JPH11259844A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPH11259844A
JPH11259844A JP6291398A JP6291398A JPH11259844A JP H11259844 A JPH11259844 A JP H11259844A JP 6291398 A JP6291398 A JP 6291398A JP 6291398 A JP6291398 A JP 6291398A JP H11259844 A JPH11259844 A JP H11259844A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording medium
magnetic recording
support
barrier layer
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP6291398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Nishikawa
正一 西川
Makoto Nagao
信 長尾
Kazuyuki Usuki
一幸 臼杵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP6291398A priority Critical patent/JPH11259844A/en
Publication of JPH11259844A publication Critical patent/JPH11259844A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a magnetic recording medium usable as a large-capacity removable magnetic recording medium having good magnetic characteristics and surface characteristics. SOLUTION: This magnetic recording medium is constituted by forming a planarization layer 0.1 to 5.0 μm thick consisting of a heat resistant high- polymer material, a barrier layer consisting of a Cr-O based thin film contg. 5 to 40 atom.% oxygen and a ferromagnetic layer consisting of a nonmagnetic ground surface layer consisting of a Cr alloy and a Co-Cr based alloy deposited by a sputtering method in this order on at least one surface of a flexible nonmagnetic base 30 to 100 μm thick.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関
し、とくにコンピュータの補助記憶装置、画像記憶装置
などに用いられるリムーバブル型磁気記録媒体に係り高
記録密度を有する磁気記録媒体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium, and more particularly, to a magnetic recording medium having a high recording density, which relates to a removable magnetic recording medium used for an auxiliary storage device and an image storage device of a computer.

【0002】[0002]

【従来の技術】パソコンなどで作成される電子データの
容量の増大に伴って大量の電子データの保存、バックア
ップ用に高容量の磁気記録媒体からなるリムーバブル型
ディスクが望まれている。また、これまで業務用超高密
度記録媒体としてデジタルビデオテープが主に用いられ
てきたが、近年情報量の増大に伴い、更なる高容量化、
記録・再生速度向の要請されている。そこで、現在主流
のビデオテープに変わり、記録・再生速度が優れたリム
ーバブル型ディスクが業務用デジタル記録媒体として検
討され始めている。
2. Description of the Related Art Along with the increase in the capacity of electronic data created by a personal computer or the like, a removable disk comprising a high-capacity magnetic recording medium for storing and backing up a large amount of electronic data is desired. In addition, digital video tapes have been mainly used as ultra-high-density recording media for business use.
There is a demand for recording and playback speed. In view of the above, instead of the current mainstream video tape, a removable disk having an excellent recording / reproducing speed is being studied as a digital recording medium for business use.

【0003】現存のギガバイト級の大容量リムーバブル
型磁気記録媒体は、基板に、ガラス、アルミニウムの円
盤を使用したハードディスクが用いられている。そのた
め装置動作中に大きな衝撃が加わるとヘッドクラッシュ
が起こり、磁気記録媒体、ヘッドとも大きな損傷を受け
てしまう。リムーバブル型ハードディスクではこの耐衝
撃性の問題がまだ解決されておらず、リムーバブル型大
容量記録媒体を利用した形態可能な機器の普及が進まな
いことの一つの原因と見られている。
[0003] Existing gigabyte-class large-capacity removable magnetic recording media use a hard disk using a glass or aluminum disk as a substrate. Therefore, if a large impact is applied during operation of the apparatus, a head crash occurs, and both the magnetic recording medium and the head are greatly damaged. This problem of shock resistance has not been solved yet in the case of a removable hard disk, and it is considered that this is one of the causes of the spread of configurable devices using a removable large-capacity recording medium.

【0004】リムーバブル型の高密度磁気記録媒体の支
持体として、フロッピーディスクと同様な可撓性の部材
を用いると、リムーバブル型ディスクをプラスチックの
カートリッジ等に入れて搬送した場合に、振動を与えた
りあるいは駆動装置への出し入れによって磁気ヘッドと
の位置精度のずれや磁気ヘッドの衝撃による磁性層表面
のクラッシュするおそれが無く、安定にデータを保存で
きるものが得られるものとみられる。可撓性支持体を用
いたフロッピーディスクと同様の100Mバイト級の高
記録密度記録媒体では、大容量・高記録密度を実現する
ためには、ヘッドと磁気記録媒体のスペーシングロスを
極力小さくすることが必要である。したがって、磁気記
録媒体側には表面性の向上が要求される。
When a flexible member similar to a floppy disk is used as a support for a removable high-density magnetic recording medium, vibrations may be applied when the removable disk is transported in a plastic cartridge or the like. Alternatively, it is considered that a device capable of stably storing data can be obtained without causing a displacement of the magnetic head and a crash of the magnetic layer surface due to an impact of the magnetic head due to the insertion / removal into / from the driving device. In a high-density recording medium of the order of 100 Mbytes, similar to a floppy disk using a flexible support, in order to achieve a large capacity and a high recording density, the spacing loss between the head and the magnetic recording medium is minimized. It is necessary. Therefore, the magnetic recording medium is required to have improved surface properties.

【0005】しかしながら、基板として使用する可撓性
支持体は合成樹脂製であるので表面性が良好ではなく、
可撓性支持体の表面の研磨等の処理のみでは、ハードデ
ィスク用の基材と同等の表面性を得るのは困難である。
そこで支持体上に耐熱性高分子樹脂を塗布して平坦化層
を設けて支持体の表面性を向上させている。
However, since the flexible support used as the substrate is made of synthetic resin, the surface is not good,
It is difficult to obtain surface properties equivalent to those of a substrate for a hard disk only by processing such as polishing of the surface of the flexible support.
Therefore, a heat-resistant polymer resin is applied on the support to provide a flattening layer to improve the surface properties of the support.

【0006】一方、高密度磁気記録媒体では、磁気記録
媒体表面に形成する強磁性層は、真空成膜法を用いて磁
性膜を形成している。真空成膜法には種々の方法がある
が、フロッピーディスクの様な回転記録体は強磁性層を
構成する磁性体粒子の配向性が強磁性層面内ではランダ
ムに、好ましくは円周方向に配向していることが求めら
れるが、このような磁性薄膜はスパッタリングによって
製造されている。
On the other hand, in a high-density magnetic recording medium, a ferromagnetic layer formed on the surface of the magnetic recording medium forms a magnetic film by using a vacuum film forming method. There are various methods for vacuum film formation. In a rotating recording medium such as a floppy disk, the orientation of magnetic particles constituting the ferromagnetic layer is randomly or preferably circumferentially oriented in the plane of the ferromagnetic layer. However, such a magnetic thin film is manufactured by sputtering.

【0007】スパッタリングでは、支持体を50〜25
0℃に加熱する工程があるが、このような工程で非磁性
支持体に加わった熱により支持体温度が高くなると、支
持体と平坦層間の密着性低下が起こり膜剥がれが発生し
てしまう。また支持体に加わった熱が支持体を変形さ
せ、支持体の変形、あるいは支持体の変形による耐久性
及び電磁変換特性が著しく低下するという現象が生じて
いた。また、成膜工程において加熱により支持体から多
量の気体が放出されると、この気体が真空成膜中の下地
層・強磁性層形成に影響を与え、静磁気特性、表面性、
電磁変換特性が著しく低下し、磁気記録媒体としての特
性の低下が大きな問題となっていた。
[0007] In sputtering, the support is 50 to 25
Although there is a step of heating to 0 ° C., when the temperature of the support increases due to the heat applied to the nonmagnetic support in such a step, the adhesion between the support and the flat layer is reduced, and the film is peeled off. In addition, the heat applied to the support deforms the support, and the deformation of the support or the deformation of the support significantly reduces durability and electromagnetic conversion characteristics. In addition, when a large amount of gas is released from the support by heating in the film forming process, this gas affects the formation of the underlayer and the ferromagnetic layer during vacuum film formation, and the magnetostatic properties, surface properties,
Electromagnetic conversion characteristics have remarkably deteriorated, and deterioration of characteristics as a magnetic recording medium has been a serious problem.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、リムーバブ
ル型の大容量記憶装置に使用可能な磁気記録媒体を提供
することを課題とするものであり、とくに静磁気特性、
強磁性層の表面性が良好な磁気記録媒体を提供すること
を課題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium which can be used in a removable mass storage device.
It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium having a ferromagnetic layer having good surface properties.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、厚さが30〜
100μmの可撓性非磁性支持体上の少なくとも一方の
面に耐熱性高分子物質からなる厚さが0.1〜5.0μ
mの平坦化層、5〜40原子%の酸素を含有したCr−
O系障壁層、Cr合金からなる非磁性下地層及びスパッ
タリング法で成膜されたCo−Cr系合金から成る強磁
性層がこの順に形成されてなる磁気記録媒体である。
According to the present invention, a thickness of 30 to 30 mm is provided.
At least one surface of the flexible non-magnetic support having a thickness of 100 μm is made of a heat-resistant polymer and has a thickness of 0.1 to 5.0 μ.
m-leveling layer, Cr- containing 5 to 40 atomic% oxygen
This is a magnetic recording medium in which an O-based barrier layer, a non-magnetic underlayer made of a Cr alloy, and a ferromagnetic layer made of a Co-Cr-based alloy formed by a sputtering method are formed in this order.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明者らは、非磁性支持体上に
下地層を設け、下地層上には強磁性層形成面の表面性を
良好なものとするために、平坦層を形成するとともに下
地層と平坦化層の間には、障壁層を設けることによっ
て、膜剥がれ、支持体の変形、下地層・静磁気特性、強
磁性層の粒状性、表面粗さが著しく向上することを見い
だし、本発明に至ったものである。すなわち、本発明
は、厚さが30〜100μmの可撓性支持体の少なくと
も一方の面の上に、厚さ0.1〜5.0μmの範囲の耐
熱性高分子物質からなる平坦化層、5〜40原子%の酸
素を含有したクロムたはクロム合金からなる酸化物障壁
層、クロム合金からなる非磁性下地層を有し、非磁性下
地層上には、コバルト−クロム合金系強磁性層を形成
し、さらに保護層、潤滑層を形成した磁気記録媒体であ
る。本発明の磁気記録媒体は、障壁層を有するので、磁
気記録媒体の製造時に加えられる熱によって支持体から
発生する気体による強磁性層の結晶配向性への悪影響を
防止することによって特性の優れた膜形成が可能である
ことを特徴としている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present inventors provided an underlayer on a nonmagnetic support, and formed a flat layer on the underlayer in order to improve the surface properties of the ferromagnetic layer formation surface. In addition, by providing a barrier layer between the underlayer and the flattening layer, the peeling of the film, deformation of the support, underlayer and magnetostatic properties, granularity of the ferromagnetic layer, and surface roughness are significantly improved. The present invention has been found. That is, the present invention provides a flattening layer made of a heat-resistant polymer having a thickness of 0.1 to 5.0 μm on at least one surface of a flexible support having a thickness of 30 to 100 μm; An oxide barrier layer made of chromium or chromium alloy containing 5 to 40 atomic% of oxygen, a nonmagnetic underlayer made of a chromium alloy, and a cobalt-chromium alloy ferromagnetic layer formed on the nonmagnetic underlayer And a protective layer and a lubricating layer are further formed on the magnetic recording medium. Since the magnetic recording medium of the present invention has the barrier layer, the magnetic recording medium has excellent characteristics by preventing the gas generated from the support from adversely affecting the crystal orientation of the ferromagnetic layer due to heat applied during the manufacture of the magnetic recording medium. It is characterized in that a film can be formed.

【0011】本発明の磁気記録媒体の支持体としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリ
ベンゾキシアゾール等の材料を挙げることができる。ま
た、本発明の磁気記録媒体の支持体のヤング率は、20
0〜1600kg/mm2 が好ましく、特に望ましくは
300〜800kg/mm2 である。支持体厚さは20
〜150μmが好ましく、更に望ましくは30〜80μ
mの範囲のものである。
[0011] The support of the magnetic recording medium of the present invention includes:
Materials such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, polyamide, polyamide imide, and polybenzoxazole can be given. The Young's modulus of the support of the magnetic recording medium of the present invention is 20
It is preferably from 0 to 1600 kg / mm 2 , and particularly preferably from 300 to 800 kg / mm 2 . Support thickness is 20
To 150 μm, more preferably 30 to 80 μm
m.

【0012】支持体の表面性を向上させるために支持体
上に平坦化層が設けられる。平坦化層には、耐熱性高分
子材料を広く使用することができる。特に好ましくはシ
リコン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、
ポリイミド樹脂などの材料である。これらの材料は耐熱
性に優れているのに加え、表面性及び静磁気特性におい
て良好な特性を実現できる。平坦化層の塗布厚は0.1
〜5.0μmであり、望ましくは0.5〜3.0μm、
特に望ましくは0.8〜2.0μmの範囲である。平坦
化層表面に微小な突起、例えばSiO2、Al23、T
iO2等又は有機物の微粒子がまたは有機性の微粒子が
設けられても良い。
In order to improve the surface properties of the support, a flattening layer is provided on the support. A heat-resistant polymer material can be widely used for the flattening layer. Particularly preferably silicone resin, polyamide resin, polyamide imide resin,
It is a material such as a polyimide resin. These materials are not only excellent in heat resistance, but also can achieve good surface properties and magnetostatic properties. The coating thickness of the flattening layer is 0.1
55.0 μm, preferably 0.5-3.0 μm,
Particularly preferably, it is in the range of 0.8 to 2.0 μm. Minute protrusions such as SiO 2 , Al 2 O 3 , T
iO 2 etc. or organic fine particles are or organic fine particles may be provided.

【0013】障壁層のCr−O系薄膜の材料としては、
クロム酸化物、クロム合金中に酸素を含有したクロム合
金酸化物を挙げることができる。クロム合金酸化物とし
ては、例えばTi、W、Mo、V、Ta、B、Si、N
b、Zr及びMoのうちの少なくとも一種類以上の元素
を含む合金酸化物が好ましい。含有する酸素の量は5〜
40原子%、好ましくは7〜30原子%、更に好ましく
は10〜20原子%である。Cr濃度は42〜95原子
%、好ましくは49〜93原子%、更に好ましくは56
〜90原子%である。
As a material of the Cr—O-based thin film of the barrier layer,
A chromium oxide and a chromium alloy oxide containing oxygen in a chromium alloy can be given. As the chromium alloy oxide, for example, Ti, W, Mo, V, Ta, B, Si, N
An alloy oxide containing at least one element of b, Zr, and Mo is preferable. The amount of oxygen contained is 5
It is 40 at%, preferably 7 to 30 at%, more preferably 10 to 20 at%. The Cr concentration is 42 to 95 atomic%, preferably 49 to 93 atomic%, more preferably 56%.
9090 at%.

【0014】障壁層のCr−O系薄膜は、アルゴンおよ
び酸素含有雰囲気中でのスパッタリングによって成膜す
ることができる。スパッタリング雰囲気のアルゴンと酸
素の合計分圧は、1〜20mTorr、望ましくは1〜
8mTorrである。全圧に占める酸素分圧によりクロ
ム酸化物もしくはクロム合金酸化物中の酸化度を調整す
ることができる。全圧に対する酸素分圧の比は5〜75
%、望ましくは10〜65%である。Cr−O系薄膜中
の酸素が5原子%未満であると耐熱性が不充分となり障
壁層の機能を果たさなくなる。また、40原子%を超え
るとその上に形成する下地層との密着性が低下するので
好ましくない。
The Cr—O-based thin film of the barrier layer can be formed by sputtering in an atmosphere containing argon and oxygen. The total partial pressure of argon and oxygen in the sputtering atmosphere is 1 to 20 mTorr, preferably 1 to 20 mTorr.
8 mTorr. The degree of oxidation in the chromium oxide or chromium alloy oxide can be adjusted by the oxygen partial pressure in the total pressure. The ratio of oxygen partial pressure to total pressure is 5 to 75
%, Desirably 10 to 65%. If the oxygen content of the Cr—O-based thin film is less than 5 atomic%, the heat resistance becomes insufficient and the function of the barrier layer is not fulfilled. On the other hand, if it exceeds 40 atomic%, the adhesion to the underlying layer formed thereon is undesirably reduced.

【0015】障壁層膜厚は10nm〜100nmであ
り、好ましくは15〜80nm、更に好ましいのは20
〜60nmである。下地層厚を10nm以下に薄くする
と、障壁層構造が不連続になり障壁としての役割を果た
さない。100nm以上に厚くすると、障壁層の膜応力
が大きくなり磁気記録媒体にクラック、膜剥がれ等が起
こる。酸化物障壁層はアルゴン及び酸素雰囲気中で下地
層金属を直流スパッタリングにより作製することができ
る。障壁層内の酸素添加量はスパッタリング時の酸素分
圧により調整する。障壁層作製時の支持体温度は5〜8
0℃であり、好ましくは10〜70℃、特に好ましくは
20〜60℃の範囲である。
The thickness of the barrier layer is 10 to 100 nm, preferably 15 to 80 nm, and more preferably 20 to 100 nm.
6060 nm. When the thickness of the underlayer is reduced to 10 nm or less, the barrier layer structure becomes discontinuous and does not serve as a barrier. If the thickness is more than 100 nm, the film stress of the barrier layer increases, and cracks, film peeling, etc. occur on the magnetic recording medium. The oxide barrier layer can be formed by direct-current sputtering of an underlayer metal in an atmosphere of argon and oxygen. The amount of oxygen added in the barrier layer is adjusted by the oxygen partial pressure during sputtering. The temperature of the support during the preparation of the barrier layer is 5 to 8
0 ° C., preferably 10 to 70 ° C., particularly preferably 20 to 60 ° C.

【0016】下地層材料としては、クロム、あるいはク
ロムとTi、W、Mo、V、Ta、B、Si、Nb、Z
r及びMoのうちの少なくとも一種の金属を含む合金等
が好ましい。下地層のCr濃度は70〜100at%、
好ましくは75〜98at%、特に好ましいのは80〜
95at%であり、残部はその他の元素金属である。
As a material for the underlayer, chromium or chromium and Ti, W, Mo, V, Ta, B, Si, Nb, Z
An alloy containing at least one metal of r and Mo is preferable. The Cr concentration of the underlayer is 70 to 100 at%,
It is preferably from 75 to 98 at%, particularly preferably from 80 to 98 at%.
95 at%, with the balance being other elemental metals.

【0017】下地層であるクロム合金中には、上記金属
成分以外の非金属成分が微量混入されても良い。例え
ば、成膜中の雰囲気中に含まれている酸素、窒素、アル
ゴン等の気体成分、金属原料中の不純物成分などであ
る。しかし、とくに気体成分は合金中の5原子%を超え
ることがないようにする必要がある。非磁性下地層膜厚
は5nm〜500nmであり、好ましくは10〜300
nm、更に好ましいくは20〜100nmである。下地
層厚を100nm以上に厚くすると強磁性層粒径が大き
くなり、媒体ノイズの増加がおこる。
The chromium alloy serving as the underlayer may contain a small amount of a nonmetallic component other than the above metal component. For example, there are gas components such as oxygen, nitrogen, and argon contained in the atmosphere during the film formation, and impurity components in the metal raw material. However, it is particularly necessary to ensure that the gaseous components do not exceed 5 atomic% in the alloy. The thickness of the nonmagnetic underlayer is 5 nm to 500 nm, preferably 10 to 300 nm.
nm, more preferably 20 to 100 nm. When the thickness of the underlayer is increased to 100 nm or more, the grain size of the ferromagnetic layer increases, and the medium noise increases.

【0018】磁性材料としては、コバルトクロム合金が
好ましく、特にPt、Ta、Ni、Si、B、Ni、P
dを含むコバルト−クロム合金が挙げられる。これらの
なかでも、特にCoCrPt、CoCrPtTaが好ま
しい。これは出力、ノイズ特性ともに優れているためで
ある。またコバルトクロム合金以外にはバリウムフェラ
イトを用いることができる。強磁性層中のCr濃度は1
0〜30原子%であり、好ましくは12〜28原子%、
更に好ましくは15〜25原子%である。クロム合金か
らなる下地層のCr濃度を上記範囲に特定することによ
り、その上層に形成する強磁性層の結晶配向性を好まし
い形態にして、良好な磁気特性を実現できる。強磁性層
膜厚は5〜300nmであり、好ましくは10〜140
nm、更に好ましくは15〜60nmである。
As the magnetic material, a cobalt chromium alloy is preferable, and in particular, Pt, Ta, Ni, Si, B, Ni, P
d-containing cobalt-chromium alloy. Among these, CoCrPt and CoCrPtTa are particularly preferred. This is because both output and noise characteristics are excellent. Barium ferrite other than the cobalt chromium alloy can be used. The Cr concentration in the ferromagnetic layer is 1
0 to 30 atomic%, preferably 12 to 28 atomic%,
More preferably, it is 15 to 25 atomic%. By specifying the Cr concentration of the underlayer made of a chromium alloy within the above range, it is possible to make the crystal orientation of the ferromagnetic layer formed thereon a preferable mode and realize good magnetic properties. The thickness of the ferromagnetic layer is 5 to 300 nm, preferably 10 to 140 nm.
nm, more preferably 15 to 60 nm.

【0019】障壁層、下地層及び強磁性層は真空成膜法
で設けることが好ましい。特にスパッタリングは多くの
元素の組成を変えることなく成膜できるため好ましい。
障壁層、下地層及び強磁性層とも真空状態のまま連続的
に成膜を行うことが好ましい。
The barrier layer, the underlayer and the ferromagnetic layer are preferably provided by a vacuum film forming method. In particular, sputtering is preferable because a film can be formed without changing the composition of many elements.
It is preferable that the barrier layer, the underlayer, and the ferromagnetic layer be continuously formed in a vacuum state.

【0020】磁性上には、保護膜として、プラズマCV
D法、スパッタリング法等で作製したアモルファス、グ
ラファイト、ダイヤモンド構造、もしくはこれらの混合
物からなるカーボン膜を設けることが好ましい。特に好
ましくは一般にダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる
硬質の非晶質カーボン膜である。この硬質炭素膜はビッ
カース硬度で1000kg/mm2 以上、好ましくは2
000kg/mm2 以上の硬質の炭素膜である。
On the magnetism, a plasma CV is used as a protective film.
It is preferable to provide a carbon film made of an amorphous structure, a graphite structure, a diamond structure, or a mixture thereof prepared by the method D, the sputtering method, or the like. Particularly preferred is a hard amorphous carbon film generally called diamond-like carbon. This hard carbon film has a Vickers hardness of 1000 kg / mm 2 or more, preferably 2 kg / mm 2 or more.
It is a hard carbon film of 000 kg / mm 2 or more.

【0021】本発明の磁気記録媒体において、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保
護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。潤
滑剤としては、公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑
剤、極圧添加剤などが使用できる。炭化水素系潤滑剤と
してはステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ス
テアリン酸ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホ
ン酸等のスルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリ
ン酸エステル類、ステアリルアルコール、オレイルアル
コール等のアルコール類、ステアリン酸アミド等のカル
ボン酸アミド類、ステアリルアミン等のアミン類などが
挙げられる。
In the magnetic recording medium of the present invention, in order to improve running durability and corrosion resistance, it is preferable to add a lubricant or a rust inhibitor to the magnetic film or the protective film. As the lubricant, known hydrocarbon-based lubricants, fluorine-based lubricants, extreme pressure additives and the like can be used. Examples of the hydrocarbon-based lubricant include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid, esters such as butyl stearate, sulfonic acids such as octadecylsulfonic acid, phosphoric esters such as monooctadecyl phosphate, stearyl alcohol, oleyl alcohol and the like. Alcohols, carboxylic acid amides such as stearic acid amide, and amines such as stearylamine.

【0022】フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤
滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル
基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑
剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては
パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロ
エチレンオキシド重合体、パーフルオロ−n−プロピレ
ンオキシド重合体(CF2CF2CF2O)n 、パーフル
オロイソプロピレンオキシド重合体(CF(CF3)C
2O)n、またはこれらの共重合体等である。
Examples of the fluorine-based lubricant include lubricants in which part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is replaced with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group. Examples of the perfluoropolyether group include a perfluoromethylene oxide polymer, a perfluoroethylene oxide polymer, a perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF 2 CF 2 CF 2 O) n , and a perfluoroisopropylene oxide polymer (CF ( CF 3 ) C
F 2 O) n or a copolymer thereof.

【0023】極圧添加剤としてはリン酸トリラウリル等
のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン
酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ
亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベ
ンジル等の硫黄系極圧剤などが挙げられる。
Examples of extreme pressure additives include phosphates such as trilauryl phosphate, phosphites such as trilauryl phosphite, thiophosphites and thiophosphates such as trilauryl trithiophosphite and the like. And sulfur-based extreme pressure agents such as dibenzyl sulfide.

【0024】上記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して
使用される。これらの潤滑剤を磁性膜もしくは保護膜上
に付与する方法としては潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワ
イヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップ
コート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させ
ればよい。潤滑剤の塗布量としては1〜30mg/m2
が好ましく、2〜20mg/m2が特に好ましい。
The above lubricants are used alone or in combination of two or more. As a method of applying these lubricants on a magnetic film or a protective film, a lubricant is dissolved in an organic solvent and applied by a wire bar method, a gravure method, a spin coating method, a dip coating method, or a vacuum evaporation method. What is necessary is just to make it adhere. The amount of the lubricant to be applied is 1 to 30 mg / m 2.
Preferably, 2 to 20 mg / m 2 is particularly preferred.

【0025】本発明で使用できる防錆剤としてはベンゾ
トリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジ
ン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル
側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−メル
カプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合
物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環
類およびこの誘導体等が挙げられる。
The rust preventives usable in the present invention include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine and pyrimidine, and derivatives having an alkyl side chain introduced into the mother nucleus thereof, benzothiazole, 2-mercapto And nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as benzothiazole, tetrazaindene ring compounds and thiouracil compounds, and derivatives thereof.

【0026】[0026]

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示
し、本発明を説明する。 実施例1 厚さ63μmのポリエチレンナフタレート樹脂からなる
フイルムの両面にシリコン樹脂からなる平坦化層を1.
0μmの厚さに塗布した可撓性支持体上に、直流スパッ
タリングにより、アルゴン2.5mTorr、酸素0.
5mTorr、投入電力1400W、支持体温度20℃
の条件で、障壁層として、酸素を15原子%含有した
(CrTi208515酸化物を50nmの厚さに成膜し
た。次いで、非磁性下地層としてチタンを20原子%含
むクロム合金を直流スパッタリング法により60nmの
厚さに被覆した。次にこの金属下地層上に金属磁性媒体
として直流スパッタリング法により、クロムを20原子
%、Ptを12原子%含む膜厚30nmのコバルトクロ
ム合金薄膜を被覆した。保護層は、炭素をアルゴン圧力
3mTorr、投入電力700Wでスパッタリングし
て、厚さ20nmのアモルファスカーボン膜を形成し
た。下地層、強磁性層、保護層作製時の支持体温度は1
50℃であり、下地層作製は、アルゴン分圧8mTor
r、投入電力1400Wの条件で行った。また強磁性層
作製時は、アルゴン分圧1.5mTorr、投入電力1
400Wの条件で行った。保護層は、Ar分圧3mTo
rr、投入電力700Wの条件で行った。得られた磁気
記録媒体を以下に記載の評価方法によって特性を評価
し、その結果を表1および表2に示す。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples of the present invention. Example 1 A flattening layer made of a silicone resin was formed on both surfaces of a film made of a polyethylene naphthalate resin having a thickness of 63 μm.
On a flexible support coated to a thickness of 0 μm, by direct current sputtering, 2.5 mTorr of argon and 0.1 m 2 of oxygen were added.
5mTorr, input power 1400W, support temperature 20 ° C
Under the conditions described above, a (CrTi 20 ) 85 O 15 oxide containing 15 atomic% of oxygen was formed to a thickness of 50 nm as a barrier layer. Next, a chromium alloy containing 20 atomic% of titanium was coated as a nonmagnetic underlayer to a thickness of 60 nm by DC sputtering. Next, a 30 nm-thick cobalt-chromium alloy thin film containing 20 atomic% of chromium and 12 atomic% of Pt was coated as a metal magnetic medium on the metal underlayer by DC sputtering. For the protective layer, carbon was sputtered at an argon pressure of 3 mTorr and an input power of 700 W to form an amorphous carbon film having a thickness of 20 nm. The temperature of the support for preparing the underlayer, ferromagnetic layer and protective layer is 1
The temperature was 50 ° C., and the underlayer was formed by a partial pressure of argon of 8 mTorr.
r, input power 1400W. When producing a ferromagnetic layer, an argon partial pressure of 1.5 mTorr and an input power of 1 were used.
The test was performed under the condition of 400 W. The protective layer has an Ar partial pressure of 3 mTo.
rr, the input power was 700 W. The properties of the obtained magnetic recording medium were evaluated by the evaluation methods described below, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0027】実施例2 障壁層として(CrTi207525に変更した点を除い
て実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製し、実施例
1と同様にして評価をし、評価結果を表1および表2に
示す。
Example 2 A magnetic recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the barrier layer was changed to (CrTi 20 ) 75 O 25 , and evaluated in the same manner as in Example 1. Are shown in Tables 1 and 2.

【0028】実施例3 厚さ75μmのポリイミド樹脂基体の両面にポリイミド
樹脂平坦化層を1.2μm塗布した可撓性支持体上に、
直流スパッタリングにより、アルゴン2.5mTor
r、酸素0.5mTorr、投入電力1400W、支持
体温度20℃の条件で、酸素を15原子%含有した(C
rTi108515酸化物を厚さ50nmの障壁層を形成
した。次いで、非磁性下地層としてチタンを10原子%
含むクロム合金を直流スパッタリング法により60nm
被覆した。次にこの金属下地層上に直流スパッタリング
法によりクロムを17原子%、白金を9原子%、タンタ
ルを4原子%含むクロム−コバルト合金薄膜からなる膜
厚20nmの強磁性層を形成した。
EXAMPLE 3 A polyimide support having a thickness of 75 μm was coated on both sides with a polyimide resin flattening layer of 1.2 μm on a flexible support.
2.5 mTorr of argon by DC sputtering
r, oxygen 0.5 mTorr, input power 1400 W, support temperature 20 ° C., containing 15 atomic% of oxygen (C
A barrier layer of rTi 10 ) 85 O 15 oxide having a thickness of 50 nm was formed. Next, 10 atomic% of titanium is used as a nonmagnetic underlayer.
Chromium alloy containing 60nm by direct current sputtering
Coated. Next, a ferromagnetic layer having a thickness of 20 nm was formed on the metal underlayer by a direct current sputtering method. The ferromagnetic layer was a chromium-cobalt alloy thin film containing 17 atomic% of chromium, 9 atomic% of platinum, and 4 atomic% of tantalum.

【0029】下地層、強磁性層、保護層作成時の支持体
温度は150℃であり、下地層作製は、アルゴン分圧8
mTorr、投入電力1400Wの条件で行った。また
強磁性層作製時は、アルゴン分圧1.5mTorr、投
入電力1400Wの条件で行った。保護層は、Ar分圧
3mTorr、投入電力700Wの条件で行い、得られ
た磁気記録媒体を以下に記載の評価方法によって特性を
評価し、その結果を表1および表2に示す。
The substrate temperature at the time of forming the underlayer, the ferromagnetic layer, and the protective layer was 150 ° C.
The test was performed under the conditions of mTorr and input power of 1400 W. The ferromagnetic layer was formed under the conditions of an argon partial pressure of 1.5 mTorr and an input power of 1400 W. The protective layer was formed under the conditions of an Ar partial pressure of 3 mTorr and an input power of 700 W. The properties of the obtained magnetic recording medium were evaluated by the evaluation methods described below, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0030】比較例1 障壁層をCrTi20合金に変更した点を除き実施例1と
同様の条件で磁気記録媒体を作製し、実施例1と同様の
評価方法によって特性を評価し、その結果を表1および
表2に示す。
Comparative Example 1 A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the barrier layer was changed to CrTi 20 alloy, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0031】比較例2 障壁層を(CrTi205545からなる酸化物に変更し
た点を除き実施例1と同様の条件で磁気記録媒体を作製
し、実施例1と同様の評価方法によって特性を評価し、
その結果を表1および表2に示す。
Comparative Example 2 A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the barrier layer was changed to an oxide composed of (CrTi 20 ) 55 O 45, and the same evaluation method as in Example 1 was used. Evaluate the characteristics,
The results are shown in Tables 1 and 2.

【0032】比較例3 障壁層の厚さを5nmに変更した点を除き実施例1と同
様の条件で磁気記録媒体を作製し、実施例1と同様の評
価方法によって特性を評価し、その結果を表1および表
2に示す。
Comparative Example 3 A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the thickness of the barrier layer was changed to 5 nm, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. Are shown in Tables 1 and 2.

【0033】比較例4 障壁層を設けない点を除き実施例1と同様の条件で磁気
記録媒体を作製し、実施例1と同様の評価方法によって
特性を評価し、その結果を表1および表2に示す。
Comparative Example 4 A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that no barrier layer was provided, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. The results were shown in Tables 1 and 2. It is shown in FIG.

【0034】比較例5 障壁層作製時の支持体温度を150℃にした点を除き実
施例1と同様の条件で磁気記録媒体を作製し、実施例1
と同様の評価方法によって特性を評価し、その結果を表
1および表2に示す。
Comparative Example 5 A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the temperature of the support at the time of manufacturing the barrier layer was 150 ° C.
The characteristics were evaluated by the same evaluation methods as those described above, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0035】比較例6 障壁層の厚さを150nmに変更した点を除き実施例1
と同様の条件で磁気記録媒体を作製し、実施例1と同様
の評価方法によって特性を評価し、その結果を表1およ
び表2に示す。
Comparative Example 6 Example 1 except that the thickness of the barrier layer was changed to 150 nm.
A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0036】比較例7 障壁層をCrTi10合金に変更した点を除き、実施例3
と同様の条件で磁気記録媒体を作製し、実施例1と同様
の評価方法によって特性を評価し、その結果を表1およ
び表2に示す。
Comparative Example 7 Example 3 except that the barrier layer was changed to CrTi 10 alloy.
A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0037】比較例8 障壁層を(CrTi104060酸化物に変更した点を除
き、実施例3と同様の条件で磁気記録媒体を作製し、実
施例1と同様の評価方法によって特性を評価し、その結
果を表1および表2に示す。
Comparative Example 8 A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 3 except that the barrier layer was changed to (CrTi 10 ) 40 O 60 oxide, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. Was evaluated, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0038】比較例9 障壁層を設けない点を除き、実施例3と同様の条件で磁
気記録媒体を作製し、実施例1と同様の評価方法によっ
て特性を評価し、その結果を表1および表2に示す。
Comparative Example 9 A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 3 except that no barrier layer was provided, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. It is shown in Table 2.

【0039】比較例10 障壁層作製時の支持体温度を150℃にした点を除き、
実施例1と同様の条件で磁気記録媒体を作製し、実施例
1と同様の評価方法によって特性を評価し、その結果を
表1および表2に示す。
Comparative Example 10 Except that the temperature of the support at the time of preparing the barrier layer was set to 150 ° C.
A magnetic recording medium was manufactured under the same conditions as in Example 1, and the characteristics were evaluated by the same evaluation method as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0040】(評価方法) 1.密着性の評価試験 a.引き剥がし試験 作製した磁気記録媒体にポリエチレンナフタレートテー
プ(日東電工製 No.31B)の18mm×20mm
の大きさのものを試料表面に接着して、手で一気に引き
剥がし、この操作を5回繰り返し、一度も剥がれがなか
ったものを膜剥がれ「無」、一度でも剥がれがあったも
のを膜剥がれ「有」とした。 b.硬球摩耗試験 硬球にはガラス球を使用し、2パス、15トラックで測
定を行った。加重を10g重刻みで変化させた。加重印
加毎に微分干渉光学顕微鏡キズの発生状況を観察した。
(Evaluation Method) Evaluation test of adhesion a. Peeling test A 18 mm × 20 mm polyethylene naphthalate tape (Nitto Denko No. 31B) was applied to the prepared magnetic recording medium.
Adhering to the sample surface, peeling it off at once by hand, repeating this operation 5 times, peeling off the film that has never been peeled off "No", peeling off the film that has been peeled off once "Yes". b. Hard ball wear test A glass ball was used as a hard ball, and measurement was performed in two passes and 15 tracks. The weight was changed in 10 g weight increments. Each time a load was applied, the occurrence of scratches on the differential interference optical microscope was observed.

【0041】2.変形の測定 磁気記録媒体を、3.5インチ型フロッピーディスク用
磁気記録媒体と同様の形状に打ち抜くと共に、3.5イ
ンチ型フロッピーディスクと同様の内径に抜いた後、内
径とほぼ同じ径の水平に配置した棒に挿入する。その上
から押さえ板を設置し、磁気記録媒体を鉛直方向に固定
し重力の影響を除いた。磁気記録媒体を固定した棒と平
行に設置されたマイクロメーターを用い、磁気記録媒体
の最凸部と最凹部の水平方向の位置を測定し、その差を
変形量として測定し、次の基準で評価を行った。
2. Measurement of Deformation The magnetic recording medium was punched into the same shape as the magnetic recording medium for a 3.5-inch floppy disk, and was punched to the same inner diameter as the 3.5-inch floppy disk. Insert into the bar placed in. A holding plate was installed from above, and the magnetic recording medium was fixed vertically to eliminate the influence of gravity. Using a micrometer installed in parallel with the bar to which the magnetic recording medium is fixed, measure the horizontal position of the most convex part and the most concave part of the magnetic recording medium, measure the difference as the amount of deformation, and An evaluation was performed.

【0042】3.静磁気特性の観測 試料振動型磁力計(以後VSM)を用いて、保磁力(H
c)、角形比(SQ)、保磁力角形比(S*)の測定を
行った。 4.強磁性層の粒子状態、及び表面粗さ(Ra)につい
ては原子間力顕微鏡(AFM)により観測を行った。
3. Observation of magnetostatic characteristics Using a sample vibration magnetometer (hereinafter VSM), the coercive force (H
c), squareness ratio (SQ), and coercive force squareness ratio (S *) were measured. 4. The particle state and surface roughness (Ra) of the ferromagnetic layer were observed with an atomic force microscope (AFM).

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】[0044]

【表2】 Hc SQ S* 粒子サイズ 表面粗さ (Oe) (nm) (nm) 実施例1 3025 0.86 0.82 21 0.386 実施例2 2760 0.87 0.79 25 0.392 実施例3 2535 0.82 0.71 20 0.367 比較例1 2439 0.83 0.75 28 0.427 比較例2 2730 0.68 0.65 31 0.542 比較例3 2758 0.72 0.70 30 0.695 比較例4 2119 0.68 0.70 38 0.725 比較例5 2907 0.81 0.79 25 0.672 比較例6 3010 0.85 0.79 27 0.432 比較例7 2350 0.72 0.65 23 0.524 比較例8 2218 0.75 0.51 22 0.325 比較例9 1928 0.75 0.69 31 0.618 比較例10 2390 0.81 0.75 24 0.327Table 2 Hc SQ S * Particle size Surface roughness (Oe) (nm) (nm) Example 1 3025 0.86 0.82 21 0.386 Example 2 2760 0.87 0.79 25 0.392 Example 3 2535 0.82 0.71 20 0.367 Comparative Example 1 2439 0.83 0.75 28 0.427 Comparative Example 2 2730 0.68 0.65 31 0.542 Comparative Example 3 2758 0.72 0 .70 30 0.695 Comparative Example 4 2119 0.68 0.70 38 0.725 Comparative Example 5 2907 0.81 0.79 25 0.672 Comparative Example 6 3010 0.85 0.79 27 0.432 Comparative Example 7 2350 0.72 0.65 23 0.524 Comparative Example 8 2218 0.75 0.51 22 0.325 Comparative Example 9 1928 0.75 0.69 31 0.61 Comparative Example 10 2390 0.81 0.75 24 0.327

【0045】[0045]

【発明の効果】非磁性支持体上に、形成した平坦化層上
に障壁層を設けたことによって、真空下での成膜処理工
程において、非磁性支持体から気体成分が発生し、成膜
特性に悪影響を及ぼすことが無く、磁気特性あるいは磁
性体の表面性が良好な磁気記録媒体が得られる。
According to the present invention, by providing a barrier layer on a flattened layer formed on a non-magnetic support, gas components are generated from the non-magnetic support in the film forming process under vacuum, and the film is formed. It is possible to obtain a magnetic recording medium having good magnetic properties and good surface properties of the magnetic material without adversely affecting the properties.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 厚さが30〜100μmの可撓性非磁性
支持体上の少なくとも一方の面に耐熱性高分子物質から
なる厚さが0.1〜5.0μmの平坦化層、5〜40原
子%の酸素を含有したCr−O系薄膜からなる障壁層、
Cr合金からなる非磁性下地層及びスパッタリング法で
成膜されたCo−Cr系合金から成る強磁性層がこの順
に形成されてなることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A flattening layer having a thickness of 0.1 to 5.0 μm made of a heat-resistant polymer material on at least one surface of a flexible nonmagnetic support having a thickness of 30 to 100 μm. A barrier layer composed of a Cr—O-based thin film containing 40 atomic% of oxygen,
A magnetic recording medium comprising a non-magnetic underlayer made of a Cr alloy and a ferromagnetic layer made of a Co-Cr alloy formed by a sputtering method in this order.
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