JP3198584B2 - スタティック型半導体記憶装置 - Google Patents

スタティック型半導体記憶装置

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JP3198584B2 JP05703592A JP5703592A JP3198584B2 JP 3198584 B2 JP3198584 B2 JP 3198584B2 JP 05703592 A JP05703592 A JP 05703592A JP 5703592 A JP5703592 A JP 5703592A JP 3198584 B2 JP3198584 B2 JP 3198584B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、スタティックRAM
(以下、SRAMと記す)のメモリセルアレイを有する
スタティック型半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】SRAMのメモリセルアレイにおいて、
SRAMのビット線及びデータ線は、読出し時には電源
電圧に近い電圧レベル、書込み時には“L”レベル側が
GNDレベルに近い電圧レベルにて動作する。但し、
(電源電圧)>(GNDレベル)とする。このため、従
来、ビット線とデータ線との間に設けられるカラムスイ
ッチとしては、図4(A),(B)に示すように、互い
に並列に接続されたPチャネル,Nチャネルの各MOS
トランジスタ(以下、それぞれPMOSトランジスタ,
NMOSトランジスタと略記する)41,42及びカラ
ムスイッチ制御入力に応答してPMOS41を駆動する
インバータ43からなる構成のものが用いられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成のカラムスイッチを用いた従来のビット線対選択回路
では、ビット線毎に設けられるカラムスイッチが逆導電
型のMOSトランジスタを並列接続した構成となってい
るので、カラムスイッチのレイアウトが非常に難しく、
レイアウト面積が大きくなるという欠点があった。
【0004】そこで、本発明は、カラムスイッチのレイ
アウトを容易にし、レイアウト面積の縮小化を可能とし
スタティック型半導体記憶装置を提供することを目的
とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によるスタティッ
ク型半導体記憶装置は、偶数行には偶数列または奇数列
の何れか一方にのみ配置され、奇数行には偶数列または
奇数列の何れか他方にのみ配置された複数のスタティッ
ク型メモリセルと、行毎に配線された複数のワード線
と、列毎にワード線と交差して配線され、隣接列のビッ
ト線対とその一方を共有する複数のビット線対と、ビッ
ト線とデータ線との間に接続された複数のカラムスイッ
チと、偶数列または奇数列の一方のビット線対間にのみ
接続されて書込み時にのみ活性化される複数のラッチ回
路とを具備した構成となっている。
【0006】
【作用】スタティック型半導体記憶装置において、ビッ
ト線対間に接続されたラッチ回路が書込み時にのみ活性
化されることで、ビット線とデータ線との間に接続され
たカラムスイッチをPMOSトランジスタのみで構成す
ることができるため、カラムスイッチのレイアウトが容
易になり、レイアウト面積を縮小できる。特に、ビット
線対が隣接列のビット線対とその一方を共有すること
で、1本のビット線には複数個のカラムスイッチが接続
され、これら複数個のカラムスイッチ同士が近接配置さ
れることになるが、カラムスイッチをPMOSトランジ
スタのみで構成できることで、カラムスイッチのレイア
ウトが容易になり、レイアウト面積を縮小化できる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は、本発明の一実施例を示す回路図で
ある。本実施例におけるメモリセルアレイは、メモリセ
ル10が上下左右に1セル分ずつずれていわゆるマトリ
クス状に配置されている。このメモリマトリクスのう
ち、ロー(行)方向のメモリセル10を選択するため
に、2m 本のワード線WL1〜WL2m が配されてい
る。そして、m個のローアドレスX1〜Xmを入力とす
るローデコーダ11によってワード線WL1〜WL2m
の選択が行われることにより、ロー方向に並んだ1組
(1行)のメモリセルが選択される。
【0008】一方、メモリマトリクスのうち、カラム
(列)方向のメモリセル10を選択するために、2n+1
本のビット線BL1〜BL2n+1 が配されている。ま
た、1列のメモリセル10には、1組のビット線対が割
り当てられている。そして、n個のカラムアドレスY1
〜Ynがカラムデコーダ12によって2n 個のビット線
対選択信号C1〜C2n に変換され、このビット線対選
択信号C1〜C2n によってビット線対が選択されるこ
とにより、カラム方向に並んだ1組(1列)のメモリセ
ルが選択される。
【0009】ビット線対選択信号C1〜C2n によって
ビット線対(BL1とBL2,BL3とBL4,……,
BL2n+1-1とBL2n+1)を選択するために、ビット線
BL1〜BL2n+1 の各々とデータ線との間に、PMO
SトランジスタからなるカラムスイッチCS1〜CS2
n+1 が接続されており、対をなすビット線に接続された
PMOSトランジスタのゲート同士が共通接続されてビ
ット線対選択信号C1〜C2n がスイッチ制御入力とし
て印加されるようになっている。そして、スイッチ制御
入力が“L”レベルのときに、対応するビット線対が選
択される。
【0010】一方、ビット線対(BL1とBL2,BL
3とBL4,……,BL2n+1-1とBL2n+1)間には、
書込み信号WTの印加によって書込み時にのみ活性化さ
れるラッチ回路13が接続されている。このラッチ回路
13としては、例えば、図3(A)に示すように、PM
OSトランジスタとNMOSトランジスタからなる2個
のインバータ14a,14bが、各入力端子と出力端子
間を互いに接続されて設けられるとともに、NMOSト
ランジスタのドレイン共通接続点と接地間にNMOSト
ランジスタスイッチが接続され、そのゲートに書込み信
号WTを印加する構成のものを用い得る。
【0011】なお、ラッチ回路13としては、上記構成
のものに限定されるものではなく、又書込み信号WTの
反転信号が入力される場合には、図3(B)に示すよう
に、NMOSトランジスタスイッチを省略して書込み信
号WTの反転信号をNMOSトランジスタのドレイン共
通接続点に印加するように構成すれば良い。
【0012】次に、メモリセル10に対するデータの読
出し時及び書込み時の回路動作について説明する。先
ず、読出し時には、誤書込み防止のために書込み信号W
Tが“L”レベルにあり、ラッチ回路13が活性化され
ないことから、ビット線対間の振幅レベルが選択された
カラムスイッチ対を通してデータ線対に伝達される。す
なわち、読出し動作は、従来と同様に行われることにな
る。
【0013】一方、書込み時には、データ線対の各々が
書込みバッファ(図示せず)によって“H”レベルと
“L”レベルになる。これにより、選択されたビット線
対も各々“H”レベルと“L”レベルになろうとする。
ここで、ラッチ回路13が活性化されていないものとす
ると、カラムスイッチCSのPMOSトランジスタのス
レッショルドレベルVTH分だけ、ビット線の“L”レベ
ルが下がり切らないために、メモリセル10への書込み
が十分に行われないことになる。
【0014】ところが、本発明においては、書込み時
に、書込み信号WTを“H”レベルにし、ラッチ回路1
3を活性化するようにしているので、カラムスイッチC
SのPMOSのスレッショルドレベルVTHに起因するビ
ット線の不十分なレベル差が、ラッチ回路13によって
電源電圧と同じ振幅レベルにまで拡げられる。これによ
り、メモリセル10に対して確実に書込みを行えること
になる。
【0015】上述したように、ビット線対間に書込み時
にのみ活性化されるラッチ回路13を設けるとともに、
各ビット線とデータ線との間に接続されるカラムスイッ
チCS1〜CS2n+1 をPMOSトランジスタのみで構
成したことにより、カラムスイッチCS1〜CS2n+1
のレイアウトが容易になり、レイアウト面積を縮小化で
きるとともに、チップ面積の縮小化が図れることにな
る。
【0016】図2は、本発明の他の実施例を示す回路図
である。本実施例におけるメモリセルアレイは、同図か
らはその構成が明らかではないが、奇数行目と偶数行目
とで相互にワード線と平行なセルの辺の長さの略1/2
だけずれた状態で各メモリセルを配置することにより、
セル面積の縮小化を図ったものであり、またその両端の
ビット線を除いては、1本のビット線が奇数行目のメモ
リセルのビット線対のうちの1本と偶数行目のメモリセ
ルのビット線対のうちの1本の両機能を併せ持つ構成と
なっている。
【0017】図2において、カラムデコーダ12の出力
である2n 個のビット線対選択信号C1〜C2n に対
し、メモリセルアレイには(2n+1+1)本のビット線B
L1〜BL2n+1+1が配されている。これらビット線の
うち、奇数列のビット線と偶数列のビット線の組は、奇
数行目のメモリセル(奇数行目のワード線Woにつなが
るメモリセル)に対するビット線対(以下、Bo対と記
す)を、偶数列のビット線と奇数列のビット線の組は、
偶数行目のメモリセル(偶数行目のワード線Weにつな
がるメモリセル)に対するビット線対(以下、Be対と
記す)をそれぞれ示している。
【0018】そして、これらビット線のうち、両端のビ
ット線BL1,BL2n+1+1の各一端とデータ線対の一
方のデータ線との間には、単一のカラムスイッチCS
a,CSbがそれぞれ接続されている。また、両端のビ
ット線BL1,BL2n+1+1を除く奇数列のビット線B
L2,BL4,……の各一端とデータ線対の一方のデー
タ線との間には、互いに並列接続されたカラムスイッチ
対CSe1 ,CSe2 ,……がそれぞれ接続され、偶数
列のビット線BL3,BL5,……の各一端とデータ線
対の他方のデータ線との間には、互いに並列接続された
カラムスイッチ対CSo1 ,CSo2 ,……がそれぞれ
接続されている。
【0019】両端のビット線BL1,BL2n+1+1 の各
々に接続された単一のカラムスイッチCSa,CSbお
よび両端のビット線を除くビット線の各々に互いに並列
接続されたカラムスイッチ対CSe1 ,CSe2 ,…
…,CSo1 ,CSo2 ,……をスイッチング制御する
ために、カラムデコーダ12から出力されるビット線対
選択信号C1〜C2n とローアドレスの最下位ビット
(LSB)信号およびその反転信号との論理積をとるN
ANDゲート回路群15が設けられている。
【0020】NANDゲート回路群15はビット線対選
択信号C1〜C2n に対して2n+1個のNANDゲート
回路の集合からなる。このNANDゲート回路群15に
おいて、奇数番目のNANDゲート回路の各出力信号は
Bo対を選択する制御信号として用いられ、偶数番目の
NANDゲート回路の各出力信号はBe対を選択する制
御信号として用いられる。
【0021】かかる構成のメモリセルアレイに対し、本
発明においては、両端のビット線BL1,BL2n+1+1
の各々に接続された単一のカラムスイッチCSa,CS
bおよび両端のビット線を除くビット線の各々に互いに
並列接続されたカラムスイッチ対CSe1 ,CSe2 ,
……,CSo1 ,CSo2 ,……を、同図から明らかな
ように、PMOSトランジスタのみにより構成した点を
特徴としている。
【0022】この構成によれば、先述した実施例の場合
と同様に、カラムスイッチのレイアウトが容易になると
ともに、レイアウト面積を縮小化でき、特に本例のよう
に、1本のビット線複数個のカラムスイッチを接続す
るような場合には、図2の回路図からも明らかなよう
に、これら複数個のカラムスイッチ同士が近接して配置
されることになるため、その効果が大である。
【0023】また、例えばBe対間には、書込み信号W
Tの印加によって書込み時のみ活性化されるラッチ回路
13が接続されている。ラッチ回路13の構成及びその
作用は、先述した実施例の場合と同じである。このラッ
チ回路13は、同図に示したように全てのビット線対間
に設ける必要はなく、1本のビット線に対してラッチ回
路13が1個接続されていれば良い。
【0024】またこのとき、ビット線BL2n+1+1にラ
ッチ回路13を接続するために、ビット線BL2n+1
対してはラッチ回路13を接続する必要はない。また、
このラッチ回路13を設ける代わりに、ビット線BL2
n+1+1に対するカラムスイッチのみに関しては、PMO
SトランジスタとNMOSトランジスタとからなる従来
例のもの(図4参照)を用いても良い。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
SRAMのメモリセルアレイのビット線対間に書込み時
にのみ活性化されるラッチ回路を接続するとともに、ビ
ット線とデータ線との間にカラムスイッチを接続したこ
とにより、これらカラムスイッチをPMOSトランジス
タのみによって構成できるので、カラムスイッチのレイ
アウトが容易になり、レイアウト面積を縮小化できると
ともに、チップ面積の縮小化が図れることになる。
に、ビット線対が隣接列のビット線対とその一方を共有
することで、1本のビット線には複数個のカラムスイッ
チが接続されるとともに、複数個のカラムスイッチ同士
が近接配置されることになるため、カラムスイッチをP
MOSトランジスタのみで構成することによるレイアウ
ト面積の縮小化の効果は大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す回路図である。
【図2】本発明の他の実施例を示す回路図である。
【図3】ラッチ回路の具体的な構成を示す回路図であ
る。
【図4】カラムスイッチの従来例の構成を示す回路図で
ある。
【符号の説明】
10 メモリセル 11 ローデコーダ 12 カラムデコーダ 13 ラッチ回路 15 NANDゲート回路群 CS1〜CS2n+1,CSa,CSb カラムスイッチ CSe1,……,CSo1,…… カラムスイッチ対

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 偶数行には偶数列または奇数列の何れか
    一方にのみ配置され、奇数行には偶数列または奇数列の
    何れか他方にのみ配置された複数のスタティック型メモ
    リセルと、 行毎に配線された複数のワード線と、 列毎に前記ワード線と交差して配線され、隣接列のビッ
    ト線対とその一方を共有する複数のビット線対と、 ビット線とデータ線との間に接続された複数のカラムス
    イッチと、 偶数列または奇数列の一方のビット線対間にのみ接続さ
    れて書込み時にのみ活性化される複数のラッチ回路と
    具備したことを特徴とするスタティック型半導体記憶装
    置。
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