JP2001134933A - Floppy (registered trademark) disk and its manufacturing method - Google Patents

Floppy (registered trademark) disk and its manufacturing method

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JP2001134933A
JP2001134933A JP31810199A JP31810199A JP2001134933A JP 2001134933 A JP2001134933 A JP 2001134933A JP 31810199 A JP31810199 A JP 31810199A JP 31810199 A JP31810199 A JP 31810199A JP 2001134933 A JP2001134933 A JP 2001134933A
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JP
Japan
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floppy disk
flat layer
temperature
thickness
support
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JP31810199A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Nishikawa
正一 西川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a floppy disk which has high recording density, small deformation quantity of a substrate and excellent characterirtics. SOLUTION: In the floppy disk having at least a flat layer, a magnetic layer and a protective layer on both surfaces of a flexible nonmagnetic supporting body, a relation: Ts=(Tg-Tc).(1-exp(-dg/(dg+dc)))+Tc is satisfied between glass transition temperature or thermal deformation temperature of the supporting body (Tg: deg.C), thickness of the supporting body (dg: μm), thermal deformation/decomposition temperature of the flat layer (Tc: deg.C), thickness of the flat layer (dc: μm) and maximum substrate temperature set at the time of manufacturing the floppy disk (Ts: deg.C) and further substrate temperature at the time of manufacturing the floppy disk is below Ts ( deg.C).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はコンピューターの補
助記録装置、画像記録装置などに用いられるリムーバブ
ル磁気記録媒体に係り、特に1平方メートル当たり1.
6テラビット(1平方インチ当たり1ギガビット)以上
の高い記録密度を有するフロッピーディスクおよびその
製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a removable magnetic recording medium used for an auxiliary recording device of a computer, an image recording device, etc.
The present invention relates to a floppy disk having a high recording density of 6 terabits (1 gigabit per square inch) or more, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータの補助記憶のような大容量
のデジタル情報の高密度記録媒体としてデジタルビデオ
テープ等のテープ状の磁気記録媒体が用いられてきた
が、近年の情報量の肥大化に伴い、更なる高容量化、記
録あるいは再生速度の高速化が要請されている。これら
の要求から、最近ではリムーバブルハードディスクが大
容量高密度デジタル記録媒体として使用されようとして
いる。しかし現存のギガバイト級のリムーバブル媒体は
ガラス、アルミニウム等の剛性の円盤状基板を使用して
いるため、装置に衝撃が加わると媒体それ自体が衝撃を
吸収することができないために、ヘッドクラッシュが発
生し磁気記録媒体、ヘッドとも大きな損傷を受けること
があった。このために、リムーバブルハードディスク等
の剛性の基体を用いたものは、耐衝撃性の問題が未だ解
決されておらず、剛性の基体を用いた磁気記録媒体を携
帯型機器で使用するうえでの問題点となっており、ま
た、剛性の基体を用いた磁気記録媒体を使用するデジタ
ルディスクカメラ等の携帯機器の普及における問題点の
一つとされている。
2. Description of the Related Art Tape-shaped magnetic recording media such as digital video tapes have been used as high-density recording media for large-capacity digital information such as auxiliary storage of computers. There is a demand for higher capacity and higher recording or reproduction speed. Due to these demands, a removable hard disk has recently been used as a large-capacity, high-density digital recording medium. However, the existing gigabyte-class removable media uses rigid disc-shaped substrates such as glass and aluminum, so when an impact is applied to the device, the media itself cannot absorb the impact, causing a head crash. However, both the magnetic recording medium and the head were sometimes seriously damaged. For this reason, those using a rigid substrate such as a removable hard disk have not yet solved the problem of impact resistance, and have problems in using a magnetic recording medium using the rigid substrate in a portable device. This is one of the problems in the spread of portable devices such as digital disk cameras using a magnetic recording medium using a rigid base.

【0003】磁気記録媒体は、剛性の基体を可撓性の基
体に変えることで記録部の軽量化、ヘッドクラッシュ時
の損傷が低減でき、耐衝撃性に優れた高密度リムーバブ
ル磁気記録媒体を実現可能である。そこで本出願人は、
可撓性支持体を用いた超高記録密度記録媒体の開発を行
っている。高密度記録用の磁性層は、真空成膜法によっ
て形成されている。真空成膜法をフロッピーディスクの
磁性層の形成に使用すると磁気記録密度の大きな磁性膜
を製造することができる。真空成膜法の中でも蒸着粒子
のエネルギーが高いスパッタリング法がこうした目的で
使用される磁気記録媒体の磁性層の形成に好適である
が、蒸着粒子の衝突エネルギー、スパッタ時に発生する
プラズマとの接触、あるいは静磁気・電磁変換特性を確
保するために行う50〜300℃の温度の支持体加熱な
どにより支持体の温度が上昇する。
[0003] By changing a rigid base to a flexible base, a magnetic recording medium can be reduced in weight of a recording portion, reduced in damage at the time of head crash, and realized a high-density removable magnetic recording medium excellent in impact resistance. It is possible. Therefore, the applicant has
We are developing ultra-high recording density recording media using flexible supports. The magnetic layer for high density recording is formed by a vacuum film forming method. When a vacuum film forming method is used for forming a magnetic layer of a floppy disk, a magnetic film having a high magnetic recording density can be manufactured. Among the vacuum film forming methods, the sputtering method in which the energy of the vapor-deposited particles is high is suitable for forming the magnetic layer of the magnetic recording medium used for such a purpose, but the collision energy of the vapor-deposited particles, contact with plasma generated during sputtering, Alternatively, the temperature of the support is increased by heating the support at a temperature of 50 to 300 ° C., which is performed to ensure the magnetostatic / electromagnetic conversion characteristics.

【0004】高記録密度磁気記録媒体には高い平坦性を
有する支持体が必要である。ハードディスクを支持体と
して使用する場合、機械加工などにより鏡面に近い平坦
性を作り出すことができる。しかしフロッピーディスク
の場合、支持体材料としては有機高分子物質が使用され
ていることから、製造後の機械加工により平坦性を向上
させることは難しいが、例えば可撓性支持体上では有機
高分子物質からなる表面平坦層を設けることで、鏡面に
近い表面性を実現することができる。
[0004] A high recording density magnetic recording medium requires a support having high flatness. When a hard disk is used as a support, flatness close to a mirror surface can be created by machining or the like. However, in the case of a floppy disk, it is difficult to improve the flatness by machining after production because an organic polymer substance is used as a support material. By providing a flat surface layer made of a substance, a surface property close to a mirror surface can be realized.

【0005】真空成膜により可撓性支持体上に金属薄膜
を形成する場合、支持体あるいは支持体表面に形成した
平坦層の温度上昇が起こる。支持体および平坦層は有機
高分子物質で構成されていることから、ガラス転移点あ
るいは熱変形温度を有している。そのためこれらガラス
転移点あるいは熱変形温度に対し過剰に温度が上昇する
と、支持体・平坦層の熱変形、表面でのオリゴマー発生
などの現象が起こる。
When a metal thin film is formed on a flexible support by vacuum film formation, the temperature of the support or a flat layer formed on the surface of the support increases. Since the support and the flat layer are made of an organic polymer material, they have a glass transition point or a heat distortion temperature. Therefore, when the temperature is excessively increased with respect to the glass transition point or the thermal deformation temperature, phenomena such as thermal deformation of the support / flat layer and generation of oligomers on the surface occur.

【0006】これらの現象は真空成膜により作製したフ
ロッピーディスクの静的な変形を生じ、ディスク回転時
に非定常な振動を発生させる。ディスク回転により発生
する非定常振動はヘッドと磁気記録媒体との間での信号
の読み込み、書き込み特性を悪化させ、実質的なフロッ
ピーディスク特性を低下させることが大きな間題になっ
ていた。
[0006] These phenomena cause static deformation of a floppy disk manufactured by vacuum film formation, and generate unsteady vibration when the disk rotates. The unsteady vibration generated by the rotation of the disk deteriorates the reading and writing characteristics of the signal between the head and the magnetic recording medium, and the substantial problem is that the actual characteristics of the floppy disk are lowered.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高記録密度
で大容量を有するフロッピーディスクの変形量、凹部数
を始めとする磁気記録媒体の特性を左右する要因を改善
したフロッピーディスクの製造方法を提供することを課
題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a floppy disk having improved characteristics, such as the amount of deformation and the number of concave portions, of a floppy disk having a high recording density and a large capacity. It is an object to provide

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の前記課題は、可
撓性非磁性支持体の両面に、少なくとも平坦層、磁性
層、保護層を有するフロッピーディスクにおいて、支持
体のガラス転移温度もしくは熱変形温度(Tg:℃)、
支持体厚さ(dg:μm)、平坦層の熱変形・分解温度
(Tc:℃)、平坦層厚さ(dc:μm)とフロッピー
ディスクの製造時に設定する最高基板温度(Ts:℃)
の間に、 Ts=(Tg−Tc)・(1−exp(−dg/(dg
+dc)))+Tc の関係があり、フロッピーディスク製造時の基板温度が
Ts(℃)以下であるフロッピーディスクの製造方法に
よって解決することができる。本発明は、支持体厚さ
(dg)が20〜200μmの範囲にある前記のフロッ
ピーディスクの製造方法である。本発明は、支持体厚さ
(dg)が30〜80μmの範囲にある前記のフロッピ
ーディスクの製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a floppy disk having at least a flat layer, a magnetic layer and a protective layer on both sides of a flexible non-magnetic support. Deformation temperature (Tg: ° C),
Support thickness (dg: μm), thermal deformation / decomposition temperature of flat layer (Tc: ° C.), flat layer thickness (dc: μm), and maximum substrate temperature (Ts: ° C.) set at the time of manufacturing a floppy disk
Ts = (Tg−Tc) · (1-exp (−dg / (dg)
+ Dc))) + Tc, and the problem can be solved by a method of manufacturing a floppy disk in which the substrate temperature at the time of manufacturing the floppy disk is Ts (° C.) or lower. The present invention is the above-mentioned method for producing a floppy disk, wherein the thickness (dg) of the support is in the range of 20 to 200 μm. The present invention is the above-mentioned method for producing a floppy disk, wherein the thickness (dg) of the support is in the range of 30 to 80 μm.

【0009】また、可撓性非磁性支持体の両面に、少な
くとも平坦層、磁性層、保護層を有するフロッピーディ
スクにおいて、支持体のガラス転移温度もしくは熱変形
温度(Tg:℃)、支持体厚さ(dg:μm)、平坦層
の熱変形・分解温度(Tc:℃)、平坦層厚さ(dc:
μm)とフロッピーディスクの製造時に設定する最高基
板温度(Ts:℃)の間に、 Ts=(Tg−Tc)・(1−exp(−dg/(dg
+dc)))+Tc の関係があり、30≦dg≦80μmの範囲にあるフロ
ッピーディスクの製造方法である。また、前記のフロッ
ピーディスクの製造方法により製造したフロッピーディ
スクである。
Also, in a floppy disk having at least a flat layer, a magnetic layer, and a protective layer on both sides of a flexible non-magnetic support, the glass transition temperature or thermal deformation temperature (Tg: ° C.) of the support, the thickness of the support (Dg: μm), thermal deformation / decomposition temperature of the flat layer (Tc: ° C.), flat layer thickness (dc:
μm) and the maximum substrate temperature (Ts: ° C.) set at the time of manufacturing the floppy disk, Ts = (Tg−Tc) · (1-exp (−dg / (dg)
+ Dc))) + Tc, and is a method for manufacturing a floppy disk in the range of 30 ≦ dg ≦ 80 μm. Further, the present invention is a floppy disk manufactured by the above-mentioned method for manufacturing a floppy disk.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明は、可撓性支持体上に、少
なくとも平坦層、磁性層、保護層を有するフロッピーデ
ィスクの製造工程において、基板温度を特定の温度条件
以下に保持することによって金属薄膜作製時のカールを
防止し、フロッピーディスクの表面性の低下を防止でき
ることを見出したものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention provides a method for manufacturing a floppy disk having at least a flat layer, a magnetic layer, and a protective layer on a flexible support by maintaining the substrate temperature at a specific temperature or lower. It has been found that curling during the production of a metal thin film can be prevented, and that the surface properties of a floppy disk can be prevented from lowering.

【0011】すなわち、可撓性支持体基板両面上に、少
なくとも平坦層、磁性層、保護層を有するフロッピーデ
ィスクにおいて、支持体のガラス転移温度もしくは熱変
形温度(Tg:℃)、支持体厚さ(dg:μm)、平坦
層の熱変形・分解温度(Tc:℃)、平坦層厚さ(d
c:μm)とフロッピーディスクの製造時に設定する最
高基板温度(Ts:℃)を、 Ts=(Tg−Tc)・(1−exp(−dg/(dg
+dc)))+Tc の関係を満たした状態に保持することによって、真空成
膜法による金属薄膜作製時のカールを防止し、表面性低
下を防止できることを見いだしたものである。
That is, in a floppy disk having at least a flat layer, a magnetic layer, and a protective layer on both sides of a flexible support substrate, the support has a glass transition temperature or heat deformation temperature (Tg: ° C.), and a support thickness. (Dg: μm), thermal deformation / decomposition temperature of the flat layer (Tc: ° C.), flat layer thickness (d
c: μm) and the maximum substrate temperature (Ts: ° C.) set at the time of manufacturing the floppy disk, Ts = (Tg−Tc) · (1−exp (−dg / (dg))
+ Dc))) + Tc is maintained, the curl during the production of the metal thin film by the vacuum film formation method can be prevented, and the surface property can be prevented from deteriorating.

【0012】真空成膜法により可撓性支持体上に金属薄
膜を形成する場合、支持体あるいは支持体表面に形成し
た平坦層の温度上昇が起こる。支持体及び平坦層は高分
子材料で構成されていることから、ガラス転移点あるい
は熱変形温度を有している。したがって、フロッピーデ
ィスク製造時にガラス転移点あるいは熱変形温度を上回
り過度に基板温度が高くなると可撓性支持体が熱変形を
起こすとともに、可撓性支持体、あるいは平坦層形成用
組成物に含まれていたオリゴマーが平坦層、あるいは支
持体表面に発生し表面性の低下が起こる。
When a metal thin film is formed on a flexible support by a vacuum film forming method, the temperature of the support or a flat layer formed on the surface of the support increases. Since the support and the flat layer are made of a polymer material, they have a glass transition point or a heat deformation temperature. Therefore, when the substrate temperature is excessively higher than the glass transition point or the heat deformation temperature during the manufacture of a floppy disk, the flexible support undergoes thermal deformation and is included in the flexible support or the composition for forming a flat layer. The generated oligomer is generated on the flat layer or the surface of the support, and the surface property is reduced.

【0013】特に可撓性支持体を構成する材料に平坦層
を形成する高分子組成物と異なるものを使用する場合に
は、可撓性支持体と平坦層が重層構成されていることか
ら平坦層と可撓性支持体の熱特性などが平均化された可
撓性支持体が形成され、可撓性支持体および平坦層を形
成する両材料のガラス転移点あるいは熱変形・分解温度
をパラメーターとする実効的なガラス転移温度あるいは
熱変形・分解温度が存在するものと考えられる。
Particularly when a material different from the polymer composition for forming the flat layer is used for the material constituting the flexible support, the flat layer is formed because the flexible support and the flat layer are laminated. A flexible support is formed in which the thermal characteristics of the layer and the flexible support are averaged, and the glass transition point or thermal deformation / decomposition temperature of both the material forming the flexible support and the flat layer is set as a parameter. It is considered that an effective glass transition temperature or thermal deformation / decomposition temperature exists.

【0014】可撓性支持体および平坦層の両者のガラス
転移温度とともに、支持体、平坦層の厚さについても実
効的なガラス転移温度あるいは熱変形・分解温度に大き
な影響を与えると考えられる。仮に平坦層の熱変形・分
解温度が可撓性支持体よりも高い場合を考えると、可撓
性支持体と平坦層を形成する高分子物質は比熱が小さく
熱伝導度が低い。よって平坦層の熱変形・分解温度が高
いと、可撓性支持体への熱伝導を防止する作用を果たし
ている。平坦層の層厚が薄いと熱遮断効果は小さくな
り、可撓性支持体への熱伝導量が大きくなってしまう。
また逆に平坦層が厚くなりすぎると、熱遮断効果は向上
するが、基板温度が上昇した際の可撓性支持体の変形に
追従できず、その結果クラックが発生する。
It is considered that the thickness of the support and the flat layer, as well as the glass transition temperature of both the flexible support and the flat layer, have a great influence on the effective glass transition temperature or thermal deformation / decomposition temperature. Considering the case where the thermal deformation and decomposition temperature of the flat layer is higher than that of the flexible support, the polymer substance forming the flexible support and the flat layer has low specific heat and low thermal conductivity. Therefore, when the thermal deformation / decomposition temperature of the flat layer is high, it has an effect of preventing heat conduction to the flexible support. When the thickness of the flat layer is small, the heat blocking effect is reduced, and the amount of heat conduction to the flexible support is increased.
Conversely, if the flat layer is too thick, the heat blocking effect is improved, but it is not possible to follow the deformation of the flexible support when the substrate temperature rises, resulting in cracks.

【0015】また熱伝導は1次の微分方程式で記述され
ることから、可撓性支持体および平坦層のガラス転移点
あるいは熱変形温度、層厚をパラメーターとし解析する
ことで、可撓性支持体基板両面上に、少なくとも平坦
層、磁性層、保護層を有するフロッピーディスクにおい
て、支持体のガラス転移温度もしくは熱変形温度(T
g:℃)、支持体厚さ(dg:μm)、平坦層の熱変形
・分解温度(Tc:℃)、平坦層厚さ(dc:μm)と
フロッピーディスクの製造時に設定する最高基板温度
(Ts:℃)の間に、 Ts=(Tg−Tc)・(1−exp(−dg/(dg
+dc)))+Tc 関係があり、フロッピーディスク製造時の基板温度がT
s(℃)度以下に設定することで、フロッピーディスク
製造時の熱変形、オリゴマー発生による表面性低下を防
止可能であるとことを見出したものである。
Further, since the heat conduction is described by a first-order differential equation, the flexible support and the flat layer are analyzed by using the glass transition point or the heat deformation temperature and the layer thickness as parameters to obtain the flexible support. In a floppy disk having at least a flat layer, a magnetic layer, and a protective layer on both surfaces of a substrate, a glass transition temperature or a heat distortion temperature (T
g: ° C), the thickness of the support (dg: µm), the thermal deformation / decomposition temperature of the flat layer (Tc: ° C), the thickness of the flat layer (dc: µm), and the maximum substrate temperature set during the manufacture of the floppy disk ( Ts = (Tg−Tc) · (1-exp (−dg / (dg))
+ Dc))) + Tc, and the substrate temperature during manufacture of the floppy disk is T
It has been found that by setting the temperature to s (° C.) or less, it is possible to prevent thermal deformation during production of a floppy disk and a decrease in surface properties due to generation of oligomers.

【0016】ここで、ガラス転移点、熱分解温度、熱変
形温度および厚さについては、以下のようにして求めた
ものである。 ・ガラス転移点:支持体または平坦層材料を溶融状態ま
で加熱する。このとき示差走査熱量計(DSC)により
固体から液体へ相変態する時の吸熱を観測し、最大吸収
熱量時の温度をガラス転移点とする。 ・熱分解温度:熱天秤上で支持体または平坦層材料を加
熱し、高分子質量が減少し始めた温度を熱分解温度とす
る。 ・熱変形温度:指示体、平坦層材料を50μmの厚さに
加工したシートを1cm×1cmの短冊状に切り出す。
シートを加熱後、室温まで冷却する。冷却後のシートの
試料を目視で観測し、表面にうねりが1個以上発生する
加熱温度を熱変形温度とする。 ・厚さ:支持体を10枚重ね、マイクロメータで厚さを
測定する。この測定値から算出した平均支持体厚さを支
持体厚さとする。平坦層厚さも同様に、平坦層形成済み
支持体を10枚重ね、平均厚さを算出する。この値から
支持体厚さを差し引き、平坦層厚さを算出した。
Here, the glass transition point, the thermal decomposition temperature, the thermal deformation temperature, and the thickness are determined as follows. Glass transition point: heating the support or the flat layer material to a molten state. At this time, an endotherm at the time of phase transformation from a solid to a liquid is observed by a differential scanning calorimeter (DSC), and the temperature at the maximum absorbed heat is defined as a glass transition point. -Thermal decomposition temperature: The support or the flat layer material is heated on a thermobalance, and the temperature at which the mass of the polymer starts to decrease is defined as the thermal decomposition temperature. Heat deformation temperature: A sheet obtained by processing the indicator and flat layer material to a thickness of 50 μm is cut into a 1 cm × 1 cm strip.
After heating the sheet, it is cooled to room temperature. The sample of the cooled sheet is visually observed, and the heating temperature at which one or more undulations occur on the surface is defined as the heat deformation temperature. -Thickness: Ten sheets of the support are stacked, and the thickness is measured with a micrometer. The average support thickness calculated from the measured values is defined as the support thickness. Similarly, the average thickness of the flat layer is calculated by stacking 10 flat layer-formed supports. The thickness of the support was subtracted from this value to calculate the thickness of the flat layer.

【0017】本発明のフロッピーディスクに使用される
可撓性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリベンゾキシアゾール等の材料を
挙げることができる。
As the flexible support used for the floppy disk of the present invention, polyethylene terephthalate,
Polyethylene naphthalate, polyimide, polyamide,
Materials such as polyamide imide and polybenzoxazole can be given.

【0018】また、可撓性支持体のヤング率は1.96
〜15.69GPa(200〜1600kgf/m
2) であり、特に望ましくは2.94〜7.85GP
a(300〜800kgf/mm2)である。支持体厚
さは20μm〜200μmであり、更に望ましくは30
μm〜80μmの範囲である。支持体厚さが20μm以
下であると、可撓性支持体の静的な変形(カール)が大
きくなり、ディスク回転時の面ぶれが大きくなり、安定
したヘッドとフロッピーディスクとの接触を保つことが
できない。また200μm以上になるとヘッドがフロッ
ピーディスクに接触した際の衝撃力が強く、ヘッドまた
はフロッピーディスクが損傷する。
The flexible support has a Young's modulus of 1.96.
Up to 15.69 GPa (200 to 1600 kgf / m
m 2 ), particularly preferably from 2.94 to 7.85 GP.
a (300 to 800 kgf / mm 2 ). The thickness of the support is 20 μm to 200 μm, more preferably 30 μm.
The range is from μm to 80 μm. When the thickness of the support is 20 μm or less, the static deformation (curl) of the flexible support increases, the surface runout increases when the disk rotates, and the stable contact between the head and the floppy disk is maintained. Can not. If the thickness exceeds 200 μm, the impact force when the head comes into contact with the floppy disk is strong, and the head or the floppy disk is damaged.

【0019】平坦層は、可撓性支持体の平坦性を向上さ
せるため、可撓性支持体上に設けられる。平坦層材料と
しては耐熱性高分子材料として一般に使用されている物
質を使用することができる。特に好ましくはシリコーン
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイ
ミド樹脂などの材料である。これらの材料は耐熱性に優
れているのに加え、表面性及び静磁気特性において良好
な特性を実現できる。平坦層の硬化後の塗布層の厚みは
0.1μm〜5.0μmである。望ましくは0.5μm
〜3.0μmであり、特に望ましくは0.8〜2.0μ
mの範囲である。
The flat layer is provided on the flexible support to improve the flatness of the flexible support. As the flat layer material, a substance generally used as a heat-resistant polymer material can be used. Particularly preferred are materials such as silicone resin, polyamide resin, polyamideimide resin, and polyimide resin. These materials are not only excellent in heat resistance, but also can achieve good surface properties and magnetostatic properties. The thickness of the coating layer after the curing of the flat layer is 0.1 μm to 5.0 μm. Preferably 0.5 μm
To 3.0 μm, particularly preferably 0.8 to 2.0 μm
m.

【0020】塗布層の厚みが0.1μm以下であると、
可撓性支持体上の突起を完全に埋めることができず、ス
ペーシングロスが発生するため十分な出力を得ることが
できない。また5.0μm以上になると平坦層が可撓性
支持体の熱変形に追従できなくなり、クラックが発生す
る。また、可撓性支持体の表面に微小な突起が設けるこ
とによって平坦層上に微少な凹凸を設けても良い。これ
らの突起は例えば可撓性支持体の表面にSiO2、Al2
3、TiO2 等の無機微粒子又は有機物微粒子が設け
られることによって形成することができる。使用する微
粒子の粒径は5nm〜50nm、特に望ましくは10n
m〜40nmの範囲である。このような微粒子を可撓性
支持体上に設けることによって平坦層表面に形成される
突起高さは、2nm〜40nmの範囲が好ましい。平坦
層表面の突起高さが2nm以下であると磁気ヘッドとフ
ロッピーディスク間の摩擦力が上昇し、ヘッドあるいは
フロッピーディスクが損傷を受ける。また40nm以上
ではスペーシングロスが顕著になり、十分な記録再生特
性が得られない。
When the thickness of the coating layer is 0.1 μm or less,
The protrusion on the flexible support cannot be completely filled, and a sufficient output cannot be obtained because of a spacing loss. On the other hand, when the thickness is 5.0 μm or more, the flat layer cannot follow the thermal deformation of the flexible support, and cracks occur. Further, minute projections and depressions may be provided on the flat layer by providing minute projections on the surface of the flexible support. These projections are formed, for example, on the surface of a flexible support by SiO 2 , Al 2
It can be formed by providing inorganic fine particles such as O 3 and TiO 2 or organic fine particles. The particle size of the fine particles used is 5 nm to 50 nm, particularly preferably 10 n.
m to 40 nm. The projection formed on the surface of the flat layer by providing such fine particles on a flexible support preferably has a height of 2 nm to 40 nm. If the protrusion height on the flat layer surface is 2 nm or less, the frictional force between the magnetic head and the floppy disk increases, and the head or the floppy disk is damaged. If it is 40 nm or more, the spacing loss becomes remarkable, and sufficient recording / reproducing characteristics cannot be obtained.

【0021】下地層としては、例えば以下のCr、T
i、Ni、W、Mo、V、Ta、B、Si、Nb、Z
r、Al、Mnのうちの金属、少なくとも2種の元素か
らなる合金、もしくはこれらの酸化物、窒化物、リン化
物が好ましい。特に好ましくはCrを主成分とする合金
であり、Cr濃度が77〜100at%、特に好ましい
のは80〜95at%であり、残部はその他の元素金属
である。また、下地層の膜厚5nm〜500nmであ
り、特に好ましいのは10nm〜100nmである。下
地層厚を100nm以上に厚くすると磁性層粒径が大き
くなり、フロッピーディスクのノイズの増加がおこる。
As the underlayer, for example, the following Cr, T
i, Ni, W, Mo, V, Ta, B, Si, Nb, Z
Preferred are metals of r, Al, and Mn, alloys of at least two elements, or oxides, nitrides, and phosphides thereof. Particularly preferred is an alloy containing Cr as a main component, with a Cr concentration of 77 to 100 at%, particularly preferred is 80 to 95 at%, and the balance is other elemental metals. The thickness of the underlayer is 5 nm to 500 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm. When the thickness of the underlayer is increased to 100 nm or more, the grain size of the magnetic layer increases, and the noise of the floppy disk increases.

【0022】磁性材料としては、CoCr合金、特にこ
れらとPt、Ta、Ni、Si、B、Ni、Pdとを含
む合金、または酸化物、窒化物が望ましい。なかでも特
にCoCrPt、CoCrPtTaが好ましい。またC
oを主成分とする合金と非磁性材料で構成されるグラニ
ューラー媒体も可能である。磁性層中のCr濃度は10
〜30at%であり、特に望ましいのは15〜25at
%である。磁性層の膜厚は10〜300nmであり、特
に好ましくは15〜60nmである。
As the magnetic material, a CoCr alloy, particularly an alloy containing Pt, Ta, Ni, Si, B, Ni and Pd, or an oxide or nitride is desirable. Among them, CoCrPt and CoCrPtTa are particularly preferred. Also C
A granular medium composed of an alloy containing o as a main component and a nonmagnetic material is also possible. The Cr concentration in the magnetic layer is 10
-30 at%, and particularly desirable is 15-25 at%.
%. The thickness of the magnetic layer is from 10 to 300 nm, particularly preferably from 15 to 60 nm.

【0023】下地層と磁性層は真空成膜法で設けること
が好ましい。特にスパッタリング法は原料を構成する元
素の組成を変えることなく成膜できるため好ましい。ま
た下地層、磁性層は真空状態を保持して引き続き成膜す
ることが好ましい。磁性層および下地層は直流スパッタ
リング法、または高周波スパッタリング法等の真空成膜
方法によって作製することが好ましい。また、下地層、
磁性層作製の際には基板加熱を行う場合、加熱方法とし
て赤外線ランプによる加熱、抵抗体の通電による発熱に
よる加熱方法などを用いることができる。
The underlayer and the magnetic layer are preferably provided by a vacuum film forming method. In particular, a sputtering method is preferable because a film can be formed without changing the composition of elements constituting the raw material. It is preferable that the underlayer and the magnetic layer are successively formed while maintaining a vacuum state. The magnetic layer and the underlayer are preferably formed by a vacuum film forming method such as a direct current sputtering method or a high frequency sputtering method. Also, an underlayer,
In the case of heating the substrate when preparing the magnetic layer, a heating method using an infrared lamp, a heating method using heat generated by energizing a resistor, or the like can be used as a heating method.

【0024】本発明のフロッピーディスクは表面に保護
膜を有することが好ましい。炭素保護膜としては、プラ
ズマCVD法、スパッタリング法等で作製したアモルフ
ァス炭素、グラファイト、ダイヤモンド状構造炭素、も
しくはこれらの混合物からなる炭素膜が好ましく、特に
好ましくはダイヤモンド状炭素と呼ばれる非晶質の硬質
炭素膜である。この硬質炭素膜はビッカース硬度で9.
8GPa(1000kgf/mm2) 以上、好ましくは
19.6GPa(2000kgf/mm2) 以上の硬質
の炭素膜である。保護層の膜厚は2.5〜30nmが好
ましく、特に好ましくは5〜25nmである。
The floppy disk of the present invention preferably has a protective film on the surface. The carbon protective film is preferably a carbon film made of amorphous carbon, graphite, diamond-like structure carbon, or a mixture thereof formed by a plasma CVD method, a sputtering method, or the like, and particularly preferably an amorphous hard film called diamond-like carbon. It is a carbon film. This hard carbon film has a Vickers hardness of 9.
It is a hard carbon film of 8 GPa (1000 kgf / mm 2 ) or more, preferably 19.6 GPa (2000 kgf / mm 2 ) or more. The thickness of the protective layer is preferably from 2.5 to 30 nm, particularly preferably from 5 to 25 nm.

【0025】本発明の磁気記録媒体において、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保
護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい、潤
滑剤としては、磁気記録媒体において潤滑剤として用い
られている炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添
加剤などが使用できる。炭化水素系潤滑剤としてはステ
アリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸
ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のス
ルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステ
ル類、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等の
アルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミ
ド類、ステアリルアミン等のアミン類などが挙げられ
る。フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤滑剤のア
ルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしく
はパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げ
られる。パーフルオロポリエーテル基としてはパーフル
オロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオ
キシド重合体、パーフルオロ−n−プロピレンオキシド
重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフルオロイソプロ
ピレンオキシド重合体(CF(CF3)CF2O)nまた
はこれらの共重合体等である。
In the magnetic recording medium of the present invention, in order to improve running durability and corrosion resistance, it is preferable to add a lubricant or a rust inhibitor to the magnetic film or the protective film. For example, hydrocarbon-based lubricants, fluorine-based lubricants, extreme pressure additives, and the like, which are used as lubricants in the above, can be used. Examples of the hydrocarbon-based lubricant include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid, esters such as butyl stearate, sulfonic acids such as octadecylsulfonic acid, phosphoric esters such as monooctadecyl phosphate, stearyl alcohol, oleyl alcohol and the like. Alcohols, carboxylic acid amides such as stearic acid amide, and amines such as stearylamine. Examples of the fluorine-based lubricant include lubricants in which part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is substituted with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group. Examples of the perfluoropolyether group include a perfluoromethylene oxide polymer, a perfluoroethylene oxide polymer, a perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF 2 CF 2 CF 2 O) n , and a perfluoroisopropylene oxide polymer (CF ( CF 3) a CF 2 O) n or copolymers thereof.

【0026】極圧添加剤としてはリン酸トリラウリル等
のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン
酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ
亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベ
ンジル等の硫黄系極圧剤などが挙げられる。
Examples of extreme pressure additives include phosphoric esters such as trilauryl phosphate, phosphites such as trilauryl phosphite, thiophosphites and thiophosphoric esters such as trilauryl trithiophosphite, and the like. And sulfur-based extreme pressure agents such as dibenzyl sulfide.

【0027】上記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して
使用される。これらの潤滑剤を磁性膜もしくは保護膜上
に付与する方法としては潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワ
イヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップ
コート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させ
ればよい。潤滑剤の塗布量としては1〜30mg/m 2
が好ましく、2〜20mg/m2 が特に好ましい。
The above lubricants may be used alone or in combination.
used. Apply these lubricants on the magnetic film or protective film.
As a method of imparting water to a lubricant, a lubricant is dissolved in an organic solvent
Ear bar method, gravure method, spin coating method, dip
Apply by a coating method or adhere by vacuum evaporation.
Just do it. The amount of lubricant to be applied is 1 to 30 mg / m Two
Is preferably 2 to 20 mg / mTwo Is particularly preferred.

【0028】本発明で使用できる防錆剤としてはベンゾ
トリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジ
ン等の含窒素複素環式化合物およびこれらの母核にアル
キル側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−
メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化
合物、チオウラシル化合物等の窒素および含硫黄有複素
環式化合物およびこの誘導体等が挙げられる。
The rust preventives usable in the present invention include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as benzotriazole, benzimidazole, purine and pyrimidine, derivatives having an alkyl side chain or the like introduced into their nucleus, benzothiazole, 2-benzothiazole, and the like.
Examples thereof include nitrogen- and sulfur-containing heterocyclic compounds such as mercapton benzothiazole, tetrazaindene ring compounds, and thiouracil compounds, and derivatives thereof.

【0029】[0029]

【実施例】以下に、実施例、比較例を示し本発明を説明
する。 実施例1 厚さ63μmのポリエチレンナフタレート支持体の両面
にシリコーン樹脂平坦層を1.7μm塗布した。可撓性
支持体上の平坦層上にスパッタリング装置(芝浦製作所
製S−50S)を用いて、アルゴン分圧2.0Pa(1
5.0mTorr)、投入電力12.0W/cm2 、基
板温度150℃の条件でCrTi20at%合金をから
なる非磁性下地層を60nmの厚さで被覆した。得られ
た金属下地層上に金属磁性膜として膜厚30nmであ
り、Crを20原子パーセント、Ptを12原子パーセ
ント含むCo合金薄膜をアルゴン分圧0.107Pa
(0.8mTorr)、投入電力12.0W/cm2
基板温度150℃の条件下で磁気記録媒体を作製した。
次いで、得られた磁気記録媒体を3.5型に打ち抜いて
フロッピーディスクを作製した。得られたフロッピーデ
ィスクを以下の評価方法によって評価を行い、その結果
を表1に示す。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples. Example 1 A 1.7 μm-thick silicone resin flat layer was applied to both sides of a 63 μm-thick polyethylene naphthalate support. Using a sputtering apparatus (S-50S, manufactured by Shibaura Seisakusho), an argon partial pressure of 2.0 Pa (1) was formed on the flat layer on the flexible support.
Under a condition of 5.0 mTorr), an input power of 12.0 W / cm 2 , and a substrate temperature of 150 ° C., a nonmagnetic underlayer made of a CrTi 20 at% alloy was coated with a thickness of 60 nm. On the obtained metal underlayer, a Co alloy thin film having a thickness of 30 nm as a metal magnetic film and containing 20 atomic percent of Cr and 12 atomic percent of Pt was coated with an argon partial pressure of 0.107 Pa.
(0.8 mTorr), input power 12.0 W / cm 2 ,
A magnetic recording medium was manufactured at a substrate temperature of 150 ° C.
Next, the obtained magnetic recording medium was punched into a 3.5-inch type to produce a floppy disk. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0030】また、装置内において、基板表面と温度制
御用熱電対の位置は離れいてる。そこで、厚さ50μm
のポリイミドフィルムを設置したホルダー上にサーモラ
ベルを貼り付けて、サーモラベルによる温度と熱電対の
測定値の関係から、サーモラベル温度と熱電対指示値が
等しくなるように校正する。校正後は熱電対指示値を用
いて平坦層表面での加熱温度とした。
In the apparatus, the position of the substrate surface and the temperature control thermocouple are separated from each other. Therefore, the thickness 50μm
A thermo label is stuck on the holder on which the polyimide film is placed, and calibration is performed so that the thermo label temperature and the thermocouple indication value become equal from the relationship between the temperature by the thermo label and the measurement value of the thermocouple. After the calibration, the heating temperature on the flat layer surface was determined using the thermocouple indicated value.

【0031】実施例2 平坦層厚を6.0μmに変更した点を除き実施例1と同
様の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフ
ロッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行
い、その結果を表1に示す。
Example 2 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the thickness of the flat layer was changed to 6.0 μm. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0032】実施例3 基板温度を80℃に変更した点を除き実施例1と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 3 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the substrate temperature was changed to 80 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0033】実施例4 基板温度を80℃に変更した点を除き実施例2と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 4 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 2 except that the substrate temperature was changed to 80 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0034】実施例5 基板温度を30℃に変更した点を除き実施例1と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 5 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the substrate temperature was changed to 30 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0035】実施例6 基板温度を30℃に変更した点を除き実施例1と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 6 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the substrate temperature was changed to 30 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0036】実施例7 可撓性支持体を63μmポリエチレンテレフタレート、
基板温度を110℃に変更した点を除き実施例1と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Example 7 A flexible support was made of 63 μm polyethylene terephthalate.
A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the substrate temperature was changed to 110 ° C. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0037】実施例8 平坦層の厚さを6.0μmに変更した点を除き実施例1
と同様の条件でフロッピーディスクを作製した。得られ
たフロッピーディスクを以下の評価方法によって評価を
行い、その結果を表1に示す。
Example 8 Example 1 except that the thickness of the flat layer was changed to 6.0 μm.
A floppy disk was produced under the same conditions as described above. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0038】実施例9 基板温度を60℃に変更した点を除き実施例7と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 9 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 7 except that the substrate temperature was changed to 60 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0039】実施例10 基板温度を60℃に変更した点を除き実施例8と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 10 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 8 except that the substrate temperature was changed to 60 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0040】実施例11 基板温度を30℃に変更した点を除き実施例7と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 11 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 7 except that the substrate temperature was changed to 30 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0041】実施例12 基板温度を30℃に変更した点を除き実施例8と同様の
条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロッ
ピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、そ
の結果を表1に示す。
Example 12 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 8 except that the substrate temperature was changed to 30 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0042】実施例13 平坦層材料をポリイミド樹脂に変更した点を除き実施例
1と同様の条件でフロッピーディスクを作製した。得ら
れたフロッピーディスクを以下の評価方法によって評価
を行い、その結果を表1に示す。
Example 13 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the material of the flat layer was changed to polyimide resin. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0043】実施例14 平坦層厚を6.0μmに変更した点を除き実施例13と
同様の条件でフロッピーディスクを作製した。得られた
フロッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行
い、その結果を表1に示す。
Example 14 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 13 except that the thickness of the flat layer was changed to 6.0 μm. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0044】比較例1 基板温度を180℃に変更した点を除き実施例1と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the substrate temperature was changed to 180 ° C. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0045】比較例2 基板温度を180℃に変更した点を除き実施例2と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 2 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 2 except that the substrate temperature was changed to 180 ° C. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0046】比較例3 平坦層厚を10μmに変更した点を除き比較例1と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 3 A floppy disk was produced under the same conditions as in Comparative Example 1 except that the thickness of the flat layer was changed to 10 μm. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0047】比較例4 平坦層厚を20μmに変更した点を除き比較例1と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 4 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Comparative Example 1 except that the thickness of the flat layer was changed to 20 μm. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0048】比較例5 基板温度を160℃に変更した点を除き実施例7と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 5 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 7 except that the substrate temperature was changed to 160 ° C. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0049】比較例6 基板温度を160℃に変更した点を除き実施例8と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 6 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 8 except that the substrate temperature was changed to 160 ° C. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0050】比較例7 平坦層厚を10μmに変更した点を除き比較例5と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 7 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Comparative Example 5, except that the thickness of the flat layer was changed to 10 μm. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0051】比較例8 平坦層厚を20μmに変更した点を除き比較例5と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 8 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Comparative Example 5 except that the thickness of the flat layer was changed to 20 μm. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0052】比較例9 基板温度を220℃に変更した点を除き実施例13と同
様の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフ
ロッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行
い、その結果を表1に示す。
Comparative Example 9 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 13 except that the substrate temperature was changed to 220 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0053】比較例10 基板温度を220℃に変更した点を除き実施例14と同
様の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフ
ロッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行
い、その結果を表1に示す。
Comparative Example 10 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Example 14 except that the substrate temperature was changed to 220 ° C. The obtained floppy disks were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in Table 1.

【0054】比較例11 平坦層厚を10μmに変更した点を除き比較例9と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 11 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Comparative Example 9 except that the thickness of the flat layer was changed to 10 μm. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0055】比較例12 平坦層厚を20μmに変更した点を除き比較例9と同様
の条件でフロッピーディスクを作製した。得られたフロ
ッピーディスクを以下の評価方法によって評価を行い、
その結果を表1に示す。
Comparative Example 12 A floppy disk was manufactured under the same conditions as in Comparative Example 9 except that the thickness of the flat layer was changed to 20 μm. The obtained floppy disk was evaluated by the following evaluation method,
Table 1 shows the results.

【0056】(評価方法) (1)変形:カール量と凹部数 得られたフロッピーディスクの中心部を水平に固定した
フロッピーディスクの内径と同じ25mmの径の保持棒
に挿入し、27mmの円盤からなる押さえ板で、フロッ
ピーディスクを鉛直方向に固定し、重力の影響を取り除
いた状態で、保持棒の軸と平行な方向からレーザー変位
計により、フロッピーディスク中心部から1cmおき
に、1周分の変位を測定する。フロッピーディスクの最
凸部と最凹部の差をカール量とした。またディスクの不
均一な変形に関してはディスク外周部のディスク最低高
さ部から0.3mmの高さの凹部の個数を測定して評価
を行った。凹部数が2個までのものは特性の良好なもの
である。
(Evaluation Method) (1) Deformation: Curl Amount and Number of Depressions The center of the obtained floppy disk is inserted into a holding rod having a diameter of 25 mm which is the same as the inner diameter of a horizontally fixed floppy disk. With the holding plate, the floppy disk is fixed vertically and the influence of gravity is removed. Using a laser displacement meter from a direction parallel to the axis of the holding rod, the disk is used for one round every 1 cm from the center of the floppy disk. Measure the displacement. The difference between the most convex part and the most concave part of the floppy disk was defined as the curl amount. Regarding the non-uniform deformation of the disk, the number of concave portions having a height of 0.3 mm from the minimum height of the disk at the outer periphery of the disk was measured and evaluated. Those having up to two concave portions have good characteristics.

【0057】(2)オリゴマーの発生状況 微分干渉顕微鏡により80倍観測において、10視野を
ランダムで観測し、1視野でもオリゴマーが発生してい
れば不良とし、まったく発生しない場合は良好とした。 (3)クラック発生 スパッタリング後冷却し試料表面を微分干渉型顕微鏡に
より観測を行った。倍率200倍で、ランダムに30点
観測を行い、30測定点中にクラックが確認されない場
合を優秀、2カ所以内であれば良好、それ以上であれは
不良と評価した。
(2) Occurrence of Oligomer In a magnification of 80 times with a differential interference microscope, 10 visual fields were observed at random. If at least one visual field generated oligomer, it was regarded as defective. (3) Crack generation After sputtering, the sample was cooled and the sample surface was observed with a differential interference microscope. Twenty-three observations were made at random at a magnification of 200 times. The case where no crack was observed among the 30 measurement points was evaluated as excellent.

【0058】[0058]

【表1】 Tg dg Tc dc Ts 基板温度 カール 凹部数 オリコ゛マー クラツク (℃) (μm) (℃) (μm) (℃) (℃) (mm) (個) 実施例1 113 63 250 1.7 164.74 150 0.2 1 良好 優秀 実施例2 113 63 250 6 167.98 150 0.1 1 良好 良好 実施例3 113 63 250 1.7 164.74 80 0.1 0 良好 優秀 実施例4 113 63 250 6 167.98 80 0.1 0 良好 良好 実施例5 113 63 250 1.7 164.74 30 0.1 0 良好 優秀 案施例6 113 63 250 6 167.98 30 0.1 0 良好 優秀 実施例7 69 63 250 1.7 137.36 110 0.3 1 良好 優秀 実施例8 69 63 250 6 141.64 110 0.2 2 良好 良好 実施例9 69 63 250 1.7 137.36 60 0.3 2 良好 優秀 実施例10 69 63 250 6 141.64 60 0.2 1 良好 良好 実施例11 69 63 250 1.7 137.36 30 0.1 1 良好 優秀 実施例12 69 63 250 6 141.64 30 0.1 1 良好 優秀 実施例13 113 63 340 1.7 198.73 190 0.2 1 良好 優秀実施例14 113 63 340 6 204.10 190 0.3 1 良好 良好 比較例1 113 63 250 1.7 164.74 180 0.8 3 不良 優秀 比較例2 113 63 250 6 167.98 180 1.6 4 不良 良好 比較例3 113 63 250 10 170.80 180 1.9 3 良好 不良 比較例4 113 63 250 20 177.13 180 3.1 4 良好 不良 比較例5 69 63 250 1.7 137.36 160 1.1 3 不良 優秀 比較例6 69 63 250 6 141.64 160 1.9 4 不良 良好 比較例7 69 63 250 10 145.36 160 2.2 3 不良 良好 比較例8 69 63 250 20 153.73 160 3.1 4 不良 不良 比較例9 113 63 340 1.7 198.73 220 1.1 3 良好 優秀 比較例10 113 63 340 6 204.10 220 1.9 4 良好 良好 比較例11 113 63 340 10 208.77 220 2.3 3 良好 良好 比較例12 113 63 340 20 219.26 220 3.1 4 良好 不良[Table 1] Tg dg Tc dc Ts Substrate temperature Curl Number of recesses Oricommer crack (° C) (μm) (° C) (μm) (° C) (° C) (mm) (pieces) Example 1 113 63 250 1.7 164.74 150 0.2 1 Good Excellent Example 2 113 63 250 6 167.98 150 0.1 1 Good Good Example 3 113 63 250 1.7 164.74 80 0.1 0 Good Excellent Example 4 113 63 250 6 167.98 80 0.1 0 Good Good Example 5 113 63 250 1.7 164.74 30 0.1 0 Good Excellent Proposal 6 113 63 250 6 167.98 30 0.1 0 Good Excellent Example 7 69 63 250 1.7 137.36 110 0.3 1 Good Excellent Example 8 69 63 250 6 141.64 110 0.22 Good Good Example 9 69 63 250 1.7 137.36 60 0.3 2 Good Excellent Example 10 69 63 250 6 141.64 60 0.2 1 Good Good Example 11 69 63 250 1.7 137.36 30 0.1 1 Good Excellent Example 12 69 63 250 6 141.64 30 0.1 1 Good Excellent Example 13 113 63 340 1.7 198.73 190 0.2 1 Good Excellent Example 14 113 63 340 6 204.10 190 0.3 1 Good Good Comparative Example 1 113 63 250 1.7 164.74 180 0.8 3 Poor Excellent Comparative Example 2 113 63 250 6 167.98 1 80 1.6 4 Poor Good Comparative Example 3 113 63 250 10 170.80 180 1.9 3 Good Poor Comparative Example 4 113 63 250 20 177.13 180 3.1 4 Good Poor Comparative Example 5 69 63 250 1.7 137.36 160 1.1 3 Poor Excellent Comparative Example 6 69 63 250 6 141.64 160 1.9 4 Poor Good Comparative Example 7 69 63 250 10 145.36 160 2.2 3 Poor Good Comparative Example 8 69 63 250 20 153.73 160 3.1 4 Poor Poor Comparative Example 9 113 63 340 1.7 198.73 220 1.1 3 Good Excellent Comparative Example 10 113 63 340 6 204.10 220 1.9 4 Good Good Comparative Example 11 113 63 340 10 208.77 220 2.3 3 Good Good Comparative Example 12 113 63 340 20 219.26 220 3.1 4 Good Bad

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明は、真空成膜時の温度条件等を、
種々のパラメータによって所定の範囲に設定したので、
機械的変形量が小さく、クラック等も少ない特性が優れ
た磁気記録媒体を得ることができた。
According to the present invention, the temperature conditions and the like at the time of vacuum
Since it was set in a predetermined range by various parameters,
A magnetic recording medium having a small amount of mechanical deformation and excellent characteristics with few cracks or the like was obtained.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性非磁性支持体の両面に、少なくと
も平坦層、磁性層、保護層を有するフロッピーディスク
において、支持体のガラス転移温度もしくは熱変形温度
(Tg:℃)、支持体厚さ(dg:μm)、平坦層の熱
変形・分解温度(Tc:℃)、平坦層厚さ(dc:μ
m)とフロッピーディスクの製造時に設定する最高基板
温度(Ts:℃)の間に、 Ts=(Tg−Tc)・(1−exp(−dg/(dg
+dc)))+Tc の関係があり、フロッピーディスク製造時の基板温度が
Ts(℃)以下であることを特徴とするフロッピーディ
スクの製造方法。
1. A floppy disk having at least a flat layer, a magnetic layer, and a protective layer on both sides of a flexible non-magnetic support, wherein the support has a glass transition temperature or thermal deformation temperature (Tg: ° C.), and a support thickness. (Dg: μm), thermal deformation / decomposition temperature of the flat layer (Tc: ° C.), flat layer thickness (dc: μm)
m) and the maximum substrate temperature (Ts: ° C.) set at the time of manufacturing the floppy disk, Ts = (Tg−Tc) · (1-exp (−dg / (dg)
+ Dc))) + Tc, wherein the substrate temperature during the production of the floppy disk is Ts (° C.) or lower.
【請求項2】 支持体厚さ(dg)が20〜200μm
の範囲にあることを特徴とする請求項1記載のフロッピ
ーディスクの製造方法。
2. The support has a thickness (dg) of 20 to 200 μm.
2. The method for manufacturing a floppy disk according to claim 1, wherein
【請求項3】 平坦層厚さ(dc)が0.1〜5.0μ
mの範囲にあることを特徴とする請求項1または2のい
ずれかに記載のフロッピーディスク製造方法。
3. A flat layer thickness (dc) of 0.1 to 5.0 μm.
3. The method of manufacturing a floppy disk according to claim 1, wherein the value is in the range of m.
【請求項4】 請求項1〜3記載のフロッピーディスク
の製造方法により製造したことを特徴とするフロッピー
ディスク。
4. A floppy disk manufactured by the method for manufacturing a floppy disk according to claim 1.
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