JP2002008440A - Proton conductive film - Google Patents

Proton conductive film

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JP2002008440A
JP2002008440A JP2000184163A JP2000184163A JP2002008440A JP 2002008440 A JP2002008440 A JP 2002008440A JP 2000184163 A JP2000184163 A JP 2000184163A JP 2000184163 A JP2000184163 A JP 2000184163A JP 2002008440 A JP2002008440 A JP 2002008440A
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diphenyl ether
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mol
polyethylene glycol
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JP2000184163A
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Kohei Goto
幸平 後藤
Hisao Nagai
久男 永井
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JSR Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a proton conductive film with improved ductility of the film made of sulfonated polyarylene without damaging proton conductivity. SOLUTION: This proton conductive film with excellent proton conductivity and ductility is made by means of compounding (A) polyethyleneglycol or its derivatives and (B) sulfonated polyarylene.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリエチレングリ
コールまたはその誘導体とスルホン化ポリアリーレンを
混合して複合化し、プロトン伝導性を損なうことなく、
スルホン化ポリアリーレンからなる膜の延性化を改善し
たプロトン伝導膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method of mixing polyethylene glycol or a derivative thereof with a sulfonated polyarylene to form a complex, without impairing proton conductivity.
The present invention relates to a proton conductive membrane having improved ductility of a membrane made of sulfonated polyarylene.

【0002】[0002]

【従来の技術】電解質は、通常、(水)溶液で用いられ
ることが多い。しかし、近年、これを固体系に置き替え
ていく傾向が高まってきている。その第1の理由として
は、例えば、上記の電気・電子材料に応用する場合のプ
ロセッシングの容易さであり、第2の理由としては、軽
薄短小・高電力化への移行である。従来、プロトン伝導
性材料としては、無機物からなるもの、有機物からなる
ものの両方が知られている。無機物の例としては、例え
ば水和化合物であるリン酸ウラニルが挙げられるが、こ
れら無機化合物は界面での接触が充分でなく、伝導層を
基板あるいは電極上に形成するには問題が多い。
2. Description of the Related Art Electrolytes are often used as (water) solutions. However, in recent years, there has been an increasing tendency to replace this with a solid system. The first reason is, for example, the easiness of processing when applied to the above-mentioned electric and electronic materials, and the second reason is the shift to lighter, thinner, smaller and higher power. Conventionally, both proton conductive materials and inorganic materials are known. Examples of the inorganic substance include uranyl phosphate, which is a hydrated compound. However, these inorganic compounds have insufficient contact at the interface, and there are many problems in forming a conductive layer on a substrate or an electrode.

【0003】一方、有機化合物の例としては、いわゆる
陽イオン交換樹脂に属するポリマー、例えばポリスチレ
ンスルホン酸などのビニル系ポリマーのスルホン化物、
ナフィオン(デュポン社製)を代表とするパーフルオロ
アルキルスルホン酸ポリマー、パーフルオロアルキルカ
ルボン酸ポリマーや、ポリベンズイミダゾール、ポリエ
ーテルエーテルケトンなどの耐熱性高分子にスルホン酸
基やリン酸基を導入したポリマー〔Polymer P
reprints,Japan,Vol.42,No.
7,p.2490〜2492(1993)、Polym
er Preprints,Japan,Vol.4
3,No.3,p.735〜736(1994)、Po
lymer Preprints,Japan,Vo
l.42,No.3,p730(1993)〕などの有
機系ポリマーが挙げられる。
On the other hand, examples of organic compounds include polymers belonging to the so-called cation exchange resin, for example, sulfonated products of vinyl polymers such as polystyrene sulfonic acid,
Sulfonate and phosphate groups were introduced into perfluoroalkylsulfonic acid polymers and perfluoroalkylcarboxylic acid polymers represented by Nafion (manufactured by DuPont), and heat-resistant polymers such as polybenzimidazole and polyetheretherketone. Polymer [Polymer P
reprints, Japan, Vol. 42, no.
7, p. 2490-2492 (1993), Polym
er Preprints, Japan, Vol. 4
3, No. 3, p. 735-736 (1994), Po
lymer Preprints, Japan, Vo
l. 42, no. 3, p730 (1993)].

【0004】これら有機系ポリマーは、通常、フィルム
状で用いられるが、溶媒に可溶性であること、または熱
可塑性であることを利用し、電極上に伝導膜を接合加工
できる。しかしながら、これら有機系ポリマーの多く
は、プロトン伝導性がまだ充分でないことに加え、耐久
性や高温(100℃以上)でプロトン伝導性が低下して
しまうことや、湿度条件下の依存性が大きいこと、ある
いは電極との密着性が充分満足のいくものとはいえなか
ったり、含水ポリマー構造に起因する稼働中の過度の膨
潤による強度の低下や形状の崩壊に至るという問題があ
る。したがって、これらの有機ポリマーは、上記の電気
・電子材料などに応用するには種々問題がある。
[0004] These organic polymers are usually used in the form of a film, but a conductive film can be bonded to an electrode by utilizing the fact that they are soluble in a solvent or thermoplastic. However, many of these organic polymers not only have insufficient proton conductivity, but also have poor durability, low proton conductivity at high temperatures (100 ° C. or higher), and are highly dependent on humidity conditions. In addition, there is a problem that the adhesion to the electrode is not sufficiently satisfactory, or the strength is reduced and the shape is collapsed due to excessive swelling during operation due to the structure of the water-containing polymer. Therefore, these organic polymers have various problems when applied to the above electric / electronic materials.

【0005】さらに、米国特許第5,403,675号
明細書では、スルホン化された剛直ポリフェニレン(す
なわち、ポリアリーレン構造を主成分とするスルホン化
物)からなる固体高分子電解質が提案されている。この
ポリマーは、芳香族化合物を重合して得られるフェニレ
ン連鎖からなるポリマー(同明細書カラム9記載の構
造)を主成分とし、これをスルホン化剤と反応させてス
ルホン酸基を導入している。しかしながら、スルホン酸
基の導入量の増加によって、プロトン伝導度も向上する
ものの、得られるスルホン化ポリマーの機械的性質を著
しく損なう結果となる。そのため、優れた機械的性質を
維持し、かつプロトン伝導性を発現する適正なスルホン
化濃度を調整する必要がある。実際、このポリマーで
は、スルホン化反応が進行しやすく、適正なスルホン酸
基の導入量を制御するのは非常に困難である。
Further, US Pat. No. 5,403,675 proposes a solid polymer electrolyte composed of a sulfonated rigid polyphenylene (ie, a sulfonate having a polyarylene structure as a main component). This polymer has, as a main component, a polymer having a phenylene chain (structure described in column 9 in the same specification) obtained by polymerizing an aromatic compound, and reacts it with a sulfonating agent to introduce a sulfonic acid group. . However, an increase in the amount of sulfonic acid groups introduced leads to an increase in the proton conductivity, but the mechanical properties of the resulting sulfonated polymer are significantly impaired. Therefore, it is necessary to maintain an excellent mechanical property and to adjust an appropriate sulfonation concentration for exhibiting proton conductivity. In fact, in this polymer, the sulfonation reaction easily proceeds, and it is very difficult to control an appropriate amount of sulfonic acid groups to be introduced.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
技術的課題を背景になされたもので、プロトン伝導性を
損なうことなく、スルホン化ポリアリーレンからなる膜
の延性を改善したプロトン伝導膜を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional technical problems, and a proton conductive membrane having improved ductility of a membrane made of sulfonated polyarylene without impairing proton conductivity. Is to provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)ポリエ
チレングリコールまたはその誘導体と(B)スルホン化
ポリアリーレンとからなるプロトン伝導膜に関する。上
記(A)ポリエチレングリコールまたはその誘導体の数
平均分子量は、3,000以上が好ましい。また、上記
(B)スルホン化ポリアリーレンとしては、下記一般式
(1)で表される構造単位からなるポリアリーレンのス
ルホン化物が好ましい。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a proton conducting membrane comprising (A) polyethylene glycol or a derivative thereof and (B) sulfonated polyarylene. The number average molecular weight of the (A) polyethylene glycol or a derivative thereof is preferably 3,000 or more. The sulfonated polyarylene (B) is preferably a sulfonated polyarylene having a structural unit represented by the following general formula (1).

【0008】[0008]

【化2】 Embedded image

【0009】〔一般式(1)中、Xは−CQQ′−(こ
こで、Q,Q′は同一または異なり、ハロゲン化アルキ
ル基、アルキル基、水素原子、ハロゲン原子またはアリ
ール基を示す)で表される基およびフルオレニレン基の
群から選ばれる基であり、R1〜R36は同一または異な
り、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示
し、Yは−O−,−CO−,−COO−,−CONH−
および−SO2 −基の群から選ばれる基であり、pは0
〜100モル%、qは0〜100モル%、rは0〜10
0モル%、sは0〜100モル%(ただし、p+q+r
+s=100モル%)、tは0か1である。〕 次に、本発明は、(A)ポリエチレングリコールまたは
その誘導体と(B)スルホン化ポリアリーレンとを溶媒
に溶解した組成物を基材上に塗布し、加熱することを特
徴とするプロトン伝導膜の製造方法に関する。ここで、
上記ポリエチレングリコールは、重合性官能基を含むマ
クロマーが好ましい。
[In the general formula (1), X is -CQQ'- (where Q and Q 'are the same or different and represent a halogenated alkyl group, an alkyl group, a hydrogen atom, a halogen atom or an aryl group) And R 1 to R 36 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, and Y represents —O—, —CO—, -COO-, -CONH-
And -SO 2 - is a group selected from the group of radicals, p is 0
-100 mol%, q is 0-100 mol%, r is 0-10
0 mol%, s is 0 to 100 mol% (provided that p + q + r
+ S = 100 mol%), and t is 0 or 1. Next, the present invention provides a proton conductive membrane comprising applying a composition obtained by dissolving (A) polyethylene glycol or a derivative thereof and (B) a sulfonated polyarylene in a solvent onto a substrate, and heating the composition. And a method for producing the same. here,
The polyethylene glycol is preferably a macromer containing a polymerizable functional group.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明のプロトン伝導膜は、
(A)ポリエチレングリコールまたはその誘導体、およ
び(B)上記一般式(1)で表されるスルホン化ポリア
リーレンを主成分とする混合物から膜を形成することに
より、プロトン伝導性を損なうことなく、(B)スルホ
ン化ポリアリーレンからなる膜の延性を改善したプロト
ン伝導膜である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The proton conducting membrane of the present invention
By forming a membrane from a mixture containing (A) polyethylene glycol or a derivative thereof and (B) a sulfonated polyarylene represented by the general formula (1) as a main component, without impairing the proton conductivity, B) A proton conductive membrane having improved ductility of a membrane made of sulfonated polyarylene.

【0011】(A)成分 (A)成分は、ポリエチレングリコールまたはその誘導
体であり、その数平均分子量は、好ましくは3,000
以上、さらに好ましくは5,000〜300,000で
ある。数平均分子量が3,000未満では、機械的性質
や耐久性が充分ではない。(A)成分としては、ポリエ
チレングリコールのほか、ポリエチレングリコールの各
種の誘導体が挙げられる。ポリエチレングリコールの誘
導体としては、重合性官能基を有しない化合物として、
例えば、ポリオキシエチレンヤシ油脂肪酸モノエタノー
ルアミド、ポリオキシエチレンヤシ油脂肪酸ソルビタ
ン、モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン、
モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン、モノス
テアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ポ
リエチレングリコール、ジラウリン酸ポリエチレングリ
コール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、ジオ
レイン酸ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシ
エチレンオレイルセチルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコー
ルブロック共重合体、ポリオキシエチレンポリオキシプ
ロピレンブチルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキ
シプロピレンヘキシレングリコールエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキシプロピレントリメチロールプロパ
ン、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコー
ルセリルエーテルなどが挙げられる。
Component (A) The component (A) is polyethylene glycol or a derivative thereof, and preferably has a number average molecular weight of 3,000.
Above, more preferably 5,000 to 300,000. When the number average molecular weight is less than 3,000, mechanical properties and durability are not sufficient. Examples of the component (A) include polyethylene glycol and various derivatives of polyethylene glycol. As a derivative of polyethylene glycol, as a compound having no polymerizable functional group,
For example, polyoxyethylene coconut oil fatty acid monoethanolamide, polyoxyethylene coconut oil fatty acid sorbitan, polyoxyethylene sorbitan monostearate,
Polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyethylene glycol monostearate, polyethylene glycol monooleate, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, polyethylene glycol dioleate, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene Oleyl ether, polyoxyethylene oleyl cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol block copolymer, polyoxyethylene polyoxypropylene butyl ether, Polyoxyethylene polyoxypropylene hex Glycol ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene trimethylolpropane, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol glyceryl ether and the like.

【0012】また、ポリエチレングリコールの誘導体と
して、重合性官能基を有するマクロマーの例としては、
ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレング
リコールメタクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシレートメチルエー
テルジアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシ
レートトリアクリレート、トリメチロールプロパンエト
キシレートメチルエーテルジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンエトキシレートトリメタクリレートなど
が挙げられる。重合性官能基を有するポリエチレングリ
コールのマクロマーを用いると、ポリエチレングリコー
ルが架橋構造をとるので、伝導膜使用時の耐久性能が向
上し好ましい。
Examples of macromers having a polymerizable functional group as derivatives of polyethylene glycol include:
Polyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol methacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane ethoxylate methyl ether diacrylate, trimethylolpropane ethoxylate triacrylate, trimethylolpropane ethoxylate methyl ether dimethacrylate, trimethylolpropane ethoxy Rate trimethacrylate and the like. The use of a macromer of polyethylene glycol having a polymerizable functional group is preferable because the polyethylene glycol has a cross-linked structure, so that the durability when a conductive film is used is improved.

【0013】ポリアリーレンのスルホン化物 スルホン化ポリアリーレンは、好ましくは上記一般式
(1)で表されるポリアリーレン(以下「ポリマー
(1)」ともいう)をスルホン化したスルホン化物であ
る。ここで、ポリマー(1)は、上記一般式(1)で表
される繰り返し構造単位を有する。以下、一般式(1)
において、pで括られた構造単位を「構造単位p」、q
で括られた構造単位を「構造単位q」、rで括られた構
造単位を「構造単位r」、sで括られた構造単位を「構
造単位s」ともいう。
The sulfonated polyarylene is preferably a sulfonated polyarylene represented by the above general formula (1) (hereinafter also referred to as “polymer (1)”). Here, the polymer (1) has a repeating structural unit represented by the general formula (1). Hereinafter, the general formula (1)
In the above, the structural unit enclosed by p is referred to as “structural unit p”, q
The structural unit enclosed by "" is also referred to as "structural unit q", the structural unit enclosed by r is also referred to as "structural unit r", and the structural unit enclosed by s is also referred to as "structural unit s".

【0014】上記一般式(1)中、Xは、−CQQ′−
(ここで、Q,Q′は同一または異なり、ハロゲン化ア
ルキル基、アルキル基、水素原子、ハロゲン原子または
アリール基を示す)で表される基およびフルオレニレン
基の群から選ばれる基である。ここで、Q,Q′のう
ち、ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチ
ル基、ペンタフルオロエチレン基などが、またアリール
基としては、フェニル基、ビフェニル基、トリル基、ペ
ンタフルオロフェニル基などが挙げられる。上記一般式
(1)中、R1 〜R36は、同一または異なり、水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子、1価の有機基(例え
ば、ハロゲン化アルキル基、またはポリアリーレン生成
の重合反応を阻害しない官能基を含む1価の有機基)を
示す。R1 〜R36中、アルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル
基などが挙げられる。また、ハロゲン原子としては、フ
ッ素が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、ト
リフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフル
オロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロ
ペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられ
る。さらに、ポリアリーレン生成の重合反応を阻害しな
い官能基を含む1価の有機基としては、例えばアリール
オキシ、アリールオキソ、アリールチオカルボニル、ア
リールオキシカルボニル、アリールチオ、アリールスル
ホンなどが挙げられる。これらは、また、2つ以上の官
能基を含む1価の有機基、例えばアリールオキシアリー
ルオキソ、アリールオキシアリールスルホン、アリール
チオアリールオキソなどが挙げられる。さらに、これら
は、アリール基の代わりに、アルキル基、アルキルアリ
ール基、アリールアルキル基に代えて用いてもよい。さ
らに、上記一般式(1)中、Yは−O−,−CO−,−
COO−,−CONH−,および−SO2 −基の群から
選ばれた少なくとも1種であり、pは0〜100モル
%、qは0〜100モル%、rは0〜100モル%、s
は0〜100モル%(ただし、p+q+r+s=100
モル%)、tは0か1である。〕
In the above general formula (1), X is -CQQ'-
(Where Q and Q ′ are the same or different and represent a halogenated alkyl group, an alkyl group, a hydrogen atom, a halogen atom or an aryl group) and a group selected from the group consisting of a fluorenylene group. Here, of Q and Q ', the halogenated alkyl group includes a trifluoromethyl group and a pentafluoroethylene group, and the aryl group includes a phenyl group, a biphenyl group, a tolyl group, a pentafluorophenyl group and the like. No. In the above general formula (1), R 1 to R 36 are the same or different and each represent a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, a monovalent organic group (for example, a polymerization reaction for producing a halogenated alkyl group or polyarylene). (A monovalent organic group containing a non-functional group). In R 1 to R 36 , the alkyl group is a methyl group,
Examples include an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an amyl group, and a hexyl group. Examples of the halogen atom include fluorine. Examples of the halogenated alkyl group include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluorohexyl group. Furthermore, examples of the monovalent organic group containing a functional group that does not inhibit the polymerization reaction for producing polyarylene include aryloxy, aryloxo, arylthiocarbonyl, aryloxycarbonyl, arylthio, and arylsulfone. These also include monovalent organic groups containing two or more functional groups, for example, aryloxyaryloxo, aryloxyarylsulfone, arylthioaryloxo, and the like. Further, these may be used in place of the aryl group, instead of the alkyl group, the alkylaryl group, and the arylalkyl group. Further, in the general formula (1), Y represents -O-, -CO-,-.
At least one selected from the group consisting of COO—, —CONH—, and —SO 2 — groups, p is 0 to 100 mol%, q is 0 to 100 mol%, r is 0 to 100 mol%, s
Is 0 to 100 mol% (however, p + q + r + s = 100
Mol%), t is 0 or 1. ]

【0015】式(1)において、構造単位pを構成する
モノマー(以下「モノマーp」ともいう)としては、
2,2−ビス(4−メチルスルフォニロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−メチルスルフォニ
ロキシフェニル)メタン、ビス(4−メチルスルフォニ
ロキシフェニル)ジフェニルメタン、2,2−ビス(4
−メチルスルフォニロキシ−3−メチルフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、2,2−ビス(4−メチルスルフ
ォニロキシ−3−プロペニルフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(4−メチルスルフォニロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(4−メチルスルフォニロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−メチルスルフォニロ
キシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−メチルスルフォニロキシ−3−プロペニルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−メチルスルフォニロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−
ビス(4−メチルスルフォニロキシ−3−フルオロフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−メチルスルフォニ
ロキシ−3,5−ジフルオロフェニル)プロパン、2,
2−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−3−プロペニルフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−フェニルスルフォニロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−フェニルスルフ
ォニロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−
ビス(4−フェニルスルフォニロキシ−3−プロペニル
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−フェニルスル
フォニロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−フェニルスルフォニロキシ−3−フ
ルオロフェニル)ジフェニルメタン、2,2−ビス(p
−トリルスルフォニロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(p−トリルスルフォニロキシ−3−メチルフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(p−トリルスルフォニ
ロキシ−3−プロペニルフェニル)プロパン、2,2−
ビス(p−トリルスルフォニロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)プロパン、2,2−ビス(p−トリルスルフ
ォニロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−
ビス(p−トリルスルフォニロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)プロパン、2,2−ビス(p−トリルスルフ
ォニロキシ−3−プロペニルフェニル)プロパン、ビス
(p−トリルスルフォニロキシ−3−フルオロフェニ
ル)プロパン、ビス(p−トリルスルフォニロキシ−
3,5−ジフルオロフェニル)プロパン、9,9−ビス
(4−メチルスルフォニロキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−メチルスルフォニロキシ−3−メチ
ルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−メチルス
ルフォニロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−メチルスルフォニロキシ−3−
プロペニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
メチルスルフォニロキシ−3−フェニルフェニル)フル
オレン、ビス(4−メチルスルフォニロキシ−3−メチ
ルフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−メチルスル
フォニロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジフェニル
メタン、ビス(4−メチルスルフォニロキシ−3−プロ
ペニルフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−メチル
スルフォニロキシ−3−フルオロフェニル)ジフェニル
メタン、ビス(4−メチルスルフォニロキシ−3,5−
ジフルオロフェニル)ジフェニルメタン、9,9−ビス
(4−メチルスルフォニロキシ−3−フルオロフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−メチルスルフォニ
ロキシ−3,5−ジフルオロフェニル)フルオレン、ビ
ス(4−メチルスルフォニロキシフェニル)メタン、ビ
ス(4−メチルスルフォニロキシ−3−メチルフェニ
ル)メタン、ビス(4−メチルスルフォニロキシ−3,
5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4−メチルスル
フォニロキシ−3−プロペニルフェニル)メタン、ビス
(4−メチルスルフォニロキシフェニル)トリフルオロ
メチルフェニルメタン、ビス(4−メチルスルフォニロ
キシフェニル)フェニルメタン、2,2−ビス(4−ト
リフルオロメチルスルフォニロキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス(4−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル)メタン、ビス(4−トリフルオロ
メチルスルフォニロキシフェニル)ジフェニルメタン、
2,2−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−3−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
2,2−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−3−プロペニルフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、9,9−ビス(4−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
トリフルオロメチルスルフォニロキシ−3−メチルフェ
ニル)フルオレン、9,9−ビス(4−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フ
ルオレン、9,9−ビス(4−トリフルオロメチルスル
フォニロキシ−3−プロペニルフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−3−フェニルフェニル)フルオレン、ビス(4−ト
リフルオロメチルスルフォニロキシ−3−メチルフェニ
ル)ジフェニルメタン、ビス(4−トリフルオロメチル
スルフォニロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジフェ
ニルメタン、ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−3−プロペニルフェニル)ジフェニルメタン、
ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−3−
フルオロフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−トリ
フルオロメチルスルフォニロキシ−3,5−ジフルオロ
フェニル)ジフェニルメタン、9,9−ビス(4−トリ
フルオロメチルスルフォニロキシ−3−フルオロフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシ−3,5−ジフルオロフェニル)フ
ルオレン、ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル)メタン、ビス(4−トリフルオロメチル
スルフォニロキシ−3−メチルフェニル)メタン、ビス
(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−3,5−
ジメチルフェニル)メタン、ビス(4−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−3−プロペニルフェニル)メタ
ン、ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシフ
ェニル)トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス(4
−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル)、
2,2−ビス(4−フェニルスルフォニロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−フェニルスル
フォニロキシフェニル)メタン、ビス(4−フェニルス
ルフォニロキシフェニル)ジフェニルメタン、2,2−
ビス(4−フェニルスルフォニロキシ−3−メチルフェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−フ
ェニルスルフォニロキシ−3−プロペニルフェニル)ヘ
キサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−フェニルス
ルフォニロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、9,9−ビス(4−フェニルスルフォ
ニロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−フ
ェニルスルフォニロキシ−3−メチルフェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(4−フェニルスルフォニロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス
(4−フェニルスルフォニロキシ−3−プロペニルフェ
ニル)フルオレン、9,9−ビス(4−フェニルスルフ
ォニロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン、ビス
(4−フェニルスルフォニロキシ−3−メチルフェニ
ル)ジフェニルメタン、ビス(4−フェニルスルフォニ
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジフェニルメタ
ン、ビス(4−フェニルスルフォニロキシ−3−プロペ
ニルフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−フェニル
スルフォニロキシ−3−フルオロフェニル)ジフェニル
メタン、ビス(4−フェニルスルフォニロキシ−3,5
−ジフルオロフェニル)ジフェニルメタン、9,9−ビ
ス(4−フェニルスルフォニロキシ−3−フルオロフェ
ニル)フルオレン、9,9−ビス(4−フェニルスルフ
ォニロキシ−3,5−ジフルオロフェニル)フルオレ
ン、ビス(4−フェニルスルフォニロキシフェニル)メ
タン、ビス(4−フェニルスルフォニロキシ−3−メチ
ルフェニル)メタン、ビス(4−フェニルスルフォニロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4−
フェニルスルフォニロキシ−3−プロペニルフェニル)
メタン、ビス(4−フェニルスルフォニロキシフェニ
ル)トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス(4−フ
ェニルスルフォニロキシフェニル)フェニルメタン、
2,2−ビス(p−トリルスルフォニロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、ビス(p−トリルスルフォニ
ロキシフェニル)メタン、ビス(p−トリルスルフォニ
ロキシフェニル)ジフェニルメタン、2,2−ビス(p
−トリルスルフォニロキシ−3−メチルフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、2,2−ビス(p−トリルスルフ
ォニロキシ−3−プロペニルフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(p−トリルスルフォニロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、9,9−ビス(p−トリルスルフォニロキシフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(p−トリルスルフォニ
ロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビ
ス(p−トリルスルフォニロキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)フルオレン、9,9−ビス(p−トリルスルフ
ォニロキシ−3−プロペニルフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(p−トリルスルフォニロキシ−3−フェ
ニルフェニル)フルオレン、ビス(p−トリルスルフォ
ニロキシ−3−メチルフェニル)ジフェニルメタン、ビ
ス(p−トリルスルフォニロキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)ジフェニルメタン、ビス(p−トリルスルフォ
ニロキシ−3−プロペニルフェニル)ジフェニルメタ
ン、ビス(p−トリルスルフォニロキシ−3−フルオロ
フェニル)ジフェニルメタン、ビス(p−トリルスルフ
ォニロキシ−3,5−ジフルオロフェニル)ジフェニル
メタン、9,9−ビス(p−トリルスルフォニロキシ−
3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(p
−トリルスルフォニロキシ−3,5−ジフルオロフェニ
ル)フルオレン、ビス(p−トリルスルフォニロキシフ
ェニル)メタン、ビス(p−トリルスルフォニロキシ−
3−メチルフェニル)メタン、ビス(p−トリルスルフ
ォニロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス
(p−トリルスルフォニロキシ−3−プロペニルフェニ
ル)メタン、ビス(p−トリルスルフォニロキシフェニ
ル)トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス(p−ト
リルスルフォニロキシフェニル)フェニルメタンなどを
挙げることができる。上記モノマーpは、1種単独であ
るいは2種以上を併用することができる。
In the formula (1), the monomers constituting the structural unit p (hereinafter also referred to as “monomer p”) include:
2,2-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl)
Hexafluoropropane, bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) diphenylmethane, 2,2-bis (4
-Methylsulfonyloxy-3-methylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-methylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-methylsulfonyloxy- 3,5-dimethylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methylsulfonyloxy-3-methylphenyl) propane, 2,2 -Bis (4-methylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) propane, 2,2-bis (4-methylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-
Bis (4-methylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) propane, 2,2-bis (4-methylsulfonyloxy-3,5-difluorophenyl) propane, 2,
2-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) propane, 2,2-bis (4-phenylsulfonyloxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (4-phenylsulfonyloxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-
Bis (4-phenylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) propane, 2,2-bis (4-phenylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) propane,
2,2-bis (4-phenylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) diphenylmethane, 2,2-bis (p
-Tolylsulfonyloxyphenyl) propane, 2,2
-Bis (p-tolylsulfonyloxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (p-tolylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) propane, 2,2-
Bis (p-tolylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (p-tolylsulfonyloxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-
Bis (p-tolylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (p-tolylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) propane, bis (p-tolylsulfonyloxy-3-fluoro) Phenyl) propane, bis (p-tolylsulfonyloxy)
3,5-difluorophenyl) propane, 9,9-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) fluorene,
9,9-bis (4-methylsulfonyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-methylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- Methylsulfonyloxy-3-
Propenylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
Methylsulfonyloxy-3-phenylphenyl) fluorene, bis (4-methylsulfonyloxy-3-methylphenyl) diphenylmethane, bis (4-methylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) diphenylmethane, bis (4- Methylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) diphenylmethane, bis (4-methylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) diphenylmethane, bis (4-methylsulfonyloxy-3,5-
Difluorophenyl) diphenylmethane, 9,9-bis (4-methylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-methylsulfonyloxy-3,5-difluorophenyl) fluorene, bis (4 -Methylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (4-methylsulfonyloxy-3-methylphenyl) methane, bis (4-methylsulfonyloxy-3,
5-dimethylphenyl) methane, bis (4-methylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) methane, bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) trifluoromethylphenylmethane, bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) phenyl Methane, 2,2-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) hexafluoropropane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenylmethane,
2,2-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-methylphenyl) hexafluoropropane,
2,2-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) hexafluoropropane, 9,9-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
Trifluoromethylsulfonyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-trifluoromethylsulfone) Phonyloxy-3-propenylphenyl) fluorene,
9,9-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-phenylphenyl) fluorene, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-methylphenyl) diphenylmethane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy) -3,5-dimethylphenyl) diphenylmethane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) diphenylmethane,
Bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-
(Fluorophenyl) diphenylmethane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3,5-difluorophenyl) diphenylmethane, 9,9-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9 -Bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3,5-difluorophenyl) fluorene, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-methylphenyl) ) Methane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3,5-)
Dimethylphenyl) methane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) methane, bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) trifluoromethylphenylmethane, bis (4
-Trifluoromethylsulfonyloxyphenyl),
2,2-bis (4-phenylsulfonyloxyphenyl) hexafluoropropane, bis (4-phenylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (4-phenylsulfonyloxyphenyl) diphenylmethane, 2,2-
Bis (4-phenylsulfonyloxy-3-methylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-phenylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-phenylsulfur Phonyloxy-3,5-dimethylphenyl) hexafluoropropane, 9,9-bis (4-phenylsulfonyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-phenylsulfonyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-phenylsulfonyloxy-
3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-phenylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-phenylsulfonyloxy-3-phenylphenyl) fluorene, bis (4-phenylsulfonyloxy-3-methylphenyl) diphenylmethane, bis (4-phenylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) diphenylmethane, bis (4-phenylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) diphenylmethane, bis (4-phenylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) diphenylmethane, bis (4-phenylsulfonyloxy-3,5)
-Difluorophenyl) diphenylmethane, 9,9-bis (4-phenylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-phenylsulfonyloxy-3,5-difluorophenyl) fluorene, bis ( 4-phenylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (4-phenylsulfonyloxy-3-methylphenyl) methane, bis (4-phenylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) methane, bis (4-
Phenylsulfonyloxy-3-propenylphenyl)
Methane, bis (4-phenylsulfonyloxyphenyl) trifluoromethylphenylmethane, bis (4-phenylsulfonyloxyphenyl) phenylmethane,
2,2-bis (p-tolylsulfonyloxyphenyl)
Hexafluoropropane, bis (p-tolylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (p-tolylsulfonyloxyphenyl) diphenylmethane, 2,2-bis (p
-Tolylsulfonyloxy-3-methylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (p-tolylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (p-tolylsulfonyloxy- 3,5-dimethylphenyl) hexafluoropropane, 9,9-bis (p-tolylsulfonyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (p-tolylsulfonyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9 -Bis (p-tolylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (p-tolylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) fluorene,
9,9-bis (p-tolylsulfonyloxy-3-phenylphenyl) fluorene, bis (p-tolylsulfonyloxy-3-methylphenyl) diphenylmethane, bis (p-tolylsulfonyloxy-3,5-dimethyl) Phenyl) diphenylmethane, bis (p-tolylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) diphenylmethane, bis (p-tolylsulfonyloxy-3-fluorophenyl) diphenylmethane, bis (p-tolylsulfonyloxy-3,5-difluoro) Phenyl) diphenylmethane, 9,9-bis (p-tolylsulfonyloxy)
3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (p
-Tolylsulfonyloxy-3,5-difluorophenyl) fluorene, bis (p-tolylsulfonyloxyphenyl) methane, bis (p-tolylsulfonyloxy-)
3-methylphenyl) methane, bis (p-tolylsulfonyloxy-3,5-dimethylphenyl) methane, bis (p-tolylsulfonyloxy-3-propenylphenyl) methane, bis (p-tolylsulfonyloxyphenyl) ) Trifluoromethylphenylmethane, bis (p-tolylsulfonyloxyphenyl) phenylmethane and the like. The monomers p may be used alone or in combination of two or more.

【0016】また、式(1)において、構造単位qを構
成するモノマー(以下「モノマーq」ともいう)として
は、例えば、4,4′−ジメチルスルフォニロキシビフ
ェニル、4,4′−ジメチルスルフォニロキシ−3,
3′−ジプロペニルビフェニル、4,4′−ジブロモビ
フェニル、4,4′−ジヨードビフェニル、4,4′−
ジメチルスルフォニロキシ−3,3′−ジメチルビフェ
ニル、4,4′−ジメチルスルフォニロキシ−3,3′
−ジフルオロビフェニル、4,4′−ジメチルスルフォ
ニロキシ−3,3′,5,5′−テトラフルオロビフェ
ニル、4,4′−ジブロモオクタフルオロビフェニル、
4,4−メチルスルフォニロキシオクタフルオロビフェ
ニル、3,3′−ジアリル−4,4′−ビス(4−フル
オロベンゼンスルフォニロキシ)ビフェニル、4,4′
−ジクロロ−2,2′−トリフルオロメチルビフェニ
ル、4,4′−ジブロモ−2,2′−トリフルオロメチ
ルビフェニル、4,4′−ジヨード−2,2′−トリフ
ルオロメチルビフェニル、ビス(4−クロロフェニル)
スルフォン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、2,
4−ジクロロベンゾフェノンなどを挙げることができ
る。上記モノマーqは、1種単独であるいは2種以上を
併用することができる。
In the formula (1), as the monomer constituting the structural unit q (hereinafter also referred to as “monomer q”), for example, 4,4′-dimethylsulfonyloxybiphenyl, 4,4′-dimethylsulfone Phoniloxy-3,
3'-dipropenylbiphenyl, 4,4'-dibromobiphenyl, 4,4'-diiodobiphenyl, 4,4'-
Dimethylsulfonyloxy-3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy-3,3 '
-Difluorobiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy-3,3 ', 5,5'-tetrafluorobiphenyl, 4,4'-dibromooctafluorobiphenyl,
4,4-methylsulfonyloxyoctafluorobiphenyl, 3,3'-diallyl-4,4'-bis (4-fluorobenzenesulfonyloxy) biphenyl, 4,4 '
-Dichloro-2,2'-trifluoromethylbiphenyl, 4,4'-dibromo-2,2'-trifluoromethylbiphenyl, 4,4'-diiodo-2,2'-trifluoromethylbiphenyl, bis (4 -Chlorophenyl)
Sulfone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 2,
4-dichlorobenzophenone and the like can be mentioned. The monomers q can be used alone or in combination of two or more.

【0017】さらに、式(1)において、構造単位rを
構成するモノマー(以下「モノマーr」ともいう)とし
ては、例えば、p−ジクロロベンゼン、p−ジブロモベ
ンゼン、p−ジヨードベンゼン、p−ジメチルスルフォ
ニロキシベンゼン、2,5−ジクロロトルエン、2,5
−ジブロモトルエン、2,5−ジヨードトルエン、2,
5−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、2,5−ジク
ロロ−p−キシレン、2,5−ジブロモ−p−キシレ
ン、2,5−ジヨード−p−キシレン、2,5−ジクロ
ロベンゾトリフルオライド、2,5−ジブロモベンゾト
リフルオライド、2,5−ジヨードベンゾトリフルオラ
イド、1,4−ジクロロ−2,3,5,6−テトラフル
オロベンゼン、1,4−ジブロモ−2,3,5,6−テ
トラフルオロベンゼン、1,4−ジヨード−2,3,
5,6−テトラフルオロベンゼン、2,5−ジクロロ安
息香酸、2,5−ジブロモ安息香酸、2,5−ジクロロ
安息香酸メチル、2,5−ジブロモ安息香酸メチル、
2,5−ジクロロ安息香酸−t−ブチル、2,5−ジブ
ロモ安息香酸−t−ブチル、3,6−ジクロロフタル酸
無水物などを挙げることができ、好ましくはp−ジクロ
ロベンゼン、p−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、
2,5−ジクロロトルエン、2,5−ジクロロベンゾト
リフルオライド、2,5−ジクロロベンゾフェノン、
2,5−ジクロロフェノキシベンゼンなどである。
Further, in the formula (1), the monomers constituting the structural unit r (hereinafter also referred to as “monomer r”) include, for example, p-dichlorobenzene, p-dibromobenzene, p-diiodobenzene, p-diiodobenzene, Dimethylsulfonyloxybenzene, 2,5-dichlorotoluene, 2,5
-Dibromotoluene, 2,5-diiodotoluene, 2,
5-dimethylsulfonyloxybenzene, 2,5-dichloro-p-xylene, 2,5-dibromo-p-xylene, 2,5-diiodo-p-xylene, 2,5-dichlorobenzotrifluoride, 2,5 -Dibromobenzotrifluoride, 2,5-diiodobenzotrifluoride, 1,4-dichloro-2,3,5,6-tetrafluorobenzene, 1,4-dibromo-2,3,5,6-tetrafluoro Benzene, 1,4-diiodo-2,3
5,6-tetrafluorobenzene, 2,5-dichlorobenzoic acid, 2,5-dibromobenzoic acid, methyl 2,5-dichlorobenzoate, methyl 2,5-dibromobenzoate,
Examples include t-butyl 2,5-dichlorobenzoate, t-butyl 2,5-dibromobenzoate, and 3,6-dichlorophthalic anhydride, and preferably p-dichlorobenzene and p-dimethyl. Sulfonyloxybenzene,
2,5-dichlorotoluene, 2,5-dichlorobenzotrifluoride, 2,5-dichlorobenzophenone,
2,5-dichlorophenoxybenzene and the like.

【0018】また、上記モノマーrとしては、例えば、
m−ジクロロベンゼン、m−ジブロモベンゼン、m−ジ
ヨードベンゼン、m−ジメチルスルフォニロキシベンゼ
ン、2,4−ジクロロトルエン、2,4−ジブロモトル
エン、2,4−ジヨードトルエン、3,5−ジクロロト
ルエン、3,5−ジブロモトルエン、3,5−ジヨード
トルエン、2,6−ジクロロトルエン、2,6−ジブロ
モトルエン、2,6−ジヨードトルエン、3,5−ジメ
チルスルフォニロキシトルエン、2,6−ジメチルスル
フォニロキシトルエン、2,4−ジクロロベンゾトリフ
ルオライド、2,4−ジブロモベンゾトリフルオライ
ド、2,4−ジヨードベンゾトリフルオライド、3,5
−ジクロロベンゾトリフルオライド、3,5−ジブロモ
トリフルオライド、3,5−ジヨードベンゾトリフルオ
ライド、1,3−ジブロモ−2,4,5,6−テトラフ
ルオロベンゼン、2,4−ジクロロベンジルアルコー
ル、3,5−ジクロロベンジルアルコール、2,4−ジ
ブロモベンジルアルコール、3,5−ジブロモベンジル
アルコール、3,5−ジクロロフェノール、3,5−ジ
ブロモフェノール、3,5−ジクロロ−t−ブトキシカ
ルボニロキシフェニル、3,5−ジブロモ−t−ブトキ
シカルボニロキシフェニル、2,4−ジクロロ安息香
酸、3,5−ジクロロ安息香酸、2,4−ジブロモ安息
香酸、3,5−ジブロモ安息香酸、2,4−ジクロロ安
息香酸メチル、3,5−ジクロロ安息香酸メチル、3,
5−ジブロモ安息香酸メチル、2,4−ジブロモ安息香
酸メチル、2,4−ジクロロ安息香酸−t−ブチル、
3,5−ジクロロ安息香酸−t−ブチル、2,4−ジブ
ロモ安息香酸−t−ブチル、3,5−ジブロモ安息香酸
−t−ブチルなどを挙げることもでき、好ましくはm−
ジクロロベンゼン、2,4−ジクロロトルエン、3,5
−ジメチルスルフォニロキシトルエン、2,4−ジクロ
ロベンゾトリフルオライド、2,4−ジクロロベンゾフ
ェノン、2,4−ジクロロフェノキシベンゼンなどであ
る。
Further, as the monomer r, for example,
m-dichlorobenzene, m-dibromobenzene, m-diiodobenzene, m-dimethylsulfonyloxybenzene, 2,4-dichlorotoluene, 2,4-dibromotoluene, 2,4-diiodotoluene, 3,5- Dichlorotoluene, 3,5-dibromotoluene, 3,5-diiodotoluene, 2,6-dichlorotoluene, 2,6-dibromotoluene, 2,6-diiodotoluene, 3,5-dimethylsulfonyloxytoluene, 2,6-dimethylsulfonyloxytoluene, 2,4-dichlorobenzotrifluoride, 2,4-dibromobenzotrifluoride, 2,4-diiodobenzotrifluoride, 3,5
-Dichlorobenzotrifluoride, 3,5-dibromotrifluoride, 3,5-diiodobenzotrifluoride, 1,3-dibromo-2,4,5,6-tetrafluorobenzene, 2,4-dichlorobenzyl alcohol, 3,5-dichlorobenzyl alcohol, 2,4-dibromobenzyl alcohol, 3,5-dibromobenzyl alcohol, 3,5-dichlorophenol, 3,5-dibromophenol, 3,5-dichloro-t-butoxycarbonyloxy Phenyl, 3,5-dibromo-t-butoxycarbonyloxyphenyl, 2,4-dichlorobenzoic acid, 3,5-dichlorobenzoic acid, 2,4-dibromobenzoic acid, 3,5-dibromobenzoic acid, 2, Methyl 4-dichlorobenzoate, methyl 3,5-dichlorobenzoate, 3,
Methyl 5-dibromobenzoate, methyl 2,4-dibromobenzoate, t-butyl 2,4-dichlorobenzoate,
Examples thereof include t-butyl 3,5-dichlorobenzoate, t-butyl 2,4-dibromobenzoate, and t-butyl 3,5-dibromobenzoate.
Dichlorobenzene, 2,4-dichlorotoluene, 3,5
-Dimethylsulfonyloxytoluene, 2,4-dichlorobenzotrifluoride, 2,4-dichlorobenzophenone, 2,4-dichlorophenoxybenzene and the like.

【0019】さらに、式(1)において、構造単位sを
構成するモノマー(以下「モノマーs」ともいう)とし
ては、例えば、4,4′−ビス(4−クロロベンゾイ
ル)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(3−クロロ
ベンゾイル)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(4
−ブロモベンゾイル)ジフェニルエーテル、4,4′−
ビス(3−ブロモベンゾイル)ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス(4−ヨードベンゾイル)ジフェニルエ
ーテル、4,4′−ビス(3−ヨードベンゾイル)ジフ
ェニルエーテル、4,4′−ビス(4−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシフェニル)ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス(3−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス
(4−メチルスルフォニロキシフェニル)ジフェニルエ
ーテル、4,4′−ビス(3−メチルスルフォニロキシ
フェニル)ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
Further, in the formula (1), as a monomer constituting the structural unit s (hereinafter also referred to as “monomer s”), for example, 4,4′-bis (4-chlorobenzoyl) diphenyl ether, 4,4 ′ -Bis (3-chlorobenzoyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4
-Bromobenzoyl) diphenyl ether, 4,4'-
Bis (3-bromobenzoyl) diphenyl ether,
4,4'-bis (4-iodobenzoyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (3-iodobenzoyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether,
4,4'-bis (3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (3-methylsulfonyloxyphenyl) ) Diphenyl ether and the like.

【0020】また、上記モノマーsとしては、例えば
4′−ビス(4−クロロベンゾイルアミノ)ジフェニル
エーテル、3,4′−ビス(4−クロロベンゾイルア
ミ)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(3−クロロ
ベンゾイルアミノ)ジフェニルエーテル、3,4′−ビ
ス(3−クロロベンゾイル)ジフェニルエーテル、4,
4′−ビス(4−ブロモベンゾイルアミノ)ジフェニル
エーテル、3,4′−ビス(4−ブロモベンゾイルアミ
ノ)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(3−ブロモ
ベンゾイルアミノ)ジフェニルエーテル、3,4′−ビ
ス(3−ブロモベンゾイルアミノ)ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス(4−ヨードベンゾイルアミノ)ジ
フェニルエーテル、3,4′−ビス(4−ヨードベンゾ
イルアミノ)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(3
−ヨードベンゾイルアミノ)ジフェニルエーテル、3,
4′−ビス(3−ヨードベンゾイルアミノ)ジフェニル
エーテル、4,4′−ビス(4−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニル)ジフェニルエーテル、3,
4′−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシ
フェニル)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(3−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル)ジフェ
ニルエーテル、3,4′−ビス(3−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシフェニル)ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス(4−メチルスルフォニロキシフェニ
ル)ジフェニルエーテル、3,4′−ビス(4−メチル
スルフォニロキシフェニル)ジフェニルエーテル、4,
4′−ビス(3−メチルスルフォニロキシフェニル)ジ
フェニルエーテル、3,4′−ビス(3−メチルスルフ
ォニロキシフェニル)ジフェニルエーテルなどが挙げら
れる。
Examples of the monomer s include, for example, 4'-bis (4-chlorobenzoylamino) diphenyl ether, 3,4'-bis (4-chlorobenzoylami) diphenyl ether and 4,4'-bis (3-chloro Benzoylamino) diphenyl ether, 3,4'-bis (3-chlorobenzoyl) diphenyl ether, 4,
4'-bis (4-bromobenzoylamino) diphenyl ether, 3,4'-bis (4-bromobenzoylamino) diphenyl ether, 4,4'-bis (3-bromobenzoylamino) diphenyl ether, 3,4'-bis ( 3-bromobenzoylamino) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-iodobenzoylamino) diphenyl ether, 3,4'-bis (4-iodobenzoylamino) diphenyl ether, 4,4'-bis (3
-Iodobenzoylamino) diphenyl ether, 3,
4'-bis (3-iodobenzoylamino) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether, 3,
4'-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (3-
Trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether, 3,4′-bis (3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether,
4,4'-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether, 3,4'-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether, 4,
Examples thereof include 4'-bis (3-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether and 3,4'-bis (3-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether.

【0021】さらに、上記モノマーsとしては、例えば
4,4′−ビス(4−クロロフェニルスルホニル)ジフ
ェニルエーテル、4′−ビス(4−クロロフェニルスル
ホニル)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(3−ク
ロロフェニルスルホニル)ジフェニルエーテル、3,
4′−ビス(3−クロロフェニルスルホニル)ジフェニ
ルエーテル、4,4′−ビス(4−ブロモフェニルスル
ホニル)ジフェニルエーテル、4′−ビス(4−ブロモ
フェニルスルホニル)ジフェニルエーテル、4,4′−
ビス(3−ブロモフェニルスルホニル)ジフェニルエー
テル、3,4′−ビス(3−ブロモフェニルスルホニ
ル)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス(4−ヨード
フェニルスルホニル)ジフェニルエーテル、4′−ビス
(4−ヨードフェニルスルホニル)ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス(3−ヨードフェニルスルホニル)
ジフェニルエーテル、3,4′−ビス(3−ヨードフェ
ニルスルホニル)ジフェニルエーテル、4,4′−ビス
(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニスル
ホニル)ジフェニルエーテル、4′−ビス(4−トリフ
ルオロメチルスルフォニロキシフェニルスルホニル)ジ
フェニルエーテル、4,4′−ビス(3−トリフルオロ
メチルスルフォニロキシフェニスルホニル)ジフェニル
エーテル、3,4′−ビス(3−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニルスルホニル)ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス(4−メチルスルフォニロキシフェ
ニスルホニル)ジフェニルエーテル、4′−ビス(4−
メチルスルフォニロキシフェニルスルホニル)ジフェニ
ルエーテル、4,4′−ビス(3−メチルスルフォニロ
キシフェニスルホニル)ジフェニルエーテル、3,4′
−ビス(3−メチルスルフォニロキシフェニルスルホニ
ル)ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
Further, as the monomer s, for example, 4,4'-bis (4-chlorophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4'-bis (4-chlorophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (3-chlorophenylsulfonyl) Diphenyl ether, 3,
4'-bis (3-chlorophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-bromophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4'-bis (4-bromophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-
Bis (3-bromophenylsulfonyl) diphenyl ether, 3,4'-bis (3-bromophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-iodophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4'-bis (4-iodophenylsulfonyl) ) Diphenyl ether, 4,4'-bis (3-iodophenylsulfonyl)
Diphenyl ether, 3,4'-bis (3-iodophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenisulfonyl) diphenyl ether, 4'-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxy) Phenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (3-trifluoromethylsulfonyloxyphenylisulfonyl) diphenyl ether, 3,4'-bis (3-trifluoromethylsulfonyloxyphenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'- Bis (4-methylsulfonyloxyphenisulfonyl) diphenyl ether, 4'-bis (4-
Methylsulfonyloxyphenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (3-methylsulfonyloxyphenisulfonyl) diphenyl ether, 3,4 '
-Bis (3-methylsulfonyloxyphenylsulfonyl) diphenyl ether and the like.

【0022】さらに、上記モノマーsとしては、例えば
4,4′−ビス(4−クロロフェニル)ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、3,4′−ビス(4−クロロ
フェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
4,4′−ビス(3−クロロフェニル)ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、3,4′−ビス(3−クロロ
フェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
4,4′−ビス(4−ブロモフェニル)ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、3,4′−ビス(4−ブロモ
フェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
4,4′−ビス(3−ブロモフェニル)ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、3,4′−ビス(3−ブロモ
フェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
4′−ビス(4−ヨードフェニル)ジフェニルエーテル
ジカルボキシレート、3,4′−ビス(4−ヨードフェ
ニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、4,
4′−ビス(3−ヨードフェニル)ジフェニルエーテル
ジカルボキシレート、3,4′−ビス(3−ヨードフェ
ニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、4,
4′−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシ
フェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
3,4′−ビス(4−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレー
ト、4,4′−ビス(3−トリフルオロメチルスルフォ
ニロキシフェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレ
ート、3,4′−ビス(3−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシ
レート、4,4′−ビス(4−メチルスルフォニロキシ
フェニル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
3,4′−ビス(4−メチルスルフォニロキシフェニ
ル)ジフェニルエーテルジカルボキシレート、4,4′
−ビス(3−メチルスルフォニロキシフェニル)ジフェ
ニルエーテルジカルボキシレート、3,4′−ビス(3
−メチルスルフォニロキシフェニル)ジフェニルエーテ
ルジカルボキシレートなどが挙げられる。
Further, as the monomer s, for example, 4,4'-bis (4-chlorophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (4-chlorophenyl) diphenyl ether dicarboxylate,
4,4'-bis (3-chlorophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (3-chlorophenyl) diphenyl ether dicarboxylate,
4,4'-bis (4-bromophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (4-bromophenyl) diphenyl ether dicarboxylate,
4,4'-bis (3-bromophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (3-bromophenyl) diphenyl ether dicarboxylate,
4'-bis (4-iodophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (4-iodophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 4,
4'-bis (3-iodophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (3-iodophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 4,
4'-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate,
3,4'-bis (4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 4,4'-bis (3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 4,4'-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate,
3,4'-bis (4-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 4,4 '
-Bis (3-methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 3,4'-bis (3
-Methylsulfonyloxyphenyl) diphenyl ether dicarboxylate.

【0023】さらに、上記モノマーsとしては、例えば
4,4′−ビス〔(4−クロロフェニル)−1,1,
1,3,3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニル
エーテル、3,4′−ビス〔(4−クロロフェニル)−
1,1,1,3,3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、4,4′−ビス〔(3−クロロフェ
ニル)−1,1,1,3,3,3―ヘキサフルオロプロ
ピル〕ジフェニルエーテル、3,4′−ビス〔(3−ク
ロロフェニル)−1,1,1,3,3,3―ヘキサフル
オロプロピル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス
[(4−ブロモフェニル)−1,1,1,3,3,3―
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、3,
4′−ビス〔(4−ブロモフェニル)−1,1,1,
3,3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエー
テル、4,4′−ビス〔(3−ブロモフェニル)−1,
1,1,3,3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェ
ニルエーテル、3,4′−ビス〔(3−ブロモフェニ
ル)−1,1,1,3,3,3―ヘキサフルオロプロピ
ル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(4−ヨー
ドフェニル)−1,1,1,3,3,3―ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、3,4′−ビス
〔(4−ヨードフェニル)−1,1,1,3,3,3―
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、4′−
ビス〔(3−ヨードフェニル)−1,1,1,3,3,
3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、
3,4′−ビス〔(3−ヨードフェニル)−1,1,
1,3,3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニル
エーテル、4,4′−ビス〔(4−トリフルオロメチル
スルフォニロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3
―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、3,
4′−ビス〔(4−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シフェニル)−1,1,1,3,3,3―ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、4′−ビス〔(3−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル)−1,
1,1,3,3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェ
ニルエーテル、3,4′−ビス〔(3−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシフェニル)−1,1,1,3,
3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス〔(4−メチルスルフォニロキシフ
ェニル)−1,1,1,3,3,3―ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、3,4′−ビス〔(4−
メチルスルフォニロキシフェニル)−1,1,1,3,
3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス〔(3−メチルスルフォニロキシフ
ェニル)−1,1,1,3,3,3―ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、3,4′−ビス〔(3−
メチルスルフォニロキシフェニル)−1,1,1,3,
3,3―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル
などが挙げられる。
Further, as the monomer s, for example, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl) -1,1,1
1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,4'-bis [(4-chlorophenyl)-
1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-chlorophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, , 4'-bis [(3-chlorophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-bromophenyl) -1,1,1,1 3,3,3-
Hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,
4'-bis [(4-bromophenyl) -1,1,1,1
3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-bromophenyl) -1,
1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,4′-bis [(3-bromophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4, 4'-bis [(4-iodophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,4'-bis [(4-iodophenyl) -1,1,1,1 3,3,3-
Hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4'-
Bis [(3-iodophenyl) -1,1,1,3,3
3-hexafluoropropyl] diphenyl ether,
3,4'-bis [(3-iodophenyl) -1,1,1
1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) -1,1,1,3,3,3
-Hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,
4'-bis [(4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4'-bis [(3-
Trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) -1,
1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,4′-bis [(3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) -1,1,1,3,3
3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-methylsulfonyloxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,4'- Screw [(4-
Methylsulfonyloxyphenyl) -1,1,1,3,
3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-methylsulfonyloxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 3,4'- Screw [(3-
Methylsulfonyloxyphenyl) -1,1,1,3,
3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether.

【0024】さらに、上記モノマーsとしては、例えば
4,4′−ビス〔(4−クロロフェニル)テトラフルオ
ロエチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(3
−クロロフェニル)テトラフルオロエチル〕ジフェニル
エーテル、4,4′−ビス〔(4−クロロフェニル)ヘ
キサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、4,4′
−ビス〔(3−クロロフェニル)ヘキサフルオロプロピ
ル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(4−クロ
ロフェニル)オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス〔(3−クロロフェニル)オクタフ
ルオロブチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス
〔(4−クロロフェニル)デカフルオロペンチル〕ジフ
ェニルエーテル、4,4′−ビス〔(3−クロロフェニ
ル)デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、4,
4′−ビス〔(4−ブロモフェニル)テトラフルオロエ
チル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(3−ブ
ロモフェニル)テトラフルオロエチル〕ジフェニルエー
テル、4,4′−ビス〔(4−ブロモフェニル)ヘキサ
フルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビ
ス〔(3−ブロモフェニル)ヘキサフルオロプロピル〕
ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(4−ブロモフ
ェニル)オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス〔(3−ブロモフェニル)オクタフルオ
ロブチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(4
−ブロモフェニル)デカフルオロペンチル〕ジフェニル
エーテル、4,4′−ビス〔(3−ブロモフェニル)デ
カフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−
ビス〔(4−ヨードフェニル)テトラフルオロエチル〕
ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(3−ヨードフ
ェニル)テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス〔(4−ヨードフェニル)ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス
〔(3−ヨードフェニル)ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、4,4′−ビス〔(4−ヨードフェ
ニル)オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス〔(3−ヨードフェニル)オクタフルオ
ロブチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(4
−ヨードフェニル)デカフルオロペンチル〕ジフェニル
エーテル、4,4′−ビス〔(3−ヨードフェニル)デ
カフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−
ビス〔(4−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェ
ニル)テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス〔(3−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシフェニル)テトラフルオロエチル〕ジフェニルエ
ーテル、4,4′−ビス〔(4−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニル)ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、4,4′−ビス〔(3−トリフルオ
ロメチルスルフォニロキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス〔(4−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル)オクタ
フルオロブチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス
〔(3−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニ
ル)オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、4,
4′−ビス〔(4−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シフェニル)デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス〔(3−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシ)デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテ
ル、4,4′−ビス〔(4−メチルスルフォニロキシフ
ェニル)テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
4,4′−ビス〔(3−メチルスルフォニロキシフェニ
ル)テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、4,
4′−ビス〔(4−メチルスルフォニロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、4,
4′−ビス〔(3−メチルスルフォニロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、4,
4′−ビス〔(4−メチルスルフォニロキシフェニル)
オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、4,4′
−ビス〔(3−メチルスルフォニロキシフェニル)オク
タフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビ
ス〔(4−メチルスルフォニロキシフェニル)デカフル
オロペンチル〕ジフェニルエーテル、4,4′−ビス
〔(3−メチルスルフォニロキシ)デカフルオロペンチ
ル〕ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
Further, as the monomer s, for example, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3
-Chlorophenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl) hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4 '
-Bis [(3-chlorophenyl) hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-chlorophenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-chlorophenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether,
4'-bis [(4-bromophenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-bromophenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-bromophenyl) hexa Fluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-bromophenyl) hexafluoropropyl]
Diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-bromophenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether,
4,4'-bis [(3-bromophenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4
-Bromophenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-bromophenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'-
Bis [(4-iodophenyl) tetrafluoroethyl]
Diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-iodophenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether,
4,4'-bis [(4-iodophenyl) hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-iodophenyl) hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-iodophenyl) ) Octafluorobutyl] diphenyl ether,
4,4'-bis [(3-iodophenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4
-Iodophenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-iodophenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'-
Bis [(4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether,
4,4'-bis [(3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4'-bis [(3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-
Trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether, 4,4′-bis [(3-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether,
4'-bis [(4-trifluoromethylsulfonyloxyphenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3-trifluoromethylsulfonyloxy) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'- Bis [(4-methylsulfonyloxyphenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether,
4,4'-bis [(3-methylsulfonyloxyphenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether;
4'-bis [(4-methylsulfonyloxyphenyl)
Hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,
4'-bis [(3-methylsulfonyloxyphenyl)
Hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,
4'-bis [(4-methylsulfonyloxyphenyl)
Octafluorobutyl] diphenyl ether, 4,4 '
-Bis [(3-methylsulfonyloxyphenyl) octafluorobutyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-methylsulfonyloxyphenyl) decafluoropentyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(3- Methylsulfonyloxy) decafluoropentyl] diphenyl ether and the like.

【0025】また、上記モノマーp〜s以外にも、例え
ば、o−ジクロロベンゼン、o−ジブロモベンゼン、o
−ジヨードベンゼン、o−ジメチルスルフォニロキシベ
ンゼン、2,3−ジクロロトルエン、2,3−ジブロモ
トルエン、2,3−ジヨードトルエン、3,4−ジクロ
ロトルエン、3,4−ジブロモトルエン、3,4−ジヨ
ードトルエン、2,3−ジメチルスルフォニロキシベン
ゼン、3,4−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、
3,4−ジクロロベンゾトリフルオライド、3,4−ジ
ブロモベンゾトリフルオライド、3,4−ジヨードベン
ゾトリフルオライド、1,2−ジブロモ−3,4,5,
6−テトラフルオロベンゼン、4,5−ジクロロフタル
酸無水物などを共重合させることができる。
In addition to the above monomers p to s, for example, o-dichlorobenzene, o-dibromobenzene, o-dichlorobenzene,
-Diiodobenzene, o-dimethylsulfonyloxybenzene, 2,3-dichlorotoluene, 2,3-dibromotoluene, 2,3-diiodotoluene, 3,4-dichlorotoluene, 3,4-dibromotoluene, 3 2,4-diiodotoluene, 2,3-dimethylsulfonyloxybenzene, 3,4-dimethylsulfonyloxybenzene,
3,4-dichlorobenzotrifluoride, 3,4-dibromobenzotrifluoride, 3,4-diiodobenzotrifluoride, 1,2-dibromo-3,4,5
6-Tetrafluorobenzene, 4,5-dichlorophthalic anhydride and the like can be copolymerized.

【0026】ポリアリーレン中の繰り返し構造単位の割
合は、上記式(1)において、pが0〜100モル%、
qが0〜100モル%、rが0〜100モル%、sが0
〜100モル%、好ましくは、pが50〜100モル
%、qが0〜50モル%、rが50〜100モル%、s
が0〜50モル%(ただし、p+q+r+s=100モ
ル%)である。
The proportion of the repeating structural unit in the polyarylene is as follows: in the above formula (1), p is 0 to 100 mol%;
q is 0 to 100 mol%, r is 0 to 100 mol%, and s is 0
-100 mol%, preferably p is 50-100 mol%, q is 0-50 mol%, r is 50-100 mol%, s
Is 0 to 50 mol% (however, p + q + r + s = 100 mol%).

【0027】本発明に用いられるポリアリーレンを製造
する際に用いられる触媒は、遷移金属化合物を含む触媒
系が好ましく、この触媒系としては、遷移金属塩およ
び配位子、または配位子が配位された遷移金属(塩)、
ならびに還元剤を必須成分とし、さらに、重合速度を
上げるために、「塩」を添加してもよい。
The catalyst used for producing the polyarylene used in the present invention is preferably a catalyst system containing a transition metal compound. As the catalyst system, a transition metal salt and a ligand or a ligand are used. Transition metal (salt),
In addition, a reducing agent may be used as an essential component, and a “salt” may be added to increase the polymerization rate.

【0028】ここで、遷移金属塩としては、塩化ニッケ
ル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、ニッケルアセチル
アセトナートなどのニッケル化合物、塩化パラジウム、
臭化パラジウム、ヨウ化パラジウムなどのパラジウム化
合物、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などの鉄化合物、塩化
コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルトなどのコバル
ト化合物などを挙げることができる。これらのうち特
に、塩化ニッケル、臭化ニッケルなどが好ましい。
Here, the transition metal salt includes nickel compounds such as nickel chloride, nickel bromide, nickel iodide and nickel acetylacetonate; palladium chloride;
Examples include palladium compounds such as palladium bromide and palladium iodide, iron compounds such as iron chloride, iron bromide and iron iodide, and cobalt compounds such as cobalt chloride, cobalt bromide and cobalt iodide. Of these, nickel chloride and nickel bromide are particularly preferred.

【0029】また、配位子としては、トリフェニルホス
フィン、2,2′−ビピリジン、1,5−シクロオクタ
ジエン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパ
ンなどを挙げることができるが、トリフェニルホスフィ
ン、2,2′−ビピリジンが好ましい。上記配位子は、
1種単独でまたは2種以上を組合わせて用いることがで
きる。
Examples of the ligand include triphenylphosphine, 2,2'-bipyridine, 1,5-cyclooctadiene and 1,3-bis (diphenylphosphino) propane. Phenylphosphine and 2,2'-bipyridine are preferred. The ligand is
One type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

【0030】さらに、あらかじめ配位子が配位された遷
移金属(塩)としては、例えば、塩化ニッケル2トリフ
ェニルホスフィン、臭化ニッケル2トリフェニルホスフ
ィン、ヨウ化ニッケル2トリフェニルホスフィン、硝酸
ニッケル2−トリフェニルホスフィン、塩化ニッケル
2,2′ビピリジン、臭化ニッケル2,2′ビピリジ
ン、ヨウ化ニッケル2,2′ビピリジン、硝酸ニッケル
2,2′ビピリジン、ビス(1,5−シクロオクタジエ
ン)ニッケル、テトラキス(トリフェニルホスフィン)
ニッケル、テトラキス(トリフェニルホスファイト)ニ
ッケル、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウムなどを挙げることができるが、塩化ニッケル2トリ
フェニルホスフィン、塩化ニッケル2,2′ビピリジン
が好ましい。
Further, as the transition metal (salt) to which a ligand has been previously coordinated, for example, nickel chloride 2 triphenylphosphine, nickel bromide 2 triphenylphosphine, nickel iodide 2 triphenylphosphine, nickel nitrate 2 -Triphenylphosphine, nickel chloride 2,2 'bipyridine, nickel bromide 2,2' bipyridine, nickel iodide 2,2 'bipyridine, nickel nitrate 2,2' bipyridine, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel , Tetrakis (triphenylphosphine)
Nickel, tetrakis (triphenylphosphite) nickel, tetrakis (triphenylphosphine) palladium and the like can be mentioned, and nickel chloride2triphenylphosphine and nickel chloride2,2'bipyridine are preferable.

【0031】このような触媒系において使用することが
できる上記還元剤としては、例えば、鉄、亜鉛、マンガ
ン、アルミニウム、マグネシウム、ナトリウム、カルシ
ウムなどを挙げることできるが、亜鉛、マンガンが好ま
しい。これらの還元剤は、酸や有機酸に接触させること
により、より活性化して用いることができる。
Examples of the above-mentioned reducing agent which can be used in such a catalyst system include iron, zinc, manganese, aluminum, magnesium, sodium, calcium and the like, and zinc and manganese are preferred. These reducing agents can be used after being activated by contact with an acid or an organic acid.

【0032】また、このような触媒系において使用する
ことのできる「塩」としては、フッ化ナトリウム、塩化
ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硫酸
ナトリウムなどのナトリウム化合物、フッ化カリウム、
塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、硫酸カ
リウムなどのカリウム化合物、フッ化テトラエチルアン
モニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ
エチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウ
ム、硫酸テトラエチルアンモニウムなどのアンモニウム
化合物などを挙げることができるが、臭化ナトリウム、
ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テトラエチルア
ンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウムが好まし
い。
The "salt" which can be used in such a catalyst system includes sodium compounds such as sodium fluoride, sodium chloride, sodium bromide, sodium iodide and sodium sulfate, potassium fluoride, and the like.
Potassium compounds such as potassium chloride, potassium bromide, potassium iodide, and potassium sulfate; and ammonium compounds such as tetraethylammonium fluoride, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, and tetraethylammonium sulfate can be given. But sodium bromide,
Preferred are sodium iodide, potassium bromide, tetraethylammonium bromide and tetraethylammonium iodide.

【0033】このような触媒系における各成分の使用割
合は、遷移金属塩または配位子が配位された遷移金属
(塩)が、上記モノマーp〜sの総量1モルに対し、通
常、0.0001〜10モル、好ましくは0.01〜
0.5モルである。0.0001モル未満であると、重
合反応が充分に進行せず、一方、10モルを超えると、
分子量が低下することがある。
The proportion of each component used in such a catalyst system is such that the transition metal salt or the transition metal (salt) to which the ligand is coordinated is usually 0 to 1 mol of the total amount of the monomers p to s. 0.0001 to 10 mol, preferably 0.01 to
0.5 mole. When the amount is less than 0.0001 mol, the polymerization reaction does not sufficiently proceed.
The molecular weight may decrease.

【0034】このような触媒系において、遷移金属塩お
よび配位子を用いる場合、この配位子の使用割合は、遷
移金属塩1モルに対し、通常、0.1〜100モル、好
ましくは1〜10モルである。0.1モル未満では、触
媒活性が不充分となり、一方、100モルを超えると、
分子量が低下するという問題がある。
When a transition metal salt and a ligand are used in such a catalyst system, the ligand is used in an amount of usually 0.1 to 100 mol, preferably 1 to 100 mol, per mol of the transition metal salt. 10 to 10 mol. If the amount is less than 0.1 mol, the catalytic activity becomes insufficient.
There is a problem that the molecular weight decreases.

【0035】また、触媒系における還元剤の使用割合
は、モノマーp〜sの総量1モルに対し、通常、0.1
〜100モル、好ましくは1〜10モルである。0.1
モル未満であると、重合が充分進行せず、100モルを
超えると、得られるポリアリーレンの精製が困難になる
ことがある。
The proportion of the reducing agent used in the catalyst system is usually 0.1 to 1 mol of the total amount of the monomers p to s.
100100 mol, preferably 1-10 mol. 0.1
If it is less than 100 moles, the polymerization does not proceed sufficiently, and if it exceeds 100 moles, the resulting polyarylene may be difficult to purify.

【0036】さらに、触媒系に「塩」を使用する場合、
その使用割合は、上記モノマーp〜sの総量1モルに対
し、通常、0.001〜100モル、好ましくは0.0
1〜1モルである。0.001モル未満であると、重合
速度を上げる効果が不充分であり、100モルを超える
と、得られるポリアリーレンの精製が困難となることが
ある。
Further, when a “salt” is used in the catalyst system,
The use ratio is usually 0.001 to 100 mol, preferably 0.0 to 1 mol based on 1 mol of the total amount of the monomers p to s.
1 to 1 mol. If the amount is less than 0.001 mol, the effect of increasing the polymerization rate is insufficient, and if it exceeds 100 mol, it may be difficult to purify the resulting polyarylene.

【0037】本発明で使用することのできる重合溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノ
ン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2
−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタ
ムなどを挙げることができ、テトラヒドロフラン、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、1−メチル−2−ピロリドンが好ましい。これら
の重合溶媒は、充分に乾燥してから用いることが好まし
い。
Examples of the polymerization solvent that can be used in the present invention include tetrahydrofuran, cyclohexanone, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2.
-Pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, etc., and tetrahydrofuran, N,
N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2-pyrrolidone are preferred. These polymerization solvents are preferably used after being sufficiently dried.

【0038】重合溶媒中における上記モノマーp〜sの
総量の濃度は、通常、1〜100重量%、好ましくは5
〜40重量%である。
The concentration of the total amount of the monomers p to s in the polymerization solvent is usually 1 to 100% by weight, preferably 5 to 100% by weight.
4040% by weight.

【0039】また、本発明のポリアリーレンを重合する
際の重合温度は、通常、0〜200℃、好ましくは50
〜80℃である。また、重合時間は、通常、0.5〜1
00時間、好ましくは1〜40時間である。なお、本発
明に用いられるポリアリーレンのポリスチレン換算の重
量平均分子量は、通常、1,000〜1,000,00
0である。
The polymerization temperature for polymerizing the polyarylene of the present invention is usually 0 to 200 ° C., preferably 50 to 200 ° C.
8080 ° C. The polymerization time is usually 0.5 to 1
00 hours, preferably 1 to 40 hours. The polyarylene used in the present invention generally has a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 1,000 to 1,000,000.
0.

【0040】本発明のプロトン伝導膜に用いられるスル
ホン化ポリアリーレンは、スルホン酸基を有しない上記
ポリアリーレンに、スルホン化剤を用い、常法によりス
ルホン酸基を導入することにより得ることができる。ス
ルホン酸基を導入する方法としては、例えば、上記ポリ
アリーレンを、無水硫酸、発煙硫酸、クロルスルホン
酸、硫酸、亜硫酸水素ナトリウムなどの公知のスルホン
化剤を用いて、公知の条件でスルホン化することができ
る〔Polymer Preprints,Japa
n,Vol.42,No.3,p.730(199
3);Polymer Preprints,Japa
n,Vol.42,No.3,p.736(199
4);Polymer Preprints,Japa
n,Vol.42,No.7,p.2490〜2492
(1993)〕。
The sulfonated polyarylene used in the proton conductive membrane of the present invention can be obtained by introducing a sulfonic acid group into the above-mentioned polyarylene having no sulfonic acid group by using a sulfonating agent and using a conventional method. . As a method for introducing a sulfonic acid group, for example, the above polyarylene is sulfonated under known conditions using a known sulfonating agent such as sulfuric anhydride, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, sulfuric acid, sodium hydrogen sulfite, or the like. [Polymer Preprints, Japan
n, Vol. 42, no. 3, p. 730 (199
3); Polymer Preprints, Japan
n, Vol. 42, no. 3, p. 736 (199
4); Polymer Preprints, Japan
n, Vol. 42, no. 7, p. 2490-2492
(1993)].

【0041】すなわち、このスルホン化の反応条件とし
ては、上記ポリアリーレンを、無溶剤下、あるいは溶剤
存在下で、上記スルホン化剤と反応させる。溶剤として
は、例えばn−ヘキサンなどの炭化水素溶剤、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、N,N
−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ドのような非プロトン系極性溶剤のほか、テトラクロロ
エタン、ジクロロエタン、クロロホルム、塩化メチレン
などのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。反応温度
は、特に制限はないが、通常、−50〜200℃、好ま
しくは−10〜100℃である。また、反応時間は、通
常、0.5〜1,000時間、好ましくは1〜200時
間である。
That is, as the reaction conditions for the sulfonation, the polyarylene is reacted with the sulfonating agent in the absence or presence of a solvent. Examples of the solvent include hydrocarbon solvents such as n-hexane, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, N, N
Aprotic polar solvents such as -dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone and dimethylsulfoxide, and halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethane, dichloroethane, chloroform and methylene chloride. Can be The reaction temperature is not particularly limited, but is generally -50 to 200C, preferably -10 to 100C. The reaction time is usually 0.5 to 1,000 hours, preferably 1 to 200 hours.

【0042】このようにして得られる、上記スルホン化
ポリアリーレン中の、スルホン酸基量は、重合体を構成
する単位p〜rの1ユニットに対して、通常、0.05
〜2個、好ましくは0.3〜1.5個である。0.05
個未満では、プロトン伝導性が上がらず、一方2個を超
えると、親水性が向上し、水溶性ポリマーとなってしま
うか、また水溶性に至らずとも耐久性が低下する。
The amount of the sulfonic acid group in the sulfonated polyarylene thus obtained is usually 0.05 to 1 unit of the units p to r constituting the polymer.
22, preferably 0.3-1.5. 0.05
If the number is less than 2, the proton conductivity does not increase. On the other hand, if the number exceeds 2, the hydrophilicity is improved and the polymer becomes a water-soluble polymer.

【0043】また、このようにして得られるスルホン化
ポリアリーレンは、スルホン化前のベースポリマーの分
子量が、ポリスチレン換算重量平均分子量で1,000
〜1,000,000、好ましくは1,500〜30
0,000である。1,000未満では、成形フィルム
にクラックが発生するなど、塗膜性が不充分であり、ま
た強度的性質にも問題がある。一方、1,000,00
0を超えると、溶解性が不充分となり、また溶液粘度が
高く、加工性が不良になるなどの問題がある。
The sulfonated polyarylene thus obtained has a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 1,000 before the sulfonation of the base polymer.
~ 1,000,000, preferably 1,500 ~ 30
000. If it is less than 1,000, the film properties are insufficient, such as cracks in the molded film, and there is a problem in the strength properties. On the other hand, 1,000,000
If it exceeds 0, there are problems such as insufficient solubility, high solution viscosity, and poor processability.

【0044】なお、本発明に用いられるスルホン化ポリ
アリーレンは、上記スルホン化物以外に、硫酸、リン酸
などの無機酸、カルボン酸を含む有機酸、適量の水など
を併用しても良い。
The sulfonated polyarylene used in the present invention may be used in combination with an inorganic acid such as sulfuric acid or phosphoric acid, an organic acid containing a carboxylic acid, or an appropriate amount of water, in addition to the above sulfonated product.

【0045】以上の(A)〜(B)成分中の(A)成分
と(B)成分の使用割合は、(A)成分が2〜40重量
%、好ましくは2〜25重量%、(B)成分が98〜6
0重量%、好ましくは2〜40重量%〔ただし、(A)
+(B)=100重量%〕である。(A)成分が2重量
%未満〔(B)成分が98重量%を超える〕では、靱性
改良の効果がほとんどなく、一方、(A)成分が40重
量%を超える〔(B)成分が60重量%未満〕と、強度
や弾性率の低下が大きく好ましくない。
In the above components (A) and (B), the components (A) and (B) are used in an amount of 2 to 40% by weight, preferably 2 to 25% by weight, ) 98 to 6 components
0% by weight, preferably 2 to 40% by weight [however, (A)
+ (B) = 100% by weight]. When the amount of the component (A) is less than 2% by weight (the amount of the component (B) exceeds 98% by weight), there is almost no effect of improving the toughness, while the amount of the component (A) exceeds 40% by weight (the amount of the component (B) is 60%). % By weight] undesirably greatly reduces the strength and elastic modulus.

【0046】プロトン伝導膜 本発明のプロトン伝導性に優れた伝導膜を製造するに
は、例えば、(A)ポリエチレングリコールまたはその
誘導体と(B)スルホン化ポリアリーレンとを、例え
ば、共通溶剤に溶解したのち、キャスティングによりフ
ィルム状に成形するキャスティング法などにより、
(A)〜(B)成分の混合物からなる伝導膜を製造する
方法が挙げられる。
Proton Conducting Membrane To produce the conductive membrane having excellent proton conductivity of the present invention, for example, (A) polyethylene glycol or a derivative thereof and (B) sulfonated polyarylene are dissolved in, for example, a common solvent. After that, by casting method such as forming into a film by casting,
A method for producing a conductive film composed of a mixture of the components (A) and (B) is exemplified.

【0047】ここで、キャスティング法における溶剤と
しては、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメ
チルスルホキシドなどの非プロトン系極性溶剤やメタノ
ールなどのアルコール系溶剤などが挙げられる。この際
のポリマー濃度は、通常、5〜50重量%、好ましくは
10〜30重量%である。また、キャスティング法によ
る製膜後、30〜100℃、好ましくは50〜80℃で
10〜180分、好ましくは15〜60分乾燥し、次い
で、好ましくは、500mmHg〜0.1mmHgの減
圧下、50〜150℃で0.5〜24時間、真空乾燥す
ることにより、プロトン伝導膜を得ることができる。
Here, the solvent in the casting method includes aprotic polar solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone and dimethylsulfoxide, and alcohol solvents such as methanol. Solvents and the like. The polymer concentration at this time is usually 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight. After film formation by the casting method, the film is dried at 30 to 100 ° C., preferably 50 to 80 ° C. for 10 to 180 minutes, preferably 15 to 60 minutes, and then preferably dried under reduced pressure of 500 mmHg to 0.1 mmHg. Vacuum drying at a temperature of about 150 ° C. for 0.5 to 24 hours can provide a proton conductive membrane.

【0048】なお、(A)成分として、重合性官能基を
含むポリエチレングリコールのマクロマーを用いる場
合、通常、ラジカル重合開始剤として、過酸化ベンゾイ
ル、過酸化ラウロイル、クメンヒドロペルオキシド、t
−ブチルパーオキシアセテート、1,1−ビス(t−ブ
チルパーオキシ)シクロヘキサン、t−クミルパーオキ
サイド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオ
キシジカーボネートなどの有機過酸化物が、これらモノ
マー類に対し、通常、0.01〜10重量%、好ましく
は0.1〜5重量%程度用いられる。また、この際、キ
ャスティングによる製膜後、50〜200℃、好ましく
は60〜150℃で、10〜180分、好ましくは15
〜60分乾燥し、次いで、好ましくは、500mmHg
〜0.1mmHgの減圧下、50〜150℃で0.5〜
24時間、加熱・真空乾燥することにより、硬化したプ
ロトン伝導膜が得られる。
When a macromer of polyethylene glycol containing a polymerizable functional group is used as the component (A), benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, cumene hydroperoxide, t
Organic peroxides such as -butylperoxyacetate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-cumyl peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and the like; On the other hand, it is usually used in an amount of about 0.01 to 10% by weight, preferably about 0.1 to 5% by weight. At this time, after the film is formed by casting, the film is formed at 50 to 200 ° C., preferably 60 to 150 ° C., for 10 to 180 minutes, preferably 15 to 180 minutes.
Dry for ~ 60 minutes, then preferably at 500 mmHg
0.5 to 0.1 mmHg under reduced pressure at 50 to 150 ° C.
By heating and vacuum drying for 24 hours, a cured proton conductive membrane is obtained.

【0049】本発明のプロトン伝導膜の乾燥膜厚は、通
常、10〜150μm、好ましくは20〜100μmで
ある。
The dry thickness of the proton conducting membrane of the present invention is usually 10 to 150 μm, preferably 20 to 100 μm.

【0050】本発明のプロトン伝導膜は、(A)ポリエ
チレングリコールまたはその誘導体を、(B)スルホン
化ポリアリーレンとを複合化することにより、プロトン
伝導性を損なうことなく、膜の延性化を図ることができ
る。したがって、本発明のプロトン伝導膜は、例えば一
次電池用電解質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子
固体電解質、表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、
固体コンデンサー、イオン交換膜などに利用可能なプロ
トン伝導性の伝導膜に利用可能である。
The proton conducting membrane of the present invention is made to be ductile without impairing proton conductivity by compounding (A) polyethylene glycol or a derivative thereof with (B) sulfonated polyarylene. be able to. Therefore, the proton conductive membrane of the present invention is, for example, an electrolyte for a primary battery, an electrolyte for a secondary battery, a polymer solid electrolyte for a fuel cell, a display element, various sensors, a signal transmission medium,
It can be used for proton conductive conductive membranes that can be used for solid capacitors, ion exchange membranes, etc.

【0051】[0051]

【実施例】以下、実施例を挙げ本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例中の各種の測定項目は、下記のよ
うにして求めた。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, various measurement items in the examples were obtained as follows.

【0052】数平均分子量、重量平均分子量 スルホン化前のポリマーの数平均分子量,重量平均分子
量は、溶媒にテトラヒドロフラン(THF)を用い、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によ
って、ポリスチレン換算の分子量を求めた。
Number average molecular weight, weight average molecular weight The number average molecular weight and weight average molecular weight of the polymer before sulfonation were determined by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent, and the molecular weight in terms of polystyrene was determined. Was.

【0053】スルホン化当量 得られたポリマーの水洗水が中性になるまで洗浄し、フ
リーの残存している酸を除いて、充分に水洗し、乾燥
後、所定量を秤量し、THF/水の混合溶剤に溶解し、
フェノールフタレインを指示薬とし、NaOHの標準液
にて滴定し、中和点から、スルホン化当量を求めた。
Sulfonation equivalent The obtained polymer was washed until the washing water became neutral, freed of remaining acid, washed well with water, dried, weighed out, and weighed in THF / water. Dissolved in a mixed solvent of
Using phenolphthalein as an indicator, titration was performed with a standard solution of NaOH, and the sulfonation equivalent was determined from the neutralization point.

【0054】引張強度 引張強度は、得られたフィルムの室温での引張試験によ
って測定した。弾性率 弾性率は、得られたフィルムの室温の引張試験の応力−
歪曲線の引張初期の傾きから計算した。フィルム耐折性 耐折試験機を用い、屈曲回数166回/分、荷重200
g、屈曲変形角度135°の条件で測定した。吸水率 室温で蒸留水にフィルムを1時間浸漬し、前後の重量変
化から求めた。
Tensile Strength Tensile strength was measured by a tensile test at room temperature of the obtained film. The modulus of elasticity is the stress minus the tensile test at room temperature of the resulting film.
Calculated from the initial slope of the strain curve. Using a folding tester for film bending resistance , the number of bending times was 166 times / min, and the load was 200
g, the bending deformation angle was measured at 135 °. Water absorption The film was immersed in distilled water for 1 hour at room temperature, and was determined from the change in weight before and after.

【0055】プロトン伝導度の測定 100%相対湿度下に置かれた直径13mmのフィルム
状試料を、白金電極に挟み、密閉セルに封入し、インピ
ーダンスアナライザー(HYP4192A)を用いて、
周波数5〜13MHz、印加電圧12mV、温度20
℃、50℃、100℃にてセルのインピーダンスの絶対
値と位相角を測定した。得られたデータは、コンピュー
タを用いて発振レベル12mVにて複素インピーダンス
測定を行い、プロトン伝導率を算出した。
Measurement of Proton Conductivity A 13 mm-diameter film-like sample placed under 100% relative humidity was sandwiched between platinum electrodes, sealed in a closed cell, and analyzed using an impedance analyzer (HYP4192A).
Frequency 5-13MHz, applied voltage 12mV, temperature 20
The absolute value of the impedance of the cell and the phase angle were measured at 50 ° C., 50 ° C., and 100 ° C. The obtained data was subjected to complex impedance measurement at an oscillation level of 12 mV using a computer to calculate proton conductivity.

【0056】実施例1 重量平均分子量14.5万のポリ(4−フェノキシベン
ゾイル−1,4−フェニレン)を濃硫酸でスルホン化し
たスルホン化物(繰り返し単位に対し、85モル%をス
ルホン化)100g、およびポリエチレングリコール
〔三洋化成工業(株)製、PEG−20000、数平均
分子量=20,000)10gをNMP1,000ml
に溶解させ、均一な溶液を得た。得られたポリマー溶液
を、PETフィルム上に流延し、100℃で1時間、さ
らに真空乾燥機で100℃で1昼夜乾燥し、乾燥膜厚5
0μmのフィルムを調製した。得られたフィルムの引っ
張り試験による強度、弾性率、フィルム耐折試験、プロ
トン伝導度を測定評価した。結果を表1に示す。
Example 1 100 g of a sulfonated product obtained by sulfonating poly (4-phenoxybenzoyl-1,4-phenylene) having a weight-average molecular weight of 145,000 with concentrated sulfuric acid (85 mol% of the repeating unit was sulfonated). , And 10 g of polyethylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industry Co., Ltd., PEG-20000, number average molecular weight = 20,000) in 1,000 ml of NMP.
To obtain a uniform solution. The obtained polymer solution was cast on a PET film and dried at 100 ° C. for 1 hour, and further dried at 100 ° C. for one day and night with a vacuum drier to obtain a dry film thickness of 5 μm.
A 0 μm film was prepared. The strength, elastic modulus, film folding test, and proton conductivity of the obtained film were measured and evaluated by a tensile test. Table 1 shows the results.

【0057】実施例2 実施例1で用いたポリアリーレンであるポリ(4−フェ
ノキシベンゾイル−1,4−フェニレン)の単独重合体
の代わりに、(4−フェノキシベンゾイル−1,4−フ
ェニレン)の繰り返しユニット(A)と(ジフェニルメ
タン−4,4′−ジイル)の繰り返しユニット(B)か
らなる共重合体〔共重合組成;(A)/(B)=90/
10%〕のスルホン化物〔ユニット(A)の90モル%
がスルホン化されている一方、ユニット(B)はスルホ
ン化されていない〕を用いた以外は、実施例1と同様に
してプロトン伝導膜を得た。結果を表1に示す。
Example 2 Instead of the homopolymer of poly (4-phenoxybenzoyl-1,4-phenylene), which is the polyarylene used in Example 1, (4-phenoxybenzoyl-1,4-phenylene) was used. Copolymer of repeating unit (A) and repeating unit (B) of (diphenylmethane-4,4'-diyl) [copolymer composition; (A) / (B) = 90 /
10%] (90 mol% of the unit (A))
Is not sulfonated, while the unit (B) is not sulfonated.] A proton conducting membrane was obtained in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0058】比較例1 実施例1で用いたポリアリーレンであるポリ(4−フェ
ノキシベンゾイル−1,4−フェニレン)のスルホン化
物の膜(膜厚50μm)の評価結果を表1に示す。
Comparative Example 1 Table 1 shows the evaluation results of the membrane (film thickness 50 μm) of the sulfonated product of poly (4-phenoxybenzoyl-1,4-phenylene) which is the polyarylene used in Example 1.

【0059】比較例2 実施例2で用いたポリアリーレンである(4−フェノキ
シベンゾイル−1,4−フェニレン)の繰り返しユニッ
ト(A)と(ジフェニルメタン−4,4′−ジイル)の
繰り返しユニット(B)からなる共重合体〔共重合組
成;(A)/(B)=90/10%〕のスルホン化物
〔ユニット(A)の90モル%がスルホン化されている
一方、ユニット(B)はスルホン化されていない〕の膜
の膜厚50μmの評価結果を表1に示す。
Comparative Example 2 A repeating unit (A) of (4-phenoxybenzoyl-1,4-phenylene), which is the polyarylene used in Example 2, and a repeating unit (B) of (diphenylmethane-4,4'-diyl) 90% by weight of a sulfonated product [copolymer composition; (A) / (B) = 90/10%] (unit (A) is sulfonated, while unit (B) is Table 1 shows the evaluation results for the film thickness of 50 μm.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明のプロトン伝導膜は、ポリエチレ
ングリコールまたはその誘導体とスルホン化ポリアリー
レンを複合化することにより、プロトン伝導性を損なう
ことなく、スルホン化ポリアリーレンからなる膜の延性
を改善することができる。したがって、本発明のプロト
ン伝導膜は、伝導膜として、広い温度範囲にわたって高
いプロントン伝導性を有し、かつ基板、電極に対する密
着性が優れ、脆くなく強度において優れており、一次電
池用電解質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体
電解質、表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体
コンデンサー、イオン交換膜などの伝導膜として利用可
能であり、この工業的意義は極めて大である。
The proton conductive membrane of the present invention improves the ductility of a membrane made of sulfonated polyarylene without impairing proton conductivity by compounding polyethylene glycol or a derivative thereof with sulfonated polyarylene. be able to. Therefore, the proton conductive membrane of the present invention has high proton conductivity as a conductive membrane over a wide temperature range, has excellent adhesion to substrates and electrodes, is not brittle, and has excellent strength. It can be used as an electrolyte for a secondary battery, a polymer solid electrolyte for a fuel cell, a display element, various sensors, a signal transmission medium, a solid capacitor, a conductive membrane such as an ion exchange membrane, and the industrial significance is extremely large.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 71/00 C08L 71/00 A 5H024 71/02 71/02 5H026 H01M 6/18 H01M 6/18 E 5H029 8/02 8/02 P 10/40 10/40 B Fターム(参考) 4F071 AA33 AA51 AA69 AF07 AF36 AG28 AH15 BA02 BB02 BC02 BC17 4J002 BK001 CA001 CH022 GQ00 4J011 AA05 AB02 PA87 PB08 PC13 4J027 AC01 AC03 AC04 AJ01 CA10 CA36 CB03 CC02 5G301 CA30 CD01 5H024 BB01 BB08 DD09 EE09 FF21 HH01 5H026 AA06 BB01 BB04 CX04 EE18 HH00 5H029 AJ11 AM16 CJ02 CJ22 DJ04 DJ09 EJ12 HJ11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08L 71/00 C08L 71/00 A 5H024 71/02 71/02 5H026 H01M 6/18 H01M 6/18 E 5H029 8/02 8/02 P 10/40 10/40 B F term (reference) 4F071 AA33 AA51 AA69 AF07 AF36 AG28 AH15 BA02 BB02 BC02 BC17 4J002 BK001 CA001 CH022 GQ00 4J011 AA05 AB02 PA87 PB08 PC13 4J027 AC01 AC03 AC36 AJ01 CA10 CC02 5G301 CA30 CD01 5H024 BB01 BB08 DD09 EE09 FF21 HH01 5H026 AA06 BB01 BB04 CX04 EE18 HH00 5H029 AJ11 AM16 CJ02 CJ22 DJ04 DJ09 EJ12 HJ11

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)ポリエチレングリコールまたはそ
の誘導体と(B)スルホン化ポリアリーレンとからなる
プロトン伝導膜。
1. A proton conducting membrane comprising (A) polyethylene glycol or a derivative thereof and (B) sulfonated polyarylene.
【請求項2】 (A)ポリエチレングリコールまたはそ
の誘導体の数平均分子量が3,000以上である請求項
1記載のプロトン伝導膜。
2. The proton conductive membrane according to claim 1, wherein (A) polyethylene glycol or a derivative thereof has a number average molecular weight of 3,000 or more.
【請求項3】 (B)スルホン化ポリアリーレンが下記
一般式(1)で表される構造単位からなるポリアリーレ
ンのスルホン化物である請求項1記載のプロトン伝導
膜。 【化1】 〔一般式(1)中、Xは−CQQ′−(ここで、Q,
Q′は同一または異なり、ハロゲン化アルキル基、アル
キル基、水素原子、ハロゲン原子またはアリール基を示
す)で表される基およびフルオレニレン基の群から選ば
れる基であり、R1〜R36は同一または異なり、水素原
子、ハロゲン原子または1価の有機基を示し、Yは−O
−,−CO−,−COO−,−CONH−および−SO
2 −基の群から選ばれる基であり、pは0〜100モル
%、qは0〜100モル%、rは0〜100モル%、s
は0〜100モル%(ただし、p+q+r+s=100
モル%)、tは0か1である。〕
3. The proton conductive membrane according to claim 1, wherein (B) the sulfonated polyarylene is a sulfonated polyarylene having a structural unit represented by the following general formula (1). Embedded image [In the general formula (1), X represents -CQQ '-(where Q,
Q ′ is the same or different and represents a halogenated alkyl group, an alkyl group, a hydrogen atom, a halogen atom or an aryl group) and a group selected from the group consisting of a fluorenylene group, and R 1 to R 36 are the same. Or differently, represents a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, and Y is -O
-, -CO-, -COO-, -CONH- and -SO
A group selected from the group consisting of 2- groups, p is 0 to 100 mol%, q is 0 to 100 mol%, r is 0 to 100 mol%, s
Is 0 to 100 mol% (however, p + q + r + s = 100
Mol%), t is 0 or 1. ]
【請求項4】 (A)ポリエチレングリコールまたはそ
の誘導体と(B)スルホン化ポリアリーレンとを溶媒に
溶解した組成物を基材上に塗布し、加熱することを特徴
とするプロトン伝導膜の製造方法。
4. A method for producing a proton conducting membrane, comprising applying a composition obtained by dissolving (A) polyethylene glycol or a derivative thereof and (B) sulfonated polyarylene in a solvent onto a substrate and heating the composition. .
【請求項5】 ポリエチレングリコールが重合性官能基
を含むマクロマーである請求項4記載のプロトン伝導膜
の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the polyethylene glycol is a macromer containing a polymerizable functional group.
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