転に
おける取り扱いと分離の問題に付加されるものである。
副生物の生成と触媒の失活についての１つの説明は、プ
ロセスの始動と停止の際に、触媒は液相及びこの液相中
の反応物及び／又は反応生成物と長い間接触することで
ある。始動と停止の際の条件には昇温、冷却、昇圧、そ
して撹拌タンクの通気が含まれ、それらは製品の品質と
触媒の活性に有害な影響を及ぼすことがある。例えば、
変更を行う際の条件は、特に触媒が反応生成物と接して
いるときの停止の際のものは、副生物の生成と触媒の失
活を促進することがよくある。こうして、触媒と反応物
及び反応生成物との長い接触は運転員が反応条件を制御
する能力を制限する。
【００１３】モノリス触媒を備えた改装（ｒｅｔｒｏｆ
ｉｔ）した撹拌タンク反応器の理解を容易にし、またそ
れがどのようにして上述の問題を処理しそしてその結果
として得ることができる多くの利点を獲得するのかを理
解するために、図１を参照して説明することにする。図
１は、モノリス触媒反応器を使用する撹拌タンク反応器
のための改装装置を模式的に示している。この改装系
（改装装置）２は、タンク４、循環ポンプ６、液体駆動
式ガスエジェクター８、及びモノリス触媒反応器１０を
含む。
ｉｔ）した撹拌タンク反応器の理解を容易にし、またそ
れがどのようにして上述の問題を処理しそしてその結果
として得ることができる多くの利点を獲得するのかを理
解するために、図１を参照して説明することにする。図
１は、モノリス触媒反応器を使用する撹拌タンク反応器
のための改装装置を模式的に示している。この改装系
（改装装置）２は、タンク４、循環ポンプ６、液体駆動
式ガスエジェクター８、及びモノリス触媒反応器１０を
含む。
【００１４】普通は改装以前に撹拌タンクスラリー反応
器として存在していた、タンク４は、その中の内容物の
加熱及び冷却を行うためのジャケット１２と、攪拌機１
４とを有する。改装装置２では、このほかの手段、例え
ばタンク内容物の加熱と冷却及び撹拌のための外部熱交
換器などの、工業的な実務で普通に見られるようなもの
を使用してもよい。タンク４は、液体原料の入口を少な
くとも１つ、典型的には２つ又は３つ、備えている。図
示のように、入口１６は液体原料又は反応物を導入する
ようにし、そしてこの液体原料又は反応物は液体成分か
らなること、あるいはそのような成分の適当な溶媒溶液
からなることができる。入口管路１８は、モノリス触媒
反応器１０の出口からの反応流出物を導入するようにす
る。反応生成物からなり、また条件により未反応の原料
を含有していることがある、液体流出物は、タンク４か
ら出口２０を通り循環ポンプ６の入口へと流れる。
器として存在していた、タンク４は、その中の内容物の
加熱及び冷却を行うためのジャケット１２と、攪拌機１
４とを有する。改装装置２では、このほかの手段、例え
ばタンク内容物の加熱と冷却及び撹拌のための外部熱交
換器などの、工業的な実務で普通に見られるようなもの
を使用してもよい。タンク４は、液体原料の入口を少な
くとも１つ、典型的には２つ又は３つ、備えている。図
示のように、入口１６は液体原料又は反応物を導入する
ようにし、そしてこの液体原料又は反応物は液体成分か
らなること、あるいはそのような成分の適当な溶媒溶液
からなることができる。入口管路１８は、モノリス触媒
反応器１０の出口からの反応流出物を導入するようにす
る。反応生成物からなり、また条件により未反応の原料
を含有していることがある、液体流出物は、タンク４か
ら出口２０を通り循環ポンプ６の入口へと流れる。
【００１５】循環ポンプ６は、液体反応物を循環管路２
２を通して液体駆動式ガスエジェクター８へ移送し、液
の流量は制御弁２３によるかあるいは循環ポンプ６によ
り制御される。循環ポンプ６は、管路２４を通してタン
ク４の上方空間から又は補給ガス管路２６から液体駆動
式ガスエジェクターのガス入口へ反応物ガスを引き寄せ
るための推進エネルギーを提供する。最大のガス流量は
液の流量により決定される。それは弁２７を用いてより
小さい流量に制御されることもある。
２を通して液体駆動式ガスエジェクター８へ移送し、液
の流量は制御弁２３によるかあるいは循環ポンプ６によ
り制御される。循環ポンプ６は、管路２４を通してタン
ク４の上方空間から又は補給ガス管路２６から液体駆動
式ガスエジェクターのガス入口へ反応物ガスを引き寄せ
るための推進エネルギーを提供する。最大のガス流量は
液の流量により決定される。それは弁２７を用いてより
小さい流量に制御されることもある。
【００１６】モノリス触媒反応器１０自体は構造体を含
み、この構造体はその長さ方向に沿って延びる平行の流
路を有する。モノリスと一般に称されるこの構造体は、
セラミック、炭素もしくは金属基材、又はそれらの組み
合わせから製作することができる。この構造体には、触
媒作製の技術において知られている方法を使って直接、
あるいはウォッシュコーティング又はカーボンコーティ
ングの手法を利用して、触媒物質が塗布される。あるい
はまた、流路の表面へ触媒物質を塗布するのでなく、触
媒粒子を流路に配置してもよい。モノリス触媒反応器の
流路は、様々な形状であることができ、例えば円形、正
方形、長方形又は六角形であることができる。この構造
体は断面積６．４５ｃｍ2（１平方インチ）当たり１０
〜１０００の孔（ｃｅｌｌ）を有することができる。触
媒を充填したモノリス担体は６．４５ｃｍ2（１平方イ
ンチ）当たり１０〜５０の孔を有することができ、その
一方、表面に触媒を塗布したモノリス担体は６．４５ｃ
ｍ2（１平方インチ）当たり２００〜１０００の孔を有
することができる。
み、この構造体はその長さ方向に沿って延びる平行の流
路を有する。モノリスと一般に称されるこの構造体は、
セラミック、炭素もしくは金属基材、又はそれらの組み
合わせから製作することができる。この構造体には、触
媒作製の技術において知られている方法を使って直接、
あるいはウォッシュコーティング又はカーボンコーティ
ングの手法を利用して、触媒物質が塗布される。あるい
はまた、流路の表面へ触媒物質を塗布するのでなく、触
媒粒子を流路に配置してもよい。モノリス触媒反応器の
流路は、様々な形状であることができ、例えば円形、正
方形、長方形又は六角形であることができる。この構造
体は断面積６．４５ｃｍ2（１平方インチ）当たり１０
〜１０００の孔（ｃｅｌｌ）を有することができる。触
媒を充填したモノリス担体は６．４５ｃｍ2（１平方イ
ンチ）当たり１０〜５０の孔を有することができ、その
一方、表面に触媒を塗布したモノリス担体は６．４５ｃ
ｍ2（１平方インチ）当たり２００〜１０００の孔を有
することができる。
【００１７】実施しようとする反応に応じて、広範囲の
様々な触媒活性物質をモノリス触媒反応器へ組み入れる
ことができる。実例には、貴金属と遷移金属、ラネー金
属、金属酸化物と硫化物、金属錯体と酵素、そしてそれ
らの組み合わせ又は混合物、例えばパラジウム−ニッケ
ルの組み合わせ等、が含まれる。触媒活性物質の濃度
は、反応の速度と触媒表面への物質移動の速度により決
定され、そして一般には、モノリスの重量に関して規定
するか、あるいはウォッシュコートが用いられる場合に
はその重量に関して規定して、０．５から１０質量％の
範囲にある。
様々な触媒活性物質をモノリス触媒反応器へ組み入れる
ことができる。実例には、貴金属と遷移金属、ラネー金
属、金属酸化物と硫化物、金属錯体と酵素、そしてそれ
らの組み合わせ又は混合物、例えばパラジウム−ニッケ
ルの組み合わせ等、が含まれる。触媒活性物質の濃度
は、反応の速度と触媒表面への物質移動の速度により決
定され、そして一般には、モノリスの重量に関して規定
するか、あるいはウォッシュコートが用いられる場合に
はその重量に関して規定して、０．５から１０質量％の
範囲にある。
【００１８】反応器の直径と長さは、反応器内における
速度と滞留時間を所望のものにするように決められる。
反応器の直径は、反応器を通る液の見掛け速度（ｓｕｐ
ｅｒｆｉｃａｌ ｖｅｌｏｃｉｔｙ）が０．０５〜１．
０ｍ／ｓ、好ましくは０．１〜０．５ｍ／ｓになるよう
に選ばれる。これらの流量は大きな物質移動の速度を得
るのに必要なものと一致する。反応器の長さは、化学反
応が進行する速度に応じて、反応器内の滞留時間が０．
５〜６０秒になるように選ばれる。実用上の考慮から、
反応器の長さは反応器の直径の半分以上に、そして一般
には約３ｍ以下に制限される。
速度と滞留時間を所望のものにするように決められる。
反応器の直径は、反応器を通る液の見掛け速度（ｓｕｐ
ｅｒｆｉｃａｌ ｖｅｌｏｃｉｔｙ）が０．０５〜１．
０ｍ／ｓ、好ましくは０．１〜０．５ｍ／ｓになるよう
に選ばれる。これらの流量は大きな物質移動の速度を得
るのに必要なものと一致する。反応器の長さは、化学反
応が進行する速度に応じて、反応器内の滞留時間が０．
５〜６０秒になるように選ばれる。実用上の考慮から、
反応器の長さは反応器の直径の半分以上に、そして一般
には約３ｍ以下に制限される。
【００１９】装置の構成要素のモノリス触媒反応器の性
能は、その入口に液体駆動式のガスエジェクターを含め
ることにより高められることが分かった。この液体駆動
式ガスエジェクターは、モノリス触媒反応器での混合と
物質移動の両方を増進するための条件下で液を反応物ガ
スと一緒にする。これらの増進は、液体駆動式ガスエジ
ェクターがモノリス触媒反応器へ供給する気−液混合物
の圧力の制御を可能にすることから得ることができる。
液体駆動式ガスエジェクターにより定められるこの入口
圧力はモノリス触媒反応器における液ヘッドを超えるこ
とが所望される。ここでは、この圧力差は本質的にはポ
ンド／平方インチでの差圧（ｐｓｉｄ）として表され
る。一般に、圧力差は０〜約２０７ｋＰａ（０〜約３０
ｐｓｉｄ）の範囲でよいが、好ましいのは３．４５〜約
１３８ｋＰａ（０．５〜約２０ｐｓｉｄ）の範囲であ
る。
能は、その入口に液体駆動式のガスエジェクターを含め
ることにより高められることが分かった。この液体駆動
式ガスエジェクターは、モノリス触媒反応器での混合と
物質移動の両方を増進するための条件下で液を反応物ガ
スと一緒にする。これらの増進は、液体駆動式ガスエジ
ェクターがモノリス触媒反応器へ供給する気−液混合物
の圧力の制御を可能にすることから得ることができる。
液体駆動式ガスエジェクターにより定められるこの入口
圧力はモノリス触媒反応器における液ヘッドを超えるこ
とが所望される。ここでは、この圧力差は本質的にはポ
ンド／平方インチでの差圧（ｐｓｉｄ）として表され
る。一般に、圧力差は０〜約２０７ｋＰａ（０〜約３０
ｐｓｉｄ）の範囲でよいが、好ましいのは３．４５〜約
１３８ｋＰａ（０．５〜約２０ｐｓｉｄ）の範囲であ
る。
【００２０】改装装置により得られる利点の一つは、反
応物と反応生成物とが、これらの成分が反応工程の間触
媒自体と接触している期間を除き、触媒から切り離して
おかれることである。これは、タンク４を使用する改装
装置の特異な構成により達成されるものであり、そして
触媒活性の増進、触媒の失活の減少、及びより少ない副
生物を可能にする。この向上した性能を得るための運転
の様式を、以下において説明する。
応物と反応生成物とが、これらの成分が反応工程の間触
媒自体と接触している期間を除き、触媒から切り離して
おかれることである。これは、タンク４を使用する改装
装置の特異な構成により達成されるものであり、そして
触媒活性の増進、触媒の失活の減少、及びより少ない副
生物を可能にする。この向上した性能を得るための運転
の様式を、以下において説明する。
【００２１】液を原料管路１６を通してタンク４に入れ
る。状況によっては、液を液体駆動のガスエジェクター
又はモノリス触媒反応器の上流又は下流の循環管路２２
へ供給するのが有利なことがある。このタンクで作られ
た原料を循環ポンプにより液体駆動のガスエジェクター
へ循環させて、ガスと混合させる。このプロセスはバッ
チとして運転してもよく、それによりタンク４の内容物
は、所望の転化率に達するまで、タンクからエジェクタ
ーを通し、モノリス触媒反応器を通して運ばれ、そして
次にタンク反応器へ戻される。随意に、このプロセスは
製品管路２８を通し液のうちの一部を抜き出すことによ
り連続式に運転してもよい。プロセスを連続式に運転し
ない場合には、反応に必要とされる全ての条件が達成さ
れた後に限り、例えば液が所定温度に加熱されそして反
応物ガスが所定圧力に昇圧されてからに限り、液の循環
を始めるのが通常は有利である。
る。状況によっては、液を液体駆動のガスエジェクター
又はモノリス触媒反応器の上流又は下流の循環管路２２
へ供給するのが有利なことがある。このタンクで作られ
た原料を循環ポンプにより液体駆動のガスエジェクター
へ循環させて、ガスと混合させる。このプロセスはバッ
チとして運転してもよく、それによりタンク４の内容物
は、所望の転化率に達するまで、タンクからエジェクタ
ーを通し、モノリス触媒反応器を通して運ばれ、そして
次にタンク反応器へ戻される。随意に、このプロセスは
製品管路２８を通し液のうちの一部を抜き出すことによ
り連続式に運転してもよい。プロセスを連続式に運転し
ない場合には、反応に必要とされる全ての条件が達成さ
れた後に限り、例えば液が所定温度に加熱されそして反
応物ガスが所定圧力に昇圧されてからに限り、液の循環
を始めるのが通常は有利である。
【００２２】液をタンク４から循環ポンプ６により循環
させて、液体駆動式ガスエジェクター８の入口へ管路２
２を通して移送する。反応のための気体成分を、タンク
４の上方空間から吸引管路２４を通して抜き出し、そし
て液体駆動のガスエジェクターへ導入された高圧の液に
より圧縮し同時にそれと混合する。一般に、反応物ガス
の体積流量は反応物液体の体積の約５〜２００％、典型
的には５０〜１５０％である。触媒反応器において反応
物ガスが消費されるにつれて、それを管路２６を通って
入ってくる補給ガスで補ってもよい。補給ガスはプロセ
スにいずれの箇所で導入してもよく、例えばタンク４の
上方空間又は液体内容物へ、吸引管路２４へ、あるいは
エジェクターの下流の配管へ導入してもよい。
させて、液体駆動式ガスエジェクター８の入口へ管路２
２を通して移送する。反応のための気体成分を、タンク
４の上方空間から吸引管路２４を通して抜き出し、そし
て液体駆動のガスエジェクターへ導入された高圧の液に
より圧縮し同時にそれと混合する。一般に、反応物ガス
の体積流量は反応物液体の体積の約５〜２００％、典型
的には５０〜１５０％である。触媒反応器において反応
物ガスが消費されるにつれて、それを管路２６を通って
入ってくる補給ガスで補ってもよい。補給ガスはプロセ
スにいずれの箇所で導入してもよく、例えばタンク４の
上方空間又は液体内容物へ、吸引管路２４へ、あるいは
エジェクターの下流の配管へ導入してもよい。
【００２３】液体駆動式ガスエジェクターの導入は、重
力ダウンフロー様式での運転を上回る少なからぬ利点を
提供する。重力ダウンフロー様式では、液の見掛け速度
は流動通路（モノリス流路、あるいはこれらの流路内の
粒子間の間隔）の寸法によって大部分が決定される。重
力ダウンフローでの運転は、大抵の実用的な場合におい
て、６．４５ｃｍ2（１平方インチ）の断面当たりの妨
害なしの流路が４００以下であるモノリスに制限され
る。また、重力様式は流れの不安定性と流動方向の逆転
をこうむりやすい。モノリス触媒反応器を通して大きな
圧力差を生じさせること及び液の速度を大きくすること
ができることは、物質移動の速度の増大を可能にする。
それはまた、上向きの流動様式あるいは水平位置でのも
のを含めて、モノリスを垂直に対して任意の角度で運転
するのも可能にし、またそれはプロセスの不安定性を回
避する。
力ダウンフロー様式での運転を上回る少なからぬ利点を
提供する。重力ダウンフロー様式では、液の見掛け速度
は流動通路（モノリス流路、あるいはこれらの流路内の
粒子間の間隔）の寸法によって大部分が決定される。重
力ダウンフローでの運転は、大抵の実用的な場合におい
て、６．４５ｃｍ2（１平方インチ）の断面当たりの妨
害なしの流路が４００以下であるモノリスに制限され
る。また、重力様式は流れの不安定性と流動方向の逆転
をこうむりやすい。モノリス触媒反応器を通して大きな
圧力差を生じさせること及び液の速度を大きくすること
ができることは、物質移動の速度の増大を可能にする。
それはまた、上向きの流動様式あるいは水平位置でのも
のを含めて、モノリスを垂直に対して任意の角度で運転
するのも可能にし、またそれはプロセスの不安定性を回
避する。
【００２４】改装装置の構成要素の反応器は原料から及
びタンク４内に保持される反応生成物から切り離される
ので、反応は所望の転化率に達するまで行うことがで
き、その時点で反応器を通しての循環を終了させる。最
終の反応生成物は管路２８を通して取り出される。これ
は、転化率がより高くなると副生物の生成がより多くな
ることがよくあるので、転化率を選択性とともに最適に
するのを可能にする。更に、所定の転化率において、副
生物の生成は通常の撹拌タンクの運転におけるよりも少
なくなるが、これは、液が反応系の触媒成分と絶え間な
く接触しないからであり、またエジェクターとモノリス
触媒反応器との組み合わせによって大きな物質移動の速
度を機械的に得ることができるからである。
びタンク４内に保持される反応生成物から切り離される
ので、反応は所望の転化率に達するまで行うことがで
き、その時点で反応器を通しての循環を終了させる。最
終の反応生成物は管路２８を通して取り出される。これ
は、転化率がより高くなると副生物の生成がより多くな
ることがよくあるので、転化率を選択性とともに最適に
するのを可能にする。更に、所定の転化率において、副
生物の生成は通常の撹拌タンクの運転におけるよりも少
なくなるが、これは、液が反応系の触媒成分と絶え間な
く接触しないからであり、またエジェクターとモノリス
触媒反応器との組み合わせによって大きな物質移動の速
度を機械的に得ることができるからである。
【００２５】
【実施例】以下に掲げる例は、本発明の種々の態様を説
明するものであり、また従来技術と比較するものであ
る。
明するものであり、また従来技術と比較するものであ
る。
【００２６】〔例１〕−モノリス構造体を通しての重力
ダウンフロー この例では、本発明の構成機器（タンク、ポンプ、液体
駆動式ガスエジェクター、及び直径が５０．８ｍｍ（２
インチ）、長さが６１０ｍｍ（２４インチ）であり、
６．４５ｃｍ2（１平方インチ）の断面積当たり４００
の流路のあるモノリス構造体）を使用し、定常状態の亜
硫酸塩酸化法を使って、気相（空気）から液相（亜硫酸
ナトリウムの水溶液）への酸素の物質移動の速度を測定
した。液体駆動式ガスエジェクターを気−液分配装置と
して使用したが、運転は重力ダウンフロー条件をシミュ
レートするようにして行った。
ダウンフロー この例では、本発明の構成機器（タンク、ポンプ、液体
駆動式ガスエジェクター、及び直径が５０．８ｍｍ（２
インチ）、長さが６１０ｍｍ（２４インチ）であり、
６．４５ｃｍ2（１平方インチ）の断面積当たり４００
の流路のあるモノリス構造体）を使用し、定常状態の亜
硫酸塩酸化法を使って、気相（空気）から液相（亜硫酸
ナトリウムの水溶液）への酸素の物質移動の速度を測定
した。液体駆動式ガスエジェクターを気−液分配装置と
して使用したが、運転は重力ダウンフロー条件をシミュ
レートするようにして行った。
【００２７】エジェクターとモノリス構造体を通る液の
流量を、モノリス構造体を通しての正味の圧力損失がな
いように、すなわち摩擦圧力損失が静圧の増加と等しく
なるように、選定した。この条件は液の流量を制限する
ことにより得られ、そして次に示す運転パラメーター、
すなわち液流量９．１リットル／ｍｉｎ、ガス流量１
０．０リットル／ｍｉｎ、エジェクターへの入口での液
圧力７６ｋＰａ（ゲージ圧）（１１ｐｓｉｇ）、正味の
圧力損失０ｐｓｉｄ、で達成された。
流量を、モノリス構造体を通しての正味の圧力損失がな
いように、すなわち摩擦圧力損失が静圧の増加と等しく
なるように、選定した。この条件は液の流量を制限する
ことにより得られ、そして次に示す運転パラメーター、
すなわち液流量９．１リットル／ｍｉｎ、ガス流量１
０．０リットル／ｍｉｎ、エジェクターへの入口での液
圧力７６ｋＰａ（ゲージ圧）（１１ｐｓｉｇ）、正味の
圧力損失０ｐｓｉｄ、で達成された。
【００２８】物質移動の速度は、気−液物質移動容量係
数ｋLａを用いて表される。ｋLａの値が大きくなればな
るほど、反応性気−液環境での反応器の潜在的生産性は
大きくなる。係数ｋLａをこの条件で測定して、１．４
５ｓ-1であることが分かった。
数ｋLａを用いて表される。ｋLａの値が大きくなればな
るほど、反応性気−液環境での反応器の潜在的生産性は
大きくなる。係数ｋLａをこの条件で測定して、１．４
５ｓ-1であることが分かった。
【００２９】〔例２〕−モノリス構造体を通してのエジ
ェクター推進の流れ 例１において説明した装置を使用し、エジェクターを液
−気分配装置とガス圧縮機の両方として使って、すなわ
ち液流量を制限することなく、流動条件を確立した。こ
の条件において、上記に対応する運転パラメーターは、
液流量２３．９リットル／ｍｉｎ、ガス流量３６．１リ
ットル／ｍｉｎ、エジェクターへの入口での液圧力４５
０ｋＰａ（ゲージ圧）（６５ｐｓｉｇ）、正味の圧力損
失およそ２３ｋＰａ（３．３ｐｓｉｄ）、であった。係
数ｋLａをこの条件で測定して、５．４８ｓ-1であるこ
とが分かった。
ェクター推進の流れ 例１において説明した装置を使用し、エジェクターを液
−気分配装置とガス圧縮機の両方として使って、すなわ
ち液流量を制限することなく、流動条件を確立した。こ
の条件において、上記に対応する運転パラメーターは、
液流量２３．９リットル／ｍｉｎ、ガス流量３６．１リ
ットル／ｍｉｎ、エジェクターへの入口での液圧力４５
０ｋＰａ（ゲージ圧）（６５ｐｓｉｇ）、正味の圧力損
失およそ２３ｋＰａ（３．３ｐｓｉｄ）、であった。係
数ｋLａをこの条件で測定して、５．４８ｓ-1であるこ
とが分かった。
【００３０】下記の表１は、例１と例２の結果を比較し
て示している。
て示している。
【００３１】
【表１】
【００３２】表１から明らかなとおり、重力ダウンフロ
ー様式の運転は得ることができる液及びガスの見掛け速
度を制限し、そしてそれにより気−液物質移動係数を制
限する。エジェクター駆動の流動様式では、正味の正の
圧力損失を利用して液及びガスの見掛け速度を増加させ
ることができ、そしてこれは気−液物質移動係数に大き
な利益をもたらす。物質移動におけるこの大きな改良
は、液体駆動のガスエジェクターにより与えられる正味
の圧力の推進力によるものである。正の圧力推進力を得
ることができることは、より制限されたモノリス触媒反
応器と、単位面積当たりの流路の数がより多いモノリス
触媒反応器を、高レベルの物質移動と同時に使用するの
を可能にし、そしてそれは生産性を高めることができ
る。
ー様式の運転は得ることができる液及びガスの見掛け速
度を制限し、そしてそれにより気−液物質移動係数を制
限する。エジェクター駆動の流動様式では、正味の正の
圧力損失を利用して液及びガスの見掛け速度を増加させ
ることができ、そしてこれは気−液物質移動係数に大き
な利益をもたらす。物質移動におけるこの大きな改良
は、液体駆動のガスエジェクターにより与えられる正味
の圧力の推進力によるものである。正の圧力推進力を得
ることができることは、より制限されたモノリス触媒反
応器と、単位面積当たりの流路の数がより多いモノリス
触媒反応器を、高レベルの物質移動と同時に使用するの
を可能にし、そしてそれは生産性を高めることができ
る。
【図１】モノリス触媒反応器とともに使用するために改
装された撹拌タンク反応器を説明する図である。
装された撹拌タンク反応器を説明する図である。
４…タンク ６…循環ポンプ ８…液体駆動式ガスエジェクター １０…モノリス触媒反応器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レイナルド マリオ マチャド アメリカ合衆国，ペンシルベニア 18104, アレンタウン，フォーシシア レーン 128 (72)発明者 ロバート ロジャー ブロークイス アメリカ合衆国，ペンシルベニア 18104, アレンタウン，ホープウェル ドライブ 279 Ｆターム(参考） 4G069 AA01 AA03 AA08 BC29A CB02 CB07 DA06 EB14X FA03 FB23 4G070 AA01 AA03 AB07 BA10 BB01 CA01 CA30 CB17 DA21 4H006 AA04 AC11 AC52 BA25 BD84
Claims (15)
- 【請求項１】 気−液反応のための装置であって、 液の導入のための少なくとも１つの入口、液の取り出し
のための少なくとも１つの出口、及びガスの取り出しの
ための少なくとも１つの出口を有するタンク、入口と出
口とを有するポンプ、 液を受け入れるための少なくとも１つの入口、反応物ガ
スを受け入れるための少なくとも１つの入口、及び当該
液と当該反応物ガスとの混合物を排出するための少なく
とも１つの出口を有する液体駆動式のガスエジェクタ
ー、 入口と出口とを有するモノリス触媒反応器、を含み、上
記ポンプの上記入口は液の取り出しのための上記タンク
からの上記出口に通じ、また上記ポンプの上記出口は液
を受け入れるための上記液体駆動式ガスエジェクターの
上記入口に通じており、 得られた液とガス反応物との混合物を排出するための上
記液体駆動式ガスエジェクターからの出口は上記モノリ
ス触媒反応器への入口に通じ、また当該モノリス触媒反
応器の出口は上記タンクへの少なくとも１つの入口に通
じており、 そしてガスの取り出しのための上記タンクからの出口は
ガスを受け入れるための上記液体駆動式ガスエジェクタ
ーの上記入口に通じている、気−液反応装置。 - 【請求項２】 前記モノリス触媒反応器が６．４５ｃｍ
2（１平方インチ）の断面積当たり１０〜１０００の流
路を有する、請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 モノリス構造体が金属、セラミックもし
くはカーボン、又はそれらの組み合わせから製作されて
いる、請求項２記載の装置。 - 【請求項４】 モノリスの流路に触媒粒子が充填され、
そして前記モノリス触媒反応器が６．４５ｃｍ2（１平
方インチ）当たり１０〜５０の流路を有する、請求項３
記載の装置。 - 【請求項５】 担体に触媒金属が塗布されている、請求
項３記載の装置。 - 【請求項６】 前記担体が６．４５ｃｍ2（１平方イン
チ）当たり２００〜１０００の流路を有する、請求項５
記載の装置。 - 【請求項７】 触媒成分の存在下において液体化合物を
気体の反応物と接触させる化合物の触媒反応のための方
法であって、当該反応をスラリー反応器のための触媒を
改更して行い、その際のプロセスにおいて、 （ａ）気体反応物と液体化合物との原料混合物を当該気
体反応物と当該液体化合物とを混合するための条件下で
液体駆動式のガスエジェクターへ循環させ、 （ｂ）液体化合物と反応物ガスとのこの混合物を当該液
体駆動式ガスエジェクターから取りだして、当該混合物
をモノリス触媒反応器の入口へ送り、 （ｃ）当該液体化合物と当該気体反応物との反応を行わ
せて、それにより未反応の液体化合物、未反応の気体反
応物及び最終生成物を含有している反応生成物を生じさ
せ、 （ｄ）この反応生成物を当該モノリス触媒反応器の出口
から取り出してタンクへ導入し、 （ｅ）このタンクから反応生成物と追加の液体化合物と
を取り出し、 （ｆ）当該タンクからガスを取り出し、 （ｇ）工程（ｄ）で上記タンクへと排出した反応生成物
を上記液体駆動式ガスエジェクターへ循環させて、それ
を工程（ｆ）での当該タンクの上方空間からのガスと一
緒にし、そして次に、所望の転化率になるまで上記モノ
リス触媒反応器を通して循環させ、そして次に、 （ｈ）当該反応が所望の転化率に達したなら最終生成物
を当該プロセスから取り出すこと、を特徴とする化合物
の触媒反応方法。 - 【請求項８】 前記モノリス触媒反応器での滞留時間が
０．５〜６０秒である、請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 前記モノリス触媒反応器が６．４５ｃｍ
2（１平方インチ）当たり１０〜５０の流路を有し、こ
れらの流路に触媒粒子が充填されている、請求項７記載
の方法。 - 【請求項１０】 前記モノリス触媒反応器への入口から
当該モノリス触媒反応器の出口までの圧力差が３．４５
〜２０７ｋＰａ（０．５〜３０ポンド／平方インチ）で
ある、請求項７記載の方法。 - 【請求項１１】 前記モノリス触媒反応器における流路
密度が６．４５ｃｍ 2（１平方インチ）当たり２００〜
１０００の流路であり、当該触媒が担体の壁に塗布され
ている、請求項７記載の方法。 - 【請求項１２】 反応物ガスと反応物液との触媒反応を
行うのに適した装置であって、 反応物液を受け入れるための少なくとも１つの入口、反
応物ガスを受け入れるための少なくとも１つの入口、及
び当該反応物液と当該反応物ガスとの混合物を排出する
ための少なくとも１つの出口を有する液体駆動式のガス
エジェクターと、 この液体駆動式ガスエジェクターの上記出口に通じる、
反応物ガスと反応物液を受け入れるための入口と、反応
生成物を排出するための出口とを有するモノリス触媒反
応器、とを組み合わせて含むことを特徴とする装置。 - 【請求項１３】 前記モノリス触媒反応器が６．４５ｃ
ｍ2（１平方インチ）当たり２００〜１０００の流路を
有し、当該触媒物質が担体の壁に塗布されている、請求
項１２記載の装置。 - 【請求項１４】 前記モノリス触媒反応器が担体の流路
壁に塗布された遷移金属触媒を有する、請求項１３記載
の装置。 - 【請求項１５】 前記モノリス触媒反応器が６．４５ｃ
ｍ2（１平方インチ）当たり１０〜５０の流路を有し、
当該流路に触媒粒子が充填されている、請求項１２記載
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/573726 | 2000-05-18 | ||
| US09/573,726 US6506361B1 (en) | 2000-05-18 | 2000-05-18 | Gas-liquid reaction process including ejector and monolith catalyst |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002035569A true JP2002035569A (ja) | 2002-02-05 |
Family
ID=24293145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001149225A Pending JP2002035569A (ja) | 2000-05-18 | 2001-05-18 | 気−液触媒反応装置及び方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6506361B1 (ja) |
| EP (1) | EP1155738B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002035569A (ja) |
| AT (1) | ATE291960T1 (ja) |
| CA (1) | CA2347443C (ja) |
| DE (1) | DE60109678T2 (ja) |
| TW (1) | TW555592B (ja) |
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