JP2002014204A - 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 - Google Patents
反射防止膜及びそれを用いた光学部材Info
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- JP2002014204A JP2002014204A JP2000199526A JP2000199526A JP2002014204A JP 2002014204 A JP2002014204 A JP 2002014204A JP 2000199526 A JP2000199526 A JP 2000199526A JP 2000199526 A JP2000199526 A JP 2000199526A JP 2002014204 A JP2002014204 A JP 2002014204A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学部品に施される可視域（およそ波長４０
０〜８００ｎｍ）用の多層膜を用いた反射防止膜及びそ
れを用いた光学部材を得ること。 【解決手段】 透明な基板面上に該基板側から空気側へ
向かって順にある一定の膜厚を基調とした第１、第２、
第３、第４、第５、第６の６つのグループ層により形成
され、各々のグループ層は単一あるいは複数の薄膜層か
ら形成され、そのグループ層の各々の膜厚は４２５ｎｍ
＜λl＜４６０ｎｍ、５６５ｎｍ＜λ2＜５８０ｎｍ、５
００ｎｍ＜λ3＜５３５ｎｍ、４３０ｎｍ＜λ4＜４４５
ｎｍ、４５０ｎｍ＜λ5＜４７０ｎｍ、５４０ｎｍ＜λ6
＜５５５ｎｍとしたとき、第１グループ層がλ1／４、
第２グループ層がλ2／２、第３グループ層がλ3／２、
第４グループ層がλ4／２、第５グループ層がλ5／４、
第６グループ層がλ6／４から成ること。
０〜８００ｎｍ）用の多層膜を用いた反射防止膜及びそ
れを用いた光学部材を得ること。 【解決手段】 透明な基板面上に該基板側から空気側へ
向かって順にある一定の膜厚を基調とした第１、第２、
第３、第４、第５、第６の６つのグループ層により形成
され、各々のグループ層は単一あるいは複数の薄膜層か
ら形成され、そのグループ層の各々の膜厚は４２５ｎｍ
＜λl＜４６０ｎｍ、５６５ｎｍ＜λ2＜５８０ｎｍ、５
００ｎｍ＜λ3＜５３５ｎｍ、４３０ｎｍ＜λ4＜４４５
ｎｍ、４５０ｎｍ＜λ5＜４７０ｎｍ、５４０ｎｍ＜λ6
＜５５５ｎｍとしたとき、第１グループ層がλ1／４、
第２グループ層がλ2／２、第３グループ層がλ3／２、
第４グループ層がλ4／２、第５グループ層がλ5／４、
第６グループ層がλ6／４から成ること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止膜及びそれ
を用いた光学部材に関し、特に可視域（波長４００〜７
００ｎｍ）全域だけでなく、波長４００〜８００ｎｍと
広範囲な波長域で、低反射率を得ることができる、例え
ばテレビカメラ，ビデオカメラ，デジタルカメラ等の光
学系において用いられるレンズ，プリズム，ミラー等の
光学部材に適用するときに好適なものである。
を用いた光学部材に関し、特に可視域（波長４００〜７
００ｎｍ）全域だけでなく、波長４００〜８００ｎｍと
広範囲な波長域で、低反射率を得ることができる、例え
ばテレビカメラ，ビデオカメラ，デジタルカメラ等の光
学系において用いられるレンズ，プリズム，ミラー等の
光学部材に適用するときに好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】写真用カメラや放送用カメラ等の光学機
器の用途に用いられる高変倍のズームレンズは多数のレ
ンズからなっている。
器の用途に用いられる高変倍のズームレンズは多数のレ
ンズからなっている。
【０００３】一般的に、このようなズームレンズは少な
い場合でレンズ枚数が１０枚程度、多い場合で４０枚ほ
どのレンズで構成されている。
い場合でレンズ枚数が１０枚程度、多い場合で４０枚ほ
どのレンズで構成されている。
【０００４】このようなレンズ枚数の多いズームレンズ
では各レンズの表面から生ずる反射光の総量が多くなる
為、各レンズ面には適切なる構成の反射防止膜を施して
いる。
では各レンズの表面から生ずる反射光の総量が多くなる
為、各レンズ面には適切なる構成の反射防止膜を施して
いる。
【０００５】そして、これらレンズやプリズム等の光学
部材のほとんど全てがその表面に基板の屈折率と異る
大，小の屈折率をもった誘電体と、その他の物質を組み
合わせた薄膜層より成る単層，又は２層，３層等の多層
膜を施している。このときの膜厚は中心波長λに対し
て、λ／２、λ／４の膜厚の組み合わせより成る反射防
止膜が施されたり、また光の干渉を利用した反射防止法
がとられている。
部材のほとんど全てがその表面に基板の屈折率と異る
大，小の屈折率をもった誘電体と、その他の物質を組み
合わせた薄膜層より成る単層，又は２層，３層等の多層
膜を施している。このときの膜厚は中心波長λに対し
て、λ／２、λ／４の膜厚の組み合わせより成る反射防
止膜が施されたり、また光の干渉を利用した反射防止法
がとられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一般的な反射防止膜を
多数のレンズより成るズームレンズに施した場合、例え
ば反射防止膜を施した１つのレンズ面の反射率が０．５
％で、そのズームレンズにおけるレンズ枚数が３０枚
（レンズの面数は６０面）であったとすると、透過率は
計算上７４％となり、途中２６％分もの光が反射し損失
してしまう結果となる。しかもその反射光が多重反射を
繰り返しながら像面に達するとフレアー，ゴースト等の
原因となってくる。
多数のレンズより成るズームレンズに施した場合、例え
ば反射防止膜を施した１つのレンズ面の反射率が０．５
％で、そのズームレンズにおけるレンズ枚数が３０枚
（レンズの面数は６０面）であったとすると、透過率は
計算上７４％となり、途中２６％分もの光が反射し損失
してしまう結果となる。しかもその反射光が多重反射を
繰り返しながら像面に達するとフレアー，ゴースト等の
原因となってくる。
【０００７】また反射防止膜を施すレンズ表面の多くは
曲率を持っている為、通常の成膜加工方法では特にレン
ズ中心部と周辺部との間に膜厚ムラが起こる。その膜厚
ムラは一般的な真空蒸着法により加工した場合、材質
（薬品）を蒸発させる蒸発点と蒸着基板であるレンズの
位置関係を見た場合、レンズの中心部の方が周辺部に比
べて蒸発してきた材質の衝突入射角度が高い（９０度近
い）為、積層する膜厚が厚くなるといった特徴がある。
つまり一般的にレンズ中心部に比べて周辺部での膜厚は
相対的に薄くなる（分光特性上で短波長側にシフトす
る）。それを一般的な可視域の分光反射防止特性でみる
と、図６の様になる。
曲率を持っている為、通常の成膜加工方法では特にレン
ズ中心部と周辺部との間に膜厚ムラが起こる。その膜厚
ムラは一般的な真空蒸着法により加工した場合、材質
（薬品）を蒸発させる蒸発点と蒸着基板であるレンズの
位置関係を見た場合、レンズの中心部の方が周辺部に比
べて蒸発してきた材質の衝突入射角度が高い（９０度近
い）為、積層する膜厚が厚くなるといった特徴がある。
つまり一般的にレンズ中心部に比べて周辺部での膜厚は
相対的に薄くなる（分光特性上で短波長側にシフトす
る）。それを一般的な可視域の分光反射防止特性でみる
と、図６の様になる。
【０００８】図６においてグラフ６１は設計値通りの分
光反射率特性で、この場合、レンズ中心部の特性に当た
る。グラフ６２は中心部に比べて相対的に膜厚の薄くな
った部分の分光反射率特性で、この場合、レンズ周辺部
の特性に当たる。
光反射率特性で、この場合、レンズ中心部の特性に当た
る。グラフ６２は中心部に比べて相対的に膜厚の薄くな
った部分の分光反射率特性で、この場合、レンズ周辺部
の特性に当たる。
【０００９】一般的な可視域の反射防止膜であるこの場
合、設計値のバンド幅が４００〜７００ｎｍ近傍までし
かないため、グラフ６２の如く分光反射率特性が短波長
側にシフトしてしまうと、長波長側の反射率が高く（レ
ンズ透過率が小さく）なってしまい、レンズの場所によ
って違う波長の光（色）が反射する現象が起きる。その
結果、レンズ全面のカラーバランスがバラついてしまっ
たり、その反射光がゴーストやフレアーといった光学的
弊害を導いてしまうことが起こる。
合、設計値のバンド幅が４００〜７００ｎｍ近傍までし
かないため、グラフ６２の如く分光反射率特性が短波長
側にシフトしてしまうと、長波長側の反射率が高く（レ
ンズ透過率が小さく）なってしまい、レンズの場所によ
って違う波長の光（色）が反射する現象が起きる。その
結果、レンズ全面のカラーバランスがバラついてしまっ
たり、その反射光がゴーストやフレアーといった光学的
弊害を導いてしまうことが起こる。
【００１０】そこで、これら弊害に対する一般的な対策
例としては、例えば加工時の手段として、レンズをホー
ルドするホルダー部分が自転しながらチャンバー内を公
転する機構と材質の蒸発源と成膜されるレンズとの間に
膜厚の最も薄い部分の膜厚に他の部分の膜厚を合わせ込
むような割合で作成するマスクを挿入してセットする機
構を組み合わせて蒸着する方法等が行われる。
例としては、例えば加工時の手段として、レンズをホー
ルドするホルダー部分が自転しながらチャンバー内を公
転する機構と材質の蒸発源と成膜されるレンズとの間に
膜厚の最も薄い部分の膜厚に他の部分の膜厚を合わせ込
むような割合で作成するマスクを挿入してセットする機
構を組み合わせて蒸着する方法等が行われる。
【００１１】しかしながら上記の方法等は設備投資が大
きな負担になるのと、１回の加工数量が激減し、なおマ
スクでカットする分、成膜時間が長時間に渡る為、生産
性がかなり悪化するといった弊害が起こる。
きな負担になるのと、１回の加工数量が激減し、なおマ
スクでカットする分、成膜時間が長時間に渡る為、生産
性がかなり悪化するといった弊害が起こる。
【００１２】本発明は生産性を犠牲にするマスキングや
特別な基板回転機構を用いることなく、レンズの中心部
及び周辺部を含む全面において、可視域全域での優れた
反射防止膜特性を得られるように、かつ波長７００ｎｍ
以上の長波長側においても反射率の低い特性を持つ、広
帯域な反射防止を達成することのできる反射防止膜及び
それを用いた光学部材の提供を目的とする。
特別な基板回転機構を用いることなく、レンズの中心部
及び周辺部を含む全面において、可視域全域での優れた
反射防止膜特性を得られるように、かつ波長７００ｎｍ
以上の長波長側においても反射率の低い特性を持つ、広
帯域な反射防止を達成することのできる反射防止膜及び
それを用いた光学部材の提供を目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明の反射防
止膜は、透明な基板面上に該基板側から空気側へ向かっ
て順にある一定の膜厚を基調とした第１、第２、第３、
第４、第５、第６の６つのグループ層により形成された
反射防止膜であって、各々のグループ層は単一あるいは
複数の薄膜層から形成され、そのグループ層の各々の膜
厚は ４２５ｎｍ＜λl＜４６０ｎｍ ５６５ｎｍ＜λ2＜５８０ｎｍ ５００ｎｍ＜λ3＜５３５ｎｍ ４３０ｎｍ＜λ4＜４４５ｎｍ ４５０ｎｍ＜λ5＜４７０ｎｍ ５４０ｎｍ＜λ6＜５５５ｎｍ としたとき、該第１グループ層がλ1／４、該第２グル
ープ層がλ2／２、該第３グループ層がλ3／２、該第４
グループ層がλ4／２、該第５グループ層がλ5／４、該
第６グループ層がλ6／４から成ることを特徴としてい
る。
止膜は、透明な基板面上に該基板側から空気側へ向かっ
て順にある一定の膜厚を基調とした第１、第２、第３、
第４、第５、第６の６つのグループ層により形成された
反射防止膜であって、各々のグループ層は単一あるいは
複数の薄膜層から形成され、そのグループ層の各々の膜
厚は ４２５ｎｍ＜λl＜４６０ｎｍ ５６５ｎｍ＜λ2＜５８０ｎｍ ５００ｎｍ＜λ3＜５３５ｎｍ ４３０ｎｍ＜λ4＜４４５ｎｍ ４５０ｎｍ＜λ5＜４７０ｎｍ ５４０ｎｍ＜λ6＜５５５ｎｍ としたとき、該第１グループ層がλ1／４、該第２グル
ープ層がλ2／２、該第３グループ層がλ3／２、該第４
グループ層がλ4／２、該第５グループ層がλ5／４、該
第６グループ層がλ6／４から成ることを特徴としてい
る。
【００１４】請求項２は請求項１の発明において、前記
第６グループ層は単一の薄膜層で構成され、前記第１グ
ループ〜第５グループ層は２〜５層の複数の薄膜層より
構成されていることを特徴としている。
第６グループ層は単一の薄膜層で構成され、前記第１グ
ループ〜第５グループ層は２〜５層の複数の薄膜層より
構成されていることを特徴としている。
【００１５】請求項３は請求項１の発明において、前記
第１〜第５グループ層は各々ＴｉＯ2、ＴｉＯ2／ＺｒＯ
2の混合物、Ａ１2Ｏ3、ＳｉＯ2のうちの１つの材質より
成る薄膜層を複数積層して成り、前記第６グループ層は
ＭｇＦ2の材質より成る単一の薄膜層より成ることを特
徴としている。
第１〜第５グループ層は各々ＴｉＯ2、ＴｉＯ2／ＺｒＯ
2の混合物、Ａ１2Ｏ3、ＳｉＯ2のうちの１つの材質より
成る薄膜層を複数積層して成り、前記第６グループ層は
ＭｇＦ2の材質より成る単一の薄膜層より成ることを特
徴としている。
【００１６】請求項４は請求項１の発明において、前記
基板の材質の屈折率をＮｇとしたとき、 １．４≦Ｎｇ≦１．９ なる条件を満足することを特徴としている。
基板の材質の屈折率をＮｇとしたとき、 １．４≦Ｎｇ≦１．９ なる条件を満足することを特徴としている。
【００１７】請求項５は請求項１乃至４の何れか１項の
発明において、前記反射防止膜は全層数が１９層〜２１
層で構成されていることを特徴としている。
発明において、前記反射防止膜は全層数が１９層〜２１
層で構成されていることを特徴としている。
【００１８】請求項６は請求項１乃至５の何れか１項の
発明において、前記反射防止膜は光線の入射角度が０〜
１０°の範囲内で、反射率特性が波長４００〜７９０ｎ
ｍの範囲で０．１５％以下、波長７９０〜８００ｎｍの
範囲では０．３％以下の広帯域な低反射率が得られる構
成であることを特徴としている。
発明において、前記反射防止膜は光線の入射角度が０〜
１０°の範囲内で、反射率特性が波長４００〜７９０ｎ
ｍの範囲で０．１５％以下、波長７９０〜８００ｎｍの
範囲では０．３％以下の広帯域な低反射率が得られる構
成であることを特徴としている。
【００１９】請求項７の発明の光学部材は、請求項１乃
至６の何れか１項記載の反射防止膜を施したことを特徴
としている。
至６の何れか１項記載の反射防止膜を施したことを特徴
としている。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の反射防止膜の膜厚
（本実施形態で膜厚とは材質の屈折率をｎ、厚さ（物理
的厚さ）をｄとしたとき、ｎ×ｄの光学的膜厚のことで
ある。）構成を表現した実施形態の要部断面概略図であ
る。
（本実施形態で膜厚とは材質の屈折率をｎ、厚さ（物理
的厚さ）をｄとしたとき、ｎ×ｄの光学的膜厚のことで
ある。）構成を表現した実施形態の要部断面概略図であ
る。
【００２１】本発明の反射防止膜１００はガラスや結晶
等の透明な基板（光学用蒸着基板）ｓｕｂ面上に該基板
側から空気側へ向かって順にある一定の膜厚を基調とし
た第１、第２、第３、第４、第５、第６の６つのグルー
プ層１０１〜１０６により形成されている。各々のグル
ープ層は単一あるいは複数の薄膜層から形成され、その
グループ層の各々の膜厚は ４２５ｎｍ＜λl＜４６０ｎｍ ５６５ｎｍ＜λ2＜５８０ｎｍ ５００ｎｍ＜λ3＜５３５ｎｍ ４３０ｎｍ＜λ4＜４４５ｎｍ ４５０ｎｍ＜λ5＜４７０ｎｍ ５４０ｎｍ＜λ6＜５５５ｎｍ としたとき、該第１グループ層１０１がλ1／４、該第
２グループ層１０２がλ2／２、該第３グループ層１０
３がλ3／２、該第４グループ層１０４がλ4／２、該第
５グループ層１０５がλ5／４、該第６グループ層１０
６がλ6／４の膜厚から形成されている。本発明におけ
る反射防止膜１００の全層数は１９〜２１層で構成され
ている。
等の透明な基板（光学用蒸着基板）ｓｕｂ面上に該基板
側から空気側へ向かって順にある一定の膜厚を基調とし
た第１、第２、第３、第４、第５、第６の６つのグルー
プ層１０１〜１０６により形成されている。各々のグル
ープ層は単一あるいは複数の薄膜層から形成され、その
グループ層の各々の膜厚は ４２５ｎｍ＜λl＜４６０ｎｍ ５６５ｎｍ＜λ2＜５８０ｎｍ ５００ｎｍ＜λ3＜５３５ｎｍ ４３０ｎｍ＜λ4＜４４５ｎｍ ４５０ｎｍ＜λ5＜４７０ｎｍ ５４０ｎｍ＜λ6＜５５５ｎｍ としたとき、該第１グループ層１０１がλ1／４、該第
２グループ層１０２がλ2／２、該第３グループ層１０
３がλ3／２、該第４グループ層１０４がλ4／２、該第
５グループ層１０５がλ5／４、該第６グループ層１０
６がλ6／４の膜厚から形成されている。本発明におけ
る反射防止膜１００の全層数は１９〜２１層で構成され
ている。
【００２２】図１において基板ｓｕｂ側に接触する第１
グループ層１０１と第５グループ層１０５は上記の如く
総膜厚がλ1／４、λ5／４で複数層から成る。第２グル
ープ層１０２〜第４グループ層１０４は上記の如く総膜
厚がλ2／２〜λ4／２で複数層から成る。空気側に接触
する第６グループ層１０６は上記の如く総膜厚がλ6／
４の単一の層で構成されている。
グループ層１０１と第５グループ層１０５は上記の如く
総膜厚がλ1／４、λ5／４で複数層から成る。第２グル
ープ層１０２〜第４グループ層１０４は上記の如く総膜
厚がλ2／２〜λ4／２で複数層から成る。空気側に接触
する第６グループ層１０６は上記の如く総膜厚がλ6／
４の単一の層で構成されている。
【００２３】本実施形態における第１〜第５グループ層
は図１（Ｂ）に示す如く多数層で構成され、各々ＴｉＯ
2、ＺｒＯ2／ＴｉＯ2の混合物、Ａ１2Ｏ3、ＳｉＯ3のう
ちの１つの材質より成る薄膜層を積層して成り、もしく
はそれに近い屈折率の材質より成り、第６グループ層は
ＭｇＦ2の材質の単一の薄膜層より成っている。
は図１（Ｂ）に示す如く多数層で構成され、各々ＴｉＯ
2、ＺｒＯ2／ＴｉＯ2の混合物、Ａ１2Ｏ3、ＳｉＯ3のう
ちの１つの材質より成る薄膜層を積層して成り、もしく
はそれに近い屈折率の材質より成り、第６グループ層は
ＭｇＦ2の材質の単一の薄膜層より成っている。
【００２４】本実施形態では以上のように構成すること
により、広帯域なバンド幅を持った低反射な反射防止膜
を得ている。特に加工時のマスキング等の物理的な工夫
やそれに伴う生産性悪化に陥ること無く、曲率を持った
レンズの周辺部分に至るまで高透過率の光学部材を容易
に確保している。
により、広帯域なバンド幅を持った低反射な反射防止膜
を得ている。特に加工時のマスキング等の物理的な工夫
やそれに伴う生産性悪化に陥ること無く、曲率を持った
レンズの周辺部分に至るまで高透過率の光学部材を容易
に確保している。
【００２５】本実施形態において基板の屈折率Ｎｇは光
学用硝材の多くを含む１．４≦Ｎｇ≦１．９の範囲にあ
たるガラスや結晶等であり、使われる対象蒸着材質とし
ては一般の光学用基板に対して可視光領域において十分
な反射防止効果を得ることができる高屈折率層成膜材料
が用いられている。例えばその材料として、酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化タン
タル（ＴａＯ5）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化ハフ
ニウム（ＨｆＯ2）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）及び、そ
れらの混合物ならびに化合物等を用いることができる。
中間屈折率層の成膜材料としては、酸化アルミニウム
（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ 2）、酸化イ
ットリウム（Ｙ2Ｏ3）及び、それらの混合物ならびに化
合物等が挙げられる。低屈折率層成膜材料としては酸化
シリコン（ＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ2）、フッ化アルミニウム（ＡＩＦ3）及び、それらの
混合物ならびに化合物等を用いることができる。
学用硝材の多くを含む１．４≦Ｎｇ≦１．９の範囲にあ
たるガラスや結晶等であり、使われる対象蒸着材質とし
ては一般の光学用基板に対して可視光領域において十分
な反射防止効果を得ることができる高屈折率層成膜材料
が用いられている。例えばその材料として、酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化タン
タル（ＴａＯ5）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化ハフ
ニウム（ＨｆＯ2）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）及び、そ
れらの混合物ならびに化合物等を用いることができる。
中間屈折率層の成膜材料としては、酸化アルミニウム
（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ 2）、酸化イ
ットリウム（Ｙ2Ｏ3）及び、それらの混合物ならびに化
合物等が挙げられる。低屈折率層成膜材料としては酸化
シリコン（ＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ2）、フッ化アルミニウム（ＡＩＦ3）及び、それらの
混合物ならびに化合物等を用いることができる。
【００２６】本発明の反射防止膜はレンズ，プリズム，
ミラー等の光学部材に適用できる。
ミラー等の光学部材に適用できる。
【００２７】本発明の反射防止膜を施したレンズを光学
系に用いればテレビカメラのようなレンズ枚数の多いズ
ームレンズであっても、反射率の少ない可視域全体にわ
たり高い透過率を有したズームレンズを容易に得ること
ができる。
系に用いればテレビカメラのようなレンズ枚数の多いズ
ームレンズであっても、反射率の少ない可視域全体にわ
たり高い透過率を有したズームレンズを容易に得ること
ができる。
【００２８】以下、本発明の反射防止膜の各実施形態に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００２９】「実施形態１」図２は本発明の実施形態１
の成膜構成を示す説明図である。
の成膜構成を示す説明図である。
【００３０】図１（Ａ）に示す膜構成ｓｕｂ．＋λ1／
４(1)＋λ2／２(2)＋λ3／２(3)＋λ 4／２(4)＋λ5／４
(5)＋λ6／４(6)＋ａｉｒに対して、本実施形態では図
２に示す如く 第１グループ層１０１をλ1＝４５２ｎｍとし、λ1／４
をＡ１２Ｏ３（膜厚ｎｄ＝５ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎ
ｄ＝７ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝１０１ｎｍ）の膜
種と膜厚で構成している。
４(1)＋λ2／２(2)＋λ3／２(3)＋λ 4／２(4)＋λ5／４
(5)＋λ6／４(6)＋ａｉｒに対して、本実施形態では図
２に示す如く 第１グループ層１０１をλ1＝４５２ｎｍとし、λ1／４
をＡ１２Ｏ３（膜厚ｎｄ＝５ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎ
ｄ＝７ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝１０１ｎｍ）の膜
種と膜厚で構成している。
【００３１】第２グループ層１０２をλ2＝５７１．４
ｎｍとし、λ2／２をＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝４３ｎｍ）＋
Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝２５ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混
合物（膜厚ｎｄ＝４８ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝９
３ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合（膜厚ｎｄ＝７６．７
ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
ｎｍとし、λ2／２をＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝４３ｎｍ）＋
Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝２５ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混
合物（膜厚ｎｄ＝４８ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝９
３ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合（膜厚ｎｄ＝７６．７
ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
【００３２】第３グループ層１０３をλ3＝５０９ｎｍ
とし、λ3／２をＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝２０ｎｍ）＋Ｚｒ
Ｏ2／ＴｉＯ2混合（膜厚ｎｄ＝３５．５ｎｍ）＋ＴｉＯ
2（膜厚ｎｄ＝１１ｎｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１８８
ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
とし、λ3／２をＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝２０ｎｍ）＋Ｚｒ
Ｏ2／ＴｉＯ2混合（膜厚ｎｄ＝３５．５ｎｍ）＋ＴｉＯ
2（膜厚ｎｄ＝１１ｎｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１８８
ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
【００３３】第４グループ層１０４をλ4＝４３６ｎｍ
とし、λ4／２をＡ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝５ｎｍ）＋Ｔｉ
Ｏ2（膜厚ｎｄ＝７ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝９ｎ
ｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝３４．３ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3
（膜厚ｎｄ＝４０．４ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合物
（膜厚ｎｄ＝１２２．３ｎｍ）の膜種と膜厚で構成して
いる。
とし、λ4／２をＡ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝５ｎｍ）＋Ｔｉ
Ｏ2（膜厚ｎｄ＝７ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝９ｎ
ｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝３４．３ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3
（膜厚ｎｄ＝４０．４ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合物
（膜厚ｎｄ＝１２２．３ｎｍ）の膜種と膜厚で構成して
いる。
【００３４】第５グループ層１０５をλ5＝４５６ｎｍ
とし、λ5／４をＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝２１ｎｍ）＋Ｚｒ
Ｏ2／ＴｉＯ2混合物（膜厚ｎｄ＝９３ｎｍ）で構成して
いる。
とし、λ5／４をＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝２１ｎｍ）＋Ｚｒ
Ｏ2／ＴｉＯ2混合物（膜厚ｎｄ＝９３ｎｍ）で構成して
いる。
【００３５】第６グループ層１０６をλ6＝５５０ｎｍ
とし、λ6／４をＭｇＦ2（膜厚ｎｄ＝１３７．５ｎｍ）
の膜種と膜厚で構成される全部で２１層構成の広帯域の
低反射防止膜である。
とし、λ6／４をＭｇＦ2（膜厚ｎｄ＝１３７．５ｎｍ）
の膜種と膜厚で構成される全部で２１層構成の広帯域の
低反射防止膜である。
【００３６】図４は本発明の実施形態１の反射率分光特
性図である。本実施形態における反射率分光特性は同図
から分かるように波長４００〜７９０ｎｍまで０．１５
％以下であり、波長７９０〜８００ｎｍでも０．３％以
下である。
性図である。本実施形態における反射率分光特性は同図
から分かるように波長４００〜７９０ｎｍまで０．１５
％以下であり、波長７９０〜８００ｎｍでも０．３％以
下である。
【００３７】[実施形態２]図３は本発明の実施形態２の
成膜構成を示す説明図である。
成膜構成を示す説明図である。
【００３８】図１（Ａ）に示す膜構成ｓｕｂ．＋λ1／
４(1)＋λ2／２(2)＋λ3／２(3)＋λ 4／２(4)＋λ5／４
(5)＋λ6／４(6)＋ａｉｒに対して、本実施形態では図
３に示す如く 第１グループ層１０１をλ1＝４３１．６ｎｍとし、λ1
／４をＡ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝６７．４ｎｍ）＋ＺｒＯ2
／ＴｉＯ2混合（膜厚ｎｄ＝２６ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜
厚ｎｄ＝１４．５ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
４(1)＋λ2／２(2)＋λ3／２(3)＋λ 4／２(4)＋λ5／４
(5)＋λ6／４(6)＋ａｉｒに対して、本実施形態では図
３に示す如く 第１グループ層１０１をλ1＝４３１．６ｎｍとし、λ1
／４をＡ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝６７．４ｎｍ）＋ＺｒＯ2
／ＴｉＯ2混合（膜厚ｎｄ＝２６ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜
厚ｎｄ＝１４．５ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
【００３９】第２グループ層１０２をλ2＝５７５．８
ｎｍとし、λ2／２をＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１８．９ｎ
ｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝１８ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜
厚ｎｄ＝４９ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合物（膜厚ｎ
ｄ＝８７ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１１５ｎｍ）の
膜種と膜厚で構成している。
ｎｍとし、λ2／２をＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１８．９ｎ
ｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝１８ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜
厚ｎｄ＝４９ｎｍ）＋ＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合物（膜厚ｎ
ｄ＝８７ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１１５ｎｍ）の
膜種と膜厚で構成している。
【００４０】第３グループ層１０３をλ3＝５２７．４
ｎｍとし、λ3／２をＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝４５ｎｍ）＋
ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝３８ｎｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝
１８０．７ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
ｎｍとし、λ3／２をＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝４５ｎｍ）＋
ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝３８ｎｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝
１８０．７ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
【００４１】第４グループ層１０４をλ4＝４３８．８
ｎｍとし、λ4／２をＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝２９．６ｎ
ｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝３３．３ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3
（膜厚ｎｄ＝２２．５ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１
３４ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
ｎｍとし、λ4／２をＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝２９．６ｎ
ｍ）＋ＳｉＯ2（膜厚ｎｄ＝３３．３ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3
（膜厚ｎｄ＝２２．５ｎｍ）＋ＴｉＯ2（膜厚ｎｄ＝１
３４ｎｍ）の膜種と膜厚で構成している。
【００４２】第５グループ層１０５をλ5＝４６４ｎｍ
とし、λ5／４をＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合物（膜厚ｎｄ＝
５２ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝１０ｎｍ）＋ＴｉＯ
2（膜厚ｎｄ＝５４ｎｍ）の膜種と膜厚で構成してい
る。
とし、λ5／４をＺｒＯ2／ＴｉＯ2混合物（膜厚ｎｄ＝
５２ｎｍ）＋Ａ１2Ｏ3（膜厚ｎｄ＝１０ｎｍ）＋ＴｉＯ
2（膜厚ｎｄ＝５４ｎｍ）の膜種と膜厚で構成してい
る。
【００４３】第６グループ層１０６をλ6＝５４４．８
ｎｍとし、λ6／４をＭｇＦ2（膜厚ｎｄ＝１３６．２ｎ
ｍ）の膜種と膜厚で構成される全部で１９層構成の広帯
域の反射防止膜である。
ｎｍとし、λ6／４をＭｇＦ2（膜厚ｎｄ＝１３６．２ｎ
ｍ）の膜種と膜厚で構成される全部で１９層構成の広帯
域の反射防止膜である。
【００４４】図５は本発明の実施形態２の反射率分光特
性図である。本実施形態における反射率分光特性は同図
から分かるように波長４００〜７９０ｎｍまで０．１５
％以下であり、波長７９０〜８００ｎｍでも０．３％以
下である。
性図である。本実施形態における反射率分光特性は同図
から分かるように波長４００〜７９０ｎｍまで０．１５
％以下であり、波長７９０〜８００ｎｍでも０．３％以
下である。
【００４５】このように各実施形態においては上述の如
く一般的な光学用基板に対する広帯域なバンド幅を持っ
た低反射な反射防止膜を得ることにより、加工時のマス
キング等の物理的な工夫やそれに伴う生産性悪化に陥る
こと無く、曲率を持ったレンズの周辺部分に至るまで高
透過率を容易に確保することができる。
く一般的な光学用基板に対する広帯域なバンド幅を持っ
た低反射な反射防止膜を得ることにより、加工時のマス
キング等の物理的な工夫やそれに伴う生産性悪化に陥る
こと無く、曲率を持ったレンズの周辺部分に至るまで高
透過率を容易に確保することができる。
【００４６】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く可視域全域だ
けでなく、４００〜８００ｎｍと広範囲な波長域で、低
反射率な反射防止域を得ることができ、加工時のマスキ
ング等の物理的な工夫やそれに伴う生産性悪化に陥るこ
と無く、曲率を持ったレンズの周辺部分に至るまで高透
過率を確保できるような特性が得られる反射防止膜及び
それを用いた光学部材を達成することができる。
けでなく、４００〜８００ｎｍと広範囲な波長域で、低
反射率な反射防止域を得ることができ、加工時のマスキ
ング等の物理的な工夫やそれに伴う生産性悪化に陥るこ
と無く、曲率を持ったレンズの周辺部分に至るまで高透
過率を確保できるような特性が得られる反射防止膜及び
それを用いた光学部材を達成することができる。
【図１】 本発明に係わる広帯域の反射防止膜の基本基
調の膜厚構成の要部断面図
調の膜厚構成の要部断面図
【図２】 本発明の実施形態１の膜構成を表現した断面
図
図
【図３】 本発明の実施形態２の膜構成を表現した断面
図
図
【図４】 本発明の実施形態１の分光反射率特性図
【図５】 本発明の実施形態２の分光反射率特性図
【図６】 反射防止膜を施したレンズ面内の中心（設計
値通り成膜された）部分と周辺（設計値より膜厚が薄く
成膜された）部分の違いを分光特性に表現した図
値通り成膜された）部分と周辺（設計値より膜厚が薄く
成膜された）部分の違いを分光特性に表現した図
１０１ 第１グループ層 １０２ 第２グループ層 １０３ 第３グループ層 １０４ 第４グループ層 １０５ 第５グループ層 １０６ 第６グループ層 ６１ レンズ面内の中心（設計値通り成膜された）部分
の分光反射率特性図 ６２ レンズ面内の周辺（設計値より膜厚が薄く成膜さ
れた）部分の分光反射率特性図
の分光反射率特性図 ６２ レンズ面内の周辺（設計値より膜厚が薄く成膜さ
れた）部分の分光反射率特性図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA09 BB02 CC03 CC06 DD03 4F100 AA05E AA19B AA19C AA19D AA19E AA20B AA20C AA20D AA20E AA21B AA21C AA21D AA21E AA27B AA27C AA27D AA27E AR00A BA05 BA07 GB90 JN01A JN06 JN18A YY00A 4K029 BA42 BA43 BA44 BA46 BA48 BA64 BB02 BC07 BD09 CA01
Claims (7)
- 【請求項1】 透明な基板面上に該基板側から空気側へ
向かって順にある一定の膜厚を基調とした第１、第２、
第３、第４、第５、第６の６つのグループ層により形成
された反射防止膜であって、 各々のグループ層は単一あるいは複数の薄膜層から形成
され、そのグループ層の各々の膜厚は ４２５ｎｍ＜λl＜４６０ｎｍ ５６５ｎｍ＜λ2＜５８０ｎｍ ５００ｎｍ＜λ3＜５３５ｎｍ ４３０ｎｍ＜λ4＜４４５ｎｍ ４５０ｎｍ＜λ5＜４７０ｎｍ ５４０ｎｍ＜λ6＜５５５ｎｍ としたとき、 該第１グループ層がλ1／４、該第２グループ層がλ2／
２、該第３グループ層がλ3／２、該第４グループ層が
λ4／２、該第５グループ層がλ5／４、該第６グループ
層がλ6／４から成ることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 前記第６グループ層は単一の薄膜層で構
成され、前記第１グループ〜第５グループ層は２〜５層
の複数の薄膜層より構成されていることを特徴とする請
求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項３】 前記第１〜第５グループ層は各々ＴｉＯ
2、ＴｉＯ2／ＺｒＯ 2の混合物、Ａ１2Ｏ3、ＳｉＯ2のう
ちの１つの材質より成る薄膜層を複数積層して成り、前
記第６グループ層はＭｇＦ2の材質より成る単一の薄膜
層より成ることを特徴とする請求項１記載の反射防止
膜。 - 【請求項４】 前記基板の材質の屈折率をＮｇとしたと
き、 １．４≦Ｎｇ≦１．９ なる条件を満足することを特徴とする請求項１記載の反
射防止膜。 - 【請求項５】 前記反射防止膜は全層数が１９層〜２１
層で構成されていることを特徴とする請求項１乃至４の
何れか１項記載の反射防止膜。 - 【請求項６】 前記反射防止膜は光線の入射角度が０〜
１０°の範囲内で、反射率特性が波長４００〜７９０ｎ
ｍの範囲で０．１５％以下、波長７９０〜８００ｎｍの
範囲では０．３％以下の広帯域な低反射率が得られる構
成であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項
記載の反射防止膜。 - 【請求項７】 前記請求項１乃至６の何れか１項記載の
反射防止膜を施したことを特徴とする光学部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000199526A JP2002014204A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000199526A JP2002014204A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002014204A true JP2002014204A (ja) | 2002-01-18 |
Family
ID=18697526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000199526A Pending JP2002014204A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002014204A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7567285B2 (en) | 2004-03-26 | 2009-07-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Camera lens device for suppressing reflection waves generated by incident waves |
| JP2015025885A (ja) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | リコーイメージング株式会社 | 反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器 |
| JP2021103253A (ja) * | 2019-12-25 | 2021-07-15 | コニカミノルタ株式会社 | 反射防止膜付き光学レンズ、投影レンズ及び投影レンズ光学系 |
-
2000
- 2000-06-30 JP JP2000199526A patent/JP2002014204A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7567285B2 (en) | 2004-03-26 | 2009-07-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Camera lens device for suppressing reflection waves generated by incident waves |
| JP2015025885A (ja) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | リコーイメージング株式会社 | 反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器 |
| JP2021103253A (ja) * | 2019-12-25 | 2021-07-15 | コニカミノルタ株式会社 | 反射防止膜付き光学レンズ、投影レンズ及び投影レンズ光学系 |
| JP7347203B2 (ja) | 2019-12-25 | 2023-09-20 | コニカミノルタ株式会社 | 反射防止膜付き光学レンズ、投影レンズ及び投影レンズ光学系 |
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