JP2002025441A - 陰極線管及びその製造方法 - Google Patents
陰極線管及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 パネルの内面に、特性及び膜質が共に良好で
かつ安定した導電反射膜と熱吸収膜を形成することがで
きる陰極線管の製造方法を提供する。 【解決手段】 蛍光膜１４が形成されたパネル１１の内
面に所定の膜を形成する陰極線管の製造方法であって、
パネル１１の内面に真空蒸着法によってアルミニウムを
付着させることにより、蛍光体膜１４上に導電反射膜１
５を形成する第１のステップと、導電反射膜１５の表面
を酸化させて酸化アルミニウムによる拡散防止膜２１を
形成する第２のステップと、パネル１１の内面に真空蒸
着法によってクロムを付着させることにより、導電反射
膜１５上に拡散防止膜２１を介して熱吸収膜１６を形成
する第３のステップとを有する。
かつ安定した導電反射膜と熱吸収膜を形成することがで
きる陰極線管の製造方法を提供する。 【解決手段】 蛍光膜１４が形成されたパネル１１の内
面に所定の膜を形成する陰極線管の製造方法であって、
パネル１１の内面に真空蒸着法によってアルミニウムを
付着させることにより、蛍光体膜１４上に導電反射膜１
５を形成する第１のステップと、導電反射膜１５の表面
を酸化させて酸化アルミニウムによる拡散防止膜２１を
形成する第２のステップと、パネル１１の内面に真空蒸
着法によってクロムを付着させることにより、導電反射
膜１５上に拡散防止膜２１を介して熱吸収膜１６を形成
する第３のステップとを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管とその製
造方法に係り、特に、蛍光体の発光輝度を向上させるた
めの導電反射膜（メタルバック膜）と色選別マスクの熱
膨張に伴う電子ビームのランディングずれを軽減するた
めの熱吸収膜とをパネルの内面に有する陰極線管に適用
して好適な技術に関する。
造方法に係り、特に、蛍光体の発光輝度を向上させるた
めの導電反射膜（メタルバック膜）と色選別マスクの熱
膨張に伴う電子ビームのランディングずれを軽減するた
めの熱吸収膜とをパネルの内面に有する陰極線管に適用
して好適な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー陰極線管の製造方法、特に、その
パネル製造においては、パネルの内面に蛍光膜を形成し
た後、アルミニウムの導電反射膜を形成することが行わ
れている。蛍光膜の形成は、パネル内面のブラックマト
リクス膜（カーボン膜）の所定位置に、赤、緑、青の各
色蛍光体を所定のパターンで形成した後、その表面を平
滑化するための中間膜（フィルミング膜）を形成するこ
とにより行われる。また、導電反射膜の形成は、上述の
ように蛍光膜が形成されたパネルの内面に、真空蒸着法
によってアルミニウムを蒸着させることにより行われ
る。これにより、図４に示すように、パネル１の内面に
蛍光膜２と導電反射膜３とが形成される。
パネル製造においては、パネルの内面に蛍光膜を形成し
た後、アルミニウムの導電反射膜を形成することが行わ
れている。蛍光膜の形成は、パネル内面のブラックマト
リクス膜（カーボン膜）の所定位置に、赤、緑、青の各
色蛍光体を所定のパターンで形成した後、その表面を平
滑化するための中間膜（フィルミング膜）を形成するこ
とにより行われる。また、導電反射膜の形成は、上述の
ように蛍光膜が形成されたパネルの内面に、真空蒸着法
によってアルミニウムを蒸着させることにより行われ
る。これにより、図４に示すように、パネル１の内面に
蛍光膜２と導電反射膜３とが形成される。
【０００３】一般に、カラー陰極線管においては、電子
銃から出射される３本の電子ビームを、それぞれ色選別
マスク（アパーチャグリル、シャドウマスク等）で色選
別して、対応する色の蛍光体に当てている。このとき、
電子ビームが色選別マスクに照射されることで色選別マ
スク自体が発熱し、さらに色選別マスクからの輻射熱が
導電反射膜で反射されることにより、色選別マスクの温
度が一層高められる。その結果、色選別マスクの熱膨張
が顕著になって電子ビームのランディング位置（蛍光体
に対する電子ビームの到達位置）にずれが生じ、色ずれ
等の不具合を招いてしまう。
銃から出射される３本の電子ビームを、それぞれ色選別
マスク（アパーチャグリル、シャドウマスク等）で色選
別して、対応する色の蛍光体に当てている。このとき、
電子ビームが色選別マスクに照射されることで色選別マ
スク自体が発熱し、さらに色選別マスクからの輻射熱が
導電反射膜で反射されることにより、色選別マスクの温
度が一層高められる。その結果、色選別マスクの熱膨張
が顕著になって電子ビームのランディング位置（蛍光体
に対する電子ビームの到達位置）にずれが生じ、色ずれ
等の不具合を招いてしまう。
【０００４】そこで、電子ビームのランディングずれを
軽減するために、パネル内面の導電反射膜上に熱吸収膜
を形成し、この熱吸収膜によって色選別マスクからの輻
射熱を吸収することにより、色選別マスクの熱膨張を抑
えることが行われている。
軽減するために、パネル内面の導電反射膜上に熱吸収膜
を形成し、この熱吸収膜によって色選別マスクからの輻
射熱を吸収することにより、色選別マスクの熱膨張を抑
えることが行われている。
【０００５】従来における熱吸収膜の形成は、パネルの
内面にアルミニウムを蒸着して導電反射膜を形成した後
に行われている。具体的には、導電反射膜が形成された
パネルの内面に対し、黒鉛を溶剤に溶かしてスプレー塗
布することにより熱吸収膜を形成する方法や、低い真空
度でアルミニウムを蒸着することにより、酸化アルミニ
ウム（アルミナ）による熱吸収膜を形成する方法、ある
いはアルミニウム以外の黒色化材料（マンガン、錫等）
を蒸着して熱吸収膜を形成する方法などが公知となって
いる。
内面にアルミニウムを蒸着して導電反射膜を形成した後
に行われている。具体的には、導電反射膜が形成された
パネルの内面に対し、黒鉛を溶剤に溶かしてスプレー塗
布することにより熱吸収膜を形成する方法や、低い真空
度でアルミニウムを蒸着することにより、酸化アルミニ
ウム（アルミナ）による熱吸収膜を形成する方法、ある
いはアルミニウム以外の黒色化材料（マンガン、錫等）
を蒸着して熱吸収膜を形成する方法などが公知となって
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の製造方法においては、パネルの内面に導電反射膜と熱
吸収膜を形成するにあたって、独立した２つの成膜工程
を必要とするため、陰極線管の製造工程（パネル製造工
程）が複雑化するという不具合があった。また、製造工
程の簡素化を図るために、同一の真空槽内で導電反射膜
と熱吸収膜とを蒸着しようとすると、熱吸収膜を構成す
る膜材料が導電反射膜の表面で拡散（金属拡散）し、こ
れによって蛍光体の発光輝度が低下する恐れがあった。
さらに、スプレー塗布や低真空度での酸化アルミニウム
による成膜手法では、製造上のばらつきが大きいうえ
に、管理が難しく、特性の安定した熱吸収膜を得ること
が困難であった。
の製造方法においては、パネルの内面に導電反射膜と熱
吸収膜を形成するにあたって、独立した２つの成膜工程
を必要とするため、陰極線管の製造工程（パネル製造工
程）が複雑化するという不具合があった。また、製造工
程の簡素化を図るために、同一の真空槽内で導電反射膜
と熱吸収膜とを蒸着しようとすると、熱吸収膜を構成す
る膜材料が導電反射膜の表面で拡散（金属拡散）し、こ
れによって蛍光体の発光輝度が低下する恐れがあった。
さらに、スプレー塗布や低真空度での酸化アルミニウム
による成膜手法では、製造上のばらつきが大きいうえ
に、管理が難しく、特性の安定した熱吸収膜を得ること
が困難であった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたもので、蛍光膜が形成されたパネ
ルの内面に所定の膜を形成する陰極線管の製造方法であ
って、パネルの内面に第１の膜材料を付着させることに
より、蛍光体膜上に導電反射膜を形成する第１のステッ
プと、導電反射膜の表面に拡散防止膜を形成する第２の
ステップと、パネルの内面に第２の膜材料を付着させる
ことにより、導電反射膜上に拡散防止膜を介して熱吸収
膜を形成する第３のステップとを有するものである。
決するためになされたもので、蛍光膜が形成されたパネ
ルの内面に所定の膜を形成する陰極線管の製造方法であ
って、パネルの内面に第１の膜材料を付着させることに
より、蛍光体膜上に導電反射膜を形成する第１のステッ
プと、導電反射膜の表面に拡散防止膜を形成する第２の
ステップと、パネルの内面に第２の膜材料を付着させる
ことにより、導電反射膜上に拡散防止膜を介して熱吸収
膜を形成する第３のステップとを有するものである。
【０００８】上記陰極線管の製造方法においては、パネ
ルの内面に第１の膜材料による導電反射膜を形成した
後、その導電反射膜上に第２の膜材料による熱吸収膜を
形成するにあたって、導電反射膜における第２の膜材料
の拡散が拡散防止膜によって防止される。これにより、
導電反射膜及び熱吸収膜の特性及び膜質が共に良好でか
つ安定したものとなる。また、このようして得られた陰
極線管、すなわちパネルの内面に導電反射膜、拡散防止
膜及び熱吸収膜からなる３層の膜を有する陰極線管にあ
っては、拡散防止膜の介在によって導電反射膜と熱吸収
膜とがいずれも十分な機能を果たすようになるため、画
像品質に優れたものとなる。
ルの内面に第１の膜材料による導電反射膜を形成した
後、その導電反射膜上に第２の膜材料による熱吸収膜を
形成するにあたって、導電反射膜における第２の膜材料
の拡散が拡散防止膜によって防止される。これにより、
導電反射膜及び熱吸収膜の特性及び膜質が共に良好でか
つ安定したものとなる。また、このようして得られた陰
極線管、すなわちパネルの内面に導電反射膜、拡散防止
膜及び熱吸収膜からなる３層の膜を有する陰極線管にあ
っては、拡散防止膜の介在によって導電反射膜と熱吸収
膜とがいずれも十分な機能を果たすようになるため、画
像品質に優れたものとなる。
【０００９】さらに、上記陰極線管の製造方法におい
て、第１、第３のステップにおける成膜手法に真空蒸着
法を用いる場合にあっては、第２のステップにおいて、
真空蒸着法に用いられる真空槽内の真空度を所定のレベ
ルに低下させ、これによって導電反射膜の表面を酸化さ
せて拡散防止膜を得ることにより、同一の真空槽内にお
いて第１の膜材料だけで導電反射膜と拡散防止膜を形成
できるうえ、拡散防止膜を簡易に形成することが可能と
なる。
て、第１、第３のステップにおける成膜手法に真空蒸着
法を用いる場合にあっては、第２のステップにおいて、
真空蒸着法に用いられる真空槽内の真空度を所定のレベ
ルに低下させ、これによって導電反射膜の表面を酸化さ
せて拡散防止膜を得ることにより、同一の真空槽内にお
いて第１の膜材料だけで導電反射膜と拡散防止膜を形成
できるうえ、拡散防止膜を簡易に形成することが可能と
なる。
【００１０】また、第１の膜材料と第２の膜材料をそれ
ぞれ別々の加熱源に供給して、第１のステップでは第１
の膜材料が供給された加熱源を作動させ、第３のステッ
プでは第２の膜材料が供給された加熱源を作動させるこ
とにより、同一の真空層内で導電反射膜と熱吸収膜を順
に形成することが可能となる。
ぞれ別々の加熱源に供給して、第１のステップでは第１
の膜材料が供給された加熱源を作動させ、第３のステッ
プでは第２の膜材料が供給された加熱源を作動させるこ
とにより、同一の真空層内で導電反射膜と熱吸収膜を順
に形成することが可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しつつ詳細に説明する。
て図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００１２】図１は本発明に係る陰極線管の側断面図で
ある。図１において、陰極線管本体１０は、ガラス製の
パネル１１とファンネル１２によって構成されている。
このパネル１１とファンネル１２は、互いの開口端面
（シールエッジ面）を突き合わせた状態でシール剤（フ
リット）により一体に接合されている。ファンネル１２
のネック部分には、電子ビームの出射源となる電子銃１
３が内装されている。一方、パネル１１の内面には、
赤、緑、青の各色蛍光体を所定のパターンで形成してな
る蛍光膜１４とともに、導電反射膜（メタルバック膜）
１５、拡散防止膜２１及び熱吸収膜１６からなる３層の
膜が形成されている。
ある。図１において、陰極線管本体１０は、ガラス製の
パネル１１とファンネル１２によって構成されている。
このパネル１１とファンネル１２は、互いの開口端面
（シールエッジ面）を突き合わせた状態でシール剤（フ
リット）により一体に接合されている。ファンネル１２
のネック部分には、電子ビームの出射源となる電子銃１
３が内装されている。一方、パネル１１の内面には、
赤、緑、青の各色蛍光体を所定のパターンで形成してな
る蛍光膜１４とともに、導電反射膜（メタルバック膜）
１５、拡散防止膜２１及び熱吸収膜１６からなる３層の
膜が形成されている。
【００１３】また、陰極線管本体１０の内部には、色選
別機構を構成する色選別マスク（アパーチャグリル、シ
ャドウマスク等）１７が組み込まれている。この色選別
マスク１７は、色選別のための多数のスリット又は小孔
を有するもので、陰極線管本体１０内ではパネル１１の
内面に近接して配置されている。電子銃１３から出射さ
れた電子ビームは図中破線で示すように色選別マスク１
７のスリット又は小孔を通してパネル１１の内面に到達
し、そこに形成されている蛍光膜１４の蛍光体を発光さ
せる。
別機構を構成する色選別マスク（アパーチャグリル、シ
ャドウマスク等）１７が組み込まれている。この色選別
マスク１７は、色選別のための多数のスリット又は小孔
を有するもので、陰極線管本体１０内ではパネル１１の
内面に近接して配置されている。電子銃１３から出射さ
れた電子ビームは図中破線で示すように色選別マスク１
７のスリット又は小孔を通してパネル１１の内面に到達
し、そこに形成されている蛍光膜１４の蛍光体を発光さ
せる。
【００１４】図２は本発明に係る陰極線管の製造方法で
使用される真空蒸着装置の概略図である。図２におい
て、真空槽（真空チャンバー）１８の上部にはパネル受
け台１９が設けられている。これに対してパネル１１
は、その内面に形成された蛍光膜１４を下向きにしてパ
ネル受け台１９に載置される構成になっている。
使用される真空蒸着装置の概略図である。図２におい
て、真空槽（真空チャンバー）１８の上部にはパネル受
け台１９が設けられている。これに対してパネル１１
は、その内面に形成された蛍光膜１４を下向きにしてパ
ネル受け台１９に載置される構成になっている。
【００１５】また、真空槽１８の内部には、加熱源とな
る２つのヒータ部２０Ａ，２０Ｂが設けられている。こ
れら２つのヒータ部２０Ａ，２０Ｂは、パネル受け台１
９にパネル１１を載せたときに、該パネル内面に形成さ
れた蛍光膜１４に対向する状態で配置されている。ちな
みに、各ヒータ部２０Ａ，２０Ｂ（加熱源）の加熱方式
としては、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導
加熱法などを採用することができる。また、加熱源（ヒ
ータ部）の配置や個数は、成膜対象物となるパネル１１
のサイズや形状等に応じて適宜設定される。
る２つのヒータ部２０Ａ，２０Ｂが設けられている。こ
れら２つのヒータ部２０Ａ，２０Ｂは、パネル受け台１
９にパネル１１を載せたときに、該パネル内面に形成さ
れた蛍光膜１４に対向する状態で配置されている。ちな
みに、各ヒータ部２０Ａ，２０Ｂ（加熱源）の加熱方式
としては、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導
加熱法などを採用することができる。また、加熱源（ヒ
ータ部）の配置や個数は、成膜対象物となるパネル１１
のサイズや形状等に応じて適宜設定される。
【００１６】次に、本発明に係る陰極線管の製造方法と
して、蛍光膜１４が形成されたパネル１１の内面に、導
電反射膜１５、拡散防止膜２１及び熱吸収膜１６からな
る３層の膜を、真空蒸着法を用いて形成する際の手順を
説明する。
して、蛍光膜１４が形成されたパネル１１の内面に、導
電反射膜１５、拡散防止膜２１及び熱吸収膜１６からな
る３層の膜を、真空蒸着法を用いて形成する際の手順を
説明する。
【００１７】先ず、パネル受け台１９にパネル１１を載
せるとともに、真空槽１８内の各ヒータ部２０Ａ，２０
Ｂに、それぞれ第１の膜材料と第２の膜材料を別々に供
給する。このとき、第１，第２の膜材料は、各ヒータ部
２０Ａ，２０Ｂに設けられたボート（るつぼ）に入れら
れる。
せるとともに、真空槽１８内の各ヒータ部２０Ａ，２０
Ｂに、それぞれ第１の膜材料と第２の膜材料を別々に供
給する。このとき、第１，第２の膜材料は、各ヒータ部
２０Ａ，２０Ｂに設けられたボート（るつぼ）に入れら
れる。
【００１８】ここで、第１の膜材料は導電反射膜１５を
構成するもので、第２の膜材料は熱吸収膜１６を構成す
るものである。第１の膜材料としては、光反射率の高い
材料が用いられ、第２の膜材料としては、第１の膜材料
よりも赤外吸収率の高い材料が用いられる。ここでは、
一例として、第１の膜材料にアルミニウム（ペレット）
を用い、第２の膜材料にクロム（粉末）を用いることと
する。
構成するもので、第２の膜材料は熱吸収膜１６を構成す
るものである。第１の膜材料としては、光反射率の高い
材料が用いられ、第２の膜材料としては、第１の膜材料
よりも赤外吸収率の高い材料が用いられる。ここでは、
一例として、第１の膜材料にアルミニウム（ペレット）
を用い、第２の膜材料にクロム（粉末）を用いることと
する。
【００１９】続いて、真空槽１８内を真空ポンプ等によ
り排気して、真空槽１８の全圧を規定の真空度（例え
ば、１０-4Ｔｏｒｒ程度）まで減圧させるとともに、ヒ
ータ部２０Ａを作動させて、そこに供給されたアルミニ
ウム（第１の膜材料）を加熱する。
り排気して、真空槽１８の全圧を規定の真空度（例え
ば、１０-4Ｔｏｒｒ程度）まで減圧させるとともに、ヒ
ータ部２０Ａを作動させて、そこに供給されたアルミニ
ウム（第１の膜材料）を加熱する。
【００２０】図３は蒸着時における加熱温度と真空度の
プロファイルを示す図である。図３から明らかなよう
に、アルミニウムの蒸着時は、先ず、所定の時間（例え
ば、２０秒間）にわたって予備加熱（予熱）を行い、そ
の後、所定の時間（例えば、４５秒間）にわたって本加
熱を行う。予備加熱時の温度は、上記規定の真空度にお
けるアルミニウムの沸点（９８０℃）よりも低い温度
（５００〜８００℃）に設定され、本加熱時の温度は、
上記アルミニウムの沸点よりも高い温度（例えば、１３
５０〜１４５０℃）に設定される。
プロファイルを示す図である。図３から明らかなよう
に、アルミニウムの蒸着時は、先ず、所定の時間（例え
ば、２０秒間）にわたって予備加熱（予熱）を行い、そ
の後、所定の時間（例えば、４５秒間）にわたって本加
熱を行う。予備加熱時の温度は、上記規定の真空度にお
けるアルミニウムの沸点（９８０℃）よりも低い温度
（５００〜８００℃）に設定され、本加熱時の温度は、
上記アルミニウムの沸点よりも高い温度（例えば、１３
５０〜１４５０℃）に設定される。
【００２１】このような温度プロファイルに従ってヒー
タ部２０Ａによりアルミニウムを加熱することにより、
真空槽１８内でアルミニウムが蒸発してパネル１１の内
面に付着（蒸着）する。これにより、パネル１１内面の
蛍光膜１４上に、アルミニウムからなる導電反射膜１５
が形成される。
タ部２０Ａによりアルミニウムを加熱することにより、
真空槽１８内でアルミニウムが蒸発してパネル１１の内
面に付着（蒸着）する。これにより、パネル１１内面の
蛍光膜１４上に、アルミニウムからなる導電反射膜１５
が形成される。
【００２２】こうして導電反射膜１５を形成したら、そ
の後、真空槽１８内の排気（真空ポンプ等）を停止し、
かつ槽内を外部とリークすることにより、真空槽１８内
の真空度を所定のレベルまで低下させる。このときの真
空度は、例えば１０-2〜５００Ｔｏｒｒに設定される。
このように真空槽１８内の真空度を低下させることによ
り、上記リーク時において真空槽１８内に空気（酸素）
が導入されるため、その状態を所定の時間（例えば、５
〜６０秒間）にわたって維持することにより、導電反射
膜１５の表面を酸化させる。これにより、導電反射膜１
５の表面に、酸化膜（酸化アルミニウムの膜）からなる
拡散防止膜２１が形成される。
の後、真空槽１８内の排気（真空ポンプ等）を停止し、
かつ槽内を外部とリークすることにより、真空槽１８内
の真空度を所定のレベルまで低下させる。このときの真
空度は、例えば１０-2〜５００Ｔｏｒｒに設定される。
このように真空槽１８内の真空度を低下させることによ
り、上記リーク時において真空槽１８内に空気（酸素）
が導入されるため、その状態を所定の時間（例えば、５
〜６０秒間）にわたって維持することにより、導電反射
膜１５の表面を酸化させる。これにより、導電反射膜１
５の表面に、酸化膜（酸化アルミニウムの膜）からなる
拡散防止膜２１が形成される。
【００２３】ちなみに、真空槽１８内の真空度を所定の
レベルまで低下させるにあたっては、その設定レベル
を、導電反射膜１５の表面に酸化膜を形成するのに必要
とされる最小限（最も高いレベル）の真空度に抑えるこ
とが望ましい。その理由は、後述する再排気の所要時間
を極力短縮するためである。
レベルまで低下させるにあたっては、その設定レベル
を、導電反射膜１５の表面に酸化膜を形成するのに必要
とされる最小限（最も高いレベル）の真空度に抑えるこ
とが望ましい。その理由は、後述する再排気の所要時間
を極力短縮するためである。
【００２４】続いて、真空槽１８内を再び排気して規定
の真空度（１０-4Ｔｏｒｒ程度）まで減圧させ、その減
圧状態（高い真空度の状態）からヒータ部２０Ｂを作動
させて、そこに供給されたクロム（第２の膜材料）を加
熱する。このときの温度プロファイルとしては、上記図
３に示すように、先ずは、所定の時間（例えば、２０秒
間）にわたって予備加熱を行い、その後、所定の時間
（例えば、４５秒間）にわたって本加熱を行う。予備加
熱時の温度は、上記規定の真空度におけるクロムの沸点
（１１７０℃）よりも低い温度（例えば、５００〜８０
０℃）に設定され、本加熱時の温度は、上記クロムの沸
点よりも高い温度（例えば、１４５０〜１６５０℃）に
設定される。
の真空度（１０-4Ｔｏｒｒ程度）まで減圧させ、その減
圧状態（高い真空度の状態）からヒータ部２０Ｂを作動
させて、そこに供給されたクロム（第２の膜材料）を加
熱する。このときの温度プロファイルとしては、上記図
３に示すように、先ずは、所定の時間（例えば、２０秒
間）にわたって予備加熱を行い、その後、所定の時間
（例えば、４５秒間）にわたって本加熱を行う。予備加
熱時の温度は、上記規定の真空度におけるクロムの沸点
（１１７０℃）よりも低い温度（例えば、５００〜８０
０℃）に設定され、本加熱時の温度は、上記クロムの沸
点よりも高い温度（例えば、１４５０〜１６５０℃）に
設定される。
【００２５】このような温度プロファイルに従ってヒー
タ部２０Ｂによりクロムを加熱することにより、真空槽
１８内でクロムが蒸着してパネル１１の内面に付着（蒸
着）する。これにより、パネル１１内面の導電反射膜１
５上に拡散防止膜２１を介して熱吸収膜１６が形成され
る。以上で、蛍光膜１４が形成されたパネル１１の内面
に、導電反射膜１５、拡散防止膜２１及び熱吸収膜１６
からなる３層の膜が形成されることになる。
タ部２０Ｂによりクロムを加熱することにより、真空槽
１８内でクロムが蒸着してパネル１１の内面に付着（蒸
着）する。これにより、パネル１１内面の導電反射膜１
５上に拡散防止膜２１を介して熱吸収膜１６が形成され
る。以上で、蛍光膜１４が形成されたパネル１１の内面
に、導電反射膜１５、拡散防止膜２１及び熱吸収膜１６
からなる３層の膜が形成されることになる。
【００２６】このように本実施形態に係る陰極線管の製
造方法においては、パネル１１の内面に導電反射膜１５
と熱吸収膜１６を形成するにあたって、導電反射膜１５
を形成した後に拡散防止膜２１を形成するようにしてい
るため、その成膜過程において導電反射膜１５と熱吸収
膜１６の間に拡散防止膜２１が介在した状態となる。そ
のため、パネル１１の内面にクロムを蒸着させたとき
に、導電反射膜１５でのクロムの拡散が拡散防止膜２１
によって防止される。これにより、導電反射膜１５の膜
質及び特性が良好なものとなるため、発光輝度の低下を
回避することができる。また、パネル１１の内面に高い
真空度のもとでクロムを蒸着させるため、熱吸収膜１６
の膜質及び特性も安定したものとなる。
造方法においては、パネル１１の内面に導電反射膜１５
と熱吸収膜１６を形成するにあたって、導電反射膜１５
を形成した後に拡散防止膜２１を形成するようにしてい
るため、その成膜過程において導電反射膜１５と熱吸収
膜１６の間に拡散防止膜２１が介在した状態となる。そ
のため、パネル１１の内面にクロムを蒸着させたとき
に、導電反射膜１５でのクロムの拡散が拡散防止膜２１
によって防止される。これにより、導電反射膜１５の膜
質及び特性が良好なものとなるため、発光輝度の低下を
回避することができる。また、パネル１１の内面に高い
真空度のもとでクロムを蒸着させるため、熱吸収膜１６
の膜質及び特性も安定したものとなる。
【００２７】その結果、成膜工程以降の製造条件（例え
ば、フリットシール炉によってパネルとファンネルを接
合するときの加熱温度条件）による膜構造の変化や、そ
れに伴う品質（例えば、発光輝度、ビームランディング
のずれによる色ずれ等）のばらつきを低減することがで
きる。
ば、フリットシール炉によってパネルとファンネルを接
合するときの加熱温度条件）による膜構造の変化や、そ
れに伴う品質（例えば、発光輝度、ビームランディング
のずれによる色ずれ等）のばらつきを低減することがで
きる。
【００２８】また、パネル１１の内面にアルミニウムを
蒸着させて導電反射膜１５を形成した後、その導電反射
膜１５の表面を酸化させて拡散防止膜２１を得るように
しているため、同一の真空槽１８内において、第１の膜
材料であるアルミニウムだけで導電反射膜１５と拡散防
止膜２１を形成できるうえ、拡散防止膜２１を簡易に形
成することができる。
蒸着させて導電反射膜１５を形成した後、その導電反射
膜１５の表面を酸化させて拡散防止膜２１を得るように
しているため、同一の真空槽１８内において、第１の膜
材料であるアルミニウムだけで導電反射膜１５と拡散防
止膜２１を形成できるうえ、拡散防止膜２１を簡易に形
成することができる。
【００２９】さらに、アルミニウムとクロムを別々のヒ
ータ部２０Ａ，１０Ｂに供給して、先ず、アルミニウム
が供給されたヒータ部２０Ａを作動させ、その後、クロ
ムが供給されたヒータ部２０Ｂを作動させるようにして
いるため、同一の真空槽１８内で導電反射膜１５と熱吸
収膜１６を順に形成することができる。また、１回（１
サイクル）の蒸着工程のなかで、導電反射膜１５、拡散
防止膜２１及び熱吸収膜１６からなる３層の膜を同一の
真空槽１８内で連続的に形成することもできる。その結
果、陰極線管の製造工程（特に、パネル製造工程）を簡
素化できるとともに、各々の成膜工程の所要時間、ひい
てはトータルの成膜所要時間を短縮することができる。
ータ部２０Ａ，１０Ｂに供給して、先ず、アルミニウム
が供給されたヒータ部２０Ａを作動させ、その後、クロ
ムが供給されたヒータ部２０Ｂを作動させるようにして
いるため、同一の真空槽１８内で導電反射膜１５と熱吸
収膜１６を順に形成することができる。また、１回（１
サイクル）の蒸着工程のなかで、導電反射膜１５、拡散
防止膜２１及び熱吸収膜１６からなる３層の膜を同一の
真空槽１８内で連続的に形成することもできる。その結
果、陰極線管の製造工程（特に、パネル製造工程）を簡
素化できるとともに、各々の成膜工程の所要時間、ひい
てはトータルの成膜所要時間を短縮することができる。
【００３０】また、上記図３において、真空槽１８内の
真空度を所定のレベル（１０-2〜５００Ｔｏｒｒ）まで
低下させた際に、その状態（図のＴ１期間内）からクロ
ムの蒸着（予備加熱）を開始することにより、導電反射
膜１５上にクロムの酸化物層を形成して当該酸化物層を
拡散防止膜２１として機能させることができる。また、
排気のための所要時間Ｔ２を削減してトータルの成膜所
要時間を一層短縮することができる。さらに、クロムの
蒸着を開始するときの開始タイミングＴ３を、真空槽１
８内が低真空度（１０-2〜５００Ｔｏｒｒ）となるＴ１
期間の初期（好ましくは真空層１８内の真空度が上記所
定のレベルに達するタイミングＴ４と同時）に設定する
ことにより、トータルの成膜所要時間をより一層短縮す
ることができる。
真空度を所定のレベル（１０-2〜５００Ｔｏｒｒ）まで
低下させた際に、その状態（図のＴ１期間内）からクロ
ムの蒸着（予備加熱）を開始することにより、導電反射
膜１５上にクロムの酸化物層を形成して当該酸化物層を
拡散防止膜２１として機能させることができる。また、
排気のための所要時間Ｔ２を削減してトータルの成膜所
要時間を一層短縮することができる。さらに、クロムの
蒸着を開始するときの開始タイミングＴ３を、真空槽１
８内が低真空度（１０-2〜５００Ｔｏｒｒ）となるＴ１
期間の初期（好ましくは真空層１８内の真空度が上記所
定のレベルに達するタイミングＴ４と同時）に設定する
ことにより、トータルの成膜所要時間をより一層短縮す
ることができる。
【００３１】なお、上記実施形態においては、第1の膜
材料にアルミニウム、第２の膜材料にクロムを用いるよ
うにしたが、本発明はこれに限らず、他の膜材料（金属
以外も含む）の組み合わせを採用することも可能であ
る。例えば、第２の膜材料として、マンガン、錫、ニッ
ケル、ホウ素等を採用することができる。
材料にアルミニウム、第２の膜材料にクロムを用いるよ
うにしたが、本発明はこれに限らず、他の膜材料（金属
以外も含む）の組み合わせを採用することも可能であ
る。例えば、第２の膜材料として、マンガン、錫、ニッ
ケル、ホウ素等を採用することができる。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る陰極線
管の製造方法によれば、パネルの内面に導電反射膜を形
成した後、その導電反射膜上に拡散防止膜を介して熱吸
収膜を形成するため、熱吸収膜を構成する第２の膜材料
が導電反射膜上で拡散することがない。これにより、パ
ネルの内面に、反射特性（ミラー効果）に優れた導電反
射膜と、熱吸収特性に優れた熱吸収膜を形成することが
できる。
管の製造方法によれば、パネルの内面に導電反射膜を形
成した後、その導電反射膜上に拡散防止膜を介して熱吸
収膜を形成するため、熱吸収膜を構成する第２の膜材料
が導電反射膜上で拡散することがない。これにより、パ
ネルの内面に、反射特性（ミラー効果）に優れた導電反
射膜と、熱吸収特性に優れた熱吸収膜を形成することが
できる。
【００３３】また、このようにして得られた陰極線管、
すなわちパネルの内面に、導電反射膜、拡散防止膜及び
熱吸収膜からなる３層の膜を有する陰極線管にあって
は、導電反射膜と熱吸収膜の膜質向上及び特性の安定化
等により、蛍光体の発光輝度を向上させることができる
とともに、色選別マスクの熱膨張を抑えて電子ビームの
ランディングずれを軽減することができる。その結果、
画像品質に優れた陰極線管を提供することが可能とな
る。
すなわちパネルの内面に、導電反射膜、拡散防止膜及び
熱吸収膜からなる３層の膜を有する陰極線管にあって
は、導電反射膜と熱吸収膜の膜質向上及び特性の安定化
等により、蛍光体の発光輝度を向上させることができる
とともに、色選別マスクの熱膨張を抑えて電子ビームの
ランディングずれを軽減することができる。その結果、
画像品質に優れた陰極線管を提供することが可能とな
る。
【００３４】さらに、本発明に係る陰極線管の製造方法
によれば、同一の真空槽内における真空度の切り替えに
より、第１の膜材料だけで導電反射膜と拡散防止膜を形
成することができるとともに、拡散防止膜の形成を簡易
に行うことができる。また、第１の膜材料と第２の膜材
料をそれぞれ別々の加熱源に供給して、それらの加熱源
を個別に作動させることにより、同一の真空槽内で導電
反射膜と熱吸収膜を順に形成することができる。さら
に、１回（１サイクル）の蒸着工程のなかで、導電反射
膜、拡散防止膜及び熱吸収膜からなる３層の膜を同一の
真空槽内で連続的に形成することもできる。これによ
り、陰極線管の製造工程（特に、パネル製造工程）を簡
素化できるとともに、トータルの成膜所要時間を短縮で
きるため、陰極線管のコスト低減を図ることができる。
によれば、同一の真空槽内における真空度の切り替えに
より、第１の膜材料だけで導電反射膜と拡散防止膜を形
成することができるとともに、拡散防止膜の形成を簡易
に行うことができる。また、第１の膜材料と第２の膜材
料をそれぞれ別々の加熱源に供給して、それらの加熱源
を個別に作動させることにより、同一の真空槽内で導電
反射膜と熱吸収膜を順に形成することができる。さら
に、１回（１サイクル）の蒸着工程のなかで、導電反射
膜、拡散防止膜及び熱吸収膜からなる３層の膜を同一の
真空槽内で連続的に形成することもできる。これによ
り、陰極線管の製造工程（特に、パネル製造工程）を簡
素化できるとともに、トータルの成膜所要時間を短縮で
きるため、陰極線管のコスト低減を図ることができる。
【図１】本発明の方法で製造される陰極線管の側断面図
である。
である。
【図２】本発明の方法を実施する際に使用される真空蒸
着装置の概略図である。
着装置の概略図である。
【図３】実施形態における蒸着時の加熱温度と真空度の
プロファイルを示す図である。
プロファイルを示す図である。
【図４】従来におけるパネルの断面図である。
１０…陰極線管本体、１１…パネル、１４…蛍光膜、１
５…導電反射膜、１６…熱吸収膜、１８…真空槽、１９
…パネル受け台、２０Ａ，２０Ｂ…ヒータ部（加熱
源）、２１…拡散防止膜
５…導電反射膜、１６…熱吸収膜、１８…真空槽、１９
…パネル受け台、２０Ａ，２０Ｂ…ヒータ部（加熱
源）、２１…拡散防止膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡邊 哲朗 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 4K029 AA27 BA03 BA07 BA44 BB02 BC03 BC07 BC10 BD00 BD09 CA01 EA03 GA01 5C028 CC04 CC05 CC06 5C036 BB05 BB08
Claims (9)
- 【請求項１】 蛍光膜が形成されたパネルの内面に所定
の膜を形成する陰極線管の製造方法であって、 前記パネルの内面に第１の膜材料を付着させることによ
り、前記蛍光体膜上に導電反射膜を形成する第１のステ
ップと、 前記導電反射膜の表面に拡散防止膜を形成する第２のス
テップと、 前記パネルの内面に第２の膜材料を付着させることによ
り、前記導電反射膜上に前記拡散防止膜を介して熱吸収
膜を形成する第３のステップとを有することを特徴とす
る陰極線管の製造方法。 - 【請求項２】 前記第１，第３のステップにおける成膜
手法に真空蒸着法を用いることを特徴とする請求項１記
載の陰極線管の製造方法。 - 【請求項３】 前記第２のステップにおいて、真空蒸着
法に用いられる真空槽内の真空度を所定のレベルまで低
下させることにより、前記導電反射膜の表面を酸化させ
て前記拡散防止膜を得ることを特徴とする請求項２記載
の陰極線管の製造方法。 - 【請求項４】 真空蒸着法に用いられる真空槽内に複数
の加熱源を設けるとともに、前記第１の膜材料と前記第
２の膜材料とをそれぞれ別々の加熱源に供給し、前記第
１のステップでは前記第１の膜材料が供給された加熱源
を作動させ、前記第３のステップでは前記第２の膜材料
が供給された加熱源を作動させることを特徴とする請求
項２記載の陰極線管の製造方法。 - 【請求項５】 前記第２のステップにおいて、前記真空
槽内の真空度を所定のレベルまで低下させ、その状態か
ら前記第２の膜材料の蒸着を開始することを特徴とする
請求項３記載の陰極線管の製造方法。 - 【請求項６】 前記第２のステップにおいて、真空蒸着
法に用いられる真空槽内の真空度を所定のレベルまで低
下させることにより、前記導電反射膜の表面を酸化させ
て前記拡散防止膜を得ることを特徴とする請求項４記載
の陰極線管の製造方法。 - 【請求項７】 前記第２のステップにおいて、前記真空
槽内の真空度を所定のレベルまで低下させ、その状態か
ら前記第２の膜材料の蒸着を開始することを特徴とする
請求項６記載の陰極線管の製造方法。 - 【請求項８】 蛍光膜が形成されたパネルの内面に、導
電反射膜、拡散防止膜及び熱吸収膜からなる３層の膜を
有することを特徴とする陰極線管。 - 【請求項９】 前記拡散防止膜は、前記導電反射膜の表
面に形成された酸化膜からなることを特徴とする請求項
８記載の陰極線管。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP2000203920A JP4164992B2 (ja) | 2000-07-05 | 2000-07-05 | 陰極線管及びその製造方法 |
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| KR1020010039555A KR100842336B1 (ko) | 2000-07-05 | 2001-07-03 | 음극 선관 및 그 제조 방법 |
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| EP01305779A EP1170771B1 (en) | 2000-07-05 | 2001-07-04 | Method of manufacturing a cathode ray tube |
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|---|---|---|---|
| JP2000203920A JP4164992B2 (ja) | 2000-07-05 | 2000-07-05 | 陰極線管及びその製造方法 |
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|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009513372A (ja) * | 2005-10-28 | 2009-04-02 | アイディーシー、エルエルシー | Ｍｅｍｓデバイスのための拡散バリア層 |
| WO2015050011A1 (ja) * | 2013-10-03 | 2015-04-09 | 尾池工業株式会社 | 装飾用蒸着フィルムおよびその製造方法 |
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| CA2437888A1 (en) * | 2001-02-12 | 2002-08-22 | Matrics, Inc. | Radio frequency identification architecture |
| US7373026B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-13 | Idc, Llc | MEMS device fabricated on a pre-patterned substrate |
| US7733552B2 (en) | 2007-03-21 | 2010-06-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc | MEMS cavity-coating layers and methods |
| US7719752B2 (en) | 2007-05-11 | 2010-05-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same |
| WO2010126591A1 (en) * | 2009-04-29 | 2010-11-04 | Gobi Ramakrishnan Padmanabhan | Configurations and methods to manufacture solar cell device with larger capture cross section and higher optical utilization efficiency |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3692576A (en) * | 1969-01-12 | 1972-09-19 | Victor Company Of Japan | Electron scattering prevention film and method of manufacturing the same |
| US3703401A (en) * | 1970-12-28 | 1972-11-21 | Rca Corp | Method for preparing the viewing-screen structure of a cathode-ray tube |
| JPS5385153A (en) * | 1977-01-06 | 1978-07-27 | Mitsubishi Electric Corp | Forming method for light reflective metallic film and heat absorbent material film on face panel inside and its unit |
| JPS5566829A (en) * | 1978-11-15 | 1980-05-20 | Hitachi Ltd | Formation method of optical diffuse reflection material layer |
| JPS61118928A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-06 | Mitsubishi Electric Corp | 熱吸収性物質薄膜の製造方法 |
| JPS61135021A (ja) | 1984-12-05 | 1986-06-23 | Toshiba Corp | フエ−スパネルの製造方法 |
| JPH1196908A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-04-09 | Sony Corp | カラー陰極線管の製造方法 |
| JP2000082416A (ja) * | 1998-09-04 | 2000-03-21 | Canon Inc | 蛍光面及びその形成法 |
| CN1288579A (zh) | 1998-11-13 | 2001-03-21 | 索尼公司 | 彩色阴极射线管及其制造方法 |
| JP5852824B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2016-02-03 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材 |
-
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- 2000-07-05 JP JP2000203920A patent/JP4164992B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 2001-07-02 TW TW090116084A patent/TW523782B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-07-03 US US09/897,471 patent/US6713121B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-07-03 KR KR1020010039555A patent/KR100842336B1/ko not_active IP Right Cessation
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