JP2002031726A - 光ファイバーアレイ - Google Patents

光ファイバーアレイ

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 像面サイズを大きくしないで高密度な画像記
録を行うことができる光ファイバーアレイを提供する。 【解決手段】 各スペーサー基板401〜403の表面
溝RDおよび裏面溝WDならびに押さえ基板404,4
05の位置決め溝FDとにより4つの位置決め穴FHが
形成されており、各位置決め穴FHには光ファイバー列
31a〜31dが挿入されて位置決めされている。光フ
ァイバー列の数をN、光ファイバーのピッチをPとする
と、各スペーサー基板401〜403の表面溝RDと裏
面溝WDは互いにP/NだけY軸方向にずれているた
め、主走査方向の射影では全ての光ファイバー30が等
しい間隔P/Nで重なることなく並んでいる。そのた
め、高密度な画像記録が行える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光ビームを被走
査面に照射することによって画像を記録する画像記録装
置などに用いられる光ファイバーアレイに関する。
【0002】
【従来の技術】従来から高密度な画像記録を行う画像記
録装置では、光源部分において光ファイバーをバンドル
しアレイ化したものが利用されている。このような光フ
ァイバーアレイでは、発光点の間隔をほぼ光ファイバー
の外形寸法(0.125〜1.0mm)にすることができるが、
光ファイバー端面のクラッド部分は像面上で隙間となり
画像記録(走査線)の密度を低下させる。
【0003】これを解決するため種々の方法が考案され
ている。図9は従来技術における光ファイバーアレイの
端面を示す図である。例えば、USP4,991,930(以下
「従来例1」という)においては、図9(a)に示すよ
うに複数の光ファイバー列901〜903を互いに光フ
ァイバーの間隔の半ピッチずつずらして俵積みにするこ
とにより走査線密度を高めている。また、USP5,321,
426(以下「従来例2」という)においては図9(b)
に示すように光ファイバー列905を主走査方向に対し
て所望の角度傾けることによって走査線間の隙間を防止
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来例1で
は、1段目の光ファイバー列901はV溝によって位置
決めされ、2段目の光ファイバー列902は1段目の光
ファイバー列の各光ファイバーの中間に位置するが、3
段目の光ファイバー列903の各光ファイバーは1段目
のそれと同じ走査線上にあるので光ファイバーアレイ
(したがって走査線)の高密度化には寄与しない。
【0005】また、従来例2では、光ファイバーアレイ
は1次元であるためビーム本数が増えると、被走査面に
結像する像面のサイズが大きくなる。このことはレンズ
等のサイズを大きくしなければならないだけでなく、ド
ラム面上への書き込みを行う場合、主走査方向は平面で
はなく曲率を持っているため、レンズ系の像面湾曲が無
かったとしても、ドラム外周面の湾曲により光ファイバ
ー列の中心部と両端とで焦点位置が異なることになる。
【0006】この発明は、従来技術における上述の問題
の克服を意図しており、像面サイズを大きくしないで高
密度な画像記録を行うことができる光ファイバーアレイ
を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明は、複数の光ファイバーが一
次元配列された複数の光ファイバー列と、互いに平行で
かつ前記光ファイバーの並び方向にずれて形成された表
面溝と裏面溝とを有し、前記表面溝と裏面溝とに一の光
ファイバー列がそれぞれ嵌入されるスペーサー基板と、
を備える光ファイバーアレイであることを特徴とする。
【0008】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の光ファイバーアレイにおいて、Nを2以上の整数とし
たとき、前記光ファイバーアレイがN組の光ファイバー
列と(N−1)個の前記スペーサー基板とを前記並び方
向に垂直な方向に交互に積層したものであって、各光フ
ァイバー列における光ファイバーピッチをPと表わすと
き、前記(N−1)個のスペーサ基板のそれぞれにおけ
る前記表面溝と前記裏面溝との前記並び方向のずれがP
/Nの整数倍の長さであることを特徴とする。
【0009】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の光ファイバーアレイであって、前記光ファイバーピッ
チPは、光ファイバーの直径であることを特徴とする。
【0010】請求項4に記載の発明は、請求項1ないし
請求項3のいずれかに記載の光ファイバーアレイであっ
て、前記表面溝と前記裏面溝とは、前記光ファイバーを
1本ずつ嵌入させた単位溝の組によって構成されている
ことを特徴とする。
【0011】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の光ファイバーアレイであって、前記単位溝は、その断
面形状がV字型であることを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。
【0013】<1.第1の実施の形態> <<1−1.全体装置構成>>図1はこの発明の一実施
の形態である画像記録装置1の全体装置構成図である。
以下、図1を用いてこの画像記録装置について説明して
いく。
【0014】画像記録装置1は主に、レーザードライバ
10、光源20、光ファイバー30、光ファイバーアレ
イ40、光学系50およびドラム60を備えている。
【0015】光源20は複数の発光素子である半導体レ
ーザー21を備えており、レーザードライバ10による
電力の供給により各半導体レーザー21が発光する。ま
た、各半導体レーザー21には光ファイバー30の受光
端が対向して(カップリングして)設けられており、そ
れら光ファイバー30はコネクタ35を介して光ファイ
バーバンドルとして束ねられ、出射端は光ファイバーア
レイ40(後述)を形成している。そして、各半導体レ
ーザー21から発せられた光ビームは光ファイバー30
により伝送され、光ファイバーアレイ40における出射
端から出射し、光学系50により被走査面である円筒形
のドラム60の外周面に導かれて結像される。ドラム6
0はそのY軸方向の中心を軸として、図示しない回転駆
動機構により回転自在となっており、光ビームがドラム
60の外周面に結像しつつ、ドラム60が回転すること
によりZ軸方向(主走査方向)に主走査が行われ、さら
には、光ファイバーアレイ40の後述する各光ファイバ
ー30の並び(光ファイバー列)およびレーザードライ
バ10〜光学系50のY軸方向(副走査方向)の移動に
より副走査が行われる。
【0016】つぎに、主要部についてさらに詳細に説明
していく。
【0017】図2は第1の実施の形態における光ファイ
バーアレイ40の出射端面を示す図である。
【0018】光ファイバーアレイ40は、光ファイバー
30が一次元配列された複数の光ファイバー列31a,
31b,31c,31dを備え、それら各光ファイバー
列31a〜31dの相互の間に、それら光ファイバー列
を位置決めして保持するスペーサー基板401,40
2,403が配置され、さらに、図2中において最上段
および最下段に、光ファイバー列31aおよび31cを
押さえて支持する押さえ基板404,405を備えてい
る。すなわち、光ファイバー列31a〜31d、スペー
サー基板401,402,403および押さえ基板40
4,405がZ軸方向に互いに交互に積層された構造と
なっている。
【0019】これらのうち、各スペーサー基板401〜
403は、それぞれその表面(図2中、上側の面)およ
び裏面(図2中、下側の面)に、それぞれ各光ファイバ
ー30の位置決め用の溝として機能する表面溝RDおよ
び裏面溝WDを備えており、図示しないが表面溝RDお
よび裏面溝WDはその長手方向がX軸と平行となるよう
に設けられており、同様に、押さえ基板404,405
にもそれぞれ位置決め溝FDが、その長手方向がX軸と
平行になるように設けられている。
【0020】ところで、図2中においてP,NおよびM
は以下の通りである。 P:1つの光ファイバー列31a〜31d内における光
ファイバー30のピッチ(すなわち、光ファイバー30
の直径) N:前記光ファイバー列の数(ここではN=4) M:光ファイバー列を構成する光ファイバーの数(ここ
ではM=16) 図2中において表面溝RDおよび裏面溝WDならびに位
置決め溝FDのY軸方向(光ファイバー列31a〜31
dにおける光ファイバー30の並び方向)の幅は全て共
通の幅M・Pとなっており、互いに隣接するそれらの溝
(以下、表面溝RD,裏面溝WD,位置決め溝FDを総
称する場合、単に「溝」という)どうしが一致するよう
に、スペーサー基板401〜403および押さえ基板4
04,405の隣接するものどうしが貼り合わされて、
合わされた2つの溝が位置決め穴FHを形成している。
したがって、各位置決め穴FHのY軸方向の幅も共通に
M・Pである。
【0021】また、図中においてスペーサー基板401
〜403のうち、上側のスペーサー基板の裏面溝WDと
下側のスペーサー基板の表面溝RDとのそれぞれの深さ
D1,D2を併せた長さ、すなわち、位置決め穴FHの
Z軸方向(各スペーサー基板および光ファイバー列の積
層方向)の幅が光ファイバー30の直径(ピッチP)と
等しく(すなわち、D1+D2=P)なっている。
【0022】そして、このような各位置決め穴FHに、
光ファイバー30が挿入されると、必然的にM本の光フ
ァイバーどうしおよび光ファイバー列と位置決め穴FH
の上側の内面と下側の内面およびY軸方向の両端との間
には、それぞれ隙間が生じる余地がない。そのため各光
ファイバー列31a〜31dが各位置決め穴FHに挿入
されると(表面溝RDおよび裏面溝WDならびに位置決
め溝FDのそれぞれに嵌入されると)、各光ファイバー
はY軸方向およびZ軸方向に位置決めされ、上記光ファ
イバー列31a〜31dを形成する。このように、この
実施の形態では各溝により形成される位置決め穴FHに
より光ファイバー列31a〜31dが正確に位置決めさ
れている。
【0023】また、1つのスペーサー基板の表面溝RD
と裏面溝WDは互いに長さP/NだけY軸方向にずれて
設けられており、さらに、互いに隣接する2つのスペー
サー基板(401と402、402と403)では、図
中において下側のスペーサー基板の表面溝RDと上側の
スペーサー基板の裏面溝WDとの位置が互いに一致する
ように、両者が貼り合わされ、光ファイバー列31a〜
31dの位置決め穴FHが形成されている。そのため、
隣接する位置決め穴FHも互いにY軸方向に長さP/N
だけずれている。さらに、各スペーサー基板401〜4
03の表面溝RDおよび裏面溝WD(したがって、各位
置決め穴FH)は図2中、上から順にP/NずつY軸方
向にずれて設けられている。そのため、それら各位置決
め穴FHに挿入された光ファイバー列31a〜31d
(したがって、それらに含まれる各光ファイバー30)
もY軸方向に長さP/Nだけずれており、したがって、
Z軸方向の射影ではいずれの2本の光ファイバー30も
重なることなく位置している。すなわち、各光ファイバ
ー30の主走査方向(Z軸方向)の射影は互いに等しい
間隔P/NでM・N本並んでいる。そのため、画像を記
録する際には、各光ファイバー30の先端から発光しな
がら主走査方向と反対(Z軸の負方向)にドラム60が
回転することにより、間隔P/Nの間隔でM・N本の走
査を並行して行うことができる。つまり、1列分の光フ
ァイバー列だけを備える画像記録装置に比べてM倍の高
密度で走査することができる。
【0024】さらに、図2に示すように、光ファイバー
列31a〜31dそれぞれを互いに副走査方向に長さP
/Nずつずらして多段に積層していることにより、2次
元的に光ファイバー30の端面を配置するため、高密度
でありながらも像面サイズの拡大を抑えることができ
る。
【0025】<2.第2の実施の形態>第2の実施の形
態は光ファイバーアレイ41以外は第1の実施の形態と
全く同一の装置構成である。
【0026】図3は第2の実施の形態における光ファイ
バーアレイ41の出射端面を示す図である。以下、図3
を用いて第2の実施の形態における光ファイバーアレイ
41について説明する。
【0027】図3中、2段目の光ファイバー列31cは
1段目の光ファイバー列31dに対してY軸の負方向に
長さ2P/Nずれており、3段目の光ファイバー列31
bは2段目の光ファイバー列31cに対してY軸の正方
向に長さP/Nずれており、4段目の光ファイバー列3
1aは3段目の光ファイバー列31bに対してY軸の負
方向に長さ2P/Nずれて並列的に配列されている。
【0028】すなわち、2段〜4段目の光ファイバー列
31c,31b,31aの1段目の光ファイバー列31
dに対するずれ量はY軸の負方向にそれぞれ2P/N、
P/N、3P/Nとなっており、これにより、主走査方
向(Z軸方向)に各光ファイバー30を射影すると、第
1の実施の形態と同様に間隔P/NでM・N本の光ファ
イバー30がいずれも重なることなく並んでいることに
なり、間隔P/NでM・N本の走査を並行して行うこと
ができるものとなっている。なお、第2の実施の形態で
も、スペーサー基板411,412,413それぞれに
おける表面溝RDおよび裏面溝WDはY軸方向に互いに
長さP/Nの整数倍(P/Nまたは2P/N)だけずれ
ている。
【0029】以上を一般化すると、全光ファイバー30
を主走査方向に射影した場合に、左端(第1段の左端)
からの距離i・P/Nで表される条件を整数iがi=1
〜M−1の範囲で重複しないように満たしていれば、各
光ファイバー列のZ軸方向の積層の順序は問題ではな
く、その場合、第1の実施の形態と同様の効果を有す
る。
【0030】<3.第3の実施の形態>第3の実施の形
態は光ファイバーアレイ42以外は第1の実施の形態と
全く同一の装置構成である。
【0031】図4は第3の実施の形態における光ファイ
バーアレイ42の出射端面を示す図である。以下、図4
を用いて第3の実施の形態における光ファイバーアレイ
42について説明する。
【0032】第1の実施の形態における光ファイバーア
レイ40におけるスペーサー基板401〜403および
押さえ基板404,405が、M本の光ファイバー30
からなる光ファイバー列31a〜31d全体を収容する
内部構造を持たない表面溝RDおよび裏面溝WDならび
に位置決め溝FDをそれぞれ備えていたのに対して、第
3の実施の形態の光ファイバーアレイ42は複数の単位
溝UDを内部構造として持つスペーサー基板421〜4
23の表面溝RDおよび裏面溝WDならびに押さえ基板
424,425の位置決め溝FDを備えている。そし
て、各単位溝UDは各光ファイバー列31a〜31dを
構成する個々の光ファイバー30に対応して等しいピッ
チP(前述の光ファイバー30の直径)で光ファイバー
列31a〜31dにおける光ファイバー30の並び方向
にM個設けられている。また、それら単位溝UDの(Y
−Z面での)断面はV字型の形状となっており、それら
単位溝UDの組(複数の単位溝UDからなる集合)がス
ペーサー基板421〜423の表面溝RDおよび裏面溝
WDならびに押さえ基板424,425の位置決め溝F
Dを形成している。
【0033】そして、各光ファイバー列31a〜31d
の各光ファイバー30は表面溝RDおよび裏面溝WDな
らびに位置決め溝FDの各単位溝UDに嵌入してY軸方
向に位置決めされる。そして、表面溝RDおよび裏面溝
WDならびに位置決め溝FDのうちの互いに対向する溝
における対向する一対の単位溝UDにより各光ファイバ
ー30を挟み込むようにしてZ軸方向についても位置決
めしている。
【0034】また、各スペーサー基板421〜423の
表面溝RDおよび裏面溝WDおよび押さえ基板424,
425の位置決め溝FDは、第1の実施の形態と同様
に、順にY軸方向に長さP/Nずつ相対的にずれて設け
られており、したがって、各光ファイバー列31a〜3
1dの相対的位置関係も第1の実施の形態と同様のもの
となっている。そのため、全光ファイバー30のZ軸方
向(主走査方向)の射影は互いに間隔P/NでM・N本
並んでおり、それにより、等しい間隔P/NでM・N本
の走査を並行して行うことができる。
【0035】以上より、第1および第2の実施の形態と
同様に高密度で走査できるのに加えて、各溝がV字型の
断面であることにより各光ファイバー30の位置決め精
度が高く、したがって、精度の高い走査を行うことがで
きる。
【0036】<4.第4の実施の形態>第4の実施の形
態は光ファイバーアレイ43以外は第1の実施の形態と
全く同一の装置構成である。
【0037】図5は第4の実施の形態における光ファイ
バーアレイ43の出射端面を示す図である。以下、図5
を用いて第4の実施の形態における光ファイバーアレイ
43について説明する。
【0038】第4の実施の形態の光ファイバーアレイ4
3における各光ファイバー列31a〜31dの相対的位
置関係は第1および第3の実施の形態と全く同様であ
る。また、各スペーサー基板431a,431b,43
1cの表面溝RDおよび裏面溝WDならびに両押さえ基
板432a,432bの位置決め溝FDはそれぞれ第3
の実施の形態と同様にその断面がV字型であるM個の単
位溝UDを配置したものとなっている。
【0039】ただし、第4の実施の形態では各スペーサ
ー基板431a〜431cが全く同形状となっており、
さらに、2つの押さえ基板432a,432bも互いに
全く同形状となっている。すなわち、各スペーサー基板
431a〜431cにおける表面溝RDおよび裏面溝W
Dの設けられている位置(したがって、そのスペーサー
基板431a〜431cのY軸方向の両端からの距離)
が共通になっている。また、2つの押さえ基板432
a,432bにおける位置決め溝FDの設けられている
位置(その押さえ基板のY軸方向の両端からの距離)も
共通になっていて、図5中において押さえ基板432a
を上下反転すると押さえ基板432bと全く同じ位置に
各位置決め溝FD(したがって、それに備わった単位溝
UD)が位置する。
【0040】そして、互いに同形状の各スペーサー基板
431a〜431c自体をY軸方向に相対的に長さP/
Nだけ順にずらして設けることによって、各光ファイバ
ー列31a〜31dの相対的位置関係は、第1および第
3の実施の形態と全く同様となっており、したがって、
各光ファイバー30のZ軸方向(主走査方向)の射影は
互いに等しい間隔P/NでM・N本並んでいる。そのた
め、間隔P/NでM・N本の走査を並行して行うことが
できる。
【0041】以上より、第3の実施の形態と同様に、高
密度で精密な走査が行えるという効果を有するのに加え
て、各スペーサー基板431a〜431cおよび両押さ
え基板432a,432bがそれぞれ同形状であること
により、各光ファイバー30および各光ファイバー列3
1a〜31dの配置精度が向上し、より精密な走査が行
え、さらに、各スペーサー基板431a〜431cおよ
び両押さえ基板432a,432bを異なる形状とする
場合と比べて、装置の製造コストを抑えることができ
る。
【0042】<5.第5の実施の形態>第5の実施の形
態は光ファイバーアレイ44以外は第1の実施の形態と
全く同一の装置構成である。
【0043】図6は第5の実施の形態における光ファイ
バーアレイ44の出射端面を示す図である。以下、図6
を用いて第5の実施の形態における光ファイバーアレイ
44について説明する。
【0044】第5の実施の形態ではスペーサー基板44
1における表面溝RDおよび裏面溝WDならびに両押さ
え基板442,443における位置決め溝FDが、第2
の実施の形態におけるスペーサー基板412における表
面溝RDおよび裏面溝WDならびに両押さえ基板40
4,405における位置決め溝FDとそれぞれ同じ位置
(つまり、Y軸方向において、スペーサー基板の両端と
表面溝RDおよび裏面溝WDの両端との距離および押さ
え基板の両端と位置決め溝FDの両端との距離がそれぞ
れ同じ)に設けられている。したがって、スペーサー基
板441の表面溝RDおよび裏面溝WDは互いにY軸方
向に長さP/Nだけずれている。ただし、各溝の深さD
3,D4を合わせた長さが2Pよりわずかに浅く、正確
には、
【0045】
【数1】
【0046】となっており、それぞれに一つの光ファイ
バー列をほぼ収容できるものとなっている。
【0047】そして、対向する溝(すなわち、スペーサ
ー基板441の表面溝RDと押さえ基板442の位置決
め溝FDおよびスペーサー基板441の裏面溝WDと押
さえ基板443の位置決め溝FD)は長さP/2だけY
軸方向にずれており、それにより、それら、対向する溝
に収容された2つの光ファイバー列(31aと31bお
よび31cと31d)が互いにY軸方向にP/2(半ピ
ッチ)だけずれて位置しており、2つの互いに隣接する
光ファイバー列における各光ファイバー30が相互に他
方の光ファイバー列の各光ファイバー30の間に嵌入し
て互いに位置決めされている。すなわち、隣接する2つ
の光ファイバー列(31aと31bおよび31cと31
d)を俵積みすることにより位置決めしている。
【0048】以上を換言すると、第2の実施の形態の各
溝を数1の式を満たす深さに変更し、スペーサー基板4
11および413を除去しているのと同じことであり、
さらに一般化すると、表面溝RDおよび裏面溝WDのY
軸方向の位置が互いにP/2ずれたスペーサー基板は除
去し、代わりに、そのスペーサー基板の表面溝および裏
面溝で保持すべき2つの光ファイバー列を俵積みにする
ことにより位置決めを行っている。
【0049】そして、このような構成により、第1およ
び第2の実施の形態と同様に、各光ファイバー列31a
〜31dは互いにP/NだけY軸方向にずれた配列とな
っており、各光ファイバー30のZ軸方向(主走査方
向)の射影は互いに等しい間隔P/NでM・N本並んで
いる。それにより、間隔P/NでM・N本の走査を並行
して行うことができ、1列分の光ファイバー列だけを備
える画像記録装置に比べてM倍の高密度で走査すること
ができる。さらに、スペーサー基板の数を減らすことが
できるので、より製造コストを抑えることができる。
【0050】<6.第6の実施の形態>第6の実施の形
態は光ファイバーアレイ45以外は第1の実施の形態と
全く同一の装置構成である。
【0051】図7は第6の実施の形態における光ファイ
バーアレイ45の出射端面を部分的に示す図である。以
下、図7を用いて第6の実施の形態における光ファイバ
ーアレイ45について説明する。
【0052】第6の実施の形態の光ファイバーアレイ4
5は第5の実施の形態と同様に第1段と第2段の光ファ
イバー列31d,31cおよび第3段と第4段の光ファ
イバー列31b,31aを俵積みにした構成であるが、
スペーサー基板451の表面溝RDおよび裏面溝WDが
相互にY軸方向に長さP/N+P/2(ここでは長さ3
P/4)だけずれている。換言すると、第5の実施の形
態における下側の押さえ基板443の位置決め溝FDと
スペーサー基板441の裏面溝WDと(したがって、1
段目および2段目の光ファイバー列31d,31c)が
長さP/2だけY軸の負方向にずれた状態で設けられて
いる。なお、図示しないが、各光ファイバー列31a〜
31dに含まれる光ファイバー30の数およびスペーサ
ー基板451の表面溝RD列および裏面溝WD列ならび
に各押さえ基板452,453のY軸方向の幅は第5の
実施の形態と同様にそれぞれM個および幅M・Pであ
る。
【0053】これにより、第6の実施の形態でも第1〜
第5の実施の形態と同様に、各光ファイバー列31a〜
31dは互いにY軸方向に長さP/Nずつずれた並列的
な配列となっており、各光ファイバー30のZ軸方向
(主走査方向)の射影は互いに間隔P/NでM・N本並
んでいることになる。
【0054】このような構成であるので、第6の実施の
形態では第5の実施の形態と同様の効果を有する。
【0055】<7.第7の実施の形態>第7の実施の形
態は光ファイバーアレイ46以外は第1の実施の形態と
全く同一の装置構成である。
【0056】図8は第7の実施の形態における光ファイ
バーアレイ46の出射端面を示す図である。以下、図8
を用いて、第7の実施の形態における光ファイバーアレ
イ46について説明する。
【0057】第7の実施の形態の光ファイバーアレイ4
6は、光ファイバー列31a〜31dのそれぞれの相対
的位置関係が第5の実施の形態の光ファイバーアレイ4
6のそれらの相対的位置関係と同じになっているととも
に、第3および第4の実施の形態と同様に、各単位溝U
Dがそれぞれ個々の光ファイバー30に対応して等しい
ピッチP(光ファイバー30の直径)で設けられ、さら
に、それら単位溝UDの(Y−Z面での)断面がV字型
の形状となっている。
【0058】このような構成により第3の実施の形態の
効果と第5の実施の形態の効果を兼ね備えている。すな
わち、高密度で精度の高い走査が行えるとともに、製造
コストも抑えることができる。
【0059】<8.変形例>上記第1〜第7の実施の形
態において画像記録装置および光ファイバーアレイの一
例を示したが、この発明はこれに限られるものではな
い。
【0060】例えば、第1の実施の形態では各スペーサ
ー基板401〜403が互いに長さP/Nだけずれた位
置にそれぞれ表面溝RDと裏面溝WDが設けられた異な
る形状の部材であったが、第4の実施の形態と同様に、
各スペーサー基板どうし、両押さえ基板どうしをそれぞ
れ全く同一形状とし、代わりに各スペーサー基板をY軸
方向に長さP/Nずつ相対的にずらして隣接するスペー
サー基板の一方の表面溝と他方の裏面溝またはスペーサ
ー基板の表面溝または裏面溝と押さえ基板の位置決め溝
とを互いに合わせることにより、各光ファイバー列31
a〜31dを相対的に長さP/Nだけずらすものとして
もよい。なお、押さえ基板を同一形状とするためには、
各溝の深さD1およびD2をD1=D2=P/2とする
必要がある。
【0061】そして、このような構成により、第4の実
施の形態と同様に各光ファイバー列31a〜31dの配
置精度が向上し、より精密な走査が行え、さらに、各ス
ペーサー基板および両押さえ基板を異なる形状とする場
合と比べて、装置の製造コストを抑えることができると
いう効果も有する。
【0062】また、この発明において、光ファイバー列
の数Nは2以上の整数であり、スペーサ基板の数は(N
−1)となる。また、各光ファイバー列を構成する光フ
ァイバーの数Mも、2以上の整数である。なお、上記第
1,2,5,6の実施の形態では各溝のY軸方向の幅、
上記第3,4,7の実施の形態では各溝の本数をそれぞ
れ同じとするとともに、光ファイバー列31a〜31d
に含まれる光ファイバー30の数を同じ数Mとしたが、
各光ファイバー列に含まれる光ファイバーの数を異なる
ものとするとともに、それに応じて第1,2,5,6の
実施の形態の場合には各溝のY軸方向の幅を、第3,
4,7の実施の形態では各溝の本数を、互いに対応する
(合わされる)ものどうしは共通にしつつ、互いに異な
る光ファイバー列に対応するものは異なるものとしても
よい。
【0063】また、上記第1〜第7の実施の形態では、
光源20の発光素子として半導体レーザーを備えるもの
としたが、高輝度発光ダイオ一ド(LED)など、その
他の発光素子を用いてもよい。
【0064】さらに、上記第1〜第7の実施の形態で
は、ドラム上を走査する外面円筒型の画像記録装置とし
たが、平面の被走査面を有する平面型の画像記録装置と
してもよい。
【0065】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1ないし請
求項5の発明によれば、複数の光ファイバーが一次元配
列された複数の光ファイバー列と、互いに平行でかつ前
記光ファイバーの並び方向にずれて形成された表面溝と
裏面溝とを有し、前記表面溝と裏面溝とに一の光ファイ
バー列がそれぞれ嵌入されるスペーサー基板と、を備え
るので、光ファイバーアレイが高密度になる。したがっ
て、これを画像記録装置に用いて、上記並び方向と垂直
に主走査を行うことにより、像面サイズを大きくしない
で高密度な画像記録を行うことができる。
【0066】また、特に請求項2の発明によれば、Nを
2以上の整数としたとき、前記光ファイバーアレイがN
組の光ファイバー列と(N−1)個の前記スペーサー基
板とを並び方向に垂直な方向に交互に積層したものであ
って、各光ファイバー列における光ファイバーピッチを
Pと表わすとき、前記(N−1)個のスペーサ基板のそ
れぞれにおける前記表面溝と前記裏面溝との前記並び方
向のずれがP/Nの整数倍の長さであること、並び方向
に垂直な方向に主走査する際に、いずれの光ファイバー
による走査線も重複することがないので、一層、像面サ
イズを大きくしないでより高密度な画像記録を行うこと
ができる。
【0067】また、特に請求項4の発明によれば、表面
溝と裏面溝とは、光ファイバーを1本ずつ嵌入させた単
位溝の組によって構成されているため、各光ファイバー
の位置決めが正確になり、高精度な画像記録を行うこと
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態である画像記録装置の
全体装置構成図である。
【図2】第1の実施の形態における光ファイバーアレイ
の出射端面を示す図である。
【図3】第2の実施の形態における光ファイバーアレイ
の出射端面を示す図である。
【図4】第3の実施の形態における光ファイバーアレイ
の出射端面を示す図である。
【図5】第4の実施の形態における光ファイバーアレイ
の出射端面を示す図である。
【図6】第5の実施の形態における光ファイバーアレイ
の出射端面を示す図である。
【図7】第6の実施の形態における光ファイバーアレイ
の出射端面を部分的に示す図である。
【図8】第7の実施の形態における光ファイバーアレイ
の出射端面を示す図である。
【図9】従来技術における光ファイバーアレイの端面を
示す図である。
【符号の説明】
1 画像記録装置 20 光源 30 光ファイバー 31a〜31d 光ファイバー列 40〜46 光ファイバーアレイ 50 光学系 60 ドラム(被走査面) 401〜403,411〜413,421〜423,4
31a〜431c,441,451,461 スペーサ
ー基板 RD 表面溝 WD 裏面溝 UD 単位溝 N 光ファイバー列の段数 P 光ファイバーの間隔
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B41J 2/44 B41J 3/21 L 2/45 2/455 Fターム(参考) 2C162 FA04 FA18 FA48 2H045 AG09 BA22 BA33 DA02 2H046 AA03 AA42 AB00 AD10 5C051 AA02 CA07 DA04 DA06 DA09 DB25 DB30 DC02 DC04 DC07 5C072 AA03 BA16 DA07 DA21 HA02 JA02 XA04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の光ファイバーが一次元配列された
    複数の光ファイバー列と、 互いに平行でかつ前記光ファイバーの並び方向にずれて
    形成された表面溝と裏面溝とを有し、前記表面溝と裏面
    溝とに一の光ファイバー列がそれぞれ嵌入されるスペー
    サー基板と、を備えることを特徴とする光ファイバーア
    レイ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光ファイバーアレイに
    おいて、Nを2以上の整数としたとき、前記光ファイバ
    ーアレイがN組の光ファイバー列と(N−1)個の前記
    スペーサー基板とを前記並び方向に垂直な方向に交互に
    積層したものであって、各光ファイバー列における光フ
    ァイバーピッチをPと表わすとき、前記(N−1)個の
    スペーサ基板のそれぞれにおける前記表面溝と前記裏面
    溝との前記並び方向のずれがP/Nの整数倍の長さであ
    ることを特徴とする光ファイバーアレイ。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の光ファイバーアレイで
    あって、 前記光ファイバーピッチPは、光ファイバーの直径であ
    ることを特徴とする光ファイバーアレイ。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
    載の光ファイバーアレイであって、 前記表面溝と前記裏面溝とは、前記光ファイバーを1本
    ずつ嵌入させた単位溝の組によって構成されていること
    を特徴とする光ファイバーアレイ。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の光ファイバーアレイで
    あって、 前記単位溝は、その断面形状がV字型であることを特徴
    とする光ファイバーアレイ。
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