JP2002033423A - Module structure - Google Patents

Module structure

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JP2002033423A
JP2002033423A JP2000216024A JP2000216024A JP2002033423A JP 2002033423 A JP2002033423 A JP 2002033423A JP 2000216024 A JP2000216024 A JP 2000216024A JP 2000216024 A JP2000216024 A JP 2000216024A JP 2002033423 A JP2002033423 A JP 2002033423A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-radiating component which has high reliability and superior heat radiation characteristics at low cost. SOLUTION: This is a module structure formed by joining a ceramic circuit board with an aluminum-silicon carbide composite. The yield of the aluminum- silicon carbide composite is 1.5 to 4 times as large as that of the aluminum in the aluminum-silicon carbide composite, or the Young's modulus of the aluminum-silicon carbide composite is 120 to 200 GPa.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子を搭載
するセラミックス回路基板とヒートシンクとを接合した
モジュール構造体に関するものであり、特に大電力用モ
ジュールや電気自動車等の移動機器に用いられるモジュ
ールとして使用される構造体に関し、詳細には、前記ヒ
ートシンクがアルミニウム−炭化珪素複合体からなるモ
ジュール構造体の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a module structure in which a ceramic circuit board on which a semiconductor element is mounted and a heat sink are joined, and more particularly to a module used in a mobile device such as a high power module or an electric vehicle. The present invention relates to a structure used, and more particularly to an improvement of a module structure in which the heat sink is made of an aluminum-silicon carbide composite.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、半導体素子を搭載するための
回路基板としてセラミックス基板や樹脂基板等の種々の
絶縁性基板が用いられているが、回路基板の小型化、半
導体素子の高集積化が進むに従い、これらの回路基板に
おける絶縁材料の放熱特性の向上が望まれている。そし
て、高放熱性が要求される回路基板やパッケージ用基体
等としては、セラミックス基板が主に用いられている。
セラミックス回路基板に用いられている材料としては、
アルミナ(Al23)、窒化アルミニウム(AlN),
窒化珪素(Si34)等が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various insulating substrates such as a ceramic substrate and a resin substrate have been used as a circuit substrate for mounting a semiconductor element. However, miniaturization of the circuit substrate and high integration of the semiconductor element have been attempted. As the process progresses, it is desired to improve the heat radiation characteristics of the insulating material in these circuit boards. Ceramic substrates are mainly used as circuit boards, package bases, and the like that require high heat dissipation.
Materials used for ceramic circuit boards include:
Alumina (Al 2 O 3 ), aluminum nitride (AlN),
Silicon nitride (Si 3 N 4 ) and the like are known.

【0003】セラミックス基板を回路基板やパケージ用
基体等として用いる場合、半導体素子からの発熱を回路
基板裏面等に設けられるヒートシンクと呼ばれる放熱部
品を介して外部に発散させることで、半導体素子の温度
上昇を防止し、動作特性を確保している。
When a ceramic substrate is used as a circuit board, a package base, or the like, heat generated from the semiconductor element is radiated to the outside through a heat-dissipating component called a heat sink provided on the backside of the circuit board or the like, thereby increasing the temperature of the semiconductor element. And operating characteristics are ensured.

【0004】前記のヒートシンクの材料としては、一般
に銅(Cu)が用いられている。しかし、銅製ヒートシ
ンクを用いる場合、セラミックス基板とヒートシンクの
熱膨張差に起因して、加熱接合時や実使用条件下で受け
る熱サイクル等により、セラミックス回路基板或いはセ
ラミックス回路基板とヒートシンクを接合している半田
にクラックや割れ等が生じることがある。
As a material for the heat sink, copper (Cu) is generally used. However, when a copper heat sink is used, the ceramic circuit board or the ceramic circuit board and the heat sink are joined by a heat cycle or the like under heating conditions or under actual use conditions due to a difference in thermal expansion between the ceramic substrate and the heat sink. Cracks and cracks may occur in the solder.

【0005】そのため、セラミックス回路基板を信頼性
が要求される分野に用いる場合には、セラミックス回路
基板と熱膨張差の小さいMo、W等の高融点金属をヒー
トシンクとして用いていた。しかし、MoやW製のヒー
トシンクを用いた放熱部品は、MoやWが重金属である
ために重量が重く、放熱部品の軽量化が望まれる用途に
は好ましくないし、高価であるという問題がある。
Therefore, when a ceramic circuit board is used in a field where reliability is required, a high melting point metal such as Mo or W having a small thermal expansion difference from the ceramic circuit board has been used as a heat sink. However, a heat dissipating component using a heat sink made of Mo or W is heavy because Mo or W is a heavy metal, and is not preferable for applications in which it is desired to reduce the weight of the heat dissipating component.

【0006】一方、近年の回路基板の小型化、半導体素
子の高集積化が進むに従い、これらの回路基板における
絶縁材料の放熱特性の一層の向上が望まれている。この
ため、セラミックス回路基板に用いられている材料とし
て、アルミナに比べ熱伝導率が10倍程度高い、窒化ア
ルミニウムが検討され、実用化されている。しかし、窒
化アルミニウム基板においても、従来のアルミナ基板同
様に、使用中の熱応力によりセラミックス回路基板や接
合部の半田にクラックが発生するという問題がある。
[0006] On the other hand, with recent advances in miniaturization of circuit boards and high integration of semiconductor elements, further improvement in heat radiation characteristics of insulating materials in these circuit boards is desired. For this reason, as a material used for the ceramic circuit board, aluminum nitride having a thermal conductivity about 10 times higher than that of alumina has been studied and put to practical use. However, even in the case of an aluminum nitride substrate, as in the case of a conventional alumina substrate, there is a problem that cracks occur in the ceramic circuit substrate and the solder at the joint due to thermal stress during use.

【0007】更に、セラミックス回路基板の材料とし
て、信頼性の面から強度、破壊靭性等の機械的特性に優
れる窒化珪素が検討され始めた。従来、窒化珪素の熱伝
導率はアルミナ程度と低かったが、最近、原料粉末の特
性向上及び焼結技術の改善により、アルミナの5〜10
倍程度の熱伝導率を有する窒化珪素セラミックスが得ら
れている。
Further, as a material for a ceramic circuit board, silicon nitride having excellent mechanical properties such as strength and fracture toughness has been studied from the viewpoint of reliability. Conventionally, the thermal conductivity of silicon nitride has been as low as that of alumina.
Silicon nitride ceramics having about twice the thermal conductivity have been obtained.

【0008】しかし、窒化珪素基板を用いることによ
り、使用中の熱応力によるセラミックス回路基板のクラ
ックは大幅に改善できるものの、セラミックス回路基板
と半導体素子との接合部やセラミックス基板とヒートシ
ンクとの接合部の半田にクラックが発生するという問題
は残っている。
However, although cracks in the ceramic circuit board due to thermal stress during use can be greatly reduced by using the silicon nitride substrate, the joint between the ceramic circuit board and the semiconductor element and the joint between the ceramic substrate and the heat sink are reduced. The problem that cracks occur in the solder remains.

【0009】このため、ヒートシンク材料として、熱伝
導特性に優れ、且つ線熱膨張係数(以下、熱膨張係数と
云う)がセラミックス回路基板に近いヒートシンク材料
の開発が望まれており、銅やアルミニウム合金を無機質
繊維または粒子で強化したMMC(Metal Mat
rix Composite)と略称される金属−セラ
ミックス複合体が注目されている。
For this reason, it has been desired to develop a heat sink material having excellent thermal conductivity and a linear thermal expansion coefficient (hereinafter referred to as a thermal expansion coefficient) close to that of a ceramic circuit board as a heat sink material. (Metal Mat) reinforced with inorganic fibers or particles
(Rix Composite) is attracting attention.

【0010】近年、前記複合体として、アルミニウム合
金−炭化珪素の複合体が主に研究されている。アルミニ
ウム合金−炭化珪素の複合体は、熱膨張係数が8×10
-6/Kと小さく、ヒートシンクとセラミックス回路基板
間の半田クラックの抑制には有効である。しかし、アル
ミニウム合金−炭化珪素の複合体の熱伝導率は200W
/mK程度で、従来の銅製ヒートシンク(400W/m
K)の1/2であり放熱特性の点で劣り、加えて高価で
あるため、実用上の問題が残っている。
In recent years, an aluminum alloy-silicon carbide composite has been mainly studied as the composite. The aluminum alloy-silicon carbide composite has a coefficient of thermal expansion of 8 × 10
-6 / K, which is effective in suppressing solder cracks between the heat sink and the ceramic circuit board. However, the thermal conductivity of the aluminum alloy-silicon carbide composite is 200 W
/ MK, a conventional copper heat sink (400 W / m
K), which is inferior in heat dissipation characteristics and expensive, so that practical problems remain.

【0011】一方、半導体素子とセラミックス回路基板
を接合している半田部にも、使用中の熱応力によりクラ
ックが発生する問題がある。このクラックは、半導体素
子と回路金属の熱膨張差により発生する応力が発生原因
と考えられている。近年、回路金属として、低弾性率で
かつ降伏応力の低いアルミニウム合金を用いることで、
半田部に発生する応力を、アルミニウム合金が降伏して
緩和することによりクラックの発生を抑制することが検
討されている。しかし、この様なアルミニウム回路基板
でも、長期の信頼性の面では、まだ問題が残っている。
On the other hand, there is also a problem that cracks occur due to thermal stress during use also in the solder portion joining the semiconductor element and the ceramic circuit board. This crack is considered to be caused by stress generated by a difference in thermal expansion between the semiconductor element and the circuit metal. In recent years, by using aluminum alloy with low elastic modulus and low yield stress as circuit metal,
It has been studied to suppress the occurrence of cracks by yielding and relaxing the stress generated in the solder portion by the aluminum alloy. However, such an aluminum circuit board still has a problem in terms of long-term reliability.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のセラミックス回路基板とヒートシンクとの接合構造を
有するモジュール構造体において、MoやW等の重金属
材料をヒートシンクに用いた場合、モジュール構造体の
重量が重くなると共に、放熱性に関しても必ずしも十分
でないという問題がある。一方、比較的軽量で放熱性に
優れるCuやAl等をヒートシンクとして用いる場合、
セラミックス回路基板との熱膨張差が大きく、信頼性の
高い構造を得るためには、接合構造自体が非常に複雑に
なってしまい、製造コストの増加や放熱部品としての熱
抵抗の増加等を招くといった問題があった。更に、低熱
膨張率のアルミニウム−炭化珪素複合体をヒートシンク
として用いても、放熱特性及び信頼性の面で問題が残
る。以上の事情から、従来のセラミックス回路基板とヒ
ートシンクの接合構造を有するモジュール構造体におい
ては、重量の低減や接合構造の簡略化を図り、且つ信頼
性や放熱性の向上を図ることが課題とされている。
As described above, in a conventional module structure having a joint structure between a ceramic circuit board and a heat sink, when a heavy metal material such as Mo or W is used for the heat sink, the structure of the module structure is reduced. There is a problem that the weight becomes heavy and the heat dissipation is not always sufficient. On the other hand, when using Cu, Al, etc., which are relatively lightweight and excellent in heat dissipation, as a heat sink,
In order to obtain a highly reliable structure with a large difference in thermal expansion from the ceramic circuit board, the joining structure itself becomes very complicated, leading to an increase in manufacturing cost and an increase in thermal resistance as a heat dissipating component. There was such a problem. Furthermore, even if an aluminum-silicon carbide composite having a low coefficient of thermal expansion is used as a heat sink, problems remain in terms of heat radiation characteristics and reliability. In view of the above circumstances, in a conventional module structure having a bonding structure of a ceramic circuit board and a heat sink, it is an issue to reduce the weight and simplify the bonding structure, and to improve reliability and heat dissipation. ing.

【0013】本発明は、上記の事情に鑑みなされたもの
であって、セラミックス基板に発生するクラックを防止
し、使用環境下で発生する熱応力による半田部のクラッ
クを抑制した高信頼性、且つ放熱特性に優れた放熱部品
を安価に提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has high reliability in which cracks generated in a ceramic substrate are prevented, and cracks in a solder portion due to thermal stress generated in a use environment are suppressed. It is an object of the present invention to provide an inexpensive heat dissipating component having excellent heat dissipating characteristics.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明者らは,上記目的
を達成するため鋭意研究した結果、ヒートシンク材料と
してアルミニウム−炭化珪素複合体を用い、該複合体の
機械的特性及び熱膨張特性を調整することにより、放熱
特性と信頼性を向上できることを見出し,本発明を完成
するに至ったのである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, have used an aluminum-silicon carbide composite as a heat sink material, and have studied the mechanical and thermal expansion characteristics of the composite. It has been found that the heat radiation characteristics and the reliability can be improved by adjusting, and the present invention has been completed.

【0015】すなわち、本発明は、アルミニウム−炭化
珪素複合体にセラミックス回路基板を接合してなるモジ
ュール構造体であって、アルミニウム−炭化珪素複合体
の降伏耐力が該アルミニウム−炭化珪素複合体中のアル
ミニウムの降伏耐力に対して1.5〜4倍であることを
特徴とするモジュール構造体である。
That is, the present invention relates to a module structure comprising a ceramic circuit board joined to an aluminum-silicon carbide composite, wherein the aluminum-silicon carbide composite has a yield strength in the aluminum-silicon carbide composite. A module structure characterized by 1.5 to 4 times the yield strength of aluminum.

【0016】また、本発明は、アルミニウム−炭化珪素
複合体にセラミックス回路基板を接合してなるモジュー
ル構造体構造体であって、アルミニウム−炭化珪素複合
体のヤング率が120〜200GPaであることを特徴
とするモジュール構造体である。
Further, the present invention relates to a module structure having a ceramic circuit board bonded to an aluminum-silicon carbide composite, wherein the aluminum-silicon carbide composite has a Young's modulus of 120 to 200 GPa. This is a featured module structure.

【0017】更に、本発明は、前記モジュール構造体に
おいて、アルミニウム−炭化珪素複合体の室温から12
5℃の熱膨張係数が15×10-6/K以下であることを
特徴とするものである。
Further, the present invention provides the above module structure, wherein the room temperature of the aluminum-silicon carbide composite is 12
The thermal expansion coefficient at 5 ° C. is 15 × 10 −6 / K or less.

【0018】加えて、本発明は、前記モジュール構造体
において、アルミニウム−炭化珪素複合体中の炭化珪素
含有量が10〜40体積%であることを特徴とするもの
である。
In addition, the present invention is characterized in that in the module structure, the silicon-carbide content in the aluminum-silicon carbide composite is 10 to 40% by volume.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明のモジュール構造体は、セ
ラミックス回路基板とヒートシンクとが一体に接合され
た構造を有し、しかも前記ヒートシンクとしてアルミニ
ウム−炭化珪素複合体を用いているので、セラミックス
回路基板上に搭載される半導体素子、セラミックス回路
基板を構成するセラミックス基板、更にヒートシンクが
いずれも熱膨張係数が同程度に小さく、製造工程や実使
用条件下で被る熱的な変動を受けても、接合部が剥がれ
たり、セラミックス基板が破壊したりせず、かなり信頼
性が高いという特徴を有している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The module structure of the present invention has a structure in which a ceramic circuit board and a heat sink are integrally joined and uses an aluminum-silicon carbide composite as the heat sink. Even if the semiconductor elements mounted on the substrate, the ceramic substrate that constitutes the ceramic circuit board, and the heat sink all have the same small coefficient of thermal expansion and are subject to thermal fluctuations that occur during the manufacturing process and actual use conditions, It has the feature that the joint is not peeled off and the ceramic substrate is not broken, and the reliability is considerably high.

【0020】しかし、大電力用モジュールや電気自動車
等の移動機器に用いられるモジュールとして使用される
構造体として前記モジュール構造体を適用しようとする
と、放熱フィンや放熱ブロック等の他の放熱部品に前記
モジュール構造体を締め付け固定する際、製造工程、或
いは実使用条件下で被る熱的な変動を受けて、モジュー
ル構造体の接合部が剥がれたり、セラミックス基板が破
壊したり、モジュール構造体が変形して他の放熱部品と
の締め付け状態が緩んだりという現象を呈することがあ
り、長期的な信頼性の面で問題がある。
However, when applying the module structure as a structure used as a module used in a mobile device such as a high-power module or an electric vehicle, if the module structure is applied to other heat dissipating parts such as heat dissipating fins and heat dissipating blocks. When tightening and fixing the module structure, the joints of the module structure may be peeled off, the ceramic substrate may be broken, or the module structure may be deformed due to thermal fluctuations that occur during the manufacturing process or actual use conditions. This may cause a phenomenon in which the fastening state with other heat radiating components is loosened, and there is a problem in long-term reliability.

【0021】本発明者は、ヒートシンクに用いられてい
るアルミニウム−炭化珪素複合体に関していろいろ実験
的検討を重ね、アルミニウム−炭化珪素複合体のヤング
率、降伏応力が重要な働きを有していること、ことに後
者については、アルミニウム−炭化珪素複合体の降伏耐
力と該アルミニウム−炭化珪素複合体中のアルミニウム
の降伏耐力とが特定比率の時に、前記課題が解決できる
ことを見出し、本発明に至ったものである。
The present inventors have conducted various experimental studies on the aluminum-silicon carbide composite used for the heat sink, and found that the Young's modulus and the yield stress of the aluminum-silicon carbide composite have important functions. In particular, with regard to the latter, it has been found that when the yield strength of the aluminum-silicon carbide composite and the yield strength of aluminum in the aluminum-silicon carbide composite have a specific ratio, the above problem can be solved, and the present invention has been achieved. Things.

【0022】本発明において、アルミニウム−炭化珪素
複合体のヤング率が120〜200GPaである。アル
ミニウム−炭化珪素複合体のヤング率が前記特定範囲に
限定される理由については、不明な点が多いが、本発明
者は、あまりにも小さなヤング率の場合には、他の放熱
部品への締め付け力が小さくなり、モジュール構造体と
他の放熱部品との熱的接触状態が不良となり、モジュー
ル構造体の放熱特性が低下してしまうため、また、実使
用時で受ける機械的衝撃力や熱応力の変動に起因して、
他の放熱部品とモジュール構造体との接触位置が変位し
易くなり長期の信頼性が保てなくなるため、一方、あま
りにも大きなヤング率の場合には、モジュール構造体と
他の放熱部品との熱的接触状態を良くするためには非常
に大きな締め付け力を必要とし、時にはセラミックス基
板が破壊してしまうために、前記特定範囲に限定されて
いると推察している。
In the present invention, the Young's modulus of the aluminum-silicon carbide composite is 120 to 200 GPa. There are many unclear points as to the reason why the Young's modulus of the aluminum-silicon carbide composite is limited to the above specific range, but the present inventor has found that if the Young's modulus is too small, it is tightened to other heat radiating components. The force is small, the thermal contact between the module structure and other heat dissipating components is poor, and the heat dissipation characteristics of the module structure are degraded. Due to the fluctuation of
The contact position between the other heat dissipating components and the module structure is likely to be displaced, and long-term reliability cannot be maintained. It is speculated that the specific range is limited because a very large clamping force is required to improve the contact state, and sometimes the ceramic substrate is broken.

【0023】また、本発明において、アルミニウム−炭
化珪素複合体の降伏耐力と該アルミニウム−炭化珪素複
合体中のアルミニウムの降伏耐力とが特定比率に限定さ
れ、本発明者の実験的結果に基づけば、アルミニウム−
炭化珪素複合体の降伏耐力が該アルミニウム−炭化珪素
複合体中のアルミニウムの降伏耐力に対して1.5〜4
倍であるとき、好ましくは2〜3倍であるときに、本発
明の目的を達成することができる。前記比率が1.5倍
以下の場合は、モジュール構造体を他の放熱部品に締め
付け固定するときや、熱変動を受けてモジュール構造体
が変形し、長期的に高信頼性を保つことが出来なくなる
し、前記比率が4倍を超える場合は、ヒートシンク部の
変形によりモジュール構造体と他の放熱部品との接合部
において応力を緩和させることができなくなり、結果的
に、長期の信頼性を確保できなくなる。
Further, in the present invention, the yield strength of the aluminum-silicon carbide composite and the yield strength of aluminum in the aluminum-silicon carbide composite are limited to a specific ratio, and based on the experimental results of the present inventors. , Aluminum
The yield strength of the silicon carbide composite is 1.5 to 4 with respect to the yield strength of aluminum in the aluminum-silicon carbide composite.
When the ratio is double, preferably 2-3 times, the object of the present invention can be achieved. When the ratio is 1.5 times or less, the module structure is deformed due to heat fluctuation when the module structure is fastened and fixed to another heat radiating component, and high reliability can be maintained for a long time. If the ratio exceeds 4 times, the stress cannot be relieved at the joint between the module structure and other heat radiating components due to the deformation of the heat sink, and as a result, long-term reliability is secured. become unable.

【0024】本発明において、アルミニウム−炭化珪素
複合体の室温から125℃の熱膨張係数については、1
5×10-6/K以下であることが好ましい。前述したと
おりに、セラミックス回路基板の回路上に搭載される半
導体素子と、セラミックス基板と、ヒートシンクとはい
ずれも同じ程度に小さな熱膨張係数を有することが、熱
変動を受けたときに大きな応力を発生し難いことから望
ましいが、半導体素子が一般にシリコン(熱膨張係数;
2.6×10-6/K)で構成されていること、又、大電
流用途向けのセラミックス基板としては、一般に、窒化
アルミニウムや窒化珪素が選択され、これらの熱膨張係
数も概ね6〜8×10-6/Kであることから前記上限が
選択される。また、熱膨張係数の好ましい下限値につい
ては、技術上これを定める理由はない。尚、その用途か
ら、熱膨張係数は、室温から125℃までについて考慮
すれば良い。
In the present invention, the coefficient of thermal expansion of the aluminum-silicon carbide composite from room temperature to 125 ° C. is 1
It is preferably at most 5 × 10 −6 / K. As described above, the semiconductor element mounted on the circuit of the ceramic circuit board, the ceramic substrate, and the heat sink all have the same small coefficient of thermal expansion. Although desirable because it hardly occurs, the semiconductor element is generally made of silicon (coefficient of thermal expansion;
2.6 × 10 −6 / K), and aluminum nitride or silicon nitride is generally selected as a ceramic substrate for large current applications, and their thermal expansion coefficients are generally about 6 to 8 The upper limit is selected because it is × 10 −6 / K. Further, there is no technical reason to determine the preferable lower limit of the thermal expansion coefficient. In addition, from the usage, the coefficient of thermal expansion may be considered from room temperature to 125 ° C.

【0025】本発明の実施態様として、アルミニウム−
炭化珪素複合体中の炭化珪素含有量は10〜40体積%
であることが好ましく、20〜30体積%であることが
一層好ましい。10体積%未満では、得られるアルミニ
ウム−炭化珪素複合体の熱膨張係数が大きくなるし、ま
た降伏耐力の比率が低下してしまう。一方、40体積%
を超えるときは、前記降伏耐力の比率が大きくなりがち
であり、又、アルミニウム−炭化珪素複合体のコストも
高くなり実用的でなくなる。
As an embodiment of the present invention, aluminum-
Silicon carbide content in the silicon carbide composite is 10 to 40% by volume
And more preferably 20 to 30% by volume. If it is less than 10% by volume, the coefficient of thermal expansion of the obtained aluminum-silicon carbide composite will increase, and the yield strength ratio will decrease. On the other hand, 40% by volume
When the ratio exceeds the above range, the yield strength ratio tends to increase, and the cost of the aluminum-silicon carbide composite increases, which is not practical.

【0026】以下、本発明のモジュール構造体を製造す
る方法を例示して、更に本発明を詳細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by exemplifying a method of manufacturing the module structure of the present invention.

【0027】本発明に用いるアルミニウム−炭化珪素複
合体を得る方法としては、溶融したアルミニウム中に炭
化珪素の粉末や繊維を添加する方法、炭化珪素の粉や繊
維より多孔質の成形体を得た後に前記成形体の空隙部分
に溶融したアルミニウムを溶浸或いは含浸させる方法、
アルミニウムの粉や塊と炭化珪素の粉や繊維とを所望の
割合で配合し型の中に配置した状態で加熱する方法等の
従来公知の方法がいずれも適用できる。このうち、高圧
鍛造法は、炭化珪素の粉や繊維より多孔質の成形体を得
た後に前記成形体の空隙部分に溶融したアルミニウムを
溶浸或いは含浸させる方法で、前記含浸操作において1
0〜100MPaの高圧を負荷させるので、得られるア
ルミニウム−炭化珪素複合体中での炭化珪素とアルミニ
ウム合金との密着性が優れ、熱伝導率の高い複合体とな
ることから、好ましい方法である。
The method of obtaining the aluminum-silicon carbide composite used in the present invention includes a method of adding silicon carbide powder and fiber to molten aluminum and a method of obtaining a porous molded body from silicon carbide powder and fiber. A method of infiltrating or impregnating the molten aluminum in the void portion of the molded body later,
Conventionally known methods such as a method of mixing aluminum powder or lump with silicon carbide powder or fiber at a desired ratio and heating the mixture in a mold can be applied. Among them, the high-pressure forging method is a method of obtaining a porous compact from silicon carbide powder or fiber and then infiltrating or impregnating the molten aluminum into the voids of the compact.
Since a high pressure of 0 to 100 MPa is applied, the adhesion between silicon carbide and the aluminum alloy in the obtained aluminum-silicon carbide composite is excellent, and a composite having high thermal conductivity is obtained.

【0028】本発明に用いる炭化珪素としては、熱伝導
率の高いこと、溶融アルミニウム金属に含まれたときに
低温でも流動性に富むことの理由から、高純度で緑色の
炭化珪素からなる粉末、特に平均粒子径が30〜200
μm程度の粉末が好ましい。
As the silicon carbide used in the present invention, powder made of high-purity green silicon carbide is used because of its high thermal conductivity and high fluidity even at low temperatures when contained in molten aluminum metal. In particular, the average particle size is 30 to 200
A powder of about μm is preferred.

【0029】本発明に用いられるアルミニウムは、アル
ミニウムを主成分とする金属であり、得られるアルミニ
ウム−炭化珪素複合体が所望の特性を満足するものであ
ればどの様なものであっても構わないが、本発明者の実
験的検討に基づけば、珪素(Si)を20質量%以下含
有するアルミニウム合金が好ましい。Siの含有量が2
0質量%を超える場合には、得られるアルミニウム−炭
化珪素複合体中のアルミニウム合金の降伏耐力が大きく
なりすぎ、所望の特性を有するモジュール構造体が得難
くなる。
The aluminum used in the present invention is a metal containing aluminum as a main component, and any aluminum-silicon carbide composite may be used as long as it satisfies desired characteristics. However, based on experimental studies by the present inventors, an aluminum alloy containing 20% by mass or less of silicon (Si) is preferable. Si content is 2
If it exceeds 0% by mass, the yield strength of the aluminum alloy in the obtained aluminum-silicon carbide composite becomes too large, and it becomes difficult to obtain a module structure having desired characteristics.

【0030】又、前記アルミニウム合金は、不純物とし
て鉄(Fe)や銅(Cu)を1質量%以下含有すること
ができる。1質量%を超える前記不純物の存在は、熱伝
導率の低下をもたらし、また、前者の場合には強度低下
が生じ、後者の場合は降伏耐力が増加しすぎるからであ
る。更に、前記アルミニウム合金には、炭化珪素とアル
ミニウム合金との密着性を高める目的で、また、熱伝導
率を高める目的で、得られるアルミニウム−炭化珪素複
合体中の酸素含有量が1質量%以下に低減してマグネシ
ウム(Mg)を3質量%以下含有することが好ましい。
The aluminum alloy may contain iron (Fe) or copper (Cu) as an impurity in an amount of 1% by mass or less. This is because the presence of the impurity exceeding 1% by mass causes a decrease in thermal conductivity, and in the former case, the strength is reduced, and in the latter case, the yield strength is excessively increased. Further, in the aluminum alloy, the oxygen content in the obtained aluminum-silicon carbide composite is 1% by mass or less for the purpose of enhancing the adhesion between silicon carbide and the aluminum alloy and for the purpose of increasing the thermal conductivity. It is preferable to contain 3% by mass or less of magnesium (Mg).

【0031】モジュール構造体を得ることを前提とする
ときには、例えばSiを6質量%とMgを0.5質量%
含有するアルミニウム合金を溶融し、更に炭化珪素粉を
10〜40体積%含有するように配合したものを、黒
鉛、セラミックス或いは鉄等金属からなる、アルミニウ
ムと反応しがたい材質からなる型内に注ぎ、冷却、固化
させる方法で、厚さ2〜10mmの平板を形成するのが
一般的である。このとき、型と平板との離型を促進する
目的で、黒鉛、窒化硼素、アルミナ等の微粉からなる離
型剤を用いることが好ましい。
When it is assumed that the module structure is obtained, for example, 6% by mass of Si and 0.5% by mass of Mg
The aluminum alloy contained is melted, and the mixture containing 10 to 40% by volume of silicon carbide powder is poured into a mold made of a material which is difficult to react with aluminum, such as graphite, ceramics or iron. Generally, a flat plate having a thickness of 2 to 10 mm is formed by a method of cooling and solidifying. At this time, for the purpose of accelerating the release of the mold and the flat plate, it is preferable to use a release agent composed of fine powder such as graphite, boron nitride, and alumina.

【0032】得られた平板は、そのまま、或いは必要に
応じて、機械加工、研磨を受け、更に必要ならばめっき
等によりNi等の金属層を所望部分に設けられ、所望形
状を有する、ヒートシンクと呼ばれる放熱部品となる。
The obtained flat plate is subjected to machining or polishing as it is or as necessary, and if necessary, a metal layer of Ni or the like is provided on a desired portion by plating or the like to form a heat sink having a desired shape. It will be called a heat dissipation component.

【0033】一方、本発明に用いるセラミックス回路基
板としては、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素等
からなるセラミックス基板の一主面に回路を設けた構造
を有するものであれば、どの様なものでも構わない。し
かし、セラミックス基板としては、当該セラミックス回
路基板に搭載される半導体素子が熱膨張係数が小さいS
iからなることから、また、得られるモジュール構造体
の熱放散性が高くできることから、窒化アルミニウムや
窒化珪素が好ましい。尚、一般的には、電気絶縁性、放
熱性、強度等の機械的性質を考慮して0.3〜2mmの
板厚が選択される。
On the other hand, the ceramic circuit board used in the present invention may be any ceramic circuit board having a structure in which a circuit is provided on one main surface of a ceramic substrate made of alumina, aluminum nitride, silicon nitride or the like. Absent. However, as a ceramic substrate, a semiconductor element mounted on the ceramic circuit substrate has a small thermal expansion coefficient.
Aluminum nitride and silicon nitride are preferred because they are made of i and because the heat dissipation of the obtained module structure can be increased. Generally, a plate thickness of 0.3 to 2 mm is selected in consideration of mechanical properties such as electric insulation, heat dissipation, and strength.

【0034】また、セラミックス回路基板の回路に関し
ては、電気抵抗が小さく、熱伝導率が大きく、しかも高
信頼性のモジュール構造体が得られることから、Cu、
Al、或いはそれらの合金が好ましい。更に、セラミッ
クス基板の裏面(ヒートシンクに対する主面)の回路に
ついては設けていてもなくても構わない。尚、前記回路
とセラミックス基板、或いは熱放散用金属板とセラミッ
クス基板の接合は、銅系、銀系のろう材を用いてろう接
されるのが一般的であるが、セラミックス基板が窒化物
セラミックスからなる場合には、Ti、Zr等のいわゆ
る活性金属を含むろう材を用いることが強い接合力が得
られることから好ましい。
Further, regarding the circuit of the ceramic circuit board, since a module structure having a low electric resistance, a high thermal conductivity and a high reliability can be obtained, Cu,
Al or an alloy thereof is preferable. Further, the circuit on the back surface of the ceramic substrate (main surface for the heat sink) may or may not be provided. The circuit and the ceramic substrate, or the metal plate for heat dissipation and the ceramic substrate are generally joined by brazing using a copper-based or silver-based brazing material. It is preferable to use a brazing material containing a so-called active metal, such as Ti or Zr, because a strong bonding force can be obtained.

【0035】次に、前記ヒートシンク上に、前記セラミ
ックス回路基板を接合し、一体化してモジュール構造体
とする。接合に際しては、一般市販のろう材を用いれば
良いが、裏面に回路が設けられている場合には半田を用
いて接合することも出来る。
Next, the ceramic circuit board is bonded onto the heat sink and integrated to form a module structure. At the time of joining, a commercially available brazing material may be used, but when a circuit is provided on the back surface, joining may be performed using solder.

【0036】[0036]

【実施例】以下、実施例と比較例をあげて、更に本発明
を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるもので
はない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0037】〔実施例1〜3、比較例1、2〕Siを6
質量%含有するアルミニウム合金5kgを電気炉で温度
700℃に加熱した後、攪拌しながら平均粒子径が70
μmの炭化珪素粉末を20体積%添加した。更に、Mg
を1質量%添加して、炭化珪素粉末を含有するアルミニ
ウム合金を作製した。得られた溶融合金100gを、2
50℃に予熱して離型剤を塗布した80mm×120m
mの外寸の金型に投入し、即座に圧力50MPaでプレ
ス成形、冷却して複合体1を作製した。また、複合体2
は、複合体1に対して、アルミニウム合金として、Mg
を1質量%含有するものを用い、炭化珪素粉末の含有量
を30体積%とした以外は、同様の手法で作製した。得
られた複合体の諸特性を評価した結果を表1に示す。
[Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 and 2]
After heating 5 kg of an aluminum alloy containing 70% by mass to a temperature of 700 ° C. in an electric furnace, the average particle size is 70% with stirring.
20 μm by volume of μm silicon carbide powder was added. Furthermore, Mg
Was added at 1% by mass to produce an aluminum alloy containing silicon carbide powder. 100 g of the obtained molten alloy is
80mm x 120m pre-heated to 50 ° C and coated with release agent
m, and was immediately press-molded at a pressure of 50 MPa and cooled to produce a composite 1. Also, complex 2
Is Mg for the composite 1 as an aluminum alloy.
Was prepared by the same method except that the content of silicon carbide powder was 30% by volume. Table 1 shows the results of evaluating various properties of the obtained composite.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】厚さ0.6mmで70mm×40mmの寸
法を有する窒化珪素焼結体(熱伝導率:70W/mK、
三点曲げ強さ:650MPa、破壊靭性値:7MPam
1/2)及び窒化アルミニウム焼結体(熱伝導率:130
W/mK、三点曲げ強さ:400MPa、破壊靭性値:
3MPam1/2)の両面に接合用ろう材として活性金属
含有ろう材(Ag−Cu−Ti:80−15−5(質量
比))を50μmの厚さでスクリーン印刷し、表2に示
す材質及び厚みの金属板を載置し、10-3Pa台の真空
雰囲気下、温度850℃で30分間加熱し接合後、冷却
して複合体を得た。この複合体について、回路金属側を
研磨し、パターニング用レジストを印刷し、硬化後、エ
ッチングしてパターンを形成した。更に、回路間に残留
する接合材を除去するため、酸性フッ化アンモニウム水
溶液に浸触させた後、水洗してパターン形成した回路基
板を作製した。得られた回路基板は、表2に示すヒート
シンク材(80mm×120mm×3mm)と回路基板
の組み合わせではんだ付けにより接合した後、共晶はん
だによりシリコンチップを搭載し、モジュール構造体を
作製した。作製したモジュール構造体は、−40℃から
125℃のヒートサイクルを3000回掛けた後、その
状態を観察した。その結果を表3に示す。
A silicon nitride sintered body having a thickness of 0.6 mm and a size of 70 mm × 40 mm (thermal conductivity: 70 W / mK,
Three-point bending strength: 650 MPa, fracture toughness: 7 MPa
1/2 ) and aluminum nitride sintered body (thermal conductivity: 130)
W / mK, three-point bending strength: 400 MPa, fracture toughness:
An active metal-containing brazing material (Ag-Cu-Ti: 80-15-5 (mass ratio)) was screen-printed on both surfaces of 3 MPam 1/2 ) as a joining brazing material at a thickness of 50 μm, and the materials shown in Table 2 were used. And a metal plate having a thickness of 10 -3 Pa and heated at a temperature of 850 ° C. for 30 minutes in a vacuum atmosphere of the order of 10 −3 Pa. For this composite, the circuit metal side was polished, a patterning resist was printed, cured, and then etched to form a pattern. Furthermore, in order to remove the bonding material remaining between the circuits, the circuit boards were immersed in an aqueous solution of ammonium ammonium fluoride and then washed with water to produce a circuit board having a pattern formed thereon. The obtained circuit board was joined by soldering with a combination of a heat sink material (80 mm × 120 mm × 3 mm) shown in Table 2 and the circuit board, and then a silicon chip was mounted with eutectic solder to produce a module structure. The manufactured module structure was subjected to a heat cycle of −40 ° C. to 125 ° C. 3000 times, and then observed. Table 3 shows the results.

【0040】比較例1は、ヒートシンクとして銅(金属
1という)をセラミック基板として窒化アルミニウム基
板を用いたこと以外は、実施例1と同様な方法でモジュ
ール構造体を作製した。また、比較例2は、ヒートシン
クとして金属1を、セラミックス基板として窒化珪素基
板を用いた以外は、実施例1と同様な方法でモジュール
構造体を作製した。その評価結果を表3に示す。
In Comparative Example 1, a module structure was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a copper (metal 1) was used as a heat sink and an aluminum nitride substrate was used as a ceramic substrate. In Comparative Example 2, a module structure was manufactured in the same manner as in Example 1 except that Metal 1 was used as a heat sink and a silicon nitride substrate was used as a ceramic substrate. Table 3 shows the evaluation results.

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】[0042]

【表3】 [Table 3]

【0043】〔実施例4〜6〕実施例4、5は、表4に
示す組み合わせのセラミックス回路基板及びヒートシン
クを用い、ヒートシンクに接合用ろう材としてAl−S
i系合金ペーストを塗布し、乾燥した後、セラミックス
回路基板を配置し、荷重を掛けつつ、真空中、温度60
0℃で1時間加熱接合した。実施例6は、裏面の回路を
用いずにセラミックスとヒートシンクとを直接接合し
た。得られた構造体は、共晶半田によりシリコンチップ
を搭載し、モジュール構造体を作製した。得られたモジ
ュール構造体は、−40℃から125℃のヒートサイク
ルを3000回掛けた後、その状態を評価した結果、い
ずれの個所にもクラック、割れは観察されなかった。
[Embodiments 4 to 6] In Embodiments 4 and 5, a ceramic circuit board and a heat sink having the combinations shown in Table 4 were used.
After the i-type alloy paste is applied and dried, the ceramic circuit board is placed, and a load is applied to the ceramic circuit board in a vacuum at a temperature of 60 ° C.
Heat bonding was performed at 0 ° C. for 1 hour. In Example 6, the ceramics and the heat sink were directly joined without using the circuit on the back surface. A silicon chip was mounted on the obtained structure by eutectic solder to produce a module structure. The obtained module structure was subjected to a heat cycle of −40 ° C. to 125 ° C. 3000 times, and the state was evaluated. As a result, no crack or crack was observed at any point.

【0044】[0044]

【表4】 [Table 4]

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明のモジュール構造体は、ヒートシ
ンクのヤング率や降伏耐力の比が特定の値を有し、その
結果、優れた放熱特性とともに極めた高い信頼性を有し
ているので、電鉄、自動車、電気自動車等の移動機器に
好適に用いることができ、産業上極めて有用である。
According to the module structure of the present invention, the ratio of the Young's modulus and the yield strength of the heat sink has a specific value, and as a result, it has extremely high heat dissipation characteristics and extremely high reliability. It can be suitably used for mobile devices such as electric railways, automobiles, and electric vehicles, and is extremely useful in industry.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】アルミニウム−炭化珪素複合体にセラミッ
クス回路基板を接合してなるモジュール構造体であっ
て、アルミニウム−炭化珪素複合体の降伏耐力が該アル
ミニウム−炭化珪素複合体中のアルミニウムの降伏耐力
に対して1.5〜4倍であることを特徴とするモジュー
ル構造体。
1. A module structure comprising a ceramic circuit board joined to an aluminum-silicon carbide composite, wherein the aluminum-silicon carbide composite has a yield strength of aluminum in the aluminum-silicon carbide composite. A module structure that is 1.5 to 4 times as large as the module structure.
【請求項2】アルミニウム−炭化珪素複合体にセラミッ
クス回路基板を接合してなるモジュール構造体であっ
て、アルミニウム−炭化珪素複合体のヤング率が120
〜200GPaであることを特徴とするモジュール構造
体。
2. A module structure comprising a ceramic circuit board joined to an aluminum-silicon carbide composite, wherein the aluminum-silicon carbide composite has a Young's modulus of 120.
A module structure characterized by being at most 200 GPa.
【請求項3】アルミニウム−炭化珪素複合体の室温から
125℃の熱膨張係数が15×10-6/K以下であるこ
とを特徴とする請求項1又は請求項2記載のモジュール
構造体。
3. The module structure according to claim 1, wherein the aluminum-silicon carbide composite has a coefficient of thermal expansion from room temperature to 125 ° C. of 15 × 10 −6 / K or less.
【請求項4】アルミニウム−炭化珪素複合体中の炭化珪
素含有量が10〜40体積%であることを特徴とする請
求項1、請求項2又は請求項3記載のモジュール構造
体。
4. The module structure according to claim 1, wherein the silicon carbide content in the aluminum-silicon carbide composite is 10 to 40% by volume.
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