JP2002032908A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JP2002032908A
JP2002032908A JP2000216884A JP2000216884A JP2002032908A JP 2002032908 A JP2002032908 A JP 2002032908A JP 2000216884 A JP2000216884 A JP 2000216884A JP 2000216884 A JP2000216884 A JP 2000216884A JP 2002032908 A JP2002032908 A JP 2002032908A
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JP
Japan
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recording medium
layer
magnetic recording
synthetic resin
seed layer
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Pending
Application number
JP2000216884A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Nishikawa
正一 西川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium using a substrate made of synthetic resin and having high recording density. SOLUTION: The magnetic recording medium constituted of a base layer, a magnetic layer, a protective layer and a lubricating layer laminated on at least one side of the substrate made of the synthetic resin is provided with a seed layer formed in an island shape and has a portion where the seed layer is not formed between the substrate made of the synthetic resin and the base layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータの補助
記録装置、画像記録装置などに用いられるリムーバブル
磁気記録媒体に係り、1平方メートル当たり1.6テラ
ビット(1平方インチあたりギガビット)以上の高い記
録密度を有するフロッピー(登録商標)ディスクに関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a removable magnetic recording medium used for an auxiliary recording device or an image recording device of a computer, and has a high recording density of 1.6 terabits per square meter (gigabits per square inch) or more. And a floppy (registered trademark) disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータの補助記憶のような大容量
のデジタル情報の高密度記録媒体としてデジタルビデオ
テープ等のテープ状の磁気記録媒体が用いられてきた
が、近年の情報量の肥大化に伴い、更なる高容量化、記
録あるいは再生速度の高速化が要請されている。これら
の要求から、最近ではリムーバブルハードディスクが大
容量高密度デジタル記録媒体として使用されようとして
いる。しかし現存のギガバイト級のリムーバブル媒体は
ガラス、アルミニウム等の剛性の円盤状基板を使用して
いるため、装置に衝撃が加わると媒体それ自体が衝撃を
吸収することができないために、ヘッドクラッシュが発
生し磁気記録媒体、ヘッドとも大きな損傷を受けること
があった。このために、リムーバブルハードディスク等
の剛性の基体を用いたものは、耐衝撃性の問題が未だ解
決されておらず、剛性の基体を用いた磁気記録媒体を携
帯型機器で使用するうえでの問題点となっており、ま
た、剛性の基体を用いた磁気記録媒体を使用するデジタ
ルディスクカメラ等の携帯機器の普及における問題点の
一つとされている。
2. Description of the Related Art Tape-shaped magnetic recording media such as digital video tapes have been used as high-density recording media for large-capacity digital information such as auxiliary storage of computers. There is a demand for higher capacity and higher recording or reproduction speed. Due to these demands, a removable hard disk has recently been used as a large-capacity, high-density digital recording medium. However, the existing gigabyte-class removable media uses rigid disc-shaped substrates such as glass and aluminum, so when an impact is applied to the device, the media itself cannot absorb the impact, causing a head crash. However, both the magnetic recording medium and the head were sometimes seriously damaged. For this reason, those using a rigid substrate such as a removable hard disk have not yet solved the problem of impact resistance, and have problems in using a magnetic recording medium using the rigid substrate in a portable device. This is one of the problems in the spread of portable devices such as digital disk cameras using a magnetic recording medium using a rigid base.

【0003】磁気記録媒体は、剛性の基体を可撓性の基
体に変えることで記録部の軽量化、ヘッドクラッシュ時
の損傷が低減でき、耐衝撃性に優れた高密度リムーバブ
ル磁気記録媒体を実現可能である。そこで本出願人は、
高度が低い合成樹脂製基板、特に可撓性基板を用いた超
高記録密度記録媒体の開発を行っている。高密度記録用
の磁性層は、真空成膜法によって形成されている。真空
成膜法をフロッピーディスクの磁性層の形成に使用する
と磁気記録密度の大きな磁性層を製造することができ
る。真空成膜法による剛性磁気記録媒体の製造工程にお
いては、基板の温度が50〜300℃の領域まで上昇す
ることがある。基板にはアルミニウム等の金属、あるい
は酸化ケイ素、セラミック円盤等が使用されている。こ
れらの材料では基板の加熱による放出気体が少なく、基
板温度上昇による基板からの放出気体の影響をほとんど
受けない。
[0003] By changing a rigid base to a flexible base, a magnetic recording medium can be reduced in weight of a recording portion, reduced in damage at the time of head crash, and realized a high-density removable magnetic recording medium excellent in impact resistance. It is possible. Therefore, the applicant has
We are developing ultra-high recording density recording media using synthetic resin substrates with low height, especially flexible substrates. The magnetic layer for high density recording is formed by a vacuum film forming method. When a vacuum film forming method is used for forming a magnetic layer of a floppy disk, a magnetic layer having a high magnetic recording density can be manufactured. In a manufacturing process of a rigid magnetic recording medium by a vacuum film forming method, the temperature of the substrate may rise to a region of 50 to 300 ° C. A metal such as aluminum, silicon oxide, a ceramic disk, or the like is used for the substrate. With these materials, the amount of gas emitted by heating the substrate is small, and the material is hardly affected by the gas emitted from the substrate due to the temperature rise of the substrate.

【0004】合成樹脂製基板、特に可撓性基板は製造工
程において、水、水素などの気体が含まれている。その
ため、基板を加熱すると多量の気体が発生し、下地層ま
たは磁性層を真空成膜で形成する際、基板と蒸着膜間の
密着性が低下する。密着性が低下すると磁気記録媒体の
走行耐久性が著しく低下した。一方、密着性を改善する
ためには非磁性下地層の下層に密着層を設けることが効
果的である。しかし密着層は下地層および磁性層の結晶
配向性、強いては電磁変換特性に影響を与えるため、格
子の整合を考慮し最適な材料を選択するという制限があ
った。基板からの脱ガスが多い合成樹脂製基板を用いた
磁気記録媒体では密着層として使用できる材料が限定さ
れてしまう。そのため下地層と磁性層の格子配向性の整
合を最適化できないという問題があった。
[0004] Synthetic resin substrates, particularly flexible substrates, contain gases such as water and hydrogen in the manufacturing process. Therefore, when the substrate is heated, a large amount of gas is generated, and the adhesion between the substrate and the deposited film is reduced when the underlayer or the magnetic layer is formed by vacuum film formation. When the adhesion was reduced, the running durability of the magnetic recording medium was significantly reduced. On the other hand, in order to improve the adhesion, it is effective to provide an adhesion layer below the nonmagnetic underlayer. However, since the adhesion layer affects the crystal orientation of the underlayer and the magnetic layer, or even the electromagnetic conversion characteristics, there is a limitation that an optimum material is selected in consideration of lattice matching. In the case of a magnetic recording medium using a synthetic resin substrate, which is often degassed from the substrate, materials that can be used as the adhesion layer are limited. Therefore, there is a problem that matching of lattice orientation between the underlayer and the magnetic layer cannot be optimized.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、合成樹脂製
基板を用いた磁気記録媒体において、真空成膜によって
形成する磁性層等と合成樹脂製基板との密着性の低下を
防止するとともに、磁性層とその下地層との間の格子配
向性の整合を最適化した磁気記録媒体を提供することを
課題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a magnetic recording medium using a synthetic resin substrate, which prevents a decrease in adhesion between a magnetic layer or the like formed by vacuum film formation and the synthetic resin substrate. An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium in which matching of lattice orientation between a magnetic layer and an underlayer is optimized.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の課題は、合成樹
脂製基板の少なくとも一方に下地層、磁性層、保護層、
潤滑層を積層した構成の磁気記録媒体において、合成樹
脂製基板と下地層間にシード層を設けるとともに、シー
ド層が島状構造を有し、合成樹脂製基板と下地層が直接
に接触した部分を有する磁気記録媒体によって解決する
ことができる。また、合成樹脂製基板の厚さが30〜1
00μmの範囲にある磁気記録媒体である。シード層の
厚さが5〜25nmの範囲にある前記の磁気記録媒体で
ある。シード層が島状に形成されており、シード層材料
の面積占有率が合成樹脂製基板表面積に対し80%〜9
8%である磁気記録媒体である。磁性層としてCr濃度
が10〜30at%の範囲にあるCoを主成分とする合
金を用いた前記の磁気記録媒体である。下地層としてC
r濃度が77〜100at%の範囲にあるCr合金を用
いた前記の磁気記録媒体である。合成樹脂製基板の両面
に形成したものである前記の磁気記録媒体である。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an underlayer, a magnetic layer, a protective layer,
In a magnetic recording medium having a configuration in which a lubricating layer is laminated, a seed layer is provided between a synthetic resin substrate and a base layer, and the seed layer has an island-like structure, and a portion where the synthetic resin substrate and the base layer are in direct contact is formed. The problem can be solved by a magnetic recording medium having the above. In addition, the thickness of the synthetic resin substrate is 30 to 1
The magnetic recording medium is in the range of 00 μm. The above magnetic recording medium, wherein the thickness of the seed layer is in the range of 5 to 25 nm. The seed layer is formed in an island shape, and the area occupancy of the seed layer material is 80% to 9% of the surface area of the synthetic resin substrate.
The magnetic recording medium is 8%. The above magnetic recording medium uses an alloy containing Co as a main component and having a Cr concentration in a range of 10 to 30 at% as a magnetic layer. C as base layer
The above magnetic recording medium using a Cr alloy having an r concentration of 77 to 100 at%. The above magnetic recording medium is formed on both surfaces of a synthetic resin substrate.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明者らは合成樹脂製基板の少
なくとも一方に下地層、磁性層、保護層、潤滑層を積層
した構成の磁気記録媒体において、合成樹脂製基板と下
地層間に島状構造のシード層を設けることで、合成樹脂
製基板と金属薄膜との密着性、金属薄膜聞の結晶配向性
の両特性を同時に改善できることを見いだし、本発明に
到った。合成樹脂製基板上に真空成膜によって形成する
際に、静磁気特性および電磁変換特性を確保するために
基板を50〜250℃の温度で加熱する必要がある。ハ
ードディスクの基板にはアルミニウム等の金属、あるい
はガラス、酸化ケイ素、セラミック等の円盤が使用され
ている。これら材料は蒸着膜間の密着性が基本的に高い
ことに加え、成膜時に基板を加熱した場合にも基板かの
放出気体も少ない。そのため加熱による密着性低下もほ
とんどなく、ハードディスクでは基板加熱の際に密着性
低下は大きな問題にはならなかった。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In a magnetic recording medium having a structure in which an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are laminated on at least one of a synthetic resin substrate, the present inventors have an island between the synthetic resin substrate and the underlayer. The present inventors have found that the provision of the seed layer having the shape of a letter can improve both the adhesion between the synthetic resin substrate and the metal thin film and the crystal orientation of the metal thin film at the same time. When forming by vacuum film formation on a synthetic resin substrate, it is necessary to heat the substrate at a temperature of 50 to 250 ° C. in order to secure magnetostatic characteristics and electromagnetic conversion characteristics. A metal such as aluminum or a disk such as glass, silicon oxide or ceramic is used for a substrate of a hard disk. These materials have basically high adhesion between deposited films, and also emit less gas from the substrate when the substrate is heated during film formation. For this reason, there was almost no decrease in adhesion due to heating, and in the case of a hard disk, the decrease in adhesion during substrate heating did not become a major problem.

【0008】ところが、合成樹脂製基板の場合には、基
板中に水、水素等の気体を含有している。そのため基板
を加熱すると気体が発生し、基板と蒸着膜間の密着性が
低下する。密着性が低下すると磁気記録媒体の走行耐久
性が著しく低下することがあった。密着性を改善するた
めには、合成樹脂製基板上に形成するシード層の下に密
着層を形成することが効果的である。しかし密着層はシ
ード層・下地層・磁性層の結晶配向性、強いては電磁変
換特性に影響を与えるため、格子整合を考慮し最適な材
料を選択するという制限があった。このような理由から
合成樹脂製基板を用いた磁気記録媒体では密着層として
使用できる材料が限定されてしまう。そのため下地層・
磁性層の格子整合を最適化できなかった。
However, in the case of a synthetic resin substrate, the substrate contains a gas such as water or hydrogen. Therefore, when the substrate is heated, gas is generated, and the adhesion between the substrate and the deposited film is reduced. When the adhesion is reduced, the running durability of the magnetic recording medium may be significantly reduced. In order to improve the adhesion, it is effective to form an adhesion layer under a seed layer formed on a synthetic resin substrate. However, since the adhesion layer affects the crystal orientation of the seed layer, the underlayer, and the magnetic layer and, at the very least, the electromagnetic conversion characteristics, there is a limitation that an optimum material is selected in consideration of lattice matching. For these reasons, in a magnetic recording medium using a synthetic resin substrate, a material that can be used as an adhesion layer is limited. Therefore, the underlayer
The lattice matching of the magnetic layer could not be optimized.

【0009】そこで、本発明は、合成樹脂製基板上に形
成するシード層を、合成樹脂製基板表面を完全に覆うこ
とがないように島状に形成し、シード層上に形成する下
地層が一部において合成樹脂製基板表面と直接に接触す
るようにし、下地層の有する密着性を充分に利用したも
のである。特に下地層としてCr合金を使用した場合に
は、高い密着性が得られるので密着性を高める効果が大
きくなる。また、島状構造のシード層は、真空成膜時の
雰囲気中の気体の分圧の調整等の成膜条件を変えること
によって可能であり、一般には金属薄膜では膜厚が薄い
とき、層状構造ではなく、島状構造を形成する。シード
層が島状に形成された後に、非磁性下地層を形成するこ
とで、シード層を跨いで、合成樹脂製基板と非磁性下地
層が結合する領域を実現することができる。
Therefore, the present invention provides a seed layer formed on a synthetic resin substrate in an island shape so as not to completely cover the synthetic resin substrate surface. In part, the substrate is brought into direct contact with the surface of the synthetic resin substrate, and the adhesion of the underlying layer is fully utilized. In particular, when a Cr alloy is used as the underlayer, a high adhesion is obtained, so that the effect of enhancing the adhesion is increased. In addition, the seed layer having an island structure can be formed by changing film forming conditions such as adjusting a partial pressure of gas in an atmosphere during vacuum film formation. Instead, they form island structures. By forming the nonmagnetic underlayer after the seed layer is formed in an island shape, a region where the synthetic resin substrate and the nonmagnetic underlayer are bonded across the seed layer can be realized.

【0010】シード層の島状部の面積占有率が合成樹脂
製基板表面積に対して少ないと、密着性が向上するが、
シード層による結晶配向性の向上効果が低減してしま
う。また逆に島状部の面積占有率が高すぎると結晶配向
性の向上効果は向上するが、密着性は低下してしまう。
本発明の磁気記録媒体では、結晶配向性が優れ、密着力
が弱いTaシード層等とともに下地層として密着力が優
れたCrTi合金を用いることによって、結晶配向性
と、密着力の両者が優れた磁気記録媒体を得ることがで
きる。本発明のシード層の島状部の、合成樹脂製基板の
面積に対する面積占有率は75%〜98%の範囲とする
ことが好ましく、80%ないし95%とすることがより
好ましい。
If the area occupancy of the island portion of the seed layer is small relative to the surface area of the synthetic resin substrate, the adhesion is improved,
The effect of improving the crystal orientation by the seed layer is reduced. Conversely, if the area occupancy of the islands is too high, the effect of improving the crystal orientation is improved, but the adhesion is reduced.
In the magnetic recording medium of the present invention, both the crystal orientation and the adhesion are excellent by using a CrTi alloy having an excellent adhesion as a base layer together with a Ta seed layer or the like having an excellent crystal orientation and a low adhesion. A magnetic recording medium can be obtained. The area occupancy of the island portion of the seed layer of the present invention with respect to the area of the synthetic resin substrate is preferably in the range of 75% to 98%, more preferably 80% to 95%.

【0011】本発明の磁気記録媒体において使用するこ
とができる合成樹脂製基板としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテル
イミド、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリベンゾキシアゾール等の合成樹脂材料を挙げること
ができる。これらの合成樹脂製基板の材料としては、ヤ
ング率は1.96×103〜15.7×103MPa(2
00〜1600kg/mm2 )が好ましく、特に好まし
くは2.94×103〜7.85×103MPa(300
〜800kg/mm2 )である。合成樹脂製基板の厚さ
は20〜150μmであることが好ましく、より好まし
くは30〜80μmの範囲のものである。また、合成樹
脂製基板としては、これらの合成樹脂から作製した帯状
の部材を円盤状に打ち抜いたもの、あるいはこれらの合
成樹脂材料を射出成形により形成した円盤を使用しても
よい。
The synthetic resin substrate that can be used in the magnetic recording medium of the present invention includes polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyetherimide, polyimide, polyamide, polyamideimide,
A synthetic resin material such as polybenzoxazole can be used. As a material of these synthetic resin substrates, the Young's modulus is 1.96 × 10 3 to 15.7 × 10 3 MPa (2
00 to 1600 kg / mm 2 ), and particularly preferably 2.94 × 10 3 to 7.85 × 10 3 MPa (300
800800 kg / mm 2 ). The thickness of the synthetic resin substrate is preferably from 20 to 150 μm, more preferably from 30 to 80 μm. As the synthetic resin substrate, a disk-shaped member formed by punching a band-shaped member made of these synthetic resins or a disk formed by injection-molding these synthetic resin materials may be used.

【0012】また、合成樹脂製基板の平坦性を向上させ
るため、合成樹脂製基板上に平坦層を設けてもよい。平
坦層材料としては耐熱性高分子材料を使用することがで
きる。具体的には、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂などの材料を挙
げることができる。これらの材料は耐熱性に優れている
のに加え、表面性および静磁気特性において良好な特性
を実現できる。平坦層の塗布厚は0.1〜5.0μmで
あることが好ましく、より好ましくは0.5〜3.0μ
m、更に好ましくは0.8〜2.0μmである。また、
合成樹脂製基板の表面に微小な突起を設けても良い。合
成樹脂製基板の表面に設ける微少な突起としては、例え
ばSiO2、Al23、TiO2等の無機物の微粒子、ま
たは有機性の微粒子が挙げられる。これらの微粒子の粒
径は5〜40nm、望ましくは10〜35nm、特に望
ましくは15〜30nmの範囲である。また、作製した
下塗り膜表面の突起高さは30nm以下が好ましい。
Further, a flat layer may be provided on the synthetic resin substrate in order to improve the flatness of the synthetic resin substrate. A heat-resistant polymer material can be used as the flat layer material. Specifically, silicone resin, polyamide resin,
Materials such as polyamide imide resin and polyimide resin can be given. These materials are not only excellent in heat resistance, but also can achieve good properties in surface properties and magnetostatic properties. The coating thickness of the flat layer is preferably 0.1 to 5.0 μm, more preferably 0.5 to 3.0 μm.
m, more preferably 0.8 to 2.0 μm. Also,
Fine projections may be provided on the surface of the synthetic resin substrate. Examples of the minute projections provided on the surface of the synthetic resin substrate include fine particles of an inorganic substance such as SiO 2 , Al 2 O 3 , and TiO 2 , or fine particles of an organic substance. The particle size of these fine particles is in the range of 5 to 40 nm, preferably 10 to 35 nm, particularly preferably 15 to 30 nm. The height of the protrusions on the surface of the prepared undercoat film is preferably 30 nm or less.

【0013】シード層材料としては、Ta、Mo、W、
V、Zr、Cr、Rh、Hf、Nb、Mn、Ni、A
l、Ru、Ti、Siから選ばれる合金あるいはこれら
と窒素、酸素等との化合物等を挙げることができる。具
体的には、TaSi、NiSi、CrSi、NiAl、
NiP、CrTaSi、CrW、CrTi、CrMo、
TaSiが好ましい。また、シード層厚は5nm〜25
nmであり、特に好ましいのは10〜20nmである。
下地層厚を5nm以下に薄くすると、シード層の面積占
有率が低下し、磁性層の結晶配向性が低下する、25n
m以上に厚くすると、密着性が低下してしまう。シード
層の島状部の、合成樹脂製基板の面積に対する面積占有
率は75%〜98%の範囲とすることが好ましく、80
%ないし95%とすることがより好ましい。また、島状
部の距離は1nm〜20nmの範囲にあることが好まし
い。更に好ましくは1nm〜5nmの範囲である。島状
部の大きさは5nm〜100nmの範囲にあることが好
ましい。更に好ましくは10nm〜50nmの範囲であ
る。シード層作製温度は5〜250℃、特に好ましくは
10〜200℃の範囲である。島状部を制御する方法と
して、基板温度、シード層スパッタリング圧力を変更す
ることが有効である。
As a material for the seed layer, Ta, Mo, W,
V, Zr, Cr, Rh, Hf, Nb, Mn, Ni, A
Alloys selected from l, Ru, Ti, and Si or compounds of these with nitrogen, oxygen, and the like can be given. Specifically, TaSi, NiSi, CrSi, NiAl,
NiP, CrTaSi, CrW, CrTi, CrMo,
TaSi is preferred. The seed layer thickness is 5 nm to 25
nm, and particularly preferably 10 to 20 nm.
When the thickness of the underlayer is reduced to 5 nm or less, the area occupancy of the seed layer decreases, and the crystal orientation of the magnetic layer decreases.
If the thickness is more than m, the adhesion will be reduced. The area occupancy of the island portion of the seed layer with respect to the area of the synthetic resin substrate is preferably in the range of 75% to 98%.
% To 95%. The distance between the islands is preferably in the range of 1 nm to 20 nm. More preferably, it is in the range of 1 nm to 5 nm. The size of the islands is preferably in the range of 5 nm to 100 nm. More preferably, it is in the range of 10 nm to 50 nm. The seed layer forming temperature is in the range of 5 to 250C, particularly preferably 10 to 200C. As a method of controlling the island portion, it is effective to change the substrate temperature and the seed layer sputtering pressure.

【0014】下地層材料としては、Cr、またはTi、
W、Mo、V、Ta、B、Si、Nb、Zr、Al、M
nのうちの少なくとも1種とCrとの合金等が好まし
い。下地層のCr濃度は77〜100at%、特に好ま
しいのはCr濃度が80〜95at%であり、残部はそ
の他の元素の金属である。下地層の膜厚5nm〜500
nmであることが好ましく、より好ましくは10〜10
0nmである。下地層厚を500nm以上に厚くすると
磁性層の粒径が大きくなり、磁気記録媒体を使用した場
合にノイズの発生等が起こる。
As a material of the underlayer, Cr, Ti,
W, Mo, V, Ta, B, Si, Nb, Zr, Al, M
An alloy of at least one of n and Cr is preferable. The Cr concentration of the underlayer is 77 to 100 at%, particularly preferably the Cr concentration is 80 to 95 at%, and the balance is a metal of another element. Underlayer thickness 5 nm to 500
nm, more preferably 10 to 10 nm.
0 nm. When the thickness of the underlayer is increased to 500 nm or more, the grain size of the magnetic layer becomes large, and when a magnetic recording medium is used, noise occurs.

【0015】磁性材料としては、CoCr合金、バリウ
ムフェライトが好ましく、Pt、Ta、Ni、Si、
B、Ni、Pdから選ばれる少なくとも1種を含んだC
oCr合金、あるいはこれらに酸素を含有したものがよ
り好ましい。なかでもCoCrPt、CoCrPtTa
が好ましい。磁性層中のCr濃度は10〜30at%が
好ましく、特に好ましくは15〜25at%である。磁
性層の膜厚は10〜300nmであることが好ましく、
特に好ましくは10〜60nmである。下地層と磁性層
は真空成膜法で設けることが好ましく、特にスパッタリ
ングは多くの元素の組成を変えることなく成膜できるた
め好ましい。またシード層、下地層、磁性層の3層は、
成膜装置内の減圧度を保持した状態で連続的に成膜する
ことが好ましい。
As the magnetic material, a CoCr alloy or barium ferrite is preferable, and Pt, Ta, Ni, Si,
C containing at least one selected from B, Ni and Pd
An oCr alloy or one containing oxygen therein is more preferable. Above all, CoCrPt, CoCrPtTa
Is preferred. The Cr concentration in the magnetic layer is preferably from 10 to 30 at%, particularly preferably from 15 to 25 at%. The thickness of the magnetic layer is preferably 10 to 300 nm,
Particularly preferably, it is 10 to 60 nm. The underlayer and the magnetic layer are preferably formed by a vacuum film formation method. In particular, sputtering is preferable because a film can be formed without changing the composition of many elements. The seed layer, the underlayer, and the magnetic layer
It is preferable to form a film continuously while maintaining the degree of reduced pressure in the film forming apparatus.

【0016】磁性層上には、保護層としては、プラズマ
CVD法、スパッタリング法等で作製したアモルファ
ス、グラファイト、ダイヤモンド構造、もしくはこれら
の混合物からなる炭素保護層を設けることが好ましい。
特に好ましくは、ダイヤモンド状炭素と呼ばれる硬質の
非晶質炭素膜である。この硬質炭素膜はビッカース硬度
で9.81×103MPa(1000kg/mm2)以
上、好ましくは19.6×103MPa(2000kg
/mm2)以上の硬質の炭素膜である。保護層の膜厚
は、2.5〜30nmが好ましく、特に好ましくは5〜
25nmである。
On the magnetic layer, it is preferable to provide, as a protective layer, a carbon protective layer made of an amorphous, graphite, diamond structure or a mixture thereof prepared by a plasma CVD method, a sputtering method or the like.
Particularly preferred is a hard amorphous carbon film called diamond-like carbon. This hard carbon film has a Vickers hardness of at least 9.81 × 10 3 MPa (1000 kg / mm 2 ), preferably 19.6 × 10 3 MPa (2000 kg).
/ Mm 2 ) or more. The thickness of the protective layer is preferably from 2.5 to 30 nm, particularly preferably from 5 to 30 nm.
25 nm.

【0017】本発明の磁気記録媒体において、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記磁性層もしくは保
護層上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。潤
滑剤としては、炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極
圧添加剤などが使用できる。炭化水素系潤滑剤としては
ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリ
ン酸ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等
のスルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エ
ステル類、ステアリルアルコール、オレイルアルコール
等のアルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸
アミド類、ステアリルアミン等のアミン類などが挙げら
れる。フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤滑剤の
アルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もし
くはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙
げられる。パーフルオロポリエーテル基としてはパーフ
ルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレン
オキシド重合体、パーフルオロ−n−プロピレンオキシ
ド重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフルオロイソプ
ロピレンオキシド重合体(CF(CF3)CF2O)n
たはこれらの共重合体等である。極圧添加剤としてはリ
ン酸トリラウリル等のリン酸エステル類、亜リン酸トリ
ラウリル等の亜リン酸エステル類、トリチオ亜リン酸ト
リラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エス
テル類、二硫化ジベンジル等のイオウ系極圧剤などが挙
げられる。上記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使
用される。これらの潤滑剤を磁性層もしくは保護層上に
付与する方法としては潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイ
ヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコ
ート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させれ
ばよい。潤滑剤の塗布量としては1〜30mg/m 2
好ましく、2〜20mg/m2 が特に好ましい。本発明
で使用できる防錆剤としてはベンゾトリアゾール、ベン
ズイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素
環類、およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した
誘導体、ベンゾチアゾール、2−メルカプトンベンゾチ
アゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化
合物等の窒素およびイオウ含有複素環類およびこの誘導
体等が挙げられる。
In the magnetic recording medium of the present invention, running durability
In order to improve the corrosion resistance and corrosion resistance,
It is preferable to provide a lubricant or a rust inhibitor on the protective layer. Jun
Lubricants include hydrocarbon-based lubricants, fluorine-based lubricants,
Pressure additives and the like can be used. As hydrocarbon lubricants
Carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid, stearyl
Esters such as butyl phosphate, octadecylsulfonic acid, etc.
Phosphoric acid such as sulfonic acids and monooctadecyl phosphate
Steals, stearyl alcohol, oleyl alcohol
And carboxylic acids such as stearamide
Amides and amines such as stearylamine and the like.
It is. As the fluorine-based lubricant, the above-mentioned hydrocarbon-based lubricant
Part or all of the alkyl group may be a fluoroalkyl group.
Lubricants substituted with perfluoropolyether groups
I can do it. Perfluoropolyether group
Fluoromethylene oxide polymer, perfluoroethylene
Oxide polymer, perfluoro-n-propyleneoxy
Polymer (CFTwoCFTwoCFTwoO)n, Perfluoroisop
Propylene oxide polymer (CF (CFThree) CFTwoO)nMa
Or copolymers of these. Extreme pressure additives
Phosphoric acid esters such as trilauryl phosphite, triphosphorous acid
Phosphites such as lauryl, trithiophosphorous acid
Thiolphosphoric acid esters such as lirauryl and thiophosphoric acid ester
Examples include sulfur-based extreme pressure agents such as ters and dibenzyl disulfide.
I can do it. The above lubricants can be used alone or in combination.
Used. Apply these lubricants on the magnetic layer or protective layer.
As a method of applying, a lubricant is dissolved in an organic solvent,
Yerber method, gravure method, spin coating method, dipco
Or by vacuum evaporation.
I just need. The amount of lubricant to be applied is 1 to 30 mg / m Two But
Preferably, 2 to 20 mg / mTwo Is particularly preferred. The present invention
Benzotriazole, benzene
Nitrogen-containing complexes such as zimidazole, purine and pyrimidine
Alkyl side chains are introduced into rings and their nuclei
Derivatives, benzothiazole, 2-mercapton benzothi
Azole, tetrazaindene ring compound, thiouracillation
Compounds and other nitrogen- and sulfur-containing heterocycles and derivatives thereof
Body and the like.

【0018】[0018]

【実施例】以下に、実施例および比較例を示し本発明を
説明する。 実施例1 厚さ1μmのポリイミド樹脂を平坦層として施した75
μmポリイミド樹脂製基板上に、アルゴン分圧1.06
Pa(8.0mTorr)、投入電力11.4W/cm
2、基板温度20℃の条件で直流スパッタリングによっ
て、シード層としてTaSi(原子比85:15)を2
0nmの厚さに形成した。次いで、アルゴン分圧2.0
0Pa(15mTorr)、投入電力11.4W/cm
2、基板温度200℃の条件で、非磁性下地層としてC
rTi合金(原子比80:20)を直流スパッタリング
により60nmの厚さで成膜した。次いで、アルゴン分
圧0.20Pa(1.5mTorr)、投入電力11.
4W/cm2 、基板温度20℃の条件で、下地層上に磁
性層として、CoCrPt合金(原子比78:20:1
2)を直流スパッタリングにより30nmの厚さに成膜
した。次いで、アルゴン分圧0.40Pa(3mTor
r)、投入電力5.71W/cm2、基板温度200℃
の条件で、膜厚20nmの炭素からなる保護層を成膜し
た。潤滑剤としてリン酸モノオクタデシル及びステアリ
ルアミンの混合潤滑剤を用いて磁気記録媒体を作製し
た。得られた磁気記録媒体について、各成膜工程毎に以
下の評価方法によって膜厚等の測定を行うと共に、得ら
れた磁気記録媒体について密着性、結晶配向性等の評価
を行いその評価結果を表1に示す。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples. Example 1 75 in which a 1 μm thick polyimide resin was applied as a flat layer
μm polyimide resin substrate, argon partial pressure 1.06
Pa (8.0 mTorr), input power 11.4 W / cm
2. TaSi (atomic ratio 85:15) was used as a seed layer by DC sputtering at a substrate temperature of 20 ° C.
It was formed to a thickness of 0 nm. Then, an argon partial pressure of 2.0
0 Pa (15 mTorr), input power 11.4 W / cm
2. Under conditions of a substrate temperature of 200 ° C., C
An rTi alloy (atomic ratio 80:20) was formed into a film with a thickness of 60 nm by DC sputtering. Next, an argon partial pressure of 0.20 Pa (1.5 mTorr) and an input power of 11.
Under the conditions of 4 W / cm 2 and a substrate temperature of 20 ° C., a CoCrPt alloy (atomic ratio of 78: 20: 1) was used as a magnetic layer on the underlayer.
2) was formed into a film having a thickness of 30 nm by DC sputtering. Next, an argon partial pressure of 0.40 Pa (3 mTorr)
r), input power 5.71 W / cm 2 , substrate temperature 200 ° C.
Under the conditions described above, a protective layer made of carbon having a thickness of 20 nm was formed. A magnetic recording medium was manufactured using a mixed lubricant of monooctadecyl phosphate and stearylamine as a lubricant. For the obtained magnetic recording medium, the film thickness and the like are measured by the following evaluation methods for each film forming step, and the obtained magnetic recording medium is evaluated for adhesion, crystal orientation, and the like. It is shown in Table 1.

【0019】実施例2 実施例1におけるシード層厚を5nmに変更した点を除
き実施例1と同様に作製し、実施例1と同様に評価を行
いその結果を表1に示す。
Example 2 A film was fabricated in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the seed layer was changed to 5 nm, and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【0020】実施例3 実施例1におけるシード層厚を25nmに変更した点を
除き実施例1と同様に作製し、実施例1と同様に評価を
行いその結果を表1に示す。
Example 3 A semiconductor device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the seed layer in Example 1 was changed to 25 nm, evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0021】実施例4 実施例1における合成樹脂製基板を0.6mm厚のポリ
エーテルイミド基板に変更した点を除き実施例1と同様
に作製し、実施例1と同様に評価を行いその結果を表1
に示す。
Example 4 The procedure of Example 1 was repeated except that the synthetic resin substrate of Example 1 was changed to a polyetherimide substrate having a thickness of 0.6 mm, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. Table 1
Shown in

【0022】実施例5 実施例1におけるシード層作製温度を77Kに変更した
点を除き実施例1と同様に作製し、実施例1と同様に評
価を行いその結果を表1に示す。
Example 5 A film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature for forming the seed layer in Example 1 was changed to 77 K, evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0023】比較例1 シード層を設けない点を除き実施例1と同様に作製し、
実施例1と同様に評価を行いその結果を表1に示す。 比較例2
COMPARATIVE EXAMPLE 1 A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that no seed layer was provided.
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. Comparative Example 2

【0024】実施例1におけるシード層厚を2nmに変
更した点を除き実施例1と同様に作製し、実施例1と同
様に評価を行いその結果を表1に示す。 比較例3
Except that the thickness of the seed layer in Example 1 was changed to 2 nm, it was manufactured in the same manner as in Example 1, evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. Comparative Example 3

【0025】実施例1におけるシード層厚を30nmに
変更した点を除き実施例1と同様に作製し、実施例1と
同様に評価を行いその結果を表1に示す。 比較例4 実施例1におけるシード層作製温度を300℃に変更し
た点を実施例1と同様に作製し、実施例1と同様に評価
を行いその結果を表1に示す。
Except that the seed layer thickness in Example 1 was changed to 30 nm, it was manufactured in the same manner as in Example 1, evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. Comparative Example 4 A seed layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the seed layer forming temperature in Example 1 was changed to 300 ° C., evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0026】(評価方法) 1.シード層面積占有率 原子間力顕微鏡(Digital Instrumen
ts社製:Nanoscope−III)を用いた。1
μm角でシード層生成後の試料表面の観測を行い、合成
樹脂製基板に対して垂直方向から粒子形状を射影した像
を形成する。この像面積とスキャン面積の比から、面積
占有率を算出する。同様の測定を10カ所について行
い、平均の面積占有率を算出する。 2.シード層厚の測定 標準試料としてシリコン基板を用い、マーキングを行っ
て10分間成膜し、アセトンで洗浄し、マーキング部を
除去する。この部分に発生した膜厚段差を接触式段差計
で膜厚を測定し、膜厚とスパッタ時間の関係からスパッ
タリング速度を算出する。成膜時間×スパッタリング速
度からシード層成膜厚さを算出する。
(Evaluation Method) Seed layer area occupancy Atomic force microscope (Digital Instrumentum)
ts: Nanoscope-III) was used. 1
The surface of the sample after the formation of the seed layer is observed in μm square, and an image is formed by projecting the particle shape from a direction perpendicular to the synthetic resin substrate. The area occupancy is calculated from the ratio between the image area and the scan area. The same measurement is performed at ten locations, and the average area occupancy is calculated. 2. Measurement of Seed Layer Thickness Using a silicon substrate as a standard sample, marking is performed, a film is formed for 10 minutes, washed with acetone, and the marking portion is removed. The film thickness step generated in this portion is measured with a contact type step meter, and the sputtering rate is calculated from the relationship between the film thickness and the sputtering time. The seed layer film thickness is calculated from the film formation time × sputtering rate.

【0027】3.密着層の付着力 粘着テープ(日東電工社製ポリエチレンナフタレートテ
ープ(No.31B))を使用し、18mm×20mm
程度のテープを試料面に接着し、4.9N/m 2(50
0gf/cm2)以上の力で3回以上こすりつけ完全に
密着させる。その後一気に引き剥がす。この作業を5回
異なった場所に対して実施し、剥がれがない場合を膜剥
がれ無しとした。
3. Adhesive force of adhesive layer Adhesive tape (Polyethylene naphthalate te manufactured by Nitto Denko Corporation)
18mm x 20mm
About 4.9 N / m Two(50
0gf / cmTwo) Rub more than 3 times with more force
Adhere. Then peel off at once. Do this 5 times
Perform the test in a different place.
No screeching.

【0028】4.結晶配向性 下地層と磁性層の結晶配向性の観測は2軸X線回折装置
(理学電機製:RINT2500H)により実施した。
測定はθ−2θ法とし、線源にはCuを用いた。印加電
圧50kV、管電流は300mAとした。結晶配向性の
尺度として、面内配向成分である磁性層(110)と、
磁化容易軸が膜面に対して斜めに成長している(10
1)面の回折強度比を定義する。I(110)/I(1
01)強度比が2.5以上である場合を良好、2.5未
満の場合を不良とした。
4. Crystal Orientation The crystal orientation of the underlayer and the magnetic layer was observed with a biaxial X-ray diffractometer (RINT 2500H, manufactured by Rigaku Corporation).
The measurement was performed by the θ-2θ method, and Cu was used as the radiation source. The applied voltage was 50 kV and the tube current was 300 mA. As a measure of crystal orientation, a magnetic layer (110) which is an in-plane orientation component;
The axis of easy magnetization grows obliquely to the film surface (10
1) Define the diffraction intensity ratio of the plane. I (110) / I (1
01) The case where the intensity ratio was 2.5 or more was regarded as good, and the case where the intensity ratio was less than 2.5 was regarded as bad.

【0029】[0029]

【表1】 面積占有率 シード層厚 密着性 結晶配向性 (%) (nm) I(110)/I(101) 実施例1 93 20 剥がれ無し 7.6(良好) 実施例2 86 5 剥がれ無し 3.8(良好) 実施例3 97 25 剥がれ無し 6.2(良好) 実施例4 92 20 剥がれ無し 5.3(良好)実施例5 82 20 剥がれ無し 4.6(良好) 比較例1 0 0 剥がれ無し 0.3(不良) 比較例2 78 2 剥がれ無し 0.9(不良) 比較例3 100 30 剥がれ有り 6.5(良好) 比較例4 100 20 剥がれ有り 3.5(良好)Table 1 Area occupancy ratio Seed layer thickness Adhesion Crystal orientation (%) (nm) I (110) / I (101) Example 1 93 20 No peeling 7.6 (good) Example 2 8655 No peeling 3.8 (good) Example 3 97 25 No peeling 6.2 (good) Example 4 92 20 No peeling 5.3 (good) Example 5 82 20 No peeling 4.6 (good) Comparative Example 100 No peeling 0.3 (bad) Comparative Example 2 78 2 No peeling 0.9 (bad) Comparative Example 3 100 30 Peeled 6.5 (Good) Comparative Example 4 100 20 Peeled 3.5 (Good)

【0030】[0030]

【発明の効果】合成樹脂製基板を基体とし、磁性層の下
地として設ける非磁性下地層の間にシード層を設けると
ともに、シード層を島状に形成することによって下地層
と合成樹脂製基板との直接接触部分を形成したので、密
着性と結晶配向性の両者の特性が優れた磁気記録媒体を
得ることができる。
According to the present invention, a synthetic resin substrate is used as a base, a seed layer is provided between nonmagnetic underlayers provided as an underlayer of a magnetic layer, and the seed layer is formed in an island shape. Since the direct contact portion is formed, it is possible to obtain a magnetic recording medium having both excellent adhesion and crystal orientation characteristics.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 合成樹脂製基板の少なくとも一方の面に
下地層、磁性層、保護層、潤滑層を積層した構成の磁気
記録媒体において、合成樹脂製基板と下地層間にシード
層を設けるとともに、シード層が島状構造を有し、合成
樹脂製基板と下地層が直接に接触した部分を有すること
を特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium having a structure in which an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are laminated on at least one surface of a synthetic resin substrate, wherein a seed layer is provided between the synthetic resin substrate and the underlayer. A magnetic recording medium, wherein the seed layer has an island structure, and has a portion where the synthetic resin substrate and the underlayer are in direct contact.
【請求項2】 合成樹脂製基板の厚さが30〜100μ
mの範囲にあることを特徴とする請求項1記載の磁気記
録媒体。
2. The synthetic resin substrate has a thickness of 30 to 100 μm.
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the distance is in the range of m.
【請求項3】 シード層の厚さが5〜25nmの範囲に
あることを特徴とする請求項1または2記載の磁気記録
媒体。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the seed layer is in the range of 5 to 25 nm.
【請求項4】 シード層の島状構造の面積占有率が合成
樹脂製基板表面の80%〜98%であることを特徴とす
る請求項1〜3記載の磁気記録媒体。
4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the area occupancy of the island structure of the seed layer is 80% to 98% of the surface of the synthetic resin substrate.
【請求項5】 磁性層としてCr濃度が10〜30at
%の範囲にあるCoを主成分とする合金を用いたことを
特徴とする請求項1〜4記載の磁気記録媒体。
5. A magnetic layer having a Cr concentration of 10 to 30 at.
5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein an alloy containing Co as a main component in the range of% is used.
【請求項6】 下地層としてCr濃度が77〜100a
t%の範囲にあるCr合金を用いたことを特徴とする請
求項1〜5記載の磁気記録媒体。
6. The underlayer having a Cr concentration of 77 to 100 a
6. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein a Cr alloy in the range of t% is used.
【請求項7】 合成樹脂製基板の両面に形成したもので
あることを特徴とする請求項1〜6記載の磁気記録媒
体。
7. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is formed on both sides of a synthetic resin substrate.
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