JP2002022725A - フッ素含有化合物ガスの検出方法 - Google Patents
フッ素含有化合物ガスの検出方法Info
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Abstract
ッ素含有化合物ガスを微量含むガスを、表面にアルカリ
金属フッ化物を添着したSi,B,W,Mo,V,また
はGeの少なくとも1種以上と100〜1000℃の範
囲で接触反応させ、生成したガスを検出、または該ガス
と水を反応させ、生成したガスを検出する。
Description
化合物ガスを高精度に検出することを目的とするフッ素
含有化合物ガスの検出方法に関するものである。
ロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン、パーフル
オロコンパウンズ等のフッ素含有化合物ガスの検出方法
として、本発明者らは、当該ガスを加熱した固体金属と
接触反応させ検知しやすいガスに変換し、当該ガスを検
出することを特徴とするフッ素含有化合物ガスの検出方
法を提案した(特願2000−008107号)。これ
らの固体金属は、反応性がよい、安価である、反
応生成物が常温で十分な蒸気圧を有しそのため後段の検
出器に容易に導くことができる、等の特長があり、フッ
素含有化合物ガスの検出を可能ならしめるものである。
うな結合解離エネルギーの高いフッ素含有化合物ガスに
おいては、必要な反応速度を得ようとすれば反応温度を
高くしなければならず余分の熱エネルギーを要し、反応
器に要求される材質も高級品質なものになるという問題
があった。
もので、微量のフッ素含有化合物ガスを高精度に検出す
ることを目的とする。
題について検討を重ねた結果、当該フッ素含有化合物ガ
スとSi,B,W,Mo,V,またはGeとの反応にお
いて、反応温度を下げても必要な反応速度が得られる方
法として、当該Si,B,W,Mo,V,またはGe表
面にアルカリ金属フッ化物を添着することが有効である
ことを見いだして本発明に至った。
の検出方法として、フッ素含有化合物ガスを微量含むガ
スと、表面にアルカリ金属フッ化物を添着したSi,
B,W,Mo,V,またはGeの少なくとも1種以上と
を100〜1000℃の範囲で接触反応させ、生成した
ガスを検出、または該ガスと水を反応させ生成したガス
を検出することを特徴とするフッ素含有化合物ガスの検
出方法を提供するものである。
F8ガスを用い、固体金属としてSiを用いた場合、
(1)式に示したようにSiF4が生成する。ただし、
反応温度は、600〜900℃程度必要である。 C5F8 + 2Si → 2SiF4 + 5C ・・・(1)
F,LiF等は、フッ化物ガスとの反応により種々な酸
性フッ化物を作る。例えば、NaFとSiF4を接触さ
せた場合、300±50℃で(2)式のような吸着反応
を起こす。 2NaF+SiF4 → Na2SiF6 ・・・(2)
は、温度条件によっては分解が起こる。例えば、(2)
式の反応によって得られた酸性フッ化物は、600℃以
上において(3)式で示す分解反応が起こり、SiF4
が生成される。 Na2SiF6 → 2NaF+SiF4 ・・・(3)
と当該固体金属反応において、微量の生成ガスを高精度
に測定するため、アルカリ金属フッ化物による被測定ガ
スである生成ガスの濃縮を試みた。すなわち、(1)式
の反応により生成したSiF 4ガスを(2)式で示す反
応により酸性フッ化物ガスとして濃縮する。その際、
(4)式で示すような生成反応と吸着反応を同時に進行
させる。具体的には、アルカリ金属フッ化物をSi表面
に添着し、これらを加熱し当該フッ素含有化合物ガスと
接触させる。 2Si+C5F8+4NaF → 2Na2SiF6+5C ・・・(4)
した結果、アルカリ金属フッ化物がない場合に比べ、3
00℃程度低い温度で有効な被測定ガス(SiF4)が
吸着反応を伴わずに生成されることを見いだした。
た反応のメカニズムの詳細は、定かではないが、温度条
件によってはアルカリ金属フッ化物は、(5)式に示す
ように吸着反応を起こさずに、触媒として作用している
と考えられる。 2Si+C5F8+4NaF → 2SiF4+5C+4NaF ・・・(5)
が生成するが、SiF4ガスは大気中に含まれる水分と
反応し、(6)式で示したようにHFを生成する(一般
に使用される大気には、水分を少なからず含有している
ためである)。 2SiF4+4H2O → 2HF+ H2SiF6+Si(OH)2 ・・・(6)
ガス検知器で検出する。また、大気中に水分を含まない
場合は、検知剤に予め水分を含有させたり、検知剤や検
知器の前にて水分と接触させる方法を採れば、上記反応
が起こり検出可能である。
含有化合物とは、クロロフルオロカーボン、パーフルオ
ロカーボン、ハイドロフロロカーボン、ハイドロクロロ
フルオロカーボン、パーフルオロコンパウンズ等であ
り、特に、C5F8,C4F8,C 4F6,C2F6,C3F8,
CH2F2,CHF3,CCl3F,CCl2F2,CClF
3,CCl4,CHClF2,CH3Cl,CH3Br,C
HCl3,CBr2F2,CBrF3,CH2Br2,CH2
BrCl,CBr3F,CHBr2F,CHBrF2,C
BrClF2,C2H3Cl,C2BrF5,C2ClF5,
C2Cl2F4,C2Cl3F3,C2BrF4,C2Br
2F4,C2H2Br2F4,C2Br2ClF3,NF3であ
る。
ある、HF,HCl,Cl2,HBr,SiF4,SiC
l4,BF3,BCl3,WF6,MoF6,VF5,GeF
4等のガスに変換するために、フッ素含有化合物ガス
と、表面にアルカリ金属フッ化物を添着したSi,B,
W,Mo,V,またはGeの1種以上とを100〜10
00℃の範囲で接触反応させるものである。
eを用い、アルカリ金属フッ化物には、NaF,KF,
LiFを用いる。これらを用いることにより、上述の検
知しやすいガスに変換できる。加熱温度は、100〜1
000℃の範囲が好ましい。100℃未満だと反応が進
まず正確に検知できず、1000℃を超えると固体金属
が、軟化、もしくは溶融するためガスとの接触が充分で
なく好ましくない。
i,B,W,Mo,V,Geとの反応において、反応温
度および生成ガス量は、当該Si,B,W,Mo,V,
Geに添着しているアルカリ金属フッ化物の量に左右さ
れるので、以下に示す最適添着量の範囲内に調整すべき
である。即ち、当該Si,B,W,Mo,V,Ge表面
に添着すべきアルカリ金属フッ化物の量は、重量割合で
少なくとも1ppmであり、これ以下では充分な効果が
期待できない。一方、本質的にはアルカリ金属フッ化物
量の上限は無いとも言えるが、重量割合で50000p
pmを越えるとアルカリ金属フッ化物が当該Si,B,
W,Mo,V,Ge表面を覆うようになり、当該フッ素
含有化合物ガスとの接触が妨げられ処理効果が低下す
る。当該フッ素含有化合物ガスと当該Si,B,W,M
o,V,Geとの反応において、反応速度が最大となる
アルカリ金属フッ化物の添着量は、重量割合で200〜
20000ppmであり、むやみに多く添着してもそれ
に見合う効果は期待できない。重量比で表したアルカリ
金属フッ化物の添着量は、当該フッ素含有化合物ガスと
反応して当該Si,B,W,Mo,V,Geが消費され
てくるに従って(アルカリ金属フッ化物は消費されな
い)その値が次第に大きくなるが、ここで言うアルカリ
金属フッ化物の添着量とは初期状態についてのものであ
ることは言うまでもない。
アルカリ金属フッ化物を添着せしめるには、一般に知ら
れている各種の方法が適用可能である。例えば、(a)
真空蒸着法により当該Si,B,W,Mo,V,Ge表
面に成膜する方法、(b)両者を混合し窒素等の不活性
雰囲気中で高温雰囲気で当該Si,B,W,Mo,V,
Ge表面に融解させ付着させる方法、(c)溶媒中にア
ルカリ金属フッ化物を溶解させ、該Si,B,W,M
o,V,Geと混合させた後、溶媒を蒸発除去させ該S
i,B,W,Mo,V,Ge表面に析出させる方法、等
があるがいずれの方法でも効果がある。
の内部空間を有効に利用すべきという観点から主剤であ
る当該Si,B,W,Mo,V,Geの表面に必要十分
なだけのアルカリ金属フッ化物を添着せしめる方法を望
ましいものとするが、当該Si,B,W,Mo,V,G
eとアルカリ金属フッ化物を単に同時に反応器に充填す
るという方法においてもそれらの接触部に活性な触媒領
域を形成するので有効であることには変わりはない。
明する。
物ガスを検出確認するための工程の概略図を示す。検出
対象となる大気中に微量のフッ素含有化合物ガスを含ん
だサンプルガス1をアルカリ金属フッ化物を添着した固
体金属充填筒2に毎分500cm3程度導入し、固体金
属と接触させる。充填筒は、加熱ヒータ3により加熱
し、充填筒2の内部の固体金属を加熱する。充填筒2の
出口には、ガス検知剤充填筒4があり、ここに出口ガス
を導入し反応生成したガス成分を、検知剤の変色により
確認する。ガス検知剤には、一例としてシリカゲルを担
体としてベンゼンアゾジフェニルアミンやo−トリジン
溶液をコーティングしたものを使用した。充填筒2の出
口からのガス成分は、もう一方に分岐した電気分解を使
用したガス検知器5やテープ式のガス検知器6に導入さ
れる。
かる実施例に限定されるものではない。
い、固体金属には、Siを用いた。アルカリ金属フッ化
物には、NaFを用い、該Siに重量割合で1000p
pmになるように添着させた。次に、これらを充填筒に
充填し、400℃に加熱した。固体金属との反応で生成
したガスの成分によりガス検知剤(シリカゲルを担体と
してベンゼンアゾジフェニルアミンをコーティングした
もの。以下、表1及び表2ではaと示す)の変色があり
検出が確認された(表1中に○で示した)。またガス検
知器(電気分解を使用したガス検知器を以下表1中で
c、テープ式のガス検知器を以下表1中でdと示す。)
においても同様に電流出力が得られ、検出が確認された
(表1中に○で示した)。これらは、(6)式のような
反応で生成したHF成分が検出された。これらHFは、
フーリエ変換式赤外線吸光分析法やガスクロマトグラフ
法により確認された。
=10ppmを含む大気を用い、固体金属には、Siを
用いた。アルカリ金属フッ化物には、NaFを用い、該
Siに重量割合で200ppmおよび20000ppm
になるように添着させた。これらを充填筒に充填し、そ
れぞれ450℃および350℃に加熱した。固体金属と
の反応で生成したガスの成分によりガス検知剤aの変色
があり検出が確認された(表1中に○で示した)。また
ガス検知器においても同様に電流出力が得られ、検出が
確認された(表1中に○で示した)。これらの条件及び
結果を表1に示した。
=10ppmを含む大気を用い、固体金属には、Siを
用いた。アルカリ金属フッ化物には、KFおよびLiF
を用い、該Siに重量割合で1000ppmになるよう
にそれぞれ添着させた。これらを充填筒に充填し、40
0℃に加熱した。固体金属との反応で生成したガスの成
分によりガス検知剤aの変色があり検出が確認された
(表1中に○で示した)。またガス検知器においても同
様に電流出力が得られ、検出が確認された(表1中に○
で示した)。これらの条件及び結果を表1に示した。
=10ppmを含む大気を用い、固体金属には、B,
W,Mo,V,Geを用いた。アルカリ金属フッ化物に
は、NaFを用い、各種固体金属に重量割合で1000
ppmになるように添着させた。これらを充填筒に充填
し、400℃に加熱した。固体金属との反応で生成した
ガスの成分によりガス検知剤aの変色があり検出が確認
された(表1中に○で示した)。またガス検知器におい
ても同様に電流出力が得られ、検出が確認された(表1
中に○で示した)。これらの条件及び結果を表1に示し
た。
い、固体金属には、Siを用いた。アルカリ金属フッ化
物には、NaFを用い、該Siに重量割合で1000p
pmになるように添着させた。これらを充填筒に充填
し、500℃に加熱した。固体金属との反応で生成した
ガスの成分によりガス検知剤aの変色があり検出が確認
された(表2中に○で示した)。またガス検知器におい
ても同様に電流出力が得られ、検出が確認された(表2
中に○で示した)。
アルカリ金属フッ化物には、NaFを用い、該Siに重
量割合で1000ppmになるように添着させた。検出
対象ガスを種々代えて、表2に示した加熱条件で実施し
た。固体金属との反応で生成したガスの成分によりガス
検知剤aの変色があり検出が確認された(表2中に○で
示した)。またガス検知器においても同様に電流出力が
得られ、検出が確認された(表2中に○で示した)。な
お、一部ガス検知剤(シリカゲルを担体としてO−トリ
ジン溶液をコーティングしたもの。以下、表2ではbと
示す)を変更したものを使用した。これらの条件及び結
果を表2に示した。
ればフッ素含有化合物ガスの検出方法において、フッ素
含有化合物ガスを微量含むガスを表面にアルカリ金属フ
ッ化物を添着した固体金属と加熱状態下で接触反応さ
せ、生成したガスを検出することにより、微量のフッ素
含有化合物ガスを検出することができる。
の概略図である。
筒 3・・・充填筒加熱ヒータ 4・・・ガス検知剤 5・・・電気分解を使用したガス検知器 6・・・テープ式のガス検知器
Claims (2)
- 【請求項1】 フッ素含有化合物ガスの検出方法とし
て、フッ素含有化合物ガスを微量含むガスと、表面にア
ルカリ金属フッ化物を添着したSi,B,W,Mo,
V,またはGeの少なくとも1種以上とを100〜10
00℃の範囲で接触反応させ、生成したガスを検出する
ことを特徴とするフッ素含有化合物ガスの検出方法。 - 【請求項2】 フッ素含有化合物ガスの検出方法とし
て、フッ素含有化合物ガスを微量含むガスと、表面にア
ルカリ金属フッ化物を添着したSi,B,W,Mo,
V,またはGeの少なくとも1種以上とを100〜10
00℃の範囲で接触反応させ、生成したガスと水を反応
させ生成したガスを検出することを特徴とするフッ素含
有化合物ガスの検出方法。
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JP2000209708A JP3640601B2 (ja) | 2000-07-11 | 2000-07-11 | フッ素含有化合物ガスの検出方法 |
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101103871B1 (ko) | 2004-03-23 | 2012-01-12 | 르네사스 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체장치 및 그 제조방법 |
CN103130827A (zh) * | 2013-03-19 | 2013-06-05 | 武汉大学 | 一种检测氟离子的化合物及其制备方法和应用 |
WO2017082431A1 (ja) * | 2015-11-13 | 2017-05-18 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
JP2017096946A (ja) * | 2015-11-13 | 2017-06-01 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
JP2018028537A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-22 | セントラル硝子株式会社 | フッ素含有化合物ガスの検知剤の製造方法及びこの検知剤を用いた検出方法 |
JP2018048888A (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | セントラル硝子株式会社 | フッ素含有化合物ガスの検出方法 |
JP2018080949A (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-24 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
US10928339B2 (en) | 2015-11-13 | 2021-02-23 | New Cosmos Electric Co., Ltd. | Catalytic-conversion-type sensor |
JP2021076610A (ja) * | 2021-01-13 | 2021-05-20 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
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2000
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101103871B1 (ko) | 2004-03-23 | 2012-01-12 | 르네사스 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체장치 및 그 제조방법 |
CN103130827A (zh) * | 2013-03-19 | 2013-06-05 | 武汉大学 | 一种检测氟离子的化合物及其制备方法和应用 |
WO2017082431A1 (ja) * | 2015-11-13 | 2017-05-18 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
JP2017096946A (ja) * | 2015-11-13 | 2017-06-01 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
CN108351323A (zh) * | 2015-11-13 | 2018-07-31 | 新宇宙电机株式会社 | 催化转化式传感器 |
US10928339B2 (en) | 2015-11-13 | 2021-02-23 | New Cosmos Electric Co., Ltd. | Catalytic-conversion-type sensor |
JP2018028537A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-22 | セントラル硝子株式会社 | フッ素含有化合物ガスの検知剤の製造方法及びこの検知剤を用いた検出方法 |
JP2018048888A (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | セントラル硝子株式会社 | フッ素含有化合物ガスの検出方法 |
JP2018080949A (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-24 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
JP2021076610A (ja) * | 2021-01-13 | 2021-05-20 | 新コスモス電機株式会社 | 触媒転化式センサ |
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