JP2002008389A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JP2002008389A
JP2002008389A JP2000184380A JP2000184380A JP2002008389A JP 2002008389 A JP2002008389 A JP 2002008389A JP 2000184380 A JP2000184380 A JP 2000184380A JP 2000184380 A JP2000184380 A JP 2000184380A JP 2002008389 A JP2002008389 A JP 2002008389A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
data
output
node
nodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000184380A
Other languages
English (en)
Inventor
Chikayoshi Morishima
哉圭 森嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2000184380A priority Critical patent/JP2002008389A/ja
Priority to US09/773,709 priority patent/US6337818B1/en
Publication of JP2002008389A publication Critical patent/JP2002008389A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/84Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved access time or stability
    • G11C29/848Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved access time or stability by adjacent switching
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/80Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout
    • G11C29/808Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout using a flexible replacement scheme

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な回路構成で、面積効率のよい冗長構成
を有する半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 半導体記憶装置は、複数の列グループ
(メモリブロックM1〜M9)、複数の列グループに対
応して設けられる列選択回路CS1〜CS9および読出
/書込回路RW1〜RW9、接続をずらすことにより読
出/書込回路との接続を選択する冗長選択回路SC1、
ならびに冗長選択回路SC1の入出力ノードとデータ入
出力線とを選択的に接続する入出力回路IO1,IO2
を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関し、特に、冗長構成を有する半導体記憶装置の構成
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体記憶装置においては、
歩留まり向上のため冗長回路を付加することが必須にな
っている。
【0003】このような冗長回路構成の一例として、
「半導体記憶装置における不良ビット救済回路(特許第
2837433号)」がある(文献1)。この不良ビッ
ト救済回路は、不良メモリセルに接続される行または列
線以降の信号を、隣接する行または列線にずらし、不良
メモリセルを除外するものである。
【0004】文献1に示される不良ビット救済回路の構
成を、図9に示す。図9において、Ci−1〜Cj+3
は、カラムを、Yi−1〜Yj+3は、カラムデコーダ
出力信号線を、QAi−1,QBi−1,QAi,QB
i,QBj−1,QAj,QBj,QAj+1,QBj
+1は、スイッチング素子を、CB1,CB2は、共通
データ線を、MCは、メモリセルを、BL,/BLは互
いに相補なビット線を、9はカラム選択ゲートをそれぞ
れ示している。
【0005】セクションIとセクションIIとの境界に位
置するカラムCj+1以外のカラムのビット線は、カラ
ム選択ゲートを介して2つの共通データ線のいずれか一
方と接続される。
【0006】カラムCj+1のビット線BLは、トラン
スファゲートTG1を介して共通データ線CB1に接続
され、かつトランスファゲートTG2を介して共通デー
タ線CB2に接続される。カラムCj+1の相補ビット
線/BLは、トランスファゲートTG1′を介して共通
データ線CB1に接続され、かつトランスファゲートT
G2′を介して共通データ線CB2に接続される。
【0007】トランスファゲートTG1,TG1′のそ
れぞれのゲートは、スイッチング素子QBjを介してカ
ラムデコーダ出力信号線Yjに接続される。トランスフ
ァゲートTG2,TG2′のそれぞれのゲートは、スイ
ッチング素子QAj+1を介してカラムデコーダ出力信
号線Yj+1に接続される。
【0008】スイッチング素子QBjとQAj+1とは
一方が導通状態であれば他方は非導通状態の関係にあ
る。
【0009】カラムCiが不良になりカラムデコーダ出
力信号線YjがカラムCj+1に接続された場合であっ
ても、カラムCj+1は、トランスファゲートTG1,
TG1′によりセクションIに接続される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、当該不
良ビット救済回路を半導体記憶装置の列線の救済に採用
すると、列線をシフトする必要があるため、セクション
(列グループ)の境界で複雑な構成が必要とされる。
【0011】これに対して、列グループの境界における
回路構成がより簡素化される冗長構成として、図10に
示される半導体記憶装置9500がある。図10におい
て、XM1〜XM3は、行列上に配置される複数のメモ
リセルと複数の列線と複数の行線とを含むメモリブロッ
ク、901〜903は、メモリブロックXM1〜XM3
のそれぞれに対応して設けられる列選択回路、911〜
913は、列選択回路901〜903のそれぞれに対応
して設けられる読出/書込回路、920は、冗長選択回
路、DQ1,DQ2は、冗長選択回路920から出力さ
れ、または冗長選択回路920に入力される入出力デー
タ信号を表わしている。
【0012】メモリブロックXM1〜XM3のそれぞれ
は、列グループを構成する。列選択回路901〜903
は、列選択信号Y1〜Yxに応じて、対応するメモリブ
ロックにおける複数の列線のうち1つを選択する。読出
/書込回路911〜913は、対応する列選択回路を介
してメモリセルからデータを読出し、またはデータを書
込むための回路を含む。読出/書込回路911〜913
は、読出制御信号SEに応じて活性化し、または書込制
御信号WEに応じて活性化する。
【0013】冗長選択回路920は、読出/書込回路9
11,912と接続されるノードE1,E2のいずれか
一方とノードF1とを接続し、読出/書込回路912,
913と接続されるノードE2,E3のいずれか一方と
ノードF2とを接続する。
【0014】冗長選択回路920は、冗長選択信号R
1,R2に応じてノードF1,F2の接続関係をシフト
させる。接続関係をずらすことにより、読出/書込回路
911〜913の出力のうち2つがノードF1,F2に
伝送される。
【0015】このように、半導体記憶装置9500は、
列グループ1つ分のスペアメモセルを含むメモリブロッ
クを用意し、列グループの出力を選択することにより不
良メモリセルを含む列グループ(メモリブロックXM
2)を除外する。
【0016】しかしながら、このような半導体記憶装置
9500の構成に従うと、列グループの境界における構
成は複雑化しないが、列グループ分の冗長メモリセルが
必要とされる。
【0017】列グループに含まれる列数が16であれ
ば、16列分の冗長メモリセルが必要になる。列グルー
プに含まれる列数が64であれば、64列分の冗長メモ
リセルが必要になる。したがって、列グループに含まれ
る列数が増加するに従い、面積効率が低下するという問
題が発生する。
【0018】そこで、この発明はかかる課題を解決する
ためになされたものであり、その目的は、簡単な回路構
成で、面積効率の良い冗長構成を有する半導体記憶装置
を提供する。
【0019】
【課題を解決するための手段】この発明のある局面によ
る半導体記憶装置は、各々が、行列状に配置される複数
のメモリセルと対応のメモリセルと接続されるn(nは
整数)本の列線とを有するm個(mは2以上の整数)の
メモリブロックを含むメモリセルアレイと、m個のメモ
リブロックのそれぞれに対応して設けられ、各々が、対
応するメモリブロックに含まれるn本の列線のうちの1
本を選択するm個の第1選択回路と、m個の第1選択回
路のそれぞれに対応して設けられ、各々が、対応する第
1選択回路からの読出データを増幅するための増幅回路
と対応する第1選択回路に書込データを出力するための
書込回路とを含むm個のデータ処理回路と、m個のデー
タ処理回路のそれぞれとデータの授受を行なうためのm
個の第1ノードと、(m−1)個の第2ノードとを含
み、m個の第1ノードのうち1つを除いて接続をずらす
ことにより、(m−1)個の第1ノードと前記(m−
1)個の第2ノードとを選択的に接続する冗長選択回路
と、k個(k≦m−1:kは整数)の第2ノードのうち
1つを選択して、データの授受を行なう第2選択回路と
を備える。
【0020】好ましくは、メモリセルアレイからのデー
タ読出時においては、m個の増幅回路のうち、(m−
1)/k個の前記増幅回路が活性化する。特に、増幅回
路は、対応するメモリブロックからのデータの読出時に
活性化する。
【0021】好ましくは、メモリセルアレイへのデータ
書込時においては、m個の書込回路のうち、(m−1)
/k個の書込回路が活性化する。特に、書込回路は、対
応するメモリブロックへのデータ書込時に活性化する。
【0022】この発明のさらなる局面による半導体記憶
装置は、各々が、行列状に配置される複数のメモリセル
と対応のメモリセルと接続されるn(nは整数)本の列
線とを有するm個(mは2以上の整数)のメモリブロッ
クを含むメモリセルアレイと、m個のメモリブロックの
それぞれに対応して設けられ、各々が、対応するメモリ
ブロックに含まれるn本の列線のうちの1本を選択する
m個の第1選択回路と、m個の第1選択回路のそれぞれ
とデータの授受を行なうためのm個の第1ノードと、
(m−1)個の第2ノードとを含み、m個の第1ノード
のうち1つを除いて接続をずらすことにより、(m−
1)個の第1ノードと(m−1)個の第2ノードとを選
択的に接続する冗長選択回路と、k個(k≦m−1:k
は整数)の第2ノードのうち1つを選択して、データの
授受を行なう第2選択回路と、第2選択回路から出力さ
れるデータを増幅するための増幅回路と、第2選択回路
にデータを出力するための書込回路とを備える。
【0023】好ましくは、第2選択回路は、k個の第2
ノードのそれぞれに対応して配置され、増幅回路および
書込回路に接続される複数のゲートを含む。特に、前記
第2選択回路、書込回路および増幅回路は、複数個配置
され、複数個配置される書込回路のうち、データの書込
対象となるメモリブロックにデータを書込むための書込
回路のみが動作する。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図を用いて詳細に説明する。図中同一部分または相
当部分には同一記号または符号を付し、その説明を省略
する。
【0025】[第1の実施の形態]第1の実施の形態に
よる半導体記憶装置1000について、図1を用いて説
明する。半導体記憶装置1000は、図1に示されるよ
うに、複数のメモリブロックM1〜M9、メモリブロッ
クのそれぞれに対応して設けられる列選択回路CS1〜
CS9、列選択回路CS1〜CS9のそれぞれに対応し
て設けられる読出/書込回路RW1〜RW9、冗長選択
回路SC1、および入出力回路IO1,IO2を備え
る。
【0026】メモリブロックM1〜M9の各々は、行列
状に配置される複数のメモリセル、行方向に配置される
複数の行線および列方向に配置される複数の列線を含
む。一例として、メモリブロックのそれぞれは4列から
構成されるものとする。行線および列線により、対応す
るメモリセルが選択される。
【0027】列選択回路CS1〜CS9は、列選択信号
Y11〜Y14に応じて、対応するメモリブロックにお
ける4つの列線のうち1つを選択する。読出/書込回路
RW1〜RW9は、列選択回路を介してメモリセルから
データを読出し、またはデータを書込むための回路を含
む。読出/書込回路RW1〜RW9のそれぞれは、読出
動作を制御する読出制御信号SEと書込動作を制御する
書込制御信号WEとに応じて動作する。
【0028】読出/書込回路RW1,RW2,RW3,
RW4,RW5,RW6,RW7,RW8,RW9のそ
れぞれは、ノードU1,U2,U3,U4,U5,U
6,U7,U8,U9を介して入出力回路との間でデー
タの授受を行う。
【0029】冗長選択回路SC1は、ノードU1,U2
のいずれか一方とノードW1とを接続し、ノードU2,
U3のいずれか一方とノードW2とを接続し、ノードU
3,U4のいずれか一方とノードW3とを接続し、ノー
ドU4,U5のいずれか一方とノードW4とを接続す
る。
【0030】冗長選択回路SC1はさらに、ノードU
5,U6のいずれか一方とノードW5とを接続し、ノー
ドU6,U7のいずれか一方とノードW6とを接続し、
ノードU7,U8のいずれか一方とノードW7とを接続
し、ノードU8,U9のいずれか一方とノードW8とを
接続する。
【0031】冗長選択回路SC1は、冗長選択信号R1
〜R8に応じて、ノードU1〜U9のうちの1つを除い
て接続をずらす。ノードUi(i=1〜9)のいずれか
1つを除いて、ノードUj(j≠i)はノードWjまた
はWj−1のいずれか一方と選択的に接続される。ただ
し、ノードU1は、ノードW1と接続されるかまたは未
接続状態になり、ノードU9は、ノードW8と接続され
るかまたは未接続状態になる。
【0032】接続をずらすことにより、読出/書込回路
RW1〜RW9から出力される9つの信号のうち8つの
信号がノードW1〜W8に伝送され、またはノードW1
〜W8の8つの信号が、読出/書込回路RW1〜RW9
のうちの8つの回路に伝送される。
【0033】ノードW1〜W8を介して、入出力選択信
号Y21〜Y24を読出/書込回路に伝送し、ノードW
1〜W8を介して、書込データまたは読出データの授受
を行う。
【0034】次に、第1の実施の形態による読出/書込
回路RWi(i=1〜9)の詳細について、図2を用い
て説明する。図中記号Siは、読出/書込回路RWiと
列選択回路CSiとを接続する接続ノードを、D1は、
ノードSiのデータ信号をそれぞれ表わしている。ノー
ドUi(i=1〜9)は、ノードUi1およびノードU
i2を含む。記号SYは、ノードUi1で受ける入出力
選択信号、D2は、ノードUi2のデータ信号をそれぞ
れ表わしている。
【0035】図2に示される読出/書込回路RWi(i
=1〜9)は、AND回路1,2、センスアンプSAお
よびライトドライバWDを含む。AND回路1は、読出
制御信号SEと入出力選択信号SYとを入力に受ける。
AND回路2は、書込制御信号WEと入出力選択信号と
を入力に受ける。
【0036】センスアンプSAは、AND回路1の出力
に応じて活性化し、データ信号D1を増幅してデータ信
号D2を出力する。センスアンプSAにより、選択され
た列線のデータ(読出データ)が、冗長選択回路側に出
力される。
【0037】ライトドライバWDは、AND回路2の出
力に応じて活性化し、データ信号D2に従って、データ
信号D1を出力する。ライトドライバWDにより、書込
データが選択された列線のメモリセルに書込まれる。
【0038】したがって、入出力選択信号SYがHレベ
ルになると、書込制御信号WEまたは読出制御信号SE
に応じてセンスアンプSAまたはライトドライバWDが
動作する。
【0039】次に、第1の実施の形態による入出力回路
IOi(i=1,2)の詳細について、図3を用いて説
明する。図中記号Wj1〜Wj4は、入出力回路IO1
であれば、図1に示すノードW1〜W4に相当し、入出
力回路IO2であれば、図1に示すノードW5〜W8に
相当する。ノードWj1(W1,W5)は、ノードW1
aおよびW1bを含む。ノードWj2(W2,W6)
は、ノードW2aおよびW2bを含む。ノードWj3
(W3,W7)は、ノードW3aおよびW3bを含む。
ノードWj4(W4,W8)は、ノードW4aおよびW
4bを含む。
【0040】記号D31は、ノードW1bのデータ信号
を、D32は、ノードW2bのデータ信号を、D33
は、ノードW3bのデータ信号を、D34は、ノードW
4bのデータ信号をそれぞれ表わしている。さらに、記
号DQは、データ入出力線またはデータ信号であり、入
出力回路IO1であれば図1におけるDQ1、入出力回
路IO2であれば図1におけるDQ2を意味する。
【0041】ノードWka(k=1〜4)を介して、読
出/書込回路に入出力選択信号が伝送される。具体的に
は、入出力選択信号Y21は、ノードW1a、入出力選
択信号Y22は、ノードW2a、入出力選択信号Y23
は、ノードW3a、入出力選択信号Y24は、ノードW
4aを介して読出/書込回路に伝送される。
【0042】入出力回路IOiは、ゲートG1〜G4を
含む。ゲートG1〜G4のそれぞれは、トランジスタT
nおよびTp、ならびにインバータ14を含む。トラン
ジスタTpは、PMOSトランジスタであり、トランジ
スタTnは、NMOSトランジスタである。
【0043】ゲートG1には、入出力選択信号Y21
が、ゲートG2には、入出力選択信号Y22が、ゲート
G3には、入出力選択信号Y23が、ゲートG4には、
入出力選択信号Y24がそれぞれ供給される。ゲートG
1〜G4のインバータ14は、対応する入出力選択信号
を反転する。ゲートGi(i=1〜4)は、入出力選択
信号Y2iとインバータ14の出力とによりオン/オフ
する。
【0044】ゲートG1がオンすることにより、ノード
W1bで受けたデータ信号D31がデータ入出力線DQ
に伝送され(データ信号DQとなり)、またはデータ入
出力線DQのデータ信号DQが、データ信号D31とし
て読出/書込回路に伝送される。
【0045】ゲートG2がオンすることにより、ノード
W2bで受けたデータ信号D32がデータ入出力線DQ
に伝送され(データ信号DQとなり)、またはデータ入
出力線DQのデータ信号DQが、データ信号D32とし
て読出/書込回路に伝送される。
【0046】ゲートG3がオンすることにより、ノード
W3bで受けたデータ信号D33がデータ入出力線DQ
に伝送され(データ信号DQとなり)、またはデータ入
出力線DQのデータ信号DQが、データ信号D33とし
て読出/書込回路に伝送される。
【0047】ゲートG4がオンすることにより、ノード
W4bで受けたデータ信号D34がデータ入出力線DQ
に伝送され(データ信号DQとなり)、またはデータ入
出力線DQのデータ信号DQが、データ信号D34とし
て読出/書込回路に伝送される。
【0048】第1の実施の形態による半導体記憶装置1
000の全体構成を、図4に示す。半導体記憶装置10
00は、図4に示されるように、メモリブロックM1〜
M9を含むメモリセルアレイ100、アドレスを受ける
アドレスバッファ101、アドレスバッファ101の出
力をデコードして行線を選択するための内部ロウアドレ
スを出力するロウデコーダ102、アドレスバッファ1
01の出力をデコードして列選択信号Y11〜Y14お
よび入出力選択信号Y21〜Y24を出力するカラムデ
コーダ103、ならびに内部動作を制御するためのコン
トローラ104を備える。
【0049】半導体記憶装置1000はさらに、列選択
回路CS1〜CS9を含むカラム選択部105、読出/
書込回路RW1〜RW9を含む読出/書込部106、冗
長選択回路SC1、ならびに入出力回路IO1およびI
O2を含むデータ入出力部107を備える。
【0050】カラム選択部105は、カラムデコーダ1
03から列選択信号Y11〜Y14を、データ入出力部
107は、カラムデコーダ103から入出力選択信号Y
21〜Y24をそれぞれ受ける。読出/書込部106
は、コントローラ104から読出制御信号SEおよび書
込制御信号WEを受ける。
【0051】次に、第1の実施の形態による半導体記憶
装置1000の動作について、図5を用いて説明する。
図5においては、メモリブロックM2に不良メモリセル
が存在するものとする。なお、図に示される記号D23
からDQ1,記号D27からDQ2への矢印は、特に読
出動作モードでのメモリセルから読出したデータの流れ
を示している。書込動作モードでは、当該矢印と逆方向
に書込データが流れる。
【0052】冗長選択回路SC1は、冗長選択信号R1
〜R8に応じて回路動作前に予め図3に示されるように
接続が設定されている。より具体的には、ノードW1は
ノードU1と、ノードW2はノードU3と、ノードW3
はノードU4と、ノードW4はノードU5と、ノードW
5はノードU6と、ノードW6はノードU7と、ノード
W7はノードU8と、ノードW8はノードU9とそれぞ
れ接続されている。ノードU2は、Lレベルに固定され
ている。
【0053】読出動作モードでは、読出制御信号SEを
Hレベル、書込制御信号WEをLレベルにする。列選択
信号Y11〜Y14、入出力選択信号Y21〜Y24と
して、読出対象であるメモリセルのアドレスが入力され
る。
【0054】一例として、入出力選択信号Y21,Y2
3,Y24をLレベル、Y22をHレベルにする。メモ
リブロックM3,M7のデータを読出すものとする。
【0055】入出力選択信号Y21〜Y24は、入出力
回路IO1,IO2を介して、冗長選択回路SC1に入
力される。さらに、ノードW1からノードU1、および
ノードW5からノードU6に、入出力選択信号Y21が
それぞれ伝送される。ノードW2からノードU3、およ
びノードW6からノードU7に、入出力選択信号Y22
がそれぞれ伝送される。ノードW3からノードU4、お
よびノードW7からノードU8に、入出力選択信号Y2
3がそれぞれ伝送される。ノードW4からノードU5、
およびノードW8からノードU9に、入出力選択信号Y
24がそれぞれ伝送される。
【0056】読出/書込回路RW1,RW2,RW4〜
RW6,RW8,RW9は、Lレベルの入出力選択信号
(図2におけるSYに相当)を受ける。読出/書込回路
RW1,RW2,RW4〜RW6,RW8,RW9で
は、AND回路1の出力がLレベルになるため、センス
アンプSAは動作しない(非活性状態)。
【0057】一方、読出/書込回路RW3,RW7は、
Hレベルの入出力選択信号Y22(図2におけるSYに
相当)を受ける。読出/書込回路RW3,RW7では、
AND回路1の出力がHレベルになるため、センスアン
プSAが動作状態になる(活性状態)。
【0058】これにより、読出/書込回路RW3,RW
7のそれぞれは、対応する列選択回路CS3,CS7か
ら受けるデータ信号(図2におけるD1に相当)を増幅
して、データ信号D23,D27(図2におけるD2に
相当)を出力する。
【0059】読出/書込回路RW3から出力されるデー
タ信号D23は、ノードU3(図2におけるUi2)か
らノードW2(図3におけるW2b)を介して、入出力
回路IO1に入力される。
【0060】読出/書込回路RW7から出力されるデー
タ信号D27は、ノードU7(図2におけるUi2)か
らノードW6(図3におけるW2b)を介して、入出力
回路IO2に入力される。
【0061】入出力回路IO1は、入出力選択信号Y2
1〜Y24に従い、ノードW1〜W4(図3におけるW
1b〜W4b)のうちの1つをデータ入出力線DQ1と
接続する。入出力回路IO2は、入出力選択信号Y21
〜Y24に従い、ノードW5〜W8(図3におけるW1
b〜W4b)のうちの1つをデータ入出力線DQ2と接
続する。この場合、ノードW2,W6で受けるデータ信
号D23,D27がそれぞれ、選択的にデータ入出力線
DQ1,DQ2に伝送される。これにより、メモリブロ
ックM3,M7から読出されたデータ信号DQ1,DQ
2が出力される。
【0062】書込動作モードでは、読出制御信号SEを
Lレベル、書込制御信号WEをHレベルにする。列選択
信号Y11〜Y14、入出力選択信号Y21〜Y24と
して、書込対象であるメモリセルのアドレスが入力され
る。
【0063】一例として、入出力選択信号Y21,Y2
3,Y24をLレベル、Y22をHレベルにする。メモ
リブロックM3,M7にデータを書込むものとする。
【0064】入出力選択信号Y21〜Y24は、入出力
回路IO1,IO2を介して、冗長選択回路SC1に入
力される。さらに、ノードW1からノードU1、および
ノードW5からノードU6に、入出力選択信号Y21が
それぞれ伝送される。ノードW2からノードU3、およ
びノードW6からノードU7に、入出力選択信号Y22
がそれぞれ伝送される。ノードW3からノードU4、お
よびノードW7からノードU8に、入出力選択信号Y2
3がそれぞれ伝送される。ノードW4からノードU5、
およびノードW8からノードU9に、入出力選択信号Y
24がそれぞれ伝送される。
【0065】入出力回路IO1はさらに、入出力選択信
号Y21〜Y24に応じて、4つのノードW1〜W4
(W1b〜W4b)のうち1つにデータ入出力線DQ1
のデータ信号DQ1を出力する。入出力回路IO2はさ
らに、入出力選択信号Y21〜Y24に応じて、4つの
ノードW5〜W8(W1b〜W4b)のうち1つにデー
タ入出力線DQ2のデータ信号DQ2を出力する。図に
示される矢印方向と逆向きにデータ信号DQ1,DQ2
が伝送される。
【0066】読出/書込回路RW1,RW2,RW4〜
RW6,RW8,RW9は、Lレベルの入出力選択信号
(図2におけるSYに相当)を受ける。読出/書込回路
RW1,RW2,RW4〜RW6,RW8,RW9で
は、AND回路2の出力がLレベルになるため、ライト
ドライバWDは動作しない(非活性状態)。
【0067】一方、読出/書込回路RW3,RW7は、
Hレベルの入出力選択信号Y22(図2におけるSYに
相当)を受ける。読出/書込回路RW3,RW7では、
AND回路2の出力がHレベルになるため、ライトドラ
イバWDが動作状態になる(活性状態)。
【0068】これにより、読出/書込回路RW3,RW
7のそれぞれのライトドライバWDが動作して、選択さ
れるメモリセルにデータが書込まれる。
【0069】このように、第1の実施の形態による半導
体記憶装置1000によれば、各ブロックの境界での回
路構成が複雑化することはない。また、各列グループが
4列からなる場合には、4列のメモリセルアレイを付加
することにより冗長回路を構成することができる。
【0070】具体的に比較する。メモリブロックM1〜
M9のそれぞれを16列とすると、ノーマルメモリセル
を含むアレイ領域は、(16×4)×2列であり、アレ
イ領域全体では128列+16列=144列になる。こ
れに対応するように半導体記憶装置9500を構成した
場合、メモリブロックXM1〜XM3のそれぞれは64
列になり、列数の総計は64列×3=192列になる。
したがって、第1の実施の形態による半導体記憶装置1
000の方が、48列分面積が小さくなる。
【0071】[第2の実施の形態]第2の実施の形態に
よる半導体記憶装置2000について、図6を用いて説
明する。半導体記憶装置2000は、図6に示されるよ
うに、複数のメモリブロックM1〜M9、メモリブロッ
クのそれぞれに対応して設けられる列選択回路CS1〜
CS9、冗長選択回路SC2、および入出力回路RWI
O1,RWIO2を備える。
【0072】列選択回路CS1〜CS9のそれぞれは、
第1の実施の形態で説明したとおり、列選択信号Y11
〜Y14に応じて、対応するメモリブロックに含まれる
複数の列線のうち1つを選択する。
【0073】列選択回路CS1,CS2,CS3,CS
4,CS5,CS6,CS7,CS8,CS9のそれぞ
れは、ノードV1,V2,V3,V4,V5,V6,V
7,V8,V9を介して入出力回路との間でデータの授
受を行う。
【0074】冗長選択回路SC2は、ノードV1,V2
のいずれか一方とノードZ1とを接続し、ノードV2,
V3のいずれか一方とノードZ2とを接続し、ノードV
3,V4のいずれか一方とノードZ3とを接続し、ノー
ドV4,V5のいずれか一方とノードZ4とを接続す
る。
【0075】冗長選択回路SC2はさらに、ノードV
5,V6のいずれか一方とノードZ5とを接続し、ノー
ドV6,V7のいずれか一方とノードZ6とを接続し、
ノードV7,V8のいずれか一方とノードZ7とを接続
し、ノードV8,V9のいずれか一方とノードZ8とを
接続する。
【0076】冗長選択回路SC2は、冗長選択信号R1
〜R8に応じて、ノードV1〜V9のうちの1つを除い
て接続をずらす。ノードVi(i=1〜9)のいずれか
1つを除いて、ノードVj(j≠i)は、ノードZjま
たはZj−1のいずれか一方と選択的に接続される。た
だし、ノードV1は、ノードZ1と接続されるかまたは
未接続状態になり、ノードV9は、ノードV8と接続さ
れるかまたは未接続状態になる。
【0077】接続関係をずらすことにより、列選択回路
CS1〜CS9から出力される9つの信号のうち8つの
信号がノードZ1〜Z8に伝送され、またはノードZ1
〜Z8の8つの信号が、列選択回路CS1〜CS9のう
ちの8つの回路に伝送される。
【0078】入出力回路RWIO1は、ノードZ1〜Z
4で受けるデータ信号のうちの1つに応じて、データ入
出力線DQ1にデータ信号DQ1を出力し、またはデー
タ入出力線DQ1のデータ信号DQ1に応じて、ノード
Z1〜Z4のうちの1つにデータ信号を出力する。
【0079】入出力回路RWIO2は、ノードZ5〜Z
8で受けるデータ信号のうちの1つに応じて、データ入
出力線DQ2にデータ信号DQ2を出力し、またはデー
タ入出力線DQ2から受けるデータ信号DQ2に応じ
て、ノードZ5〜Z8のうちの1つにデータ信号を出力
する。
【0080】入出力回路RWIO1は、書込制御信号W
Eおよびビットライト信号BW1に応じて書込動作が制
御され、読出制御信号SEに応じて読出動作が制御され
る。
【0081】入出力回路RWIO2は、書込制御信号W
Eおよびビットライト信号BW2に応じて書込動作が制
御され、読出制御信号SEに応じて読出動作が制御され
る。
【0082】図6に示される入出力回路の詳細につい
て、図7を用いて説明する。図7に示される入出力回路
RWIOi(i=1,2)は、AND回路11、OR回
路12、センスアンプSA、ライトドライバWDおよび
ゲートG11〜G14を含む。
【0083】記号BWは、ビットライト信号であり、入
出力回路RWIO1であれば図6におけるBW1、入出
力回路RWIO2であれば図6におけるBW2を意味す
る。また、記号DQは、データ信号であり、入出力回路
RWIO1であれば図6におけるDQ1、入出力回路R
WIO2であれば図6におけるDQ2を意味する。さら
に、記号D31〜D34のそれぞれは、データ信号を表
わしている。データ信号D31〜D34は、入出力回路
RWIO1であればノードZ1〜Z4の信号に、入出力
回路RWIO2であればノードZ5〜Z8の信号に相当
する。
【0084】AND回路11は、書込制御信号WEと信
号BWとを入力に受ける。OR回路12は、読出制御信
号SEとAND回路11の出力とを入力に受ける。
【0085】センスアンプSAは、読出制御信号SEに
応じて活性化し、ノードD4のデータ信号D4を増幅し
てデータ信号DQを出力する。センスアンプSAによ
り、選択された列線のデータ(読出データ)が、データ
入出力線に出力される。
【0086】ライトドライバWDは、AND回路11の
出力に応じて活性化し、データ信号DQに従って、ノー
ドD4にデータ信号D4を出力する。
【0087】ゲートG11〜G14のそれぞれは、AN
D回路13、AND回路13の出力を反転するインバー
タ14、AND回路13の出力をゲートに受けるトラン
ジスタTnおよびインバータ14の出力をゲートに受け
るトランジスタTpを含む。トランジスタTpは、PM
OSトランジスタであり、トランジスタTnは、NMO
Sトランジスタである。
【0088】ゲートG11には、入出力選択信号Y21
が、ゲートG12には、入出力選択信号Y22が、ゲー
トG13には、入出力選択信号Y23が、ゲートG14
には、入出力選択信号Y24がそれぞれ供給される。
【0089】ゲートG1i(i=1〜4)のAND回路
13は、OR回路12の出力と対応する入出力選択信号
とを受ける。AND回路13の出力およびこれを反転す
るインバータ14の出力によりゲートがオン/オフす
る。
【0090】ゲートG1iがオンすることにより、ノー
ドD4のデータ信号D4がデータ信号D3iとして出力
され、またはデータ信号D3iがノードD4に伝送され
る。
【0091】第2の実施の形態による半導体記憶装置2
000の全体構成を、図8に示す。半導体記憶装置20
00は、図8に示されるように、メモリブロックM1〜
M9を含むメモリセルアレイ100、アドレスを受ける
アドレスバッファ101、アドレスバッファ101の出
力をデコードして内部ロウアドレスを出力するロウデコ
ーダ102、アドレスバッファ101の出力をデコード
して列選択信号Y11〜Y14,入出力選択信号Y21
〜Y24を出力するカラムデコーダ103、および内部
動作を制御するためのコントローラ104を備える。
【0092】半導体記憶装置2000はさらに、列選択
回路CS1〜CS9を含むカラム選択部105、冗長選
択回路SC2、ならびに入出力回路RWIO1およびR
WIO2を含むデータ入出力部207を備える。
【0093】カラム選択部105は、カラムデコーダ1
03から列選択信号Y11〜Y14を受ける。データ入
出力部207は、カラムデコーダ103から入出力選択
信号Y21〜Y24を、コントローラ104から読出制
御信号SE、書込制御信号WEを受ける。データ入出力
部207はさらにビットライト信号BWを受ける。
【0094】次に、第2の実施の形態による半導体記憶
装置2000の動作について、図6〜図8を用いて説明
する。メモリブロックM2に不良メモリセルが存在する
ものとする。
【0095】冗長選択回路SC2は、冗長選択信号R1
〜R8に応じて回路動作前に予め図6に示されるように
接続が設定されている。より具体的には、ノードZ1は
ノードV1と、ノードZ2はノードV3と、ノードZ3
はノードV4と、ノードZ4はノードV5と、ノードZ
5はノードV6と、ノードZ6はノードV7と、ノード
Z7はノードV8と、ノードZ8はノードV9とそれぞ
れ接続関係にある。ノードV2は、Lレベルに固定され
ている。
【0096】読出動作モードでは、読出制御信号SEを
Hレベル、書込制御信号WEをLレベルにする。列選択
信号Y11〜Y14、入出力選択信号Y21〜Y24と
して、読出対象であるメモリセルのアドレスが入力され
る。
【0097】一例として、入出力選択信号Y21,Y2
3,Y24をLレベル、Y22をHレベルにする。メモ
リブロックM3,M7のデータを読出すものとする。
【0098】読出制御信号SEがHレベルであるため、
OR回路12の出力がHレベルになる。入出力回路RW
IO1,RWIO2におけるセンスアンプSAが動作可
能になる。入出力選択信号Y21〜Y24に従って、ゲ
ートがオン/オフする。データ信号D31〜D34のう
ちの1つが、ノードD4に伝送される。
【0099】上記例によれば、入出力選択信号Y22が
Hレベルであるため、データ信号D32がノードD4に
伝送される。センスアンプSAは、ノードD4のデータ
信号D4を増幅して、データ信号DQを出力する。
【0100】書込動作モードでは、読出制御信号SEを
Lレベル、書込制御信号WEをHレベルにする。列選択
信号Y11〜Y14、入出力選択信号Y21〜Y24と
して、書込対象であるメモリセルのアドレスが入力され
る。
【0101】一例として、入出力選択信号Y21,Y2
3,Y24をLレベル、Y22をHレベルにする。これ
により、メモリブロックM3,M7が書込み対象の候補
となる。さらに、ビットライト信号BW1をHレベル、
ビットライト信号BW2をLレベルにする。これによ
り、メモリブロックM3が書込み対象になる。
【0102】入出力回路RWIO1においては、書込制
御信号WEおよびビットライト信号BW1がHレベルで
あるため、AND回路11の出力がHレベルになる。し
たがって、ライトドライバWDが動作状態になる(活性
状態)。活性化したライトドライバWDは、データ入出
力線DQ1のデータ信号DQ1に従い、ノードD4にデ
ータ信号D4を出力する。
【0103】入出力回路RWIO1においてはさらに、
OR回路12の出力がHレベルになる。したがって、入
出力選択信号Y21〜Y24に従い、ゲートG11〜G
14のうちの1つがオンする。これにより、データ信号
D4がデータ信号D31〜D34のうちの1つとして出
力される。上記例では、ゲートG12がオンするので、
データ信号D4がデータ信号D32として出力される。
データ信号D32は、ノードV3を介して列選択回路C
S3に伝送される。したがって、メモリブロックM3の
メモリセルにデータが書込まれる。
【0104】入出力回路RWIO2においては、書込制
御信号WEがHレベルであるが、ビットライト信号BW
2がLレベルであるため、AND回路11の出力がLレ
ベルになる。したがって、ライトドライバWDは動作し
ない(非活性状態)。したがって、ノードZ5〜Z8か
らノードV6〜V9へデータ信号が伝送されず、メモリ
ブロックへの書込みが行なわれない。
【0105】このように、第2の実施の形態による半導
体記憶装置2000によれば、各ブロックの境界での回
路構成が複雑化することはない。また、各列グループが
4列からなる場合には、4列のメモリセルアレイを付加
することにより冗長回路を構成することができる。
【0106】なお、センスアンプSAとライトドライバ
WDとの位置は、第1の実施の形態または第2の実施の
形態に示される位置に限定されない。たとえば、センス
アンプSAは、第1の実施の形態に示されるように冗長
選択回路と列選択回路との間に配置し、ライトドライバ
WDは、第2の実施の形態に示されるように冗長選択回
路とデータ入出力線との間に配置してもよい。いずれの
場合であっても、第1,第2の実施の形態と同様の効果
が得られる。
【0107】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した実施の形態の説明ではな
くて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と
均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれるこ
とが意図される。
【0108】
【発明の効果】このように、本発明による半導体記憶装
置によれば、読出/書込回路と、読出/書込回路の入出
力ノードを選択する冗長選択回路と、冗長選択回路の入
出力ノードとデータ入出力線との接続を選択的に行なう
入出力回路とを備えることにより、簡単な回路構成でか
つ面積を抑えた置換を行なうことができる。
【0109】さらに、本発明による半導体記憶装置によ
れば、列選択回路と、列選択回路の入出力ノードを選択
する冗長選択回路と、冗長選択回路の入出力ノードを選
択する選択回路とを備えることにより、簡単な回路構成
でかつ面積を抑えた置換を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1の実施の形態による半導体記憶装置10
00の主要部の構成を示す図である。
【図2】 第1の実施の形態による読出/書込回路RW
iの構成を示す回路図である。
【図3】 第1の実施の形態による入出力回路IOiの
構成を示す回路図である。
【図4】 第1の実施の形態による半導体記憶装置10
00の全体構成の概要を示すブロック図である。
【図5】 第1の実施の形態による半導体記憶装置10
00の動作を説明するための概念図である。
【図6】 第2の実施の形態による半導体記憶装置20
00の主要部の構成を示す図である。
【図7】 第2の実施の形態による入出力回路RWIO
iの構成を示す回路図である。
【図8】 第2の実施の形態による半導体記憶装置20
00の全体構成の概要を示すブロック図である。
【図9】 従来の冗長置換構成の一例を示す回路図であ
る。
【図10】 従来の冗長置換構成の他の一例を示す回路
図である。
【符号の説明】
1,11,13 AND回路、12 OR回路、G1〜
G4,G11〜G14ゲート、14 インバータ、10
00,2000 半導体記憶装置、SA センスアン
プ、WD ライトドライバ、CS1〜CS9 列選択回
路、IO1,IO2,RWIO1,RWIO2 入出力
回路、M1〜M9 メモリブロック、RW1〜RW9
読出/書込回路、SC1,SC2 冗長選択回路、T
n,Tpトランジスタ、100 メモリセルアレイ、1
01 アドレスバッファ、102ロウデコーダ、103
カラムデコーダ、104 コントローラ、105 カ
ラム選択部、106 読出/書込部、107,207
データ入出力部。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 各々が、行列状に配置される複数のメモ
    リセルと対応のメモリセルと接続されるn(前記nは整
    数)本の列線とを有するm個(前記mは2以上の整数)
    のメモリブロックを含むメモリセルアレイと、 前記m個のメモリブロックのそれぞれに対応して設けら
    れ、各々が、対応するメモリブロックに含まれる前記n
    本の列線のうちの1本を選択するm個の第1選択回路
    と、 前記m個の第1選択回路のそれぞれに対応して設けら
    れ、各々が、対応する第1選択回路からの読出データを
    増幅するための増幅回路と対応する第1選択回路に書込
    データを出力するための書込回路との両方または一方を
    含むm個のデータ処理回路と、 前記m個のデータ処理回路のそれぞれとデータの授受を
    行なうためのm個の第1ノードと、(m−1)個の第2
    ノードとを含み、前記m個の第1ノードのうち1つを除
    いて接続をずらすことにより、(m−1)個の第1ノー
    ドと前記(m−1)個の第2ノードとを選択的に接続す
    る冗長選択回路と、 k個(k≦m−1:前記kは整数)の第2ノードのうち
    1つを選択して、データの授受を行なう第2選択回路と
    を備える、半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記メモリセルアレイからのデータ読出
    時においては、前記m個の前記増幅回路のうち、(m−
    1)/k個の前記増幅回路が活性化する、請求項1に記
    載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記メモリセルアレイへのデータ書込時
    においては、前記m個の前記書込回路のうち、(m−
    1)/k個の前記書込回路が活性化する、請求項1に記
    載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記増幅回路は、 対応するメモリブロックからのデータの読出時に活性化
    する、請求項2に記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記書込回路は、 対応するメモリブロックへのデータ書込時に活性化す
    る、請求項3に記載の半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 各々が、行列状に配置される複数のメモ
    リセルと対応のメモリセルと接続されるn(前記nは整
    数)本の列線とを有するm個(前記mは2以上の整数)
    のメモリブロックを含むメモリセルアレイと、 前記m個のメモリブロックのそれぞれに対応して設けら
    れ、各々が、対応するメモリブロックに含まれる前記n
    本の列線のうちの1本を選択するm個の第1選択回路
    と、 前記m個の第1選択回路のそれぞれとデータの授受を行
    なうためのm個の第1ノードと、(m−1)個の第2ノ
    ードとを含み、前記m個の第1ノードのうち1つを除い
    て接続をずらすことにより、(m−1)個の第1ノード
    と前記(m−1)個の第2ノードとを選択的に接続する
    冗長選択回路と、 k個(k≦m−1:前記kは整数)の第2ノードのうち
    1つを選択して、データの授受を行なう第2選択回路
    と、 前記第2選択回路から出力されるデータを増幅するため
    の増幅回路と前記第2選択回路にデータを出力するため
    の書込回路との両方または一方とを備える、半導体記憶
    装置。
  7. 【請求項7】 前記第2選択回路は、 前記k個の第2ノードのそれぞれに対応して配置され、
    前記増幅回路と前記書込回路とに接続される複数のゲー
    トを含む、請求項6に記載の半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 前記第2選択回路、前記書込回路および
    前記増幅回路は、複数個配置され、 前記複数個配置される前記書込回路のうち、データの書
    込対象となるメモリブロックにデータを書込むための書
    込回路のみが動作する、請求項7に記載の半導体記憶装
    置。
JP2000184380A 2000-06-20 2000-06-20 半導体記憶装置 Pending JP2002008389A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000184380A JP2002008389A (ja) 2000-06-20 2000-06-20 半導体記憶装置
US09/773,709 US6337818B1 (en) 2000-06-20 2001-02-02 Semiconductor memory device having a redundancy construction

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000184380A JP2002008389A (ja) 2000-06-20 2000-06-20 半導体記憶装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002008389A true JP2002008389A (ja) 2002-01-11

Family

ID=18684829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000184380A Pending JP2002008389A (ja) 2000-06-20 2000-06-20 半導体記憶装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6337818B1 (ja)
JP (1) JP2002008389A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100798773B1 (ko) 2005-09-29 2008-01-29 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US7573776B2 (en) 2005-09-29 2009-08-11 Hynix Semiconductor, Inc. Semiconductor memory device having data-compress test mode

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4425532B2 (ja) * 2002-08-29 2010-03-03 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体メモリ
US20040163034A1 (en) * 2002-10-17 2004-08-19 Sean Colbath Systems and methods for labeling clusters of documents
US7680143B2 (en) * 2002-12-12 2010-03-16 Rpx Corporation Methods and apparatus for combining session acceleration techniques for media oriented negotiation acceleration
EP1832055A4 (en) * 2004-12-15 2012-02-22 Dilithium Networks Pty Ltd EXPANSIONS TO H.324 RELATED TO QUICK MEETING CONSTRUCTION

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0322299A (ja) 1989-03-20 1991-01-30 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JP2837433B2 (ja) 1989-06-05 1998-12-16 三菱電機株式会社 半導体記憶装置における不良ビット救済回路
US5204836A (en) * 1990-10-30 1993-04-20 Sun Microsystems, Inc. Method and apparatus for implementing redundancy in parallel memory structures
US5548553A (en) * 1994-12-12 1996-08-20 Digital Equipment Corporation Method and apparatus for providing high-speed column redundancy
US5574688A (en) * 1995-05-10 1996-11-12 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Apparatus and method for mapping a redundant memory column to a defective memory column
US6249465B1 (en) * 2000-02-18 2001-06-19 Hewlett-Packard Company Redundancy programming using addressable scan paths to reduce the number of required fuses

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100798773B1 (ko) 2005-09-29 2008-01-29 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US7573776B2 (en) 2005-09-29 2009-08-11 Hynix Semiconductor, Inc. Semiconductor memory device having data-compress test mode

Also Published As

Publication number Publication date
US20010055228A1 (en) 2001-12-27
US6337818B1 (en) 2002-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2500740B2 (ja) デュアルポ―トメモリ
JP3763085B2 (ja) 半導体メモリ装置の列冗長回路
US7580320B2 (en) Multi-port memory device
JPH07153254A (ja) メモリ装置及びシリアル‐パラレルデータ変換回路
US6041006A (en) Semiconductor memory device
JPH11176187A (ja) 半導体メモリ装置並びにその不良セルリペア回路及び方法
JP2002008389A (ja) 半導体記憶装置
US6584022B2 (en) Semiconductor memory device with simultaneous data line selection and shift redundancy selection
KR100334143B1 (ko) 반도체 메모리 장치와 불량 메모리 셀 구제 방법
KR20030040006A (ko) 반도체 메모리
US7433259B2 (en) Semiconductor memory device having layered bit line structure
KR100865340B1 (ko) 반도체 장치
JPH04368700A (ja) 半導体メモリ装置
US20070014181A1 (en) Semiconductor memory device having connected bit lines and data shift method thereof
EP0479163B1 (en) Semiconductor memory device
JP2002140895A (ja) 半導体記憶装置
JP2006114141A (ja) 半導体メモリ
JP3296404B2 (ja) 半導体記憶装置
JP4519786B2 (ja) 半導体記憶装置
JP4250900B2 (ja) 記憶装置
JP3198584B2 (ja) スタティック型半導体記憶装置
KR0184513B1 (ko) 반도체 메모리 장치
JP2000076865A (ja) 半導体記憶装置
JPH056690A (ja) デユアルポートメモリ
JP2002074965A (ja) 半導体メモリ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070502

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091014

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091020

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100302