JP2002014044A

JP2002014044A - 蛍光測定装置

Info

Publication number: JP2002014044A
Application number: JP2000196179A
Authority: JP
Inventors: Tatsuro Otaki; 達朗大瀧
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2000-06-29
Filing date: 2000-06-29
Publication date: 2002-01-18

Abstract

(57)【要約】【課題】複数のウエルを任意の深さで横切る仮想面
（ウエルプレートの下面に平行な面）においても均一な
照明状態が得られ、また、サンプルの退色現象を回避す
ることもできる蛍光測定装置を提供すること。【解決手段】複数のウエル(Ｗ１…Ｗ６…)の中に注入
された測定対象物から発生する蛍光を測定する蛍光測定
装置において、複数のウエルの中の測定対象物を一括で
照明する照明光学系(３,１２〜１４)と、照明光学系に
よって照明された測定対象物からの蛍光を集光して縮小
像を形成する結像光学系(１２〜１５)と、結像光学系に
よって形成された縮小像を光電的に検出する光電検出手
段(４)とを備える。さらに、照明光学系は、ウエルの深
さ方向に平行な平行光を用いて測定対象物をテレセント
リック照明する光学系である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、サンプル収容凹部
（ウエル）の中に注入されたサンプルから発生する蛍光
を測光分析する蛍光測定装置に関し、特に試薬を混ぜた
ときにサンプルから発生する蛍光を測光分析する蛍光測
定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、複数のウエルが設けられたウ
エルプレートを用い、各ウエルの中に注入されたサンプ
ル（例えば細胞）に試薬を混ぜ、この状態のウエルプレ
ートを照明したときに発生する蛍光を測光分析する蛍光
測定装置が知られている。この蛍光測定装置では、縮小
倍率を有する結像光学系を介して蛍光による縮小像を形
成し、縮小像の画像情報に基づいて測光分析を行う。

【０００３】また、ウエルプレートを照明する際の照明
むらを少なくするために、ウエルプレートを斜め下方か
らではなく真下から照明する蛍光測定装置も提案されて
いる（例えば特開平１０−１９７４４９号公報）。照明
むらを少なくできれば、各ウエルの位置による測定精度
のばらつきを少なくすることができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、各ウエ
ルは深さ方向（ウエルプレートの厚さ方向）に細長い
（深さは５ｍｍ程度）。このため、単に真下から照明す
る従来の構成では、ウエルプレートの下面（各ウエルの
底面）近傍での照明むらを少なくすることはできても、
ウエルプレートの下面に平行で各ウエルを横切る任意の
仮想面において照明むらが少なくなる保証はなかった。
つまり、単に真下から照明する従来の構成では、各ウエ
ルの深さ方向も含めた照明の均一性は得られなかった。
その結果、各ウエルの位置による測定精度のばらつき改
善に限界があった。

【０００５】また、ウエルプレートを長時間にわたって
照明し続けるため、サンプルから発生する蛍光が時間の
経過とともに弱くなる退色現象が生じてしまうという問
題もあった。本発明の目的は、複数のウエルを任意の深
さで横切る仮想面（ウエルプレートの下面に平行な面）
においても均一な照明状態が得られ、また、サンプルの
退色現象を回避することもできる蛍光測定装置を提供す
ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、複数のウエル
(Ｗ１…Ｗ６…)の中に注入された測定対象物から発生す
る蛍光を測定する蛍光測定装置(１０)において、複数の
ウエルの中の測定対象物を一括で照明する照明光学系
(３,１２〜１４)と、照明光学系によって照明された測
定対象物からの蛍光を集光して縮小像を形成する結像光
学系(１２〜１５)と、結像光学系によって形成された縮
小像を光電的に検出する光電検出手段(４)とを備えたも
のである。さらに、照明光学系は、ウエルの深さ方向に
平行な平行光を用いて測定対象物をテレセントリック照
明する光学系である。

【０００７】このように、複数のウエルの中の測定対象
物を一括でテレセントリック照明するため、複数のウエ
ルを任意の深さで横切る仮想面においても、各ウエルの
位置に関わらず均一な照明状態が得られる。また、本発
明は、複数のウエルの中に注入された測定対象物から発
生する蛍光を測定する蛍光測定装置において、複数のウ
エルの中の測定対象物を一括で照明する照明光学系と、
照明光学系によって照明された測定対象物からの蛍光を
集光して縮小像を形成する結像光学系と、結像光学系に
よって形成された縮小像を光電的に検出する光電検出手
段とを備えたものである。さらに、照明光学系には、測
定対象物への照明時間を制限する制限手段(Ｓ)を設け
る。

【０００８】このように、複数のウエルの中の測定対象
物を一括で照明するに当たって、その照明時間を制限す
るため、サンプルの退色現象を回避できる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を詳細に説明する。

【００１０】本実施形態は、請求項１，請求項２，請求
項４に対応する。本実施形態の蛍光測定装置１０は、図
１に示すように、ウエルプレートＡ１,Ａ２を支持する
ステージ１と、ステージ１の上部を覆う遮光部材７と、
遮光部材７の内部に設けられた分注器８と、ステージ１
の下方に設けられた照明検出部９と、制御装置Ｃ１,Ｃ
３と、処理装置Ｃ２とで構成されている。

【００１１】ここで、ウエルプレートＡ１,Ａ２には、
複数（例えば９６個）のウエルＷ１…Ｗ６…がマトリク
ス状に配置されている。各ウエルＷ１…Ｗ６…の深さ方
向はウエルプレートＡ１,Ａ２の厚さ方向に等しい。各
ウエルＷ１…Ｗ６…は深さ方向に細長い（深さは５ｍｍ
程度）。ウエルプレートＡ１,Ａ２の下面（ウエルＷ１
…Ｗ６…の底面）は、光透過性の部材（例えばガラス）
で構成されている。ウエルプレートＡ１,Ａ２の大きさ
は、８０ｍｍ×１２０ｍｍ程度である。

【００１２】上記ウエルプレートＡ１,Ａ２の各ウエル
Ｗ１…Ｗ６…の中には、測定対象物であるサンプル（例
えば細胞）が注入されている。さて、複数のウエルＷ１
…Ｗ６…の中に注入されたサンプルから発生する蛍光を
測定する本実施形態の蛍光測定装置１０において、ステ
ージ１には、測定位置（図１におけるウエルプレートＡ
１の位置）に開口部１ａが設けられている。開口部１ａ
の大きさは、複数のウエルＷ１…Ｗ６…が配置された範
囲より大きい。また、ステージ１には、ウエルプレート
Ａ１,Ａ２を移動させるウエルプレート移動機構(不図
示)と、測定位置にウエルプレートＡ１が位置決めされ
たことを検知するセンサ１ｂとが設けられている。

【００１３】遮光部材７は、外部からの光を遮断する部
材であり、内部を暗室に保つと共に、二酸化炭素などの
雰囲気や温度を保つ機能を兼ねている。分注器８は、ス
テージ１の測定位置から外れた準備位置（ウエルプレー
トＡ２の位置）の上方に配置されている。分注器８は、
準備位置に位置決めされたウエルプレートＡ２の各ウエ
ルＷ１…Ｗ６…の中のサンプルに試薬を注入する装置で
ある。分注器８は、制御装置Ｃ３により制御される。

【００１４】照明検出部９は、図１,図２に示すよう
に、ウエルプレートＡ１のウエルＷ１…Ｗ６…の中のサ
ンプルを一括で照明する照明光学系(３,１２〜１４)
と、照明光学系(３,１２〜１４)によって照明されたサ
ンプルから発生する蛍光を集光して縮小像を形成する結
像光学系(１２〜１５)と、結像光学系(１２〜１５)によ
って形成された縮小像を光電的に検出する光電検出器４
と、その他の光学素子(５,６,１１,１７,Ｅｍ１,Ｅｍ
２)と、シャッターＳと、これらを保持する保持部材２
とで構成されている。

【００１５】以下、順に、結像光学系(１２〜１５)の構
成と、光電検出器４の構成と、照明光学系(３,１２〜１
４)の構成と、シャッターＳの構成と、保持部材２の構
成とを説明する。その他の光学素子(５,６,１１,１７,
Ｅｍ１,Ｅｍ２)については適宜説明する。結像光学系
(１２〜１５)は、レンズ群１２〜１４による第１対物レ
ンズ系と、レンズ群１５による第２対物レンズ系とで構
成され、全体として縮小倍率を有している。

【００１６】ここで、第１対物レンズ系(１２〜１４)の
レンズ群１２とレンズ群１３との間には、図１に示すよ
うに（図２には図示せず）、結像光学系(１２〜１５)の
光路を略垂直方向に折り曲げるミラー１７が配置されて
いる。なお、図２では、ミラー１７を図示省略したた
め、結像光学系(１２〜１５)の光路が途中で折り曲げら
れない直線状に示されている。

【００１７】さらに、第１対物レンズ系(１２〜１４)の
後側（第２対物レンズ系(１５)側）の焦点位置（図２の
Ｆ’）には、不図示の絞りが配置されている。このた
め、第１対物レンズ系(１２〜１４)は、ウエル側にテレ
セントリックな光学系となる。また、第２対物レンズ系
(１５)の前側（第１対物レンズ系(１２〜１４)側）の焦
点位置には、絞り６（図２）が配置されている。このた
め、第２対物レンズ系(１５)は、像側にテレセントリッ
クな光学系となる。

【００１８】結像光学系(１２〜１５)の物体面は、ウエ
ルプレートＡ１の下面（ウエルＷ１…Ｗ６…の底面）近
傍に位置する。第１対物レンズ系(１２〜１４)と第２対
物レンズ系(１５)との間の光路中においては、物体面上
の一点からの光が平行光（アフォーカル）となる。この
ため、第１対物レンズ系(１２〜１４)と第２対物レンズ
系(１５)との間隔を容易に調整でき、製造上において有
利となる。例えば、テレセントリック性の調整が簡単に
行える。上記のテレセントリックな光学系によってウエ
ルプレートＡ１の各ウエルＷ１…Ｗ６…からの蛍光を有
効に取り入れるため、結像光学系(１２〜１５)の中で最
もウエルプレートＡ１側のレンズ群１２の直径は、ウエ
ルプレートＡ１の対角長より大きいことが望ましい。ウ
エルプレートＡ１の大きさが８０ｍｍ×１２０ｍｍ程度
のとき、対角長は１４４ｍｍ程度であるため、直径１５
０ｍｍ以上のレンズ群１２を用いれば良い。

【００１９】なお、結像光学系(１２〜１５)とウエルプ
レートＡ１（ステージ１の開口部１ａ）との間の光路中
には、防塵防滴のための平行平面ガラス１１が設けられ
ている。これにより、サンプルや試薬などの液体が光学
系部分に混入することを防止できる。また、第１対物レ
ンズ系(１２〜１４)のレンズ群１３とレンズ群１４との
間には（図１）、縮小像のコントラスト低下の要因とな
る迷光を減少させるために絞り５が配置されている。

【００２０】光電検出器４は、結像光学系(１２〜１５)
の像面に形成された縮小像を一括して撮像可能な大きさ
の撮像面を有する（例えばＣＣＤ撮像素子）。光電検出
器４によって撮像された縮小像の画像情報は処理装置Ｃ
２に出力される。照明光学系(３,１２〜１４)は、図２
に示すように、光源ＬＳと、反射ミラー１９と、集光レ
ンズ２０と、集光レンズ２１と、波長選択フィルターＥ
ｘと、ダイクロイックミラーＤＭと、上記した第１対物
レンズ系(１２〜１４)とで構成されている。

【００２１】光源ＬＳは、例えば高圧水銀ランプにて構
成される。反射ミラー１９は、照明効率を高めるための
凹面鏡であり、集光レンズ２０とは反対側に配置され
る。集光レンズ２０は、光源ＬＳからの拡散光を平行光
Ｌ１にするレンズである。集光レンズ２１は、集光レン
ズ２０からの平行光Ｌ１を集光光Ｌ２にするレンズであ
る。波長選択フィルターＥｘは、サンプルを励起可能な
波長領域に含まれる光を選択的に透過するフィルターで
ある。

【００２２】これら光源ＬＳ,反射ミラー１９,集光レン
ズ２０,集光レンズ２１,波長選択フィルターＥｘは、上
記した第１対物レンズ系(１２〜１４)の光軸Ｏ１に略垂
直な光軸Ｏ２に沿って配置されている。ダイクロイック
ミラーＤＭは、波長選択フィルターＥｘからの透過光
（集光光Ｌ２）を選択的に反射する（集光光Ｌ３）と共
に、サンプルからの蛍光を選択的に透過する。このダイ
クロイックミラーＤＭは、光軸Ｏ１,Ｏ２から略４５°
傾けて、第１対物レンズ系(１２〜１４)と第２対物レン
ズ系(１５)との間（アフォーカル系）の光路中に配置さ
れている。

【００２３】さらに、上記の照明光学系(ＬＳ,１９,２
０,２１,Ｅｘ,１２〜１４)は、集光レンズ２１からダイ
クロイックミラーＤＭまでの距離と、ダイクロイックミ
ラーＤＭから第１対物レンズ系(１２〜１４)の後側焦点
位置（Ｆ’）までの距離との和が、集光レンズ２１の焦
点距離に等しくなるように配置されている。シャッター
Ｓは、上記の照明光学系を構成する集光レンズ２０と集
光レンズ２１との間の光路中に配置され、サンプルへの
照明光（Ｌ１）を通過または遮断させる部材である（例
えばフォーカルプレーンシャッタ）。シャッターＳの開
閉は、制御装置Ｃ１によって制御される。制御装置Ｃ１
の制御によってシャッターＳを開閉させることで、サン
プルへの照明時間を制限することができる。サンプルへ
の照明時間は、サンプルの退色特性に応じて設定され
る。

【００２４】また、上記のダイクロイックミラーＤＭと
第２対物レンズ系(１５)との間（アフォーカル系）の光
路中には、波長選択フィルターＥｍ１,Ｅｍ２の何れか
が配置される。波長選択フィルターＥｍ１は、サンプル
からの蛍光のうち所定の波長領域に含まれる光を選択的
に透過する。波長選択フィルターＥｍ２は、波長選択フ
ィルターＥｍ１の透過波長領域とは異なる波長領域に含
まれる光を選択的に透過する。波長選択フィルターＥｍ
１,Ｅｍ２の交換は、制御装置Ｃ１によって制御され
る。

【００２５】保持部材２は、内壁面に、遮光線（細かな
溝）が施されると共に、漆など艶消しの塗装が施され、
ステージ１の下面に取り付けられている。保持部材２の
ステージ１側は、開口部１ａを囲む大きさに形成されて
いる。なお、図２の保持部材２は、一部、図示省略され
ている。次に、上記のように構成された蛍光測定装置１
０における測定動作について説明する。照明光学系を構
成する光源ＬＳ（例えば高圧水銀ランプ）は、測定動作
の開始に先立って予め点灯され、安定状態に保たれてい
る。また、測定動作の開始時点において、照明光学系の
光路中に配置されたシャッターＳは閉状態に保たれ、サ
ンプルへの照明光が遮断されている。

【００２６】遮光部材７の内部において、準備位置のウ
エルプレートＡ２は、分注器８から各ウエルＷ１…Ｗ６
…の中のサンプルに試薬が注入されたのち、ステージ１
上を搬送されて測定位置に位置決めされる（ウエルプレ
ートＡ１）。このとき、センサ１ｂは、ウエルプレート
Ａ１が測定位置に位置決めされたことを検知して、検知
信号を制御装置Ｃ１に出力する。

【００２７】制御装置Ｃ１は、センサ１ｂからの検知信
号に基づいてサンプル認識（図３のＳ１）を行い、照明
光学系のシャッターＳを開放する（Ｓ２）。これによ
り、光源ＬＳからの光は、集光レンズ２０,２１と波長
選択フィルターＥｘとダイクロイックミラーＤＭと第１
対物レンズ系(１２〜１４)とを介してウエルプレートＡ
１側に導かれる。つまり、ウエルプレートＡ１の各ウエ
ルＷ１…Ｗ６…の中のサンプルに対する照明が開始され
る（Ｓ３）。

【００２８】ここで、集光レンズ２１からの集光光Ｌ２
は、波長選択フィルターＥｘを介してダイクロイックミ
ラーＤＭに導かれ、第１対物レンズ系(１２〜１４)の方
向に反射する（集光光Ｌ３）。上述したように、集光レ
ンズ２１から第１対物レンズ系(１２〜１４)の後側焦点
位置Ｆ’までの距離が集光レンズ２１の焦点距離に等し
いため、集光光Ｌ３は第１対物レンズ系(１２〜１４)の
後側焦点位置Ｆ’に集光する。すなわち、第１対物レン
ズ系(１２〜１４)の後側焦点位置Ｆ’には、光源ＬＳの
像が形成される。

【００２９】そして、第１対物レンズ系(１２〜１４)の
後側焦点位置Ｆ’に集光された光（集光光Ｌ３）は、第
１対物レンズ系(１２〜１４)を通過したのち、光軸Ｏ１
に平行な平行光Ｌ４となる。この平行光Ｌ４の径は、ウ
エルプレートＡ１のウエルＷ１…Ｗ６…が配置された範
囲より大きい。このため、各ウエルＷ１…Ｗ６…の中の
サンプルは、中央部に位置するか周辺部に位置するかに
関わらず、この平行光Ｌ４によって下方から一括で照明
される。

【００３０】さらに、各ウエルＷ１…Ｗ６…の深さ方向
（ウエルプレートＡ１の厚さ方向）は、光軸Ｏ１に平行
である。このため、上記のサンプルを照明する平行光Ｌ
４は、ウエルＷ１…Ｗ６…の深さ方向に平行といえる。
つまり、ウエルＷ１…Ｗ６…の中のサンプルは、ウエル
Ｗ１…Ｗ６…の深さ方向に平行な平行光Ｌ４によってテ
レセントリック照明される。したがって、ウエルプレー
トＡ１の下面（ウエルＷ１…Ｗ６…の底面）近傍だけで
なく、ウエルＷ１…Ｗ６…を任意の深さで横切る仮想面
においても、ウエルＷ１…Ｗ６…の位置によらない均一
な照明状態が得られる。

【００３１】このようにして、ウエルＷ１…Ｗ６…の中
のサンプルは、平行光Ｌ４によって等しい照明条件で一
括にテレセントリック照明され、サンプルの特性に応じ
て蛍光を発する。各ウエルＷ１…Ｗ６…の中のサンプル
からの蛍光は、結像光学系(１２〜１５)を介して集光さ
れ、光電検出器４の撮像面に一括して導かれる。ここ
で、第１対物レンズ系(１２〜１４)がウエル側にテレセ
ントリックな光学系で構成されるため、ウエルプレート
Ａ１のどの位置にあるウエルＷ１…Ｗ６…であっても、
同じ方向から蛍光を測光することができる。

【００３２】また、光電検出器４の撮像面には、サンプ
ルからの蛍光のうち、波長選択フィルターＥｍ１によっ
て選択された波長領域の蛍光による縮小像が形成され
る。光電検出器４は、撮像面に形成された縮小像の画像
情報を処理装置Ｃ２に出力する（図３のＳ４）。制御装
置Ｃ１は、シャッターＳを開放させた時点（Ｓ２）から
所定の時間（サンプルの退色特性に応じた時間）が経過
すると、シャッターＳを閉じる（Ｓ５）。これにより、
光源ＬＳからサンプルへの照明光が遮断される。

【００３３】処理装置Ｃ２では、光電検出器４から取り
込んだ縮小像の画像情報に対して所定の演算処理を行い
（Ｓ６）、サンプルの特性を求める。また、処理装置Ｃ
２は、データ表示やデータ記録を行なうコンピューター
ＰＣを介してビデオモニターＭＴＲに縮小像を表示させ
る（Ｓ７）。上記した測定動作（図３のＳ１〜Ｓ７）で
は波長選択フィルターＥｍ１によって蛍光の波長領域を
選択したが、波長選択フィルターＥｍ１の代わりに波長
選択フィルターＥｍ２を配置し、波長選択フィルターＥ
ｍ２によって異なる波長領域の蛍光を選択することもで
きる。この場合には、異なる波長領域の蛍光に基づく縮
小像の画像情報が処理装置Ｃ２に出力される。処理装置
Ｃ２では、異なる２つの波長領域での測定結果を比較す
ることで、サンプルに関する定量的な測光分析が行われ
る。波長選択フィルターＥｍ１,Ｅｍ２は、光電検出器
４とダイクロイックミラーＤＭとの間であればどこに配
置しても良い。波長選択フィルターＥｍ１,Ｅｍ２の代
わりに、液晶を用いて透過波長領域を変更するＬＣＴＦ
（LiquidCrystal Tunable Filter）を用いても良い。

【００３４】以上説明したように、本実施形態の蛍光測
定装置１０によれば、ウエルＷ１…Ｗ６…の中のサンプ
ルは等しい照明条件でテレセントリック照明されるた
め、ウエルＷ１…Ｗ６…の位置による測定精度のばらつ
きを大幅に改善することができる。また、ウエルＷ１…
Ｗ６…の中のサンプルから発生した蛍光は同じ方向から
等しい受光条件で効率よく結像光学系(１２〜１５)に導
かれるため、ウエルＷ１…Ｗ６…の位置による測定精度
のばらつきを更に改善することができる。したがって、
ウエルＷ１…Ｗ６…の中のサンプルから発生した蛍光を
均一な条件で高精度に測定できる。

【００３５】さらに、本実施形態の蛍光測定装置１０に
よれば、ウエルＷ１…Ｗ６…の中のサンプルを一括して
照明すると共に、ウエルＷ１…Ｗ６…の中のサンプルか
ら発生した蛍光を一括して撮像するため、大量のサンプ
ルを短時間で効率よく測光分析することができる。ま
た、本実施形態の蛍光測定装置１０によれば、照明光学
系の光路上に配置したシャッターＳの開閉によってサン
プルへの照明時間を制限するため、照明光を必要時間の
みサンプルに照射することができ、サンプルの退色現象
を低く抑えることができる。

【００３６】なお、上記した実施形態では、ステージ１
に設けたセンサ１ｂがウエルプレートＡ１を検知したと
きにシャッターＳを開放する例を説明したが、分注器８
からサンプルに試薬が注入されたのち予め定めた時間後
にシャッターＳを開放させても良い。この場合、試薬の
注入からシャッターＳの開放までの時間は、例えば、サ
ンプルと試薬との反応時間に応じて設定される。

【００３７】また、シャッターＳの開放から所定時間
（サンプルの退色特性に応じた時間）後にシャッターＳ
を閉じる例を説明したが、所望の測光量が得られた後に
シャッターＳを閉じても良い。シャッターＳは、光源Ｌ
ＳとダイクロイックミラーＤＭとの間であればどこに配
置しても良い。さらに、上記した実施形態では、光源Ｌ
Ｓとして高圧水銀ランプを用いる例を説明したが、レー
ザーを用いることもできる。この場合には、シャッター
Ｓを省略し、レーザー自体のオン／オフまたはレーザー
光量の調整によってサンプルへの照明時間を制限するこ
ともできる。

【００３８】また、上記した蛍光測定装置１０の照明光
学系（３,１２〜１４）による照明光路上のうち、ウエ
ルプレートＡ１の下面（各ウエルＷ１…Ｗ２…の底面）
に対して共役な面に、図４に示す光学部材４１を配置し
ても良い（請求項３）。光学部材４１には、複数の開口
部Ｐ１…Ｐ６…がマトリクス状に配置されている。開口
部Ｐ１…Ｐ６…の数および配置は、ウエルＷ１…Ｗ６…
の数および配置に等しい。開口部Ｐ１…Ｐ６…の大きさ
は、ウエルプレートＡ１の下面（各ウエルＷ１…Ｗ２…
の底面）における開口部Ｐ１…Ｐ６…の像の大きさがウ
エルＷ１…Ｗ６…の大きさと等しくなるように定められ
ている。

【００３９】このため、照明光学系（３,１２〜１４）
によってウエルプレートＡ１側に導かれた平行光Ｌ４
は、各ウエルＷ１…Ｗ６…のみに照射され、ウエルＷ１
…Ｗ６…どうしの間には照射されない。したがって、バ
ックグラウンドノイズを減らすことができ、蛍光測定の
ＳＮ比が向上する。さらに、上記した実施形態では、第
１対物レンズ系(１２〜１４)側からサンプルをテレセン
トリック照明する照明光学系（３,１２〜１４）を説明
したが、サンプルを挟んで第１対物レンズ系(１２〜１
４)とは反対側からサンプルをテレセントリック照明し
ても良い。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜請求項
３に記載の蛍光測定装置によれば、複数のウエルの中の
測定対象物を一括でテレセントリック照明するため、各
ウエルの位置に関わらず均一な照明状態が得られる。ま
た、請求項４に記載の蛍光測定装置によれば、複数のウ
エルの中の測定対象物を一括で照明する際の照明時間を
制限するため、サンプルの退色現象を回避できる。した
がって、信頼性の高い蛍光測定装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】蛍光測光装置１０の全体構成を示す図である。

【図２】蛍光測光装置１０の光学配置を示す図である。

【図３】蛍光測定装置１０における測定動作を説明する
図である。

【図４】光学部材４１の構成を示す図である。

【符号の説明】

１ステージ１ａ開口部１ｂセンサ２保持部材４光電検出器５，６絞り７遮光部材８分注器９照明検出部１０蛍光測定装置１１平行平面ガラス１２，１３，１４，１５レンズ群１７，１９ミラー２０，２１集光レンズ４１光学部材Ａ１，Ａ２ウエルプレートＣ１，Ｃ３制御装置Ｃ２処理装置ＤＭダイクロイックミラーＥｘ，Ｅｍ１，Ｅｍ２波長選択フィルターＬＳ光源Ｗ１…Ｗ６… ウエルＰ１…Ｐ６… 開口部Ｓシャッター

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数のウエルの中に注入された測定対象
物から発生する蛍光を測定する蛍光測定装置において、前記複数のウエルの中の前記測定対象物を一括で照明す
る照明光学系と、前記照明光学系によって照明された前記測定対象物から
の蛍光を集光して縮小像を形成する結像光学系と、前記結像光学系によって形成された前記縮小像を光電的
に検出する光電検出手段とを備え、前記照明光学系は、前記ウエルの深さ方向に平行な平行
光を用いて前記測定対象物をテレセントリック照明する
ことを特徴とした蛍光測定装置。
【請求項２】請求項１に記載の蛍光測定装置におい
て、前記結像光学系は、前記ウエル側にテレセントリックな
光学系である第１対物レンズ系と、該第１対物レンズ系
からの光を集光して前記縮小像を形成する第２対物レン
ズ系とを有し、前記照明光学系は、光源と、該光源の像を前記第１対物
レンズ系の後側焦点面近傍に形成する光学系とを有し、
前記第１対物レンズ系を介して前記測定対象物をテレセ
ントリック照明することを特徴とする蛍光測定装置。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の蛍光測
定装置において、前記照明光学系による照明光路上に、前記複数のウエル
に対応する複数の開口部が設けられた光学部材を配置し
たことを特徴とする蛍光測定装置。
【請求項４】複数のウエルの中に注入された測定対象
物から発生する蛍光を測定する蛍光測定装置において、前記複数のウエルの中の前記測定対象物を一括で照明す
る照明光学系と、前記照明光学系によって照明された前記測定対象物から
の蛍光を集光して縮小像を形成する結像光学系と、前記結像光学系によって形成された前記縮小像を光電的
に検出する光電検出手段とを備え、前記照明光学系には、前記測定対象物への照明時間を制
限する制限手段が設けられることを特徴とする蛍光測定
装置。