JP2002014294A - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

光走査装置および画像形成装置

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JP2002014294A
JP2002014294A JP2000198292A JP2000198292A JP2002014294A JP 2002014294 A JP2002014294 A JP 2002014294A JP 2000198292 A JP2000198292 A JP 2000198292A JP 2000198292 A JP2000198292 A JP 2000198292A JP 2002014294 A JP2002014294 A JP 2002014294A
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JP
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light
scanning device
optical scanning
light source
optical
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Application number
JP2000198292A
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English (en)
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Masanori Yoshikawa
正紀 吉川
Akinobu Okuda
晃庸 奥田
Tomonobu Yoshikawa
智延 吉川
Daizaburo Matsuki
大三郎 松木
Yoshiharu Yamamoto
義春 山本
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成でクロストークを抑制する。 【解決手段】 光走査装置を、分離手段と走査面との間
で一部の光路中に、強度を減衰する減衰手段を配置する
とともに、分離手段に入射する各光源からの光束の強度
は、上記割合に応じて異ならせるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームプリ
ンタ、レーザファクシミリやデジタル複写機などに用い
られる光走査装置およびそれを用いた画像形成装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、レーザビームプリンタなどに用い
られている光走査装置は、プリンタの高速化、カラー化
に伴って、より高速化、高精度化が求められている。こ
れらの要望に対し、例えば特開平9−113829で
は、ダイクロイックミラーの波長選択特性を用いたマル
チビーム走査光学装置が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記で
提案された光走査装置は、クロストークを抑制するため
に分離手段で分離された一方の波長の光路中にダイクロ
イックミラー等の波長選択特性を持った光学フィルタを
設けているが、このような光学フィルタは価格が高く、
光走査装置のコストアップを招くという問題点を有して
いた。
【0004】本発明は上記問題点に鑑み、簡単な構成で
クロストークを抑制し、安価で高精度の光走査装置お呼
びが像形成装置を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明の光走査装置は、複数の光源と、光源から
発せられた光束を走査する光偏向器と、光偏向器によっ
て走査された光束を走査面上に結像する走査光学系と、
走査光学系と走査面との間に配置され各光源からの光束
ごとに分離する分離手段とを有し、分離手段によって分
離される各光源からの光束が、他の光源からの光束に混
在する割合が各光源で異なる光走査装置であって、分離
手段と走査面との間で一部の光路中に、強度を減衰する
減衰手段を配置するとともに、分離手段に入射する各光
源からの光束の強度は、上記割合に応じて異なるという
構成を備えたものである。
【0006】また本発明の光走査装置は、複数の光源か
ら発せられた光束を合成する合成手段を有する構成を備
えたものである。
【0007】また本発明の光走査装置は、分離手段によ
って分離される各光源からの光束が、他の光源からの光
束に混在する割合が小さいほど分離手段に入射する光束
の強度が大きいという構成を備えたものである。
【0008】また本発明の光走査装置は、n個の光源、
n−1個の分離手段を有する光走査装置であって、n−
1個の減衰手段を有する構成を備えたものである。
【0009】また本発明の光走査装置は、分離手段が透
過、反射で光束を分離するものであり、減衰手段が各分
離手段で反射された後、次の分離手段あるいは走査面に
至る前の光束中に配置する構成を備えたものである。
【0010】また本発明の光走査装置は、減衰手段が各
分離手段で透過される光束に生じる走査線湾曲と同等の
走査線湾曲を発生させる構成を備えたものである。
【0011】また本発明の光走査装置は、分離手段に入
射する各光源からの光束の強度は、その分離手段で反射
される光束を発する光源からの光束の強度が、透過する
光束を発する光源からの光束の強度より大きい構成を備
えたものである。
【0012】また本発明の光走査装置は、2つの光源
A、Bと、光源Aからの光束を主に透過し光源Bからの
光束を主に反射する分離手段とを有する光走査装置であ
って、光源Aからの光束の分離手段による透過率、反射
率をそれぞれTa、Ra、光源Bからの光束の分離手段
による透過率、反射率をTb、Rbとし、反射光束中に
配置される減衰手段の光源A、Bからの光束に対する透
過率をKa、Kb、走査面上でのクロストークの許容値
をPとし、各走査面上における各光源からの光束の強度
較差を比で表したときの許容値をQ、分離手段に入射す
る光源A、Bからの光束の強度をそれぞれIa、Ibと
した場合に、下記条件式(数3)を満足する構成を備え
たものである。
【0013】
【数3】
【0014】なお、上記「クロストーク」は、透過側で
は光源Bからの光束がどれだけ混在しているか、反射側
では光源Aからの光束がどれだけ混在しているか、を示
すものである。
【0015】また本発明の光走査装置は、2つの光源
A、Bと、光源Aからの光束を主に透過し光源Bからの
光束を主に反射する分離手段とを有する光走査装置であ
って、光源Aからの光束の分離手段による透過率、反射
率をそれぞれTa、Ra、光源Bからの光束の分離手段
による透過率、反射率をTb、Rbとし、反射光束中に
配置される減衰手段の光源A、Bからの光束に対する透
過率をKa、Kb、透過側での走査面上でのクロストー
クの許容値をPa、反射側での走査面上でのクロストー
クの許容値をPbとし、分離手段に入射する光源A、B
からの光束の強度をそれぞれIa、Ibとした場合に、
下記条件式(数4)を満足する構成を備えたものであ
る。
【0016】
【数4】
【0017】なお、上記「透過過側での走査面上でのク
ロストーク」は、光源Aからの光束に光源Bからの光束
がどれだけ混在しているか、を示すものである。
【0018】また、上記「反射側での走査面上でのクロ
ストーク」は、光源Bからの光束に光源Aからの光束が
どれだけ混在しているか、を示すものである。
【0019】また本発明の光走査装置は、2つの光源と
1つの分離手段と走査光学系から構成される走査ユニッ
トが1つの光偏向器を挟むように対向して、2組配置さ
れる構成を備えたものである。
【0020】また本発明の光走査装置は、複数の光源が
少なくとも2つの異なる波長帯域の光束を発する光源か
らなるという構成を備えたものである。
【0021】また本発明の光走査装置は、分離手段がダ
イクロイックミラーであるという構成を備えたものであ
る。
【0022】また本発明の光走査装置は、分離手段が偏
光ビームスプリッタであるという構成を備えたものであ
る。
【0023】また本発明の光走査装置は、減衰手段が所
望の透過率を有するNDフィルターであるという構成を
備えたものである。
【0024】また本発明の光走査装置は、減衰手段が所
望の反射率を有する金属反射面であるという構成を備え
たものである。
【0025】また本発明の光走査装置は、減衰手段が所
望の透過率あるいは反射率を有する金属蒸着面であると
いう構成を備えたものである。
【0026】また本発明の光走査装置は、減衰手段が所
望の透過率あるいは反射率を有する誘電体蒸着面である
という構成を備えたものである。
【0027】また本発明の光走査装置は、減衰手段が所
望の透過率を有する光吸収材料であるという構成を備え
たものである。
【0028】また本発明の画像形成装置は、複数の色に
対応した複数の感光体および現像器と、複数の感光体に
対応して複数の光源からの光束をそれぞれ走査する光走
査装置とを有する画像形成装置であって、光走査装置
が、上記の光走査装置であるという構成を備えたもので
ある。
【0029】また本発明の画像形成装置は、1つの感光
体上に複数の光源からの光束を走査する光走査装置を有
する画像形成装置であって、光走査装置が、上記の光走
査装置であるという構成を備えたものである。
【0030】
【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下本発明の一
実施例の光走査装置について、図面を参照しながら説明
する。
【0031】図1は本発明の実施例における光走査装置
の概略ブロック図である。図1において、1、2は光源
A、Bとしての半導体レーザであり、それぞれ780n
mの光束L1と655nmの光束L2を発生する。3、
4は軸対称レンズ、5、6は副走査方向にのみ屈折力を
持つシリンドリカルレンズである。7は合成手段である
ダイクロイックミラー、8は光偏向器であるポリゴンミ
ラーである。9は走査光学系を構成するfθレンズ、1
0は分離手段であるダイクロイックミラーである。ここ
で、ダイクロイックミラー7は光束L1を反射し、光束
L2を透過する波長選択特性、ダイクロイックミラー1
0は光束L1を透過し、光束L2を反射する波長選択特
性を有する。11、13は光束L1、L2をそれぞれ走
査面である感光体14、15へ偏向する折り返しミラー
である。12は減衰手段である減衰ミラーで、光学基材
(たとえばガラス板)の表面に金属(例えばアルミニウ
ム)膜を蒸着している。ここで使用したダイクロイック
ミラー10の光束L1の透過率はほぼ0%、光束L2の
透過率は約95%であった。また、減衰ミラー12の減
衰率は光束L1、L2とも40%になるように調整した
ものを用いた。
【0032】以上のように構成された光走査装置につい
て、以下、図1を用いてその動作を説明する。
【0033】まず、半導体レーザ1、2からの光束L
1、L2は軸対称レンズ3、4によって平行光となる。
そして、シリンドリカルレンズ5、6によって副走査方
向についてのみ収束され、ダイクロイックミラー7で合
成される。合成された光束L1、L2はポリゴンミラー
8の反射面上に線像として結像され、ポリゴンミラー8
が回転することによって走査され、fθレンズ9により
感光体14、15の走査面に結像する。第1の曲面ミラ
ー7、被走査面8上に結像する。このとき、fθレンズ
9と感光体14、15の間の光路中にダイクロイックミ
ラー10を配置しているので、fθレンズ9を通過して
ダイクロイックミラー10へ入射する光束L1、L2の
うち光束L1の95%が透過して、折り返しミラー11
によって感光体14へ偏向される。一方光束L1の5%
と光束L2は、ダイクロイックミラー10で反射され
る。ダイクロイックミラー10と感光体15の間の光路
中には減衰ミラー12が配置されているため、光束L
1、L2は40%減衰し、fθレンズ9を通過してダイ
クロイックミラー10へ入射する光束L1、L2のうち
光束L1の3%と光束L2の60%が折り返しミラー1
3によって感光体15へ偏向される。ここで、fθレン
ズ9を通過してダイクロイックミラー10へ入射する光
束L1、L2の強度比をはL1:L2=100:158
とした。
【0034】この結果、感光体14、15上での光束L
1、L2の強度比は95:94.8となりほぼ同等の強
度になった。また、感光体15に走査される光束L1と
光束L2の強度比は3:94.8となり、問題のないレ
ベルとなった。
【0035】以上のように実施の形態1によれば、複数
の光源である半導体レーザ1、2と、半導体レーザ1、
2から発せられた光束L1、L2を走査する光偏向器で
あるポリゴンミラー8と、ポリゴンミラー8によって走
査された光束を走査面である感光体14、15上に結像
する走査光学系であるfθレンズ9と、fθレンズ9と
感光体14、15との間に配置され各光源からの光束ご
とに分離する分離手段であるダイクロイックミラー10
とを有し、ダイクロイックミラー10によって分離され
る光束L1、L2が、他の光源からの光束に混在する割
合が各光源で異なる光走査装置であって、ダイクロイッ
クミラー10と感光体15との間の光路中に、強度を減
衰する減衰手段である減衰ミラー12を配置するととも
に、ダイクロイックミラー10に入射する光束L1、L
2の強度を上記割合に応じて異なる構成ににより、簡単
な構成でクロストークを低減することができる。
【0036】また本実施の形態によれば、複数の光源で
ある半導体レーザ1、2から発せられた光束L1、L2
を合成する合成手段であるダイクロイックミラー7を設
けたことにより、ダイクロイックミラー7からダイクロ
イックミラー10までの光路において2つの光束を同じ
光路を通すことができ、より精度の良い光走査装置を実
現することができる。
【0037】また本実施の形態によれば、分離手段に透
過、反射で光束を分離するダイクロイックミラー10を
用い、減衰手段である減衰ミラー12をダイクロイック
ミラー10で反射された後、感光体15へ至る前の光束
中に配置したことにより、反射光側に多く混在するクロ
ストーク光を効率的に抑制することができる。
【0038】さらに本実施の形態によれば、ダイクロイ
ックミラー10に入射する光束L1、L2の強度を、ダ
イクロイックミラー10で反射される光束L1の強度
が、透過する光束L2の強度より大きくしたことによ
り、反射光側に多く混在するクロストーク光をさらに効
率的に抑制することができる。
【0039】また本実施の形態によれば、光源に波長帯
域の異なる2つの半導体レーザ1、2を用いることによ
り、比較的簡単な方法で光束の合成、分離を行うことが
できる。
【0040】また本実施の形態によれば、分離手段をダ
イクロイックミラー10とすることにより、波長帯域の
異なる光束L1、L2を簡単な方法で分離することがで
きる。
【0041】また本実施の形態によれば、減衰手段を4
0%の減衰率(60%の反射率)を有する金属蒸着面を
設けた減衰ミラー12とすることにより、簡単な構成で
効率的にクロストークを低減することができる。
【0042】なお、上記実施の形態1ではfθレンズ9
を通過してダイクロイックミラー10へ入射する光束L
1、L2の強度比をはL1:L2=100:158とし
たが、この強度比はダイクロイックミラー10によって
分離される各光源からの光束が、他の光源からの光束に
混在する割合に応じて決定するのが望ましく、例えば、
ダイクロイックミラー10へ入射する光束L1の90%
が透過して、10%が反射するときはL2の強度比をさ
らにあげると良い。
【0043】また、上記実施の形態1では、減衰手段と
して表面にアルミニウム膜を蒸着した減衰ミラー12を
用いているが、減衰手段はこれに限定されず、他の金属
の蒸着膜を用いても良いし、所望の反射率を有する金属
反射面でも良い。また、所望の透過率あるいは反射率を
有する誘電体蒸着面を用いても良い。
【0044】また、減衰ミラー12は折り返しミラー1
3の位置に配置しても良いし、減衰ミラー12と折り返
しミラー13とで減衰手段としても良い。
【0045】(実施の形態2)以下本発明の他の実施例
の光走査装置について、図面を参照しながら説明する。
【0046】図2は本発明の実施の形態2における光走
査装置の主要部を示す平面図、図3はその側面図であ
る。
【0047】図2および図3においては、実施の形態1
で示した光走査装置の、ポリゴンミラー8以外の要素を
ポリゴンミラー8を挟むように対向して2組配置してい
る。実施の形態1と同様の構成要素は図1と同じ符号を
付し、対向して配置された構成要素には右側の要素に
a、左側の要素にbの符号をそれぞれ添付している。実
施の形態1と異なる部分は、図3に示すように減衰ミラ
ー12を通常の折り返しミラー32a、32bとしたこ
とと、折り返しミラー32a、32bと折り返しミラー
13a、13bとの間の光路中に減衰手段としてのND
フィルターを設けた点である。このNDフィルター31
a、31bは、ダイクロイックミラー10a、10bと
同じ光学基材(例えば光学ガラス)の表面に金属膜蒸着
して作成したもので、光束L1a、L2a、L1b、L
2bの透過率は60%である。また、NDフィルター3
1a、31bは、光束L1a、L1bがダイクロイック
ミラー10a、10bを通過するときに生じる走査線湾
曲と同等の走査線湾曲を発生させるように光束L2a、
L2bに対して傾けて配置している。
【0048】以上のように構成された光走査装置では、
実施の形態1と同様の動作をすることで、1つのポリゴ
ンミラー8で4つの光束L1a、L2a、L1b、L2
bを4つの感光体14a、15a、14b、15bに同
時に走査することができる。ダイクロイックミラー10
a、10bで反射された光束L1a、L1bの5%と光
束L2a、L2bは折り返しミラー32a、32bで偏
向された後NDフィルター31a、32bに入射する。
このうち60%がNDフィルターを透過するため、光束
L1a、L1bの3%と光束L2a、L2bの60%が
折り返しミラー13a、13bによって感光体15a、
15bそれぞれへ偏向される。感光体14a、15a、
14b、15b上で走査される光束L1a、L2a、L
1b、L2bは、ダイクロイックミラー10a、10b
とNDフィルター31a、31bとにより同等の走査線
湾曲を生じているので、各走査線ごとの相対位置を精度
良く合わせることができる。
【0049】以上のように実施の形態2によれば、ポリ
ゴンミラー8以外の要素をポリゴンミラー8を挟むよう
に対向して2組配置することにより、簡単な構成で効率
的にクロストークを抑制するとともに、4つの感光体1
4a、15a、14b、15bを同時に走査するコンパ
クトな光走査装置を実現することができる。
【0050】また本実施の形態2によれば、減衰手段を
NDフィルター31a、31bとすることにより、簡単
な構成で効率的にクロストークを抑制するとともに、光
束L1a、L1bがダイクロイックミラー10a、10
bを通過するときに生じる走査線湾曲と同等の走査線湾
曲を発生させるように光束L2a、L2bに対して傾け
て配置することにより、各走査線ごとの相対位置を精度
良く合わせることができる。
【0051】なお、上記実施の形態1および実施の形態
2において、光源A、B、光束L1、L2の波長、分離
手段、減衰手段、光偏向器、走査光学系および分離手段
によって分離される各光源からの光束が、他の光源から
の光束に混在する割合等は、その一例を示したものであ
り、実施例に限定されるものではない。
【0052】また、光束の強度、分離手段や減衰手段に
よる透過率、反射率等の関係は請求項8記載のようであ
るのが望ましい。すなわち、2つの光源A、Bと、光源
Aからの光束を主に透過し光源Bからの光束を主に反射
する分離手段とを有する光走査装置であって、光源Aか
らの光束の分離手段による透過率、反射率をそれぞれT
a、Ra、光源Bからの光束の分離手段による透過率、
反射率をTb、Rbとし、反射光束中に配置される減衰
手段の光源A、Bからの光束に対する透過率をKa、K
b、走査面上でのクロストーク(透過側では光源Bから
の光束がどれだけ混在しているか、反射側では光源Aか
らの光束がどれだけ混在しているか、を示す)の許容値
をPとし、各走査面上における各光源からの光束の強度
較差を比で表したときの許容値をQ、分離手段に入射す
る光源A、Bからの光束の強度をそれぞれIa、Ibと
した場合に、下記条件式(数5)を満足することであ
る。
【0053】
【数5】
【0054】また、異なる2つの波長帯域に対して感光
体の感度が異なる場合は、請求項9記載のようであるの
が望ましい。すなわち、2つの光源A、Bと、光源Aか
らの光束を主に透過し光源Bからの光束を主に反射する
分離手段とを有する光走査装置であって、光源Aからの
光束の分離手段による透過率、反射率をそれぞれTa、
Ra、光源Bからの光束の分離手段による透過率、反射
率をTb、Rbとし、反射光束中に配置される減衰手段
の光源A、Bからの光束に対する透過率をKa、Kb、
透過側での走査面上でのクロストーク(光源Aからの光
束に光源Bからの光束がどれだけ混在しているか、を示
す)の許容値をPa、反射側での走査面上でのクロスト
ーク(光源Bからの光束に光源Aからの光束がどれだけ
混在しているか、を示す)の許容値をPbとし、分離手
段に入射する光源A、Bからの光束の強度をそれぞれI
a、Ibとした場合に、下記条件式(数6)を満足する
ことである。
【0055】
【数6】
【0056】また上記実施の形態1および実施の形態2
において、2つの光源と1つの分離手段を設けている
が、光源と分離手段の数はこれに限らない。n個の光源
とn−1個の分離手段を設けることにより、より多数の
光束を用いた光走査装置を実現することができる。
【0057】また分離手段として偏向ビームスプリッタ
を用いることができる。これにより、同じ波長帯域の光
源を用いることができ、またダイクロイックミラーと組
み合わせてより多くの光束を用いた光走査装置を実現す
ることができる。
【0058】また減衰手段としては所望の透過率を有す
る光吸収材料を用いることもできる。これにより、反射
光による悪影響を防ぐことができる。
【0059】(実施の形態3)以下本発明の一実施例の
画像形成装置について、図面を参照しながら説明する。
【0060】図4は実施の形態2に記載した光走査装置
を適用したカラー画像形成装置を示す概略断面図であ
る。図4において、42Y、42M、42C、42Kは
それぞれイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各色
のトナーを充填した現像器である。以下、各色に対応す
る構成要素にはそれぞれY、M、C、Kの符号を添付
し、特に区別の必要のない場合は添付符号を省略して説
明する。41は光が照射されると電荷が変化する感光体
が表面を覆っている走査面である感光ドラム、43は感
光ドラム41の表面に静電気イオンを付着し帯電する一
次帯電器、44は残ったトナーを除去するクリーナー、
45は付着したトナーを記録用紙に転写する転写帯電器
である。47は用紙搬送ベルトで、記録用紙を搬送し、
各色の感光ドラム41と転写帯電器45の間を通過させ
る。46は用紙搬送ベルト47の駆動ローラ、48はア
イドラーローラである。49は定着ローラで、各色のト
ナーが転写され、用紙搬送ベルト47によって搬送され
てきた記録用紙にトナーを定着する。50はバックアッ
プローラである。
【0061】以上のように実施の形態3によれば、実施
の形態2に記載した光走査装置を適用することにより、
4色のカラー像を1パスで形成することができ、かつコ
ンパクトでクロストークがなく、各色の相対色ズレも少
ない画像記録装置を実現することができる。
【0062】(実施の形態4)以下本発明の他の実施例
の画像形成装置について、図面を参照しながら説明す
る。
【0063】図5は実施の形態1に記載した光走査装置
を適用した画像形成装置を示す概略断面図である。図5
において、51は光偏光器であるポリゴンミラー、52
は走査光学系を構成するfθレンズ、53は分離手段で
あるダイクロイックミラー、55は減衰手段である減衰
ミラーである。57は光が照射されると電荷が変化する
感光体が表面を覆っている走査面である感光ドラムであ
る。実施の形態1と異なるのは、折り返しミラー54、
56が光束L1、L2をそれぞれ同じ感光ドラム57上
へ偏光するように構成されている転である。58は感光
ドラム57の表面に静電気イオンを付着し帯電する一次
帯電器、59は内部にトナーを充填した現像器、60は
付着したトナーを記録用紙64に転写する転写帯電器、
61は残ったトナーを除去するクリーナーである。62
は定着器で、記録用紙にトナーを定着する。63はバッ
クアップローラである。
【0064】以上のように実施の形態4によれば、実施
の形態1に記載した光走査装置を適用することにより、
1度に2本の光束L1、L2を感光ドラム57上に走査
することができ、2倍の密度あるいは2倍の速度で画像
を形成することができ、かつコンパクトでクロストーク
がない画像形成装置を実現することができる。
【0065】
【発明の効果】以上のように本発明は複数の光源と、光
源から発せられた光束を走査する光偏向器と、光偏向器
によって走査された光束を走査面上に結像する走査光学
系と、走査光学系と走査面との間に配置され各光源から
の光束ごとに分離する分離手段とを有し、分離手段と走
査面との間で一部の光路中に、強度を減衰する減衰手段
を配置するとともに、分離手段に入射する各光源からの
光束の強度を、上記割合に応じて異らせる構成を設ける
ことにより、簡単な構成で効果的にクロストークを抑制
することができる。
【0066】さらに減衰手段をNDフィルターとするこ
とにより、簡単な構成で効率的にクロストークを抑制す
るとともに、光束が分離手段を通過するときに生じる走
査線湾曲と同等の走査線湾曲を発生させるように配置す
ることにより、各走査線ごとの相対位置を精度良く合わ
せることができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における光走査装置の概略ブロ
ック図
【図2】本発明の実施の形態2における光走査装置の主
要部を示す平面図
【図3】本発明の実施の形態2における光走査装置の主
要部を示す側面図
【図4】本発明の光走査装置を適用したカラー画像形成
装置を示す概略断面図
【図5】本発明の光走査装置を適用した画像形成装置を
示す概略断面図
【符号の説明】
1 光源Aとしての半導体レーザ 2 光源Bとしての半導体レーザ 3 軸対象レンズ 4 軸対象レンズ 5 シリンドリカルレンズ 6 シリンドリカルレンズ 7 合成手段であるダイクロイックミラー 8 光偏光器であるポリゴンミラー 9 走査光学系を構成するfθレンズ 10 分離手段であるダイクロイックミラー 11 折り返しミラー 12 減衰手段である減衰ミラー 13 折り返しミラー 14 走査面である感光体 15 走査面である感光体 31 減衰手段としてのNDフィルター 32 折り返しミラー 41 走査面である感光ドラム 42 現像器 43 一次帯電器 44 クリーナー 45 転写帯電器 46 駆動ローラ 47 用紙搬送ベルト 48 アイドラーローラ 49 定着ローラ 50 バックアップローラ 51 光偏光器であるポリゴンミラー 52 走査光学系を構成するfθレンズ 53 分離手段であるダイクロイックミラー 54 折り返しミラー 55 減衰手段である減衰ミラー 56 折り返しミラー 57 走査面である感光ドラム 58 一次帯電器 59 現像器 60 転写帯電器 61 クリーナー 62 定着器 63 バックアップローラ 64 記録用紙
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉川 智延 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 松木 大三郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山本 義春 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2C362 AA10 AA52 AA63 BA51 BA58 BA81 BA83 2H045 BA02 BA22 BA24 BA34 CA33 CB33 CB63 5C072 BA04 DA04 DA06 DA09 HA02 HA06 HA10 HA13 QA14 XA01 XA05

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の光源と、前記光源から発せられた
    光束を走査する光偏向器と、前記光偏向器によって走査
    された光束を走査面上に結像する走査光学系と、前記走
    査光学系と前記走査面との間に配置され各光源からの光
    束ごとに分離する分離手段とを有し、前記分離手段によ
    って分離される各光源からの光束が、他の光源からの光
    束に混在する割合が各光源で異なる光走査装置であっ
    て、前記分離手段と前記走査面との間で一部の光路中
    に、強度を減衰する減衰手段を配置するとともに、前記
    分離手段に入射する各光源からの光束の強度は、前記割
    合に応じて異なることを特徴とする光走査装置。
  2. 【請求項2】 前記複数の光源から発せられた光束を合
    成する合成手段を有することを特徴とする請求項1記載
    の光走査装置。
  3. 【請求項3】 前記割合が小さいほど前記分離手段に入
    射する光束の強度が大きいことを特徴とする請求項1記
    載の光走査装置。
  4. 【請求項4】 n個の光源、n−1個の分離手段を有す
    る光走査装置であって、n−1個の減衰手段を有するこ
    とを特徴とした請求項1記載の光走査装置。
  5. 【請求項5】 前記分離手段は透過、反射で光束を分離
    するものであり、前記減衰手段は各分離手段で反射され
    た後、次の分離手段あるいは走査面に至る前の光束中に
    配置したことを特徴とする請求項1記載の光走査装置。
  6. 【請求項6】 前記減衰手段は各分離手段で透過される
    光束に生じる走査線湾曲と同等の走査線湾曲を発生させ
    ることを特徴とする請求項5記載の光走査装置。
  7. 【請求項7】 前記分離手段に入射する各光源からの光
    束の強度は、その分離手段で反射される光束を発する光
    源からの光束の強度が、透過する光束を発する光源から
    の光束の強度より大きいことを特徴とする請求項5記載
    の光走査装置。
  8. 【請求項8】 2つの光源A、Bと、前記光源Aからの
    光束を主に透過し前記光源Bからの光束を主に反射する
    分離手段とを有する請求項1記載の光走査装置であっ
    て、前記光源Aからの光束の前記分離手段による透過
    率、反射率をそれぞれTa、Ra、前記光源Bからの光
    束の前記分離手段による透過率、反射率をTb、Rbと
    し、反射光束中に配置される前記減衰手段の前記光源
    A、Bからの光束に対する透過率をKa、Kb、走査面
    上でのクロストークの許容値をPとし、各走査面上にお
    ける前記光源からの光束の強度較差を比で表したときの
    許容値をQ、前記分離手段に入射する前記光源A、Bか
    らの光束の強度をそれぞれIa、Ibとした場合に、下
    記条件式(数1)を満足することを特徴とした光走査装
    置。 【数1】
  9. 【請求項9】 2つの光源A、Bと、前記光源Aからの
    光束を主に透過し前記光源Bからの光束を主に反射する
    分離手段とを有する請求項1記載の光走査装置であっ
    て、前記光源Aからの光束の前記分離手段による透過
    率、反射率をそれぞれTa、Ra、前記光源Bからの光
    束の前記分離手段による透過率、反射率をTb、Rbと
    し、反射光束中に配置される前記減衰手段の前記光源
    A、Bからの光束に対する透過率をKa、Kb、透過側
    での走査面上でのクロストークの許容値をPa、反射側
    での走査面上でのクロストークの許容値をPbとし、前
    記分離手段に入射する前記光源A、Bからの光束の強度
    をそれぞれIa、Ibとした場合に、下記条件式(数
    2)を満足することを特徴とした光走査装置。 【数2】
  10. 【請求項10】 2つの光源と1つの分離手段と走査光
    学系から構成される走査ユニットが1つの光偏向器を挟
    むように対向して、2組配置されることを特徴とした請
    求項1記載の光走査装置。
  11. 【請求項11】 前記複数の光源は少なくとも2つの異
    なる波長帯域の光束を発する光源からなることを特徴と
    した請求項1記載の光走査装置
  12. 【請求項12】 前記分離手段はダイクロイックミラー
    であることを特徴とする請求項1記載の光走査装置。
  13. 【請求項13】 前記分離手段は偏光ビームスプリッタ
    であることを特徴とする請求項1記載の光走査装置。
  14. 【請求項14】 前記減衰手段は所望の透過率を有する
    NDフィルターであることを特徴とする請求項1記載の
    光走査装置。
  15. 【請求項15】 前記減衰手段は所望の反射率を有する
    金属反射面であることを特徴とする請求項1記載の光走
    査装置。
  16. 【請求項16】 前記減衰手段は所望の透過率あるいは
    反射率を有する金属蒸着面であることを特徴とする請求
    項1記載の光走査装置。
  17. 【請求項17】 前記減衰手段は所望の透過率あるいは
    反射率を有する誘電体蒸着面であることを特徴とする請
    求項1記載の光走査装置。
  18. 【請求項18】 前記減衰手段は所望の透過率を有する
    光吸収材料であることを特徴とする請求項1記載の光走
    査装置。
  19. 【請求項19】 複数の色に対応した複数の感光体およ
    び現像器と、前記複数の感光体に対応して複数の光源か
    らの光束をそれぞれ走査する光走査装置とを有する画像
    形成装置であって、前記光走査装置は、請求項1乃至請
    求項18記載の光走査装置であることを特徴とする画像
    形成装置。
  20. 【請求項20】 1つの感光体上に複数の光源からの光
    束を走査する光走査装置を有する画像形成装置であっ
    て、前記光走査装置は、請求項1乃至請求項18記載の
    光走査装置であることを特徴とする画像形成装置。
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