JP2004234826A - Magnetic recording vehicle - Google Patents

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JP2004234826A
JP2004234826A JP2004005494A JP2004005494A JP2004234826A JP 2004234826 A JP2004234826 A JP 2004234826A JP 2004005494 A JP2004005494 A JP 2004005494A JP 2004005494 A JP2004005494 A JP 2004005494A JP 2004234826 A JP2004234826 A JP 2004234826A
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magnetic
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magnetic layer
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Kenichi Moriwaki
健一 森脇
Kazuyuki Usuki
一幸 臼杵
Shoichi Nishikawa
正一 西川
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium which is a rewritable magnetic recording medium capable of rewriting at a large capacity and satisfying performance, reliability and a cost and which obviates the degradation in the crystal orientation growth properties of underlayers and magnetic layer by the influence of the gas released from a polymer film support object and can achieve good magnetic characteristics. <P>SOLUTION: The magnetic recording medium has the first underlayer 3 composed of a material selected from a nonmetallic element alone, a compound composed of only the nonmetallic element, and a compound compose of titanium and the nonmetallic element, the second underlayer 4 containing at least one element selected from the group consisting of chromium, titanium, iridium, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, rhenium, osmium, cobalt, tungsten, vanadium, iron, and molybdenum and the magnetic layer comprised of a ferromagnetic alloy containing at least cobalt, platinum and chromium and a nonmagnetic material in this order on at least one surface of the nonmagnetic support object. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明は、磁気記録媒体に関する。より詳しくは、高感度の磁気抵抗型ヘッドを用いて再生できるデジタル情報の記録に使用する高密度記録用磁気記録媒体に関する。   The present invention relates to a magnetic recording medium. More specifically, the present invention relates to a magnetic recording medium for high-density recording used for recording digital information that can be reproduced using a high-sensitivity magnetoresistive head.

近年、インターネットの普及により、パーソナル・コンピュータを用いて大容量の動画情報や音声情報の処理を行う等、コンピュータの利用形態が変化してきている。これに伴い、ハードディスク等の磁気記録媒体に要求される記憶容量も増大している。
ハードディスク装置においては、磁気ディスクの回転に伴い、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面からわずかに浮上し、非接触で磁気記録を行っている。このため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触によって磁気ディスクが破損するのを防止している。高密度化に伴って磁気ヘッドの浮上高さは次第に低減されており、鏡面研磨された超平滑なガラス基板上に磁気記録層(磁性層)等を形成した磁気ディスクを用いることにより、現在では10nm〜20nmの浮上高さが実現されている。媒体においては、一般的にCoPtCr系磁性層/Cr下地層の層構造が用いられており、該磁性層及び下地層の形成時に200℃〜500℃の高温にすることで、Cr下地層によりCoPtCr系磁性層の磁化容易方向が膜面内となるよう制御している。さらに、CoPtCr系磁性層中のCrの偏析を促し、磁性層中の磁区を分離している。この様なヘッドの低浮上量化、ヘッド構造の改良、ディスク記録膜の改良等の技術革新によってハードディスクドライブの面記録密度と記録容量はここ数年で飛躍的に増大してきた。
In recent years, with the spread of the Internet, the use form of computers has changed, such as processing of large-capacity moving image information and audio information using a personal computer. Accordingly, the storage capacity required for magnetic recording media such as hard disks is also increasing.
In the hard disk device, the magnetic head slightly floats from the surface of the magnetic disk as the magnetic disk rotates, and performs magnetic recording without contact. For this reason, the magnetic disk is prevented from being damaged by the contact between the magnetic head and the magnetic disk. As the density increases, the flying height of the magnetic head is gradually reduced. By using a magnetic disk in which a magnetic recording layer (magnetic layer) is formed on a mirror-polished ultra-smooth glass substrate, A flying height of 10 nm to 20 nm is realized. In the medium, the layer structure of CoPtCr magnetic layer / Cr underlayer is generally used. By forming the magnetic layer and the underlayer at a high temperature of 200 ° C. to 500 ° C., the CoPtCr is formed by the Cr underlayer. The easy magnetization direction of the magnetic system layer is controlled to be in the film plane. Further, segregation of Cr in the CoPtCr-based magnetic layer is promoted, and magnetic domains in the magnetic layer are separated. Due to such technological innovations as reducing the flying height of the head, improving the head structure, and improving the disk recording film, the surface recording density and recording capacity of the hard disk drive have increased dramatically in the last few years.

取り扱うことができるデジタルデータ量が増大することによって、動画データの様な大容量のデータを可換型媒体に記録して、移動させるというニーズが生まれてきた。しかしながら、ハードディスクは基板が硬質であって、しかも上述のようにヘッドとディスクの間隔が極わずかであるため、フレキシブルディスクや書き換え型光ディスクの様に可換媒体としての使用を試みると、動作中の衝撃や塵埃の巻き込みによって故障を発生する懸念が高く、使用できない。
さらに、媒体製造において高温スパッタ成膜法を用いた場合、生産性が悪いばかりでなく、大量生産時のコスト上昇につながり、安価に生産できない。
一方、フレキシブルディスクは基板がフレキシブルな高分子フィルムであり、接触記録可能な媒体であるため可換性に優れており、安価に生産できるが、現在市販されているフレキシブルディスクは記録膜が磁性体を高分子バインダーや研磨剤とともに高分子フィルム上に塗布した構造であるため、スパッタ法で磁性膜を形成しているハードディスクと比較すると、磁性層の高密度記録特性が悪く、ハードディスクの1/10以下の記録密度しか達成できていない。
そこで記録膜(磁性層)をハードディスクと同様のスパッタ法で形成する強磁性金属薄膜型のフレキシブルディスクも提案されているが、ハードディスクと同様の磁性層を高分子フィルム上に形成しようとすると、高分子フィルムの熱ダメージが大きく、実用化が困難である。また、ヘッドとメディアの接触は避けられないため、硬質な保護層が必要不可欠となっている。このため高分子フィルムとして耐熱性の高いポリイミドや芳香族ポリアミドフィルムを使用する提案もなされているが、これらの耐熱性フィルムが非常に高価であり、実用化が困難となっている。また高分子フィルムに熱ダメージを生じないように、高分子フィルムを冷却した状態で磁性膜を形成しようとすると、磁性層の磁気特性が不十分となり、記録密度の向上が困難となっている。
Increasing the amount of digital data that can be handled has created a need for recording and moving large volumes of data such as video data on a removable medium. However, since the hard disk has a hard substrate and the distance between the head and the disk is very small as described above, when it is used as a replaceable medium like a flexible disk or a rewritable optical disk, There is a high concern that a failure may occur due to impact or dust entrainment, and it cannot be used.
Further, when the high-temperature sputter deposition method is used in the production of the medium, not only the productivity is bad, but also the cost is increased at the time of mass production, and the production cannot be made at a low cost.
On the other hand, a flexible disk is a polymer film with a flexible substrate and is a contact-recordable medium, so it has excellent interchangeability and can be produced at low cost. Is coated on a polymer film together with a polymer binder and an abrasive. Therefore, compared with a hard disk on which a magnetic film is formed by sputtering, the magnetic layer has poor high-density recording characteristics and is 1/10 that of a hard disk. Only the following recording density has been achieved.
Therefore, a ferromagnetic metal thin film type flexible disk in which the recording film (magnetic layer) is formed by sputtering similar to that of a hard disk has been proposed. However, if a magnetic layer similar to that of a hard disk is formed on a polymer film, a high The thermal damage of the molecular film is large and it is difficult to put it into practical use. In addition, since a contact between the head and the medium is inevitable, a hard protective layer is indispensable. For this reason, proposals have been made to use a highly heat-resistant polyimide or aromatic polyamide film as the polymer film, but these heat-resistant films are very expensive and difficult to put into practical use. If an attempt is made to form a magnetic film while the polymer film is cooled so as not to cause thermal damage to the polymer film, the magnetic properties of the magnetic layer become insufficient, making it difficult to improve the recording density.

それに対し、強磁性金属合金と非磁性酸化物からなる強磁性金属薄膜を用いた場合、室温で成膜した場合においても、200℃〜500℃の高温条件下で成膜したCoPtCr
系磁性層とほぼ同等の磁気特性を得られることがわかってきた。このような強磁性金属合金と非磁性酸化物からなる強磁性金属薄膜はハードディスクで提案されているいわゆるグラニュラ構造のものが使用できる(例えば特許文献1及び2参照。)。
しかし、そのようなグラニュラ構造の磁性層を室温で成膜する際においても、スパッタ法による熱がかかるため、高分子フィルム支持体に含まれるガス成分が放出され、図2に示す様に下地層、磁性層等の結晶成長性が著しく低下する。そのため、結晶配向性の制御が困難となっており、いまだ充分な特性が得られていないのが現状である。
一方、DVD−R/RWに代表される追記型および書き換え型光ディスクは、磁気ディスクのようにヘッドとディスクが近接していないため、可換性に優れており、広く普及している。しかしながら光ディスクは、光ピックアップの厚みとコストの問題から、高容量化に有利な磁気ディスクのように両面を記録面としたディスク構造を用いることが困難であるといった問題がある。さらに、磁気ディスクと比較すると面記録密度が低く、データ転送速度も低いため、書き換え型の大容量記録媒体としての使用を考えると、未だ十分な性能とはいえない。
On the other hand, when a ferromagnetic metal thin film made of a ferromagnetic metal alloy and a nonmagnetic oxide is used, CoPtCr deposited at a high temperature of 200 ° C. to 500 ° C. even when deposited at room temperature.
It has been found that magnetic properties almost equivalent to those of the magnetic system layer can be obtained. As such a ferromagnetic metal thin film made of a ferromagnetic metal alloy and a non-magnetic oxide, a so-called granular structure proposed for a hard disk can be used (for example, see Patent Documents 1 and 2).
However, even when the magnetic layer having such a granular structure is formed at room temperature, since heat is applied by the sputtering method, the gas component contained in the polymer film support is released, and as shown in FIG. In addition, the crystal growth properties of the magnetic layer and the like are significantly reduced. For this reason, it is difficult to control the crystal orientation, and sufficient characteristics have not been obtained yet.
On the other hand, write-once and rewritable optical discs typified by DVD-R / RW have excellent interchangeability and are widespread because the head and the disc are not close to each other like a magnetic disc. However, the optical disk has a problem in that it is difficult to use a disk structure having recording surfaces on both sides like a magnetic disk advantageous for increasing the capacity because of the thickness and cost of the optical pickup. Furthermore, since the surface recording density is low and the data transfer speed is low as compared with the magnetic disk, it cannot be said that the performance is still sufficient when considering use as a rewritable large-capacity recording medium.

特開平5−73880号公報JP-A-5-73880 特開平7−311929号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-311929

従って、本発明の目的は、上記問題を解決することであり、性能、信頼性、コストを満足する大容量の書き換え可能な可換型磁気記録媒体であり、高分子フィルム支持体からの放出ガスの影響による下地層及び磁性層の結晶配向成長性の低下がない、良好な磁気特性を達成することができる磁気記録媒体を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and is a large-capacity rewritable and replaceable magnetic recording medium satisfying performance, reliability, and cost. It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium capable of achieving good magnetic properties without lowering the crystal orientation growth of the underlayer and the magnetic layer due to the influence of the above.

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、以下の構成を採用することにより、上記目的が達成され、本発明を成すに至った。
即ち、本発明は以下の通りである。
(1)非磁性支持体の少なくとも一方の面に、非金属元素単体、非金属元素のみからなる化合物及びチタンと非金属元素との化合物から選択されるものからなる第1下地層と、クロム、チタン、イリジウム、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム及びオスミウムからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有する第2下地層と、少なくともコバルト、白金、及びクロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質から構成された磁性層とを、この順に有することを特徴とする磁気記録媒体。
As a result of intensive studies, the present inventor has achieved the above object by adopting the following configuration, and has achieved the present invention.
That is, the present invention is as follows.
(1) On at least one surface of the nonmagnetic support, a first underlayer made of a nonmetallic element alone, a compound composed of only a nonmetallic element, and a compound of titanium and a nonmetallic element, chromium, A second underlayer containing at least one element selected from the group consisting of titanium, iridium, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, rhenium and osmium; and a ferromagnetic metal alloy containing at least cobalt, platinum and chromium And a magnetic layer made of a nonmagnetic substance in this order.

以下に、本発明の好ましい態様を挙げる。
(2)可とう性高分子からなる非磁性支持体の少なくとも一方の面に、非金属元素単体、非金属元素のみからなる化合物及びチタンと非金属元素との化合物から選択されるものからなる第1下地層と、クロム、チタン、イリジウム、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、オスミウム、コバルト、タングステン、バナジウム、鉄およびモリブデンからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有する第2下地層と、少なくともコバルト、白金、及びクロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質から構成された磁性層とを、この順に有することを特徴とする磁気記録媒体。
(3)前記第1下地層の非金属元素がC、Si、B、Te、As、Se、I、N、Oから選ばれる1種であることを特徴とする前記(1)または(2)記載の磁気記録媒体。
(4)前記第1下地層と第2下地層との界面での第2下地層結晶成長不良層が、5nm以下であることを特徴とする前記(1)〜(3)記載の磁気記録媒体。
(5)磁気記録媒体の磁性層を有する側の表面における表面粗さSRaが3nm以下であることを特徴とする前記(1)〜(4)記載の磁気記録媒体。
The preferred embodiments of the present invention are listed below.
(2) On at least one surface of a non-magnetic support made of a flexible polymer, a non-metallic element alone, a compound consisting only of a non-metallic element, and a compound selected from a compound consisting of titanium and a non-metallic element. And a second lower layer containing at least one element selected from the group consisting of chromium, titanium, iridium, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, rhenium, osmium, cobalt, tungsten, vanadium, iron and molybdenum. A magnetic recording medium comprising a base layer and a magnetic layer composed of a ferromagnetic metal alloy containing at least cobalt, platinum, and chromium and a nonmagnetic material in this order.
(3) The (1) or (2) above, wherein the non-metallic element of the first underlayer is one selected from C, Si, B, Te, As, Se, I, N, and O The magnetic recording medium described.
(4) The magnetic recording medium according to any one of (1) to (3), wherein the second underlayer crystal growth failure layer at the interface between the first underlayer and the second underlayer is 5 nm or less. .
(5) The magnetic recording medium according to any one of (1) to (4) above, wherein the surface roughness SRa on the surface of the magnetic recording medium having the magnetic layer is 3 nm or less.

本発明の磁気記録媒体は、少なくともコバルト(Co)、白金(Pt)、クロム(Cr)を含有する強磁性金属合金と非磁性酸化物からなる強磁性金属薄膜磁性層を備えているので、ハードディスクのような高記録密度記録が可能となり、高容量化が可能となる。
このようなCo、Pt、Crを含有する強磁性金属合金と非磁性酸化物からなる強磁性金属薄膜はハードディスクで提案されているいわゆるグラニュラ構造であり、特開平5−73880号公報や特開平7−311929号公報に記載されているものが使用できる。
さらに、本発明の磁気記録媒体の第1下地層はベースからの放出ガスを遮蔽する効果および第2下地層の結晶配向性を高める効果があるため、フィルムベースを使用する媒体において課題とされている放出ガスの問題を解決することができる。
この様な第1下地層、第2下地層、磁性層を使用することによって、従来のような基板加熱が不要となり、基板温度が室温であっても、良好な磁気特性を達成することができ、かつベースからの放出ガスの問題を解決できる磁気記録媒体を得ることが可能となる。このため、ガラス基板やAl基板だけでなく、支持体が高分子フィルムであっても熱ダメージを生じることなく、接触記録に耐性のある、平坦な磁気テープやフレキシブルディスクも提供することが可能である。
The magnetic recording medium of the present invention includes a ferromagnetic metal thin film magnetic layer composed of a ferromagnetic metal alloy containing at least cobalt (Co), platinum (Pt), and chromium (Cr) and a nonmagnetic oxide. Recording at a high recording density as described above is possible, and the capacity can be increased.
Such a ferromagnetic metal thin film made of a ferromagnetic metal alloy containing Co, Pt, and Cr and a nonmagnetic oxide has a so-called granular structure proposed for a hard disk, and is disclosed in JP-A-5-73880 and JP-A-7. Those described in Japanese Patent No. 311929 can be used.
Furthermore, since the first underlayer of the magnetic recording medium of the present invention has an effect of shielding the gas released from the base and an effect of improving the crystal orientation of the second underlayer, it is regarded as a problem in a medium using a film base. The problem of the released gas can be solved.
By using such a first underlayer, a second underlayer, and a magnetic layer, conventional substrate heating becomes unnecessary, and good magnetic properties can be achieved even when the substrate temperature is room temperature. In addition, a magnetic recording medium that can solve the problem of gas released from the base can be obtained. For this reason, it is possible to provide not only glass substrates and Al substrates but also flat magnetic tapes and flexible disks that are resistant to contact recording without causing thermal damage even if the support is a polymer film. is there.

本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、第1下地層、第2下地層を設け、下地層上には、コバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質から構成された磁性層を形成することにより、支持体からの放出ガスを遮蔽し磁性層の結晶配向性を高める効果があり、可撓性高分子支持体上にも特性が優れた磁性層を形成することができ、高密度記録が可能なものとすることができる。   In the magnetic recording medium of the present invention, a first underlayer and a second underlayer are provided on a nonmagnetic support, and a ferromagnetic metal alloy containing cobalt, platinum, and chromium and a nonmagnetic material are provided on the underlayer. By forming a magnetic layer that is composed, it has the effect of shielding the gas released from the support and improving the crystal orientation of the magnetic layer, and forming a magnetic layer with excellent characteristics on the flexible polymer support And high density recording is possible.

本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の少なくとも一方の面に、非金属元素単体、非金属元素のみからなる化合物及びチタンと非金属元素との化合物から選択されるものからなる第1下地層と、クロム、チタン、イリジウム、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、オスミウム、コバルト、タングステン、バナジウム、鉄およびモリブデンからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有する第2下地層と、少なくともコバルト、白金、及びクロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質から構成された磁性層を形成したので、支持体として高分子フィルムを用いた場合に、第2下地層及び磁性層をスパッタリング法によって形成する際に該高分子フィルムからの放出ガスによる第2下地層及び磁性層の結晶配向成長性の低下がなく、特性が優れたものである。
以下に図面を参照して本発明の磁気記録媒体について説明する。
図1は、本発明の一実施例の磁気記録媒体の層構造を示す断面模式図である。
本発明の磁気記録媒体1は、非磁性支持体2上に、上記の第1下地層3、第2下地層4、磁性層5をこの順に有するもので、必要に応じて、磁性層5上に保護層6等を有することができる。
The magnetic recording medium of the present invention comprises a first lower layer comprising at least one surface of a nonmagnetic support selected from a single nonmetallic element, a compound composed of only a nonmetallic element, and a compound of titanium and a nonmetallic element. And a second underlayer containing at least one element selected from the group consisting of chromium, titanium, iridium, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, rhenium, osmium, cobalt, tungsten, vanadium, iron, and molybdenum. Since a magnetic layer composed of a ferromagnetic metal alloy containing at least cobalt, platinum, and chromium and a nonmagnetic material is formed, the second underlayer and the magnetic layer are formed when a polymer film is used as a support. Crystal orientation growth of the second underlayer and magnetic layer by the gas released from the polymer film when formed by sputtering No reduction of, in which characteristics are excellent.
The magnetic recording medium of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention.
The magnetic recording medium 1 of the present invention has the above-mentioned first underlayer 3, second underlayer 4 and magnetic layer 5 in this order on a nonmagnetic support 2, and if necessary on the magnetic layer 5 Can have a protective layer 6 or the like.

〔磁性層〕
本発明の磁気記録媒体に形成する磁性層は、少なくともコバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質から構成された強磁性薄膜磁性層である。
本発明の磁気記録媒体は該磁性層を備えているので、ハードディスクと同様に高記録密度記録が可能となり、リムーバブル型の磁気記録媒体の高容量化が可能となる。また、このコバルトを含有する強磁性金属合金と非磁性の金属酸化物からなる強磁性薄膜磁性層はハードディスクで提案されている、特開平5−73880号公報や特開平7−311929号公報等に記載されているものと同様の方法によって製造したものが使用できる。
[Magnetic layer]
The magnetic layer formed in the magnetic recording medium of the present invention is a ferromagnetic thin film magnetic layer composed of a ferromagnetic metal alloy containing at least cobalt, platinum, and chromium and a nonmagnetic substance.
Since the magnetic recording medium of the present invention is provided with the magnetic layer, high recording density recording is possible like a hard disk, and the capacity of a removable magnetic recording medium can be increased. In addition, a ferromagnetic thin film magnetic layer made of a cobalt-containing ferromagnetic metal alloy and a nonmagnetic metal oxide has been proposed for hard disks, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-73880 and 7-311929. What was manufactured by the method similar to what was described can be used.

磁性層5は少なくともコバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金7と非磁性物質8から構成されている。強磁性金属合金7と非磁性物質8は見かけ上は混合して存在しているが、図に示す強磁性金属合金7は、全体組成に比べて強磁性金属合金の存在量が多い部分であり、非磁性物質8は、全体組成に比べて非磁性物質が多い部分である。また、強磁性金属合金の存在量が多い部分は、相互に0.01nm〜10nmの間隔を設けて形成されている。   The magnetic layer 5 is composed of a ferromagnetic metal alloy 7 containing at least cobalt, platinum, and chromium and a nonmagnetic substance 8. Although the ferromagnetic metal alloy 7 and the nonmagnetic substance 8 are apparently mixed, the ferromagnetic metal alloy 7 shown in the figure is a portion where the abundance of the ferromagnetic metal alloy is larger than the entire composition. The nonmagnetic material 8 is a portion where there are more nonmagnetic materials than the entire composition. Further, the portions where the ferromagnetic metal alloy is abundant are formed with an interval of 0.01 nm to 10 nm.

本発明の磁気記録媒体における磁性層5は、磁性層5面に対して垂直方向に磁化容易軸を有するいわゆる垂直磁気記録膜でも、水平方向に磁化容易軸をを有する面内磁気記録膜でも良い。この磁化容易軸の方向は後述の第2下地層4の材料、成膜条件または結晶構造および磁性膜の組成と成膜条件によって制御することができる。   The magnetic layer 5 in the magnetic recording medium of the present invention may be a so-called perpendicular magnetic recording film having an easy axis of magnetization in the direction perpendicular to the surface of the magnetic layer 5 or an in-plane magnetic recording film having an easy axis of magnetization in the horizontal direction. . The direction of the easy axis of magnetization can be controlled by the material, film formation conditions or crystal structure of the second underlayer 4 described later, and the composition and film formation conditions of the magnetic film.

本発明の磁性層5は、第2下地層4の結晶配向を反映して結晶成長が起こり、図1に示すような柱状構造を形成することが望ましい。この様な構造とすることで、非磁性物質に富んだ領域による磁性金属合金に富んだ領域間の分離構造が安定となり、高い保持力を達成できるとともに、強磁性金属合金に富んだ部分では磁化量が増えるため、高出力化が可能となり、しかも強磁性金属合金に富んだ部分の分散性が均一となるため、ノイズも小さくすることが可能なる。   The magnetic layer 5 of the present invention desirably has a crystal growth reflecting the crystal orientation of the second underlayer 4 and forms a columnar structure as shown in FIG. With such a structure, the separation structure between the regions rich in the magnetic metal alloy is stabilized by the region rich in the nonmagnetic material, and a high coercive force can be achieved, and the portion rich in the ferromagnetic metal alloy can be magnetized. Since the amount increases, the output can be increased, and the dispersibility of the portion rich in the ferromagnetic metal alloy becomes uniform, so that the noise can be reduced.

コバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金としてはCo、Cr、PtとNi、Fe、B、Si、Ta、Nb等の元素との合金が使用できるが、記録特性を考慮するCo−Pt−Cr、Co−Pt−Cr−Ta、Co、Pt−Cr−B等が特に好ましい。   As a ferromagnetic metal alloy containing cobalt, platinum, and chromium, alloys of Co, Cr, Pt and elements such as Ni, Fe, B, Si, Ta, and Nb can be used. -Cr, Co-Pt-Cr-Ta, Co, Pt-Cr-B and the like are particularly preferable.

非磁性物質(非磁性化合物)としてはSi、Zr、Ta、B、Ti、Al、Cr、Ba、Zn、Na、La、In、Pb等の酸化物、炭化物、窒化物が使用できるが、記録特性を考慮するとSiOx が最も好ましい。 As non-magnetic substances (non-magnetic compounds), oxides, carbides, and nitrides such as Si, Zr, Ta, B, Ti, Al, Cr, Ba, Zn, Na, La, In, and Pb can be used. In view of characteristics, SiO x is most preferable.

コバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質の混合比は、強磁性金属合金:非磁性物質=95:5〜80:20(原子比)の範囲であることが好ましく、90:10〜85:15の範囲であることが特に好ましい。これよりも強磁性金属合金が多くなると、磁性粒子間の分離が不十分となり、保持力が低下してしまうことがある。逆にこれよりも少なくなると、磁化量が減少するため、信号出力が著しく低下してしまうことがある。   The mixing ratio of the ferromagnetic metal alloy containing cobalt, platinum, and chromium and the nonmagnetic material is preferably in the range of ferromagnetic metal alloy: nonmagnetic material = 95: 5 to 80:20 (atomic ratio), 90 Is particularly preferably in the range of 10 to 85:15. If the amount of the ferromagnetic metal alloy is larger than this, the separation between the magnetic particles becomes insufficient, and the holding force may be reduced. On the other hand, if the amount is less than this, the amount of magnetization decreases, so that the signal output may be significantly reduced.

コバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質の混合物からなる磁性層の厚みとしては好ましくは10nm〜60nm、さらに好ましくは10nm〜40nmの範囲である。これよりも厚みが厚くなるとノイズが著しく増加してしまうことがあり、逆に厚みが薄くなると、出力が著しく減少してしまうことがある。   The thickness of the magnetic layer made of a mixture of a ferromagnetic metal alloy containing cobalt, platinum and chromium and a nonmagnetic substance is preferably in the range of 10 nm to 60 nm, more preferably 10 nm to 40 nm. If the thickness is greater than this, the noise may increase remarkably. Conversely, if the thickness is reduced, the output may be significantly reduced.

コバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質からなる磁性層を形成する方法としては真空蒸着法、スパッタリング法などの真空成膜法が使用できる。なかでもスパッタリング法は良質な薄膜が容易に成膜可能であることから、本発明に好適である。スパッタリング法としてはDCスパッタリング法、RFスパッタリング法のいずれも使用可能である。スパッタリング法は連続フィルム上に連続して成膜するウェブスパッタリング装置、枚葉式スパッタリング装置を用いることができるがウェブスパッタリング装置を用いることが好ましい。
スパッタリング時の雰囲気に使用する気体はアルゴンが使用できるが、その他の希ガスを使用しても良い。また非磁性物質の酸素含有率や表面粗さを調整するために微量の酸素を導入しても良い。
As a method for forming a magnetic layer made of a ferromagnetic metal alloy containing cobalt, platinum, and chromium and a nonmagnetic material, a vacuum film forming method such as a vacuum deposition method or a sputtering method can be used. Among these, the sputtering method is suitable for the present invention because a good-quality thin film can be easily formed. As the sputtering method, either a DC sputtering method or an RF sputtering method can be used. As the sputtering method, a web sputtering apparatus or a single wafer sputtering apparatus for continuously forming a film on a continuous film can be used, but a web sputtering apparatus is preferably used.
Argon can be used as the gas used in the atmosphere during sputtering, but other rare gases may be used. A small amount of oxygen may be introduced to adjust the oxygen content and surface roughness of the nonmagnetic substance.

とくに、本発明のようにスパッタリング法でコバルト、白金、クロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質とからなる磁性層を形成するためには、強磁性金属合金ターゲットと非磁性物質ターゲットの2種を用い、これらの共スパッタリング法を使用することも可能であるが、形成すべき強磁性金属合金と非磁性物質の組成比に合致した強磁性金属合金と非磁性物質を均質に混合した混合物ターゲットを用いると、強磁性金属合金が均一に分散した磁性層を形成することができる。また、この混合物ターゲットはホットプレス法等で作製することができる。   In particular, in order to form a magnetic layer composed of a ferromagnetic metal alloy containing cobalt, platinum, and chromium and a nonmagnetic material by sputtering as in the present invention, a ferromagnetic metal alloy target and a nonmagnetic material target are used. It is possible to use these co-sputtering methods using seeds, but a homogeneous mixture of a ferromagnetic metal alloy and a nonmagnetic material that matches the composition ratio of the ferromagnetic metal alloy to be formed and the nonmagnetic material. When a target is used, a magnetic layer in which a ferromagnetic metal alloy is uniformly dispersed can be formed. Moreover, this mixture target can be produced by a hot press method or the like.

〔第1下地層〕
本発明の磁気記録媒体における第1下地層3は、非金属元素単体、それらの化合物(非金属元素のみからなる化合物)、及びチタンと非金属元素との化合物から選ばれるものを含有する。
前記第1下地層の非金属元素単体としては、C、Si、Bが好ましい。非金属元素の混合物としては、C、N、O、Si、B、Te、As、Se、Iから選ばれる元素の化合物であることが好ましい。これらの非金属元素なかでもC、N、O、Si、Bから選ばれる化合物であることがより好ましい。具体的には、SiとC、SiとO、SiとN、BとC、BとN、BとOの化合物等が挙げられる。
チタンと非金属元素との化合物としては、TiとC、TiとN、TiとO、TiとBの化合物等が好ましい。
これらの第1下地層の形成によって、非磁性支持体からの放出ガスが遮蔽されるため、その上の第2下地層及び磁性層の結晶成長性が向上する。
[First underlayer]
The first underlayer 3 in the magnetic recording medium of the present invention contains a nonmetallic element alone, a compound thereof (compound consisting only of a nonmetallic element), and a compound of titanium and a nonmetallic element.
As the nonmetallic element simple substance of the first underlayer, C, Si, and B are preferable. The mixture of nonmetallic elements is preferably a compound of an element selected from C, N, O, Si, B, Te, As, Se, and I. Among these nonmetallic elements, a compound selected from C, N, O, Si, and B is more preferable. Specific examples include Si and C, Si and O, Si and N, B and C, B and N, and B and O compounds.
As a compound of titanium and a nonmetallic element, a compound of Ti and C, Ti and N, Ti and O, Ti and B, or the like is preferable.
By forming these first underlayers, the gas released from the nonmagnetic support is shielded, so that the crystal growth properties of the second underlayer and magnetic layer thereon are improved.

上記第1下地層の厚みは1nm〜50nmが好ましく、1nm〜30nmが特に好ましい。第1下地層の厚みが50nm以上では、膜応力による支持体の変形やクラックが生じやすくなるとともに生産性が悪くなり、逆に、1nm以下では支持体からの放出ガスを遮蔽する効果が少なく、第2下地層及び磁性層の結晶成長性の改善に寄与しない。   The thickness of the first underlayer is preferably 1 nm to 50 nm, particularly preferably 1 nm to 30 nm. When the thickness of the first underlayer is 50 nm or more, deformation and cracking of the support due to film stress are likely to occur and productivity is deteriorated. Conversely, when the thickness is 1 nm or less, the effect of shielding the released gas from the support is small, It does not contribute to the improvement of crystal growth properties of the second underlayer and the magnetic layer.

〔第2下地層〕
本発明の磁気記録媒体における第2下地層は、クロム(Cr)、チタン(Ti)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、レニウム(Re)、オスミウム(Os)、コバルト(Co)、タングステン(W)、バナジウム(V)、鉄(Fe)およびモリブデン(Mo)からなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有する合金からなるものである。
これらのなかでも、クロム(Cr)、チタン(Ti)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、レニウム(Re)およびオスミウム(Os)からなる群から少なくとも1種の元素を50原子%以上含有する合金を用いることが好ましい。
これらの第2下地層を用いることによって、磁性層の配向性を改善できるため、記録特性が向上する。
[Second base layer]
The second underlayer in the magnetic recording medium of the present invention comprises chromium (Cr), titanium (Ti), iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), rhenium ( Re), osmium (Os), cobalt (Co), tungsten (W), vanadium (V), an alloy containing at least one element selected from the group consisting of iron (Fe) and molybdenum (Mo) Is.
Among these, from chromium (Cr), titanium (Ti), iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), rhenium (Re) and osmium (Os). It is preferable to use an alloy containing 50 atomic% or more of at least one element from the group.
By using these second underlayers, the orientation of the magnetic layer can be improved, so that the recording characteristics are improved.

上記合金からなる第2下地層の厚みは1nm〜50nmが好ましく、1nm〜35nmが特に好ましい。これよりも厚みが厚くなると、生産性が悪くなるとともに、結晶粒の肥大化により記録情報の読み取り時のノイズが増加してしまうことがあり、逆にこれよりも厚みが薄くなると、下地層効果による磁気特性の向上が得られないことがある。   The thickness of the second underlayer made of the alloy is preferably 1 nm to 50 nm, particularly preferably 1 nm to 35 nm. If the thickness is thicker than this, the productivity will deteriorate and noise during reading of recorded information may increase due to the enlargement of crystal grains. Conversely, if the thickness is thinner than this, the underlayer effect In some cases, the magnetic characteristics cannot be improved.

第1、2下地層を成膜する方法としては真空蒸着法、スパッタリング法などの真空成膜法が使用できる。中でもスパッタリング法は良質な超薄膜が容易に成膜可能であることから、本発明に好適である。スパッタリング法としては、DCスパッタリング法、RFスパッタリング法のいずれも使用可能である。スパッタリング法は、可撓性高分子フィルムを
支持体としたフレキシブルディスクの場合、連続フィルム上に連続して成膜するウェブスパッタ装置が好適であるが、アルミニウム基板やガラス基板を用いる場合には枚様式スパッタ装置や通過型スパッタリング装置も使用できる。
As a method for forming the first and second underlayers, a vacuum film formation method such as a vacuum deposition method or a sputtering method can be used. Among these, the sputtering method is suitable for the present invention because a good ultra-thin film can be easily formed. As the sputtering method, either a DC sputtering method or an RF sputtering method can be used. As the sputtering method, in the case of a flexible disk using a flexible polymer film as a support, a web sputtering apparatus that continuously forms a film on a continuous film is suitable. However, when an aluminum substrate or a glass substrate is used, a sheet is used. A mode sputtering device or a pass-through sputtering device can also be used.

第1、2下地層をスパッタリングによって成膜する際にはスパッタリングガスとしてはアルゴンが使用できるが、その他の希ガスを使用しても良い。また、下地層の格子定数制御の目的で、微量の酸素ガスを導入しても良い。   When the first and second underlayers are formed by sputtering, argon can be used as the sputtering gas, but other rare gases may be used. Further, a trace amount of oxygen gas may be introduced for the purpose of controlling the lattice constant of the underlayer.

スパッタリング法で、複数の元素を含有する下地層を形成するためには、各元素ターゲットからなる複数個のターゲットを用い、これらの共スパッタリング法を使用することもできるが、格子定数等を精密に制御し、かつ均質な膜を作製するためには、使用する全元素による複合ターゲットを用いることが好ましい。この複合ターゲットはホットプレス法等で作製することができる。   In order to form an underlayer containing a plurality of elements by sputtering, a plurality of targets composed of each element target can be used, and these co-sputtering methods can be used. In order to produce a controlled and homogeneous film, it is preferable to use a composite target composed of all the elements used. This composite target can be produced by a hot press method or the like.

本発明の磁気記録媒体で用いられる非磁性支持体としては、特に限定されないが磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触した時の衝撃を回避することが可能である合成樹脂フイルムからなる可撓性高分子支持体が好適に挙げられる。このような合成樹脂フィルムとしては、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、芳香族ポリアミドイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセテートセルロース、フッ素樹脂等からなる合成樹脂フィルムが挙げられる。本発明では基板を加熱することなく良好な記録特性を達成することができるため、表面性が良好で、また入手も容易なポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートが特に好ましい。   The nonmagnetic support used in the magnetic recording medium of the present invention is not particularly limited, but is a flexible polymer made of a synthetic resin film capable of avoiding an impact when the magnetic head and the magnetic disk come into contact with each other. A support is preferably mentioned. Such synthetic resin films include aromatic polyimide, aromatic polyamide, aromatic polyamideimide, polyether ketone, polyethersulfone, polyetherimide, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and triacetate cellulose. And a synthetic resin film made of a fluororesin or the like. In the present invention, since good recording characteristics can be achieved without heating the substrate, polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, which has good surface properties and is easily available, is particularly preferable.

また、可撓性高分子支持体として合成樹脂フィルムを複数枚を積層したものを用いても良い。複数枚を積層した積層フィルムを用いることにより、可撓性高分子支持体自身に起因する反りやうねりを軽減することができる。その結果、磁気記録媒体の表面が磁気ヘッドと衝突による磁気記録層の耐傷性を著しく改善することがきる。
可撓性フイルムを積層する方法としては、熱ロールによるロール積層、平板熱プレスによる平板積層、接着面に接着剤を塗布してラミネートするドライ積層、予めシート状に成形された接着シートを用いる積層方法等が挙げられる。積層に接着剤を用いる場合には、ホットメルト接着剤、熱硬化性接着剤、UV硬化型接着剤、EB硬化型接着剤、粘着シート、嫌気性接着剤などを使用することがきる。
Moreover, you may use what laminated | stacked several synthetic resin films as a flexible polymer support body. By using a laminated film in which a plurality of sheets are laminated, it is possible to reduce warping and undulation caused by the flexible polymer support itself. As a result, the scratch resistance of the magnetic recording layer due to the collision of the surface of the magnetic recording medium with the magnetic head can be remarkably improved.
As a method of laminating a flexible film, roll laminating by a hot roll, flat laminating by flat plate hot press, dry laminating by applying an adhesive to the adhesive surface and laminating, or laminating using a pre-formed adhesive sheet Methods and the like. When an adhesive is used for lamination, a hot melt adhesive, a thermosetting adhesive, a UV curable adhesive, an EB curable adhesive, an adhesive sheet, an anaerobic adhesive, or the like can be used.

可撓性高分子支持体の厚みは、10μm〜200μm、好ましくは20μm〜150μm、さらに好ましくは30μm〜100μmである。可撓性高分子支持体の厚みが10μmより薄いと、高速回転時の安定性が低下し、面ぶれが増加することがある。一方、可撓性高分子支持体の厚みが200μmより厚いと、回転時の剛性が高くなり、接触時の衝撃を回避することが困難になり磁気ヘッドの跳躍を招くことがある。   The thickness of the flexible polymer support is 10 μm to 200 μm, preferably 20 μm to 150 μm, and more preferably 30 μm to 100 μm. If the thickness of the flexible polymer support is less than 10 μm, stability during high-speed rotation may be reduced, and surface deflection may increase. On the other hand, if the thickness of the flexible polymer support is larger than 200 μm, the rigidity at the time of rotation becomes high, and it becomes difficult to avoid the impact at the time of contact, which may cause the magnetic head to jump.

また、下記式で表される可撓性高分子支持体の腰の強さは、b=10mmでの値が4.9MPa〜19.6MPa(0.5kgf/mm2 〜2.0kgf/mm2 )の範囲にあることが好ましく、6.9MPa〜14.7MPa(0.7kgf/mm2 〜1.5kgf/mm2 )がより好ましい。 Further, the stiffness of the flexible polymer support represented by the following formula, b = 10 mm a value for is 4.9MPa~19.6MPa (0.5kgf / mm 2 ~2.0kgf / mm 2 ) In the range of 6.9 MPa to 14.7 MPa (0.7 kgf / mm 2 to 1.5 kgf / mm 2 ).

可撓性高分子支持体の腰の強さ=Ebd3/12 Flexible polymeric support waist strength of = Ebd 3/12

なお、この式において、Eはヤング率、bはフィルム幅、dはフィルム厚さを各々表す。   In this equation, E represents Young's modulus, b represents film width, and d represents film thickness.

可撓性高分子支持体の表面は、磁気ヘッドによる記録を行うために、可能な限り平滑であることが好ましい。支持体表面の凹凸は、信号の記録再生特性を著しく低下させる。具体的には、後述する下塗り層を使用する場合では、光干渉式の表面粗さ計で測定した表面粗さが中心面平均粗さSRaで5nm以内、好ましくは2nm以内、触針式粗さ計で測定した突起高さが1μm以内、好ましくは0.1μm以内である。また、下塗り膜を用いない場合では、光干渉式の表面粗さ計で測定した表面粗さが中心面平均粗さSRaで3nm以内、好ましくは1nm以内、触針式粗さ計で測定した突起高さが0.1μm以内、好ましくは0.06μm以内である。   The surface of the flexible polymer support is preferably as smooth as possible in order to perform recording with a magnetic head. Unevenness on the surface of the support significantly reduces the signal recording / reproducing characteristics. Specifically, in the case of using an undercoat layer to be described later, the surface roughness measured by a light interference type surface roughness meter is 5 nm or less, preferably 2 nm or less, and the stylus roughness of the center plane average roughness SRa. The protrusion height measured by the meter is within 1 μm, preferably within 0.1 μm. In the case where no undercoat film is used, the surface roughness measured with an optical interference type surface roughness meter is within 3 nm, preferably within 1 nm, as the center plane average roughness SRa, and the protrusion measured with a stylus roughness meter The height is within 0.1 μm, preferably within 0.06 μm.

可撓性高分子支持体表面には、平面性の改善と気体遮断性を高めるために下塗り層を設けることが好ましい。下地層及び磁性層をスパッタリング等で形成するため、下塗り層は耐熱性に優れることが好ましく、下塗り層の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等を使用することができる。熱硬化型ポリイミド樹脂、熱硬化型シリコーン樹脂は、平滑化効果が高く、特に好ましい。下塗り層の厚みは、0.1μm〜3.0μmが好ましい。支持体に他の樹脂フィルムを積層する場合には、積層加工前に下塗り層を形成してもよく、積層加工後に下塗り層を形成してもよい。   An undercoat layer is preferably provided on the surface of the flexible polymer support in order to improve planarity and enhance gas barrier properties. Since the undercoat layer and the magnetic layer are formed by sputtering or the like, the undercoat layer is preferably excellent in heat resistance. As the material of the undercoat layer, for example, a polyimide resin, a polyamideimide resin, a silicone resin, a fluorine resin, or the like is used. Can do. Thermosetting polyimide resins and thermosetting silicone resins are particularly preferable because they have a high smoothing effect. The thickness of the undercoat layer is preferably 0.1 μm to 3.0 μm. When another resin film is laminated on the support, an undercoat layer may be formed before the lamination process, or an undercoat layer may be formed after the lamination process.

熱硬化性ポリイミド樹脂としては、ビスアリルナジイミド(丸善石油化学社製 BANI)のように、分子内に末端不飽和基を2つ以上有するイミドモノマーを、熱重合して得られるポリイミド樹脂が好適に用いられる。このイミドモノマーは、モノマーの状態で支持体表面に塗布した後に、比較的低温で熱重合させることができるので、原料となるモノマーを支持体上に直接塗布して硬化させることができる。また、このイミドモノマーは一般的な有機溶剤に溶解させて使用することができ、生産性、作業性に優れると共に、分子量が小さく、その溶液粘度が低いために、塗布時に凹凸に対する回り込みが良く、平滑化効果が高い。   As the thermosetting polyimide resin, a polyimide resin obtained by thermally polymerizing an imide monomer having two or more terminal unsaturated groups in the molecule, such as bisallyl nadiimide (BANI manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) is preferable. Used for. Since this imide monomer can be thermally polymerized at a relatively low temperature after being applied to the surface of the support in the monomer state, the monomer as a raw material can be directly applied to the support and cured. In addition, this imide monomer can be used by dissolving in a general organic solvent, and is excellent in productivity and workability, has a low molecular weight, and its solution viscosity is low. High smoothing effect.

熱硬化性シリコーン樹脂としては、有機基が導入されたケイ素化合物を原料としてゾルゲル法で重合したシリコーン樹脂が好適に用いられる。このシリコーン樹脂は、二酸化ケイ素の結合の一部を有機基で置換した構造からなりシリコーンゴムよりも大幅に耐熱性に優れると共に、二酸化ケイ素膜よりも柔軟性に優れるため、可撓性フィルムからなる支持体上に樹脂膜を形成しても、クラックや剥離が生じ難い。また、原料となるモノマーを可撓性高分子支持体上に直接塗布して硬化させることができるため、汎用溶剤を使用することができ、凹凸に対する回り込みも良く、平滑化効果が高い。更に、縮重合反応は、酸やキレート剤などの触媒の添加により比較的低温から進行するため、短時間で硬化させることができ、汎用の塗布装置を用いて樹脂膜を形成することができる。また熱硬化性シリコーン樹脂は気体遮断性に優れており、磁性層形成時に可撓性高分子支持体から発生し、磁性層または下地層の結晶性、配向性を阻害する気体を遮蔽する気体遮蔽性が高く、特に好適である。   As the thermosetting silicone resin, a silicone resin polymerized by a sol-gel method using a silicon compound having an organic group introduced as a raw material is preferably used. This silicone resin has a structure in which a part of the silicon dioxide bond is substituted with an organic group, and is greatly superior in heat resistance to silicone rubber and more flexible than a silicon dioxide film. Even if a resin film is formed on the support, cracks and peeling are unlikely to occur. Moreover, since the monomer used as a raw material can be directly applied and cured on the flexible polymer support, a general-purpose solvent can be used, the wraparound of the unevenness is good, and the smoothing effect is high. Furthermore, since the condensation polymerization reaction proceeds from a relatively low temperature by adding a catalyst such as an acid or a chelating agent, it can be cured in a short time, and a resin film can be formed using a general-purpose coating apparatus. The thermosetting silicone resin also has excellent gas barrier properties, and is a gas shield that shields the gas generated from the flexible polymer support during the formation of the magnetic layer and obstructs the crystallinity and orientation of the magnetic layer or underlayer. It is particularly suitable because of its high properties.

下塗り層の表面には、磁気ヘッドとフレキシブルディスクとの真実接触面積を低減し、摺動特性を改善することを目的として、微小突起(テクスチャ)を設けることが好ましい。また、微小突起を設けることにより、可撓性高分子支持体の取り扱い性も良好になる。微小突起を形成する方法としては、球状シリカ粒子を塗布する方法、エマルジョンを塗布して有機物の突起を形成する方法などが使用できるが、下塗り層の耐熱性を確保するため、球状シリカ粒子を塗布して微小突起を形成するのが好ましい。   The surface of the undercoat layer is preferably provided with minute protrusions (textures) for the purpose of reducing the true contact area between the magnetic head and the flexible disk and improving the sliding characteristics. In addition, by providing the fine protrusions, the handleability of the flexible polymer support is improved. As a method for forming the fine protrusions, a method of applying spherical silica particles, a method of forming an organic protrusion by applying an emulsion, and the like can be used. However, in order to ensure the heat resistance of the undercoat layer, the spherical silica particles are applied. Thus, it is preferable to form minute protrusions.

微小突起の高さは5nm〜60nmが好ましく、l0nm〜30mmがより好ましい。微小突起の高さが高すぎると記録再生ヘッドと媒体のスペーシング損失によって信号の記
録再生特性が劣化し、微小突起が低すぎると摺動特性の改善効果が少なくなる。微小突起の密度は0.1〜100個/μm2 が好ましく、1〜10個/μm2 がより好ましい。微小突起の密度が少なすぎる場合は摺動特性の改善効果が少なくなることがあり、多過ぎると凝集粒子の増加によって高い突起が増加して記録再生特性が劣化することがある。
また、バインダーを用いて微小突起を支持体表面に固定することもできる。バインダーには、十分な耐熱性を備えた樹脂を使用することが好ましく、耐熱性を備えた樹脂としては、溶剤可溶型ポリイミド樹脂、熱硬化型ポリイミド樹脂、熱硬化型シリコン樹脂を使用することが特に好ましい。
The height of the microprojections is preferably 5 nm to 60 nm, and more preferably 10 nm to 30 mm. If the height of the microprotrusions is too high, the signal recording / reproduction characteristics deteriorate due to the spacing loss between the recording / reproducing head and the medium. If the microprotrusions are too low, the effect of improving the sliding characteristics is reduced. The density of minute projections is preferably from 0.1 to 100 pieces / [mu] m 2, more preferably 1 to 10 / [mu] m 2. If the density of the fine protrusions is too small, the effect of improving the sliding characteristics may be reduced. If the density is too large, high protrusions may increase due to an increase in aggregated particles and the recording / reproducing characteristics may deteriorate.
In addition, the fine protrusions can be fixed to the support surface using a binder. It is preferable to use a resin having sufficient heat resistance for the binder, and as the resin having heat resistance, a solvent-soluble polyimide resin, a thermosetting polyimide resin, or a thermosetting silicone resin should be used. Is particularly preferred.

磁性層5の表面には保護層7が設けられることが好ましい。保護層7は、磁性層5に含まれる金属材料の腐蝕を防止し、磁気ヘッドと磁気ディスクとの擬似接触または接触摺動による摩耗を防止して、走行耐久性、耐食性を改善するために設けられる。保護層には、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化物、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化物、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物、グラファイト、無定型カーボンなどの炭素等の材料を使用することができる。   A protective layer 7 is preferably provided on the surface of the magnetic layer 5. The protective layer 7 is provided to prevent corrosion of the metal material contained in the magnetic layer 5, to prevent wear due to pseudo contact or contact sliding between the magnetic head and the magnetic disk, and to improve running durability and corrosion resistance. It is done. The protective layer includes silica, alumina, titania, zirconia, oxides such as cobalt oxide and nickel oxide, nitrides such as titanium nitride, silicon nitride and boron nitride, carbides such as silicon carbide, chromium carbide and boron carbide, graphite, Materials such as carbon such as amorphous carbon can be used.

保護層としては、磁気ヘッド材質と同等またはそれ以上の硬度を有する硬質膜であり、摺動中に焼き付きを生じ難くその効果が安定して持続するものが、摺動耐久性に優れており好ましい。また、同時にピンホールが少ないものが、耐食性に優れておりより好ましい。このような保護膜としては、CVD法で作製されるダイヤモンド状炭素(DLC)と呼ばれる硬質炭素膜が挙げられる。
保護層は、性質の異なる2種類以上の薄膜を積層した構成とすることができる。例えば、表面側に摺動特性を改善するための硬質炭素保護膜を設け、磁気記録層側に耐食性を改善するための窒化ケイ素などの窒化物保護膜を設けることで、耐食性と耐久性とを高い次元で両立することが可能となる。
As the protective layer, a hard film having a hardness equal to or higher than that of the magnetic head material, which is less likely to cause seizure during sliding and has a stable effect, is preferable because of excellent sliding durability. . At the same time, those having few pinholes are more preferred because they have excellent corrosion resistance. As such a protective film, a hard carbon film called diamond-like carbon (DLC) produced by a CVD method can be given.
The protective layer can be formed by laminating two or more types of thin films having different properties. For example, by providing a hard carbon protective film for improving sliding characteristics on the surface side and providing a nitride protective film such as silicon nitride for improving corrosion resistance on the magnetic recording layer side, corrosion resistance and durability can be achieved. It is possible to achieve a high level of compatibility.

保護層上には、走行耐久性および耐食性を改善するために、必要に応じて、潤滑層が設けられる。潤滑層には、炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤等の潤滑剤が使用される。
炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類、ステアリルアミン等のアミン類などが挙げられる。
On the protective layer, a lubricating layer is provided as necessary in order to improve running durability and corrosion resistance. A lubricant such as a hydrocarbon-based lubricant, a fluorine-based lubricant, and an extreme pressure additive is used for the lubricant layer.
Hydrocarbon lubricants include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid, esters such as butyl stearate, sulfonic acids such as octadecyl sulfonic acid, phosphate esters such as monooctadecyl phosphate, stearyl alcohol, oleyl alcohol And the like, carboxylic acid amides such as stearamide, and amines such as stearylamine.

フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−n−プロピレンオキシド重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体(CF(CF3)CF2O)n、またはこれらの共重合体等である。
具体的には、分子鎖末端に水酸基を有するパーフルオロメチレン−パーフルオロエチレン共重合体(アウジモント社製、商品名:FOMBLIN Z-DOL)等が挙げられる。
Examples of the fluorine-based lubricant include a lubricant in which part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is substituted with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group. Perfluoropolyether groups include perfluoromethylene oxide polymer, perfluoroethylene oxide polymer, perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF 2 CF 2 CF 2 O) n , perfluoroisopropylene oxide polymer (CF ( CF 3 ) CF 2 O) n or a copolymer thereof.
Specific examples include a perfluoromethylene-perfluoroethylene copolymer having a hydroxyl group at the molecular chain terminal (trade name: FOMBLIN Z-DOL, manufactured by Augmont).

極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤などが挙げられる。   Extreme pressure additives include phosphate esters such as trilauryl phosphate, phosphites such as trilauryl phosphite, thiophosphites and thiophosphates such as trilauryl trithiophosphite, dibenzyl disulfide And sulfur-based extreme pressure agents such as

上記の潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用することができ、潤滑剤を有機溶剤に
溶解した溶液を、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ディップコート法等で保護層表面に塗布するか、真空蒸着法により保護層表面に付着させればよい。潤滑剤の塗布量としては、1〜30mg/m2 が好ましく、2〜20mg/m2 が特に好ましい。
The above lubricants can be used alone or in combination. A solution obtained by dissolving a lubricant in an organic solvent can be used for the surface of the protective layer by spin coating, wire bar coating, gravure coating, dip coating, etc. What is necessary is just to apply | coat to a protective layer surface by a vacuum evaporation method. The coating amount of the lubricant is preferably 1~30mg / m 2, 2~20mg / m 2 is particularly preferred.

また、耐食性をさらに高めるために、防錆剤を併用することが好ましい。防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体等が挙げられる。これら防錆剤は、潤滑剤に混合して保護層上に塗布してもよく、潤滑剤を塗布する前に保護層上に塗布し、その上に潤滑剤を塗布してもよい。防錆剤の塗布量としては、0.1〜10mg/m2が好ましく、0.5〜5mg/m2が特に好ましい。 Moreover, in order to further improve corrosion resistance, it is preferable to use a rust inhibitor together. Examples of rust inhibitors include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine, and pyrimidine, and derivatives in which an alkyl side chain is introduced into the mother nucleus, benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, tetrazaindene ring And nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as thiouracil compounds and derivatives thereof. These rust preventives may be mixed with a lubricant and applied on the protective layer, or may be applied on the protective layer before applying the lubricant, and the lubricant may be applied thereon. As an application quantity of a rust preventive agent, 0.1-10 mg / m < 2 > is preferable and 0.5-5 mg / m < 2 > is especially preferable.

以下に、可撓性高分子支持体を用いた磁気記録媒体の作製方法について説明する。
図3は、可撓性高分子支持体上への磁性層の形成方法を説明する図である。
成膜装置11は、真空室12を有し、巻だしロール13から巻だされた可撓性高分子支持体14は、張力調整ロール15A、15Bによって張力を調整されて、成膜室16へ送られる。
成膜室16は真空ポンプによって所定の減圧度に減圧された状態でアルゴンがスパッタリング気体供給管17Aないし17Dから所定の流量で供給されている。可撓性高分子支持体14は、成膜室16に設けた成膜ロール18Aに巻つきながら搬送された状態で、下地層スパッタリング装置19AのターゲットTAから下地層形成用の原子が飛び出して可撓性高分子支持体上に成膜される。
A method for producing a magnetic recording medium using a flexible polymer support will be described below.
FIG. 3 is a diagram illustrating a method for forming a magnetic layer on a flexible polymer support.
The film forming apparatus 11 has a vacuum chamber 12, and the tension of the flexible polymer support 14 wound from the winding roll 13 is adjusted by the tension adjusting rolls 15 </ b> A and 15 </ b> B to the film forming chamber 16. Sent.
In the film forming chamber 16, argon is supplied at a predetermined flow rate from the sputtering gas supply pipes 17 </ b> A to 17 </ b> D in a state where the pressure is reduced to a predetermined pressure reduction degree by a vacuum pump. The flexible polymer support 14 is allowed to come out of atoms for forming the underlayer from the target TA of the underlayer sputtering apparatus 19A while being wound around the film forming roll 18A provided in the film forming chamber 16. A film is formed on a flexible polymer support.

次いで、成膜された下地層上に成膜ロール18Aにおいて、磁性層スパッタリング装置19Bに装着した強磁性金属合金と非磁性物質を均一に分散したターゲットTBから、磁性層形成用原子が放出されて下地層上に磁性層が形成される。
次に、磁性層が形成された面を成膜ロール18Bに巻きつけながら移動した状態で、下地層スパッタリング装置19CのターゲットTCから下地層形成用の原子が飛び出して可撓性高分子支持体の先に磁性層が形成された面とは反対側が成膜される。更に、成膜ロール18B上において、磁性層スパッタリング装置19Dに装着した強磁性金属合金と非磁性物質を均一に分散したターゲットTDから、磁性層形成用原子が放出されて下地層上に磁性層が形成される。
Next, atoms for forming the magnetic layer are released from the target TB in which the ferromagnetic metal alloy and the nonmagnetic material are uniformly dispersed in the film forming roll 18A on the film-forming underlayer, which is mounted on the magnetic layer sputtering apparatus 19B. A magnetic layer is formed on the underlayer.
Next, in a state where the surface on which the magnetic layer is formed is moved while being wound around the film forming roll 18B, atoms for forming the underlayer jump out from the target TC of the underlayer sputtering apparatus 19C, and the flexible polymer support The side opposite to the surface on which the magnetic layer was previously formed is formed. Further, on the film forming roll 18B, atoms for forming the magnetic layer are released from the target TD in which the ferromagnetic metal alloy and the nonmagnetic material that are mounted on the magnetic layer sputtering apparatus 19D are uniformly dispersed, and the magnetic layer is formed on the underlayer. It is formed.

以上の工程によって、可撓性高分子支持体の両面に磁性層が形成されて、巻き取りロールによって巻き取られる。
また、以上の説明では、可撓性高分子支持体の両面に磁性層を形成する方法について説明をしたが、同様の方法で一方の面のみに形成することも可能である。
磁性層を形成した後に、磁性層上にダイヤモンド状炭素をはじめとした保護層がCVD法によって形成される。
Through the above steps, the magnetic layers are formed on both surfaces of the flexible polymer support and wound by the winding roll.
In the above description, the method of forming the magnetic layer on both surfaces of the flexible polymer support has been described. However, it is also possible to form the magnetic layer only on one surface by the same method.
After forming the magnetic layer, a protective layer including diamond-like carbon is formed on the magnetic layer by a CVD method.

図4は、本発明に適用可能な高周波プラズマを利用したCVD装置の一例を説明する図である。
磁性層31を形成した可撓性高分子支持体32は、ロール33から巻き出され、パスローラ34によってバイアス電源35からバイアス電圧が磁性層31に給電され成膜ロール36に巻きつけられた状態で走行する。
一方、炭化水素、窒素、希ガス等を含有する原料気体37は、高周波電源38から印加された電圧によって発生したプラズマによって、成膜ロール36上の金属薄膜上に窒素、希ガスを含有した炭素保護膜39が形成され、巻き取りロール40に巻き取られる。また
、炭素保護膜の作製の前に磁性膜表面を希ガスや水素ガスによるグロー処理などによって清浄化することでより大きな密着性を確保することができる。また、磁性層表面にシリコン中間層等を形成することによって密着性をさらに高めることができる。
FIG. 4 is a diagram for explaining an example of a CVD apparatus using high-frequency plasma applicable to the present invention.
The flexible polymer support 32 on which the magnetic layer 31 is formed is unwound from the roll 33, and the bias voltage is supplied from the bias power source 35 to the magnetic layer 31 by the pass roller 34 and wound around the film forming roll 36. Run.
On the other hand, the raw material gas 37 containing hydrocarbon, nitrogen, noble gas, etc. is a carbon containing nitrogen, noble gas on the metal thin film on the film forming roll 36 by the plasma generated by the voltage applied from the high frequency power supply 38. A protective film 39 is formed and wound on the winding roll 40. Also, greater adhesion can be ensured by cleaning the surface of the magnetic film by glow treatment with a rare gas or hydrogen gas before the carbon protective film is formed. Further, the adhesion can be further enhanced by forming a silicon intermediate layer or the like on the surface of the magnetic layer.

以下に本発明を実施例によって更に具体的に本発明を説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定されるものではない。
〔実施例1〕
厚み63μm、表面粗さRa=1.4nmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム上に3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、塩酸、アルミニウムアセチルアセトネート、エタノールからなる下塗り液をグラビアコート法で塗布した後、100℃で乾燥と硬化を行い、厚み1.0μmのシリコーン樹脂からなる下塗り層を作製した。
この下塗り層上に粒子径25nmのシリカゾルと前記下塗り液を混合した塗布液をグラビアコート法で塗布して、下塗り層上に高さ15nmの突起を10個/μm2 の密度で形成した。また、この下塗り層はPENフィルムの両面に形成した。下塗り層を形成したPENフィルムを原反としてスパッタリング装置にこの原反を設置し、水冷したキャン(成膜ロール)上にフィルムを密着させながら搬送し、下塗り層上に、DCマグネトロンスパッタ法で、Cからなる第1下地層を30nmの厚みで、Ruからなる第2下地層を25nmの厚みで、CoPtCr合金(Co:Pt:Cr=70:20:10原子比):SiO2 =88:12(原子比)からなる組成の磁性層を20nmの厚みで形成した。
The present invention will be explained more specifically with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is of course not limited by these examples.
[Example 1]
Gravure an undercoat solution consisting of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, hydrochloric acid, aluminum acetylacetonate, and ethanol on a polyethylene naphthalate (PEN) film with a thickness of 63 μm and surface roughness Ra = 1.4 nm After coating by a coating method, drying and curing were performed at 100 ° C. to prepare an undercoat layer made of a silicone resin having a thickness of 1.0 μm.
A coating liquid obtained by mixing a silica sol having a particle diameter of 25 nm and the above-described undercoat liquid was applied on the undercoat layer by a gravure coating method, and protrusions having a height of 15 nm were formed on the undercoat layer at a density of 10 pieces / μm 2 . The undercoat layer was formed on both sides of the PEN film. A PEN film on which an undercoat layer is formed is used as an original fabric, and the original fabric is installed in a sputtering apparatus, and the film is transported in close contact with a water-cooled can (film forming roll). On the undercoat layer, a DC magnetron sputtering method is used. A first underlayer made of C with a thickness of 30 nm, a second underlayer made of Ru with a thickness of 25 nm, a CoPtCr alloy (Co: Pt: Cr = 70: 20: 10 atomic ratio): SiO 2 = 88: 12 A magnetic layer having a composition of (atomic ratio) was formed with a thickness of 20 nm.

この第1下地層、第2下地層、磁性層はフィルムの両面に成膜した。次にこの原反をウェブ式のCVD装置に設置し、エチレンガス、窒素ガス、アルゴンガスを反応ガスとして用いたRFプラズマCVD法でC:H:N=62:29:7mol比からなる窒素添加DLC保護膜を10nmの厚みで形成した。なおこのとき磁性層には−500Vのバイアスを印加した。この保護層もフィルムの両面に成膜した。
次にこの保護層表面に分子末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤(アウジモント社製FOMBLIN Z−DOL)をフッ素系潤滑剤(住友スリーエム社製HFE−7200)に溶解した溶液をグラビアコート法で塗布し、厚み1nmの潤滑層を形成した。この潤滑層もフィルムの両面に形成した。次にこの原反から3.5inchサイズのディスクを打ち抜き、これをテープバーニッシュした後、樹脂製カートリッジ(富士写真フイルム社製Zip100用)に組み込んで、フレキシブルディスクを作製した。
得られたフレキシブルディスクを以下に示した評価方法によって特性の評価を行い、その結果を表2に示す。
The first underlayer, the second underlayer, and the magnetic layer were formed on both sides of the film. Next, this raw material is set in a web-type CVD apparatus, and nitrogen is added at a ratio of C: H: N = 62: 29: 7 mol by RF plasma CVD using ethylene gas, nitrogen gas, and argon gas as reaction gases. A DLC protective film was formed with a thickness of 10 nm. At this time, a bias of −500 V was applied to the magnetic layer. This protective layer was also formed on both sides of the film.
Next, a gravure coating solution obtained by dissolving a perfluoropolyether lubricant having a hydroxyl group at the molecular terminal on the surface of the protective layer (FOMBLIN Z-DOL manufactured by Augmont) in a fluorine lubricant (HFE-7200 manufactured by Sumitomo 3M) This was applied by a method to form a 1 nm thick lubricating layer. This lubricating layer was also formed on both sides of the film. Next, a 3.5 inch sized disk was punched out from the original fabric, tape burnished, and then incorporated into a resin cartridge (for Zip 100 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to produce a flexible disk.
The characteristics of the obtained flexible disk were evaluated by the evaluation method shown below, and the results are shown in Table 2.

〔実施例2〜16、比較例1〜4〕
第1下地層及び第2下地層の組成を表1に示した点を除き、実施例1と同様にフレキシブルディスクを作製した。
得られたフレキシブルディスクを以下に示した評価方法によって特性の評価を行い、その結果を表2に示す。
[Examples 2 to 16, Comparative Examples 1 to 4]
A flexible disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the first underlayer and the second underlayer was as shown in Table 1.
The characteristics of the obtained flexible disk were evaluated by the evaluation method shown below, and the results are shown in Table 2.

(評価方法)
1.磁気特性
保磁力Hcを試料振動型磁力計(VSM)で測定して磁気特性とした。
2.断面TEMによる第2下地層の結晶成長不良層膜厚
断面TEM写真において、第2下地層とその下層との界面から、第2下地層内で柱状構造を示す箇所までの層を結晶成長不良層としてその膜厚を評価した。
3.表面粗さ(SRa)
セイコーインスルメンツ社製SPA−500を用いて、AFMコンタクトモードで約500nm角の面積から傾き補正を加えて表面粗さ(SRa)を求めた。
(Evaluation methods)
1. Magnetic properties The coercive force Hc was measured with a sample vibration magnetometer (VSM) to obtain magnetic properties.
2. Film thickness of defective layer of second underlayer by cross-sectional TEM In the cross-sectional TEM photograph, a layer from the interface between the second underlayer and its lower layer to a portion showing a columnar structure in the second underlayer The film thickness was evaluated.
3. Surface roughness (SRa)
Using SPA-500 manufactured by Seiko Instruments Inc., surface roughness (SRa) was determined by applying tilt correction from an area of about 500 nm square in the AFM contact mode.

表2の結果からわかるように、本発明の磁気記録媒体である実施例のフレキシブルディスクは、磁気特性が優れ、第2下地層の結晶成長不良層膜厚が5nm以下であり、表面粗さも良好であり、満足すべき結果を得たが、一方、第1下地層が無しまたはTiを用いた比較例におけるフレキシブルディスクは、磁気特性、第2下地層の結晶成長不良層膜厚、表面粗さのいずれかにおいて不満足なものであった。   As can be seen from the results in Table 2, the flexible disk of the example which is the magnetic recording medium of the present invention has excellent magnetic properties, the crystal growth failure layer thickness of the second underlayer is 5 nm or less, and the surface roughness is also good. On the other hand, the flexible disk in the comparative example without the first underlayer or using Ti has the magnetic characteristics, the film thickness of the defective crystal growth layer of the second underlayer, and the surface roughness. It was unsatisfactory in either.

本発明の磁気記録媒体の層構造を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the layer structure of the magnetic recording medium of this invention. 従来の磁気記録媒体の層構造を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the layer structure of the conventional magnetic recording medium. 本発明の磁気記録媒体の製造方法および製造装置の概要を説明する図である。It is a figure explaining the outline | summary of the manufacturing method and manufacturing apparatus of the magnetic-recording medium of this invention. 保護層を形成するために、適用可能な高周波プラズマを利用したCVD装置の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the CVD apparatus using the applicable high frequency plasma in order to form a protective layer.

符号の説明Explanation of symbols

1 磁気記録媒体
2 非磁性高分子支持体
3 第1下地層
4 第2下地層
5 磁性層
6 保護層
7 強磁性金属合金
8 非磁性物質
10 単層下地層
11 成膜装置
12 真空室
13 巻だしロール
14 可撓性高分子支持体
15A,15B 張力調整ロール
16 成膜室
17A,17B,17C,17D スパッタリング気体供給管
18A,18B 成膜ロール
19A,19B,19C,19D 下地層スパッタリング装置
TA,TB,TC,TD ターゲット
31 磁性層
32 可撓性高分子支持体
33 ロール
34 パスローラ
35 バイアス電源
36 成膜ロール
37 原料気体
38 高周波電源
39 炭素保護膜
40 巻き取りロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magnetic recording medium 2 Nonmagnetic polymer support body 3 1st base layer 4 2nd base layer 5 Magnetic layer 6 Protective layer 7 Ferromagnetic metal alloy 8 Nonmagnetic substance 10 Single layer base layer 11 Film-forming apparatus 12 Vacuum chamber 13 Volume Stock roll 14 Flexible polymer support 15A, 15B Tension adjusting roll 16 Film forming chambers 17A, 17B, 17C, 17D Sputtering gas supply pipes 18A, 18B Film forming rolls 19A, 19B, 19C, 19D Underlayer sputtering apparatus TA, TB, TC, TD Target 31 Magnetic layer 32 Flexible polymer support 33 Roll 34 Pass roller 35 Bias power supply 36 Film forming roll 37 Raw material gas 38 High frequency power supply 39 Carbon protective film 40 Winding roll

Claims (2)

非磁性支持体の少なくとも一方の面に、非金属元素単体、非金属元素のみからなる化合物及びチタンと非金属元素との化合物から選択されるものからなる第1下地層と、クロム、チタン、イリジウム、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム及びオスミウムからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有する第2下地層と、少なくともコバルト、白金、及びクロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質から構成された磁性層とを、この順に有することを特徴とする磁気記録媒体。   A first underlayer made of at least one surface of a nonmagnetic support made of a nonmetallic element alone, a compound made of only a nonmetallic element, or a compound of titanium and a nonmetallic element; and chromium, titanium, iridium A second underlayer containing at least one element selected from the group consisting of platinum, palladium, ruthenium, rhodium, rhenium and osmium, and a ferromagnetic metal alloy containing at least cobalt, platinum and chromium and nonmagnetic A magnetic recording medium having a magnetic layer made of a substance in this order. 可とう性高分子からなる非磁性支持体の少なくとも一方の面に、非金属元素単体、非金属元素のみからなる化合物及びチタンと非金属元素との化合物から選択されるものからなる第1下地層と、クロム、チタン、イリジウム、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、オスミウム、コバルト、タングステン、バナジウム、鉄およびモリブデンからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有する第2下地層と、少なくともコバルト、白金、及びクロムを含有する強磁性金属合金と非磁性物質から構成された磁性層とを、この順に有することを特徴とする磁気記録媒体。   A first underlayer made of at least one surface of a non-magnetic support made of a flexible polymer and made of a non-metal element alone, a compound made of only a non-metal element, and a compound of titanium and a non-metal element And a second underlayer containing at least one element selected from the group consisting of chromium, titanium, iridium, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, rhenium, osmium, cobalt, tungsten, vanadium, iron and molybdenum, A magnetic recording medium comprising: a ferromagnetic metal alloy containing at least cobalt, platinum, and chromium; and a magnetic layer composed of a nonmagnetic material in this order.
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