JP2001526266A - アゼピン又はそれ以上の中員環誘導体と医薬としてのそれらの使用 - Google Patents

アゼピン又はそれ以上の中員環誘導体と医薬としてのそれらの使用

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Abstract

(57)【要約】 選ばれた新規アゼピン化合物と、それより大きい中員環化合物は、炎症、組織崩壊及び関連疾患の予防と治療に有効である。本発明は、炎症、組織崩壊及び関連疾患を予防ならびに治療するための新規化合物、類似体、プロドラッグ及び薬学上許容できるそれらの塩、医薬組成物及び方法を包含する。また本発明はそれら化合物の製造方法と、それらの方法で有用な中間体に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （発明の背景） 本発明はメタロプロテイナーゼ阻害剤に関し、より具体的には炎症、組織崩壊
などを予防及び治療するための新規化合物、組成物及び方法に関する。特に本発
明は、新規アゼピン化合物とそれより大きい中員環化合物、それらの化合物を含
有する組成物及びそれら化合物の使用法に関する。また本発明は上記化合物の製
造方法と、それらの方法で有用な中間体に関する。
【０００２】 コラゲナーゼ、ストロメライシン、ゼラチナーゼ、ＴＮＦコンバターゼなどの
メタロプロテイナーゼ酵素は、結合組織崩壊の発症又は病因、炎症誘発性サイト
カイン類の分泌などの一因となり、あるいはそれらに関係する疾患状態を悪化さ
せうる。例えば、コラゲナーゼ、ストロメライシン、ゼラチナーゼなどのマトリ
ックスメタロプロテイナーゼは、慢性関節リウマチ；変形性関節症；オステオペ
ニア（例：骨粗鬆症）；歯周炎；歯肉炎；角膜潰瘍、表皮潰瘍及び胃潰瘍の形成
；腫瘍の転移、浸潤及び成長にみられる組織破壊や、ミエリン分解（例：多発性
硬化症）などの神経炎症性障害、また関節炎状態；癌；固形腫増殖；乾癬；増殖
性網膜症；血管新生緑内障；眼の腫瘍；線維性血管腫；血管腫；腎炎；肺炎；再
狭窄などの血管形成依存性疾患に関与すると考えられている。
【０００３】 腫瘍壊死因子α（ＴＮＦ−α）は、多くの炎症性刺激（例えばリポ多糖−ＬＰ
Ｓ）又は外部からの細胞ストレス（例：浸透圧衝撃、過酸化物）に反応して単球
とマクロファージを含む様々な細胞が分泌する炎症誘発性サイトカインである。
ＴＮＦ濃度の上昇は多くの炎症性疾患状態の媒介に主要な役割を果たす。ＴＮＦ
−α濃度の上昇は、次に挙げる疾患状態の発症、病因の一因になったり、その疾
患状態を悪化させたりしうる：慢性関節リウマチ；変形性関節症；リウマチ様脊
椎炎；痛風性関節炎；炎症性腸疾患；成人型呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）；乾癬
；クローン病；アレルギー性鼻炎；潰瘍性大腸炎；アナフィラキシー；接触皮膚
炎；喘息；ＴＮＦ−α阻害に対して感受性を示すウイルス（ＨＩＶ−１、ＨＩＶ
−２、ＨＩＶ−３、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、インフルエンザ、アデノ
ウイルス、ならびにＨＳＶ−１、ＨＳＶ−２及び帯状ヘルペスを含むヘルペルウ
イルス）などの抗ウイルス治療；筋変性；悪液質；ライター症候群；ＩＩ型糖尿
病；骨吸収疾患；移植片対宿主反応；虚血再灌流障害；アテローム硬化症；脳外
傷；アルツハイマー病；多発性硬化症；大脳マラリア；敗血症；敗血症性ショッ
ク；毒素ショック症候群；及び感染による発熱と筋肉痛。
【０００４】 ＴＮＦ−αの作用を遮断するためにいくつかの取り組みがなされている。１つ
のアプローチは、ＴＮＦ−αが媒介する疾患状態の動物モデルでその有効性が実
証されているＴＮＦ−αの可溶性レセプター（例えばＴＮＦＲ−５５やＴＮＦＲ
−７５）を使用するものである。ＴＮＦ−αに特異的なモノクローナル抗体ｃＡ
２を使ってＴＮＦ−αを中和するもう１つのアプローチは、慢性関節リウマチの
第二相臨床試験で、腫脹関節数の改善が実証されている（Ｆｅｌｄｍａｎｎら，
Ｉｍｍｕｎｏｌｏｇｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ，１９５〜２２３頁（１９９５）
）。
【０００５】 上記のアプローチはタンパク質封鎖又はレセプター拮抗によってＴＮＦ−αの
作用を遮断するものであるが、もう１つの遮断方法はＴＮＦの細胞分泌に介入す
ることである。ＴＮＦコンバターゼは、ＴＮＦ−αの細胞分泌に関与するメタロ
プロテイナーゼ酵素であると考えられている（Ｍｏｈｌｅｒら，Ｎａｔｕｒｅ
３７０：２１８−２２０，１９９４；Ｇｅａｒｉｎｇら，Ｎａｔｕｒｅ ３７０
：５５５−５５７，１９９４；ＭｃＧｅｅｈａｎら，Ｎａｔｕｒｅ ３７０：５
５８−５６１，１９９４）。ＴＮＦコンバターゼの阻害はＴＮＦ−αの細胞分泌
に介入するもう１つの方法であると考えられている。例えば、あるメタロプロテ
イナーゼ阻害剤はＴＮＦ−αの細胞分泌をインビトロとインビボで阻害すること
が示されており、これはＴＮＦコンバターゼの阻害によるものと考えられた（Ｍ
ｃＧｅｅｈａｎら，Ｎａｔｕｒｅ ３７０：５５８−５６１，１９９４）。ＴＮ
Ｆ−αの細胞分泌へのメタロプロテイナーゼ阻害剤による介入の性質に関する証
拠はあるが、例えば細胞外刺激とタンパク質の分泌を結ぶ経路上のある点で介入
することによるなど、それらの化合物がＴＮＦ分泌を抑制する作用には付加的な
又は代替的な機序が関与するかもしれない。
【０００６】 ＴＮＦ−αは炎症のサイトカインカスケードでは上流にあって、ＴＮＦ−α濃
度の上昇はＩＬ−１、ＩＬ−６及びＩＬ−８を含む他のサイトカインの濃度の上
昇につながるので、ＴＮＦ−αの分泌を抑制することは、ＩＬ−１、ＩＬ−６、
ＩＬ−８などの（ただしこれらに限らない）他のサイトカインの濃度を低下させ
ることにもなるだろう。
【０００７】 さらにＴＮＦ−αは頭部外傷、卒中及び虚血でもある役割を果たすと考えられ
ている。例えば頭部外傷の動物モデル（ラット）では、挫傷を負った半球でＴＮ
Ｆ−α濃度が上昇した（Ｓｈｏｈａｍｉら，Ｊ．Ｃｅｒｅｂ．Ｂｌｏｏｄ Ｆｌ
ｏｗ Ｍｅｔａｂ．１４：６１５−６１９（１９９４））。ラットで中大脳動脈
を閉塞した虚血のモデルでは、ＴＮＦ−αのｍＲＮＡの濃度が増加した（Ｆｅｕ
ｒｓｔｅｉｎら，Ｎｅｕｒｏｓｃｉ．Ｌｅｔｔ．１６４：１２５−１２８（１９
９３））。ラットの皮質へのＴＮＦ−αの投与は毛細管での有意なＰＭＮ蓄積と
小血管での付着を招いた。ＴＮＦ−αは、梗塞領域への好中球浸潤を促進する他
のサイトカイン（ＩＬ−１ｂ、ＩＬ−６）と、さらにはケモカインの浸潤を促進
する（Ｆｅｕｒｓｔｅｉｎ Ｓｔｒｏｋｅ ２５：１４８１−１４８８（１９９
４））。
【０００８】 またＴＮＦ−αは、一定のウイルスの生活環とそれに伴う疾患状態の助長にも
ある役割を果たすのかもしれない。例えば、単球によって分泌されたＴＮＦ−α
は、慢性的に感染したＴ細胞クローンでのＨＩＶ発現レベルの上昇を誘導した（
Ｃｌｏｕｓｅら，Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１４２：４３１（１９８９））。ＨＩＶ
に付随する悪液質と筋崩壊の状態におけるＴＮＦ−αの役割が論じられている（
Ｌａｈｄｅｖｉｒｔａら，Ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｊ．Ｍｅｄ．８５：２８
９（１９８８））。
【０００９】 ＷＯ９６／３３１７２には、Ｎ−アリールスルホニル−及びＮ−へテロアリー
ルスルホニル−ピペリジニル−２−ヒドロキサム酸化合物などのＮ−アリールス
ルホニル及びＮ−へテロアリールスルホニル置換６員環へテロ環ヒドロキサム酸
誘導体と、それらの製造及びマトリックスメタロプロテイナーゼとＴＮＦ産生の
阻害剤としてのそれらの使用が開示されている。
【００１０】 ＥＰ６０６０４６には、例えばＮ−アリールスルホニル−及びＮ−へテロアリ
ールスルホニル−ピペリジニル−２−ヒドロキサム酸化合物、Ｎ−アリールスル
ホニル−及びＮ−へテロアリールスルホニル−１，２，３，４−テトラヒドロイ
ソキノリニル−２−ヒドロキサム酸化合物などのＮ−アリールスルホニル及びＮ
−へテロアリールスルホニル置換５〜６員環へテロ環ヒドロキサム酸誘導体、そ
の製造、及びマトリックスメタロプロテイナーゼの阻害剤としての使用が開示さ
れている。
【００１１】 ＷＯ９７／１８１９４には、いくつかの環式及びヘテロ環式Ｎ−置換α−置換
イミノヒドロキサム酸及びカルボン酸と、それらの製造、及びマトリックスメタ
ロプロテイナーゼの阻害剤としての使用が開示されている。
【００１２】 ＥＰ８０３５０５には、任意に置換されていてもよいアリール縮合Ｎ−へテロ
環類と、それらの製造、及びメタロプロテイナーゼの阻害剤としての使用が開示
されている。
【００１３】 （発明の簡単な説明） 本発明は、選定されたメタロプロテイナーゼ阻害化合物、それらの類似体、及
び薬学上許容できる塩並びにプロドラッグに関するものである。本化合物は、ア
ゼピン及びより大きい中員環化合物として特徴付けされる。本化合物は、炎症、
組織崩壊、及び関連疾患の予防や治療に有用である。従って、本発明は、炎症、
組織崩壊、及び関連疾患用の薬剤組成物、並びに、予防及び治療法も包含する。
更に、本発明は、そのような化合物を製造するためのプロセスや、そのようなプ
ロセスに有用な中間体にも関係する。
【００１４】 （発明の詳細な説明） 本発明により、次式（Ｉ）：
【００１５】
【化２】 で表される化合物、あるいはそれらの薬学上許容できるその塩が提供される： ［式中、 Ｒ１は、（１）−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２ Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘテロアリール、シクロアル
キル、又はヘテロシクリルのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよい
、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、又はヘテロシクリル基
であるか；又は、（２）フェニル基又は５−６員環の単環式ヘテロアリール基で
任意に置換されていてもよい５−６員環の単環式へテロアリールもしくはヘテロ
シクリル基で任意に置換されていてもよいアリール基であるか；又は、（３）任
意に置換されていてもよいフェニルでもしくは、フェニル基又は５−６員環の単
環式へテロアリール基で任意に置換されていてもよい５−６員環の単環式ヘテロ
アリール又はヘテロシクリル基で任意に置換されていてもよいヘテロアリール基
であり；ここで、（１）、（２）、及び（３）のフェニル、アリール、ヘテロア
リール、シクロアルキル、及びヘテロシクリル基は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−
ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、
アミノ、アルカノイルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルコキシカルボニ
ルアミノ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、又はハロ
アルキルのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００１６】 好ましくは、Ｒ１は、（１）−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、
−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘテロアリール
、シクロアルキル、又はヘテロシクリルのうちの１−３個の基で任意に置換され
ていてもよい、Ｃ１−Ｃ１２アルキル、Ｃ２−Ｃ１２アルケニル、Ｃ２−Ｃ１２ アルキニル、シクロアルキル、又はヘテロシクリル基であるか；又は、（２）フ
ェニル基又は５−６員環の単環式ヘテロアリール基で任意に置換されていてもよ
い５−６員環の単環式へテロアリールもしくはヘテロシクリル基で任意に置換さ
れていてもよいアリール基であるか；又は、（３）任意に置換されていてもよい
フェニルでもしくは、フェニル基又は５−６員環の単環式へテロアリール基で任
意に置換されていてもよい５−６員環の単環式ヘテロアリール又はヘテロシクリ
ル基で任意に置換されていてもよいヘテロアリール基であり；ここで、（１）、
（２）、及び（３）のフェニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、
及びヘテロシクリル基は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、
−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、Ｃ１−Ｃ８アルカ
ノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカ
ルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ １ −Ｃ８アルキル、又は１−３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルキルのうちの１
−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００１７】 より好ましくは、Ｒ１は、（１）−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ ３ 、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘテロアリ
ール、シクロアルキル、又はヘテロシクリルのうちの１−３個の基で任意に置換
されていてもよい、Ｃ１−Ｃ１２アルキル、Ｃ２−Ｃ１２アルケニル、Ｃ２−Ｃ １２ アルキニル、シクロアルキル、又はヘテロシクリル基であるか；又は、（２
）フェニル基又は５−６員環の単環式ヘテロアリール基で任意に置換されていて
もよい５−６員環の単環式へテロアリールもしくはヘテロシクリル基で任意に置
換されていてもよいアリール基であるか；又は、（３）任意に置換されていても
よいフェニルでもしくは、フェニル基又は５−６員環の単環式へテロアリール基
で任意に置換されていてもよい５−６員環の単環式ヘテロアリール又はヘテロシ
クリル基で任意に置換されていてもよいヘテロアリール基であり；ここで、（１
）、（２）、及び（３）のフェニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキ
ル、及びヘテロシクリル基は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ ３ 、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド
、Ｃ１−Ｃ６アルキル、又は１−３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキルのうち
の１−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００１８】 更に好ましくは、Ｒ１は、（１）−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ ３ 、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘテロアリ
ール、シクロアルキル、又はヘテロシクリルのうちの１−３個の基で任意に置換
されていてもよいＣ１−Ｃ１２アルキル基であるか；又は、（２）フェニル基又
は５−６員環の単環式ヘテロアリール基で任意に置換されていてもよい５−６員
環の単環式へテロアリールもしくはヘテロシクリル基で任意に置換されていても
よいアリール基であるか；又は、（３）任意に置換されていてもよいフェニルで
もしくは、フェニル基又は５−６員環の単環式へテロアリール基で任意に置換さ
れていてもよい５−６員環の単環式ヘテロアリール又はヘテロシクリル基で任意
に置換されていてもよいヘテロアリール基であり；ここで、（１）、（２）、及
び（３）のフェニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、及びヘテロ
シクリル基は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ） ２ Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスル
ホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ
カルボニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、又は−ＣＦ３基のうちの１−
３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００１９】 より好ましくは、Ｒ１は、（１）−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）２ Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、又はヘテロ
シクリルのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２アル
キル基であるか；又は、（２）フェニル基又は５−６員環の単環式ヘテロアリー
ル基で任意に置換されていてもよい５−６員環の単環式へテロアリールもしくは
ヘテロシクリル基で任意に置換されていてもよいアリール基であるか；又は、（
３）任意に置換されていてもよいフェニルでもしくは、フェニル基又は５−６員
環の単環式へテロアリール基で任意に置換されていてもよい５−６員環の単環式
ヘテロアリール又はヘテロシクリル基で任意に置換されていてもよいヘテロアリ
ール基であり；ここで、（１）、（２）、及び（３）のフェニル、アリール、ヘ
テロアリール、シクロアルキル、及びヘテロシクリル基は、ヒドロキシ、−ＯＲ ３ 、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メ
チルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、又は−ＣＦ３基のう
ちの１−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００２０】 更に好ましくは、Ｒ１は、（１）−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール
、又はヘテロアリールのうちの１−２個の基で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基
であるか；又は、（２）５−６員環の単環式ヘテロアリール基で任意に置換され
ていてもよいアリール基であるか；又は、（３）フェニル基で任意に置換されて
いてもよいヘテロアリール基であり；ここで、（１）、（２）、及び（３）のフ
ェニル、アリール、及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３ 、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニ
ルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカル
ボニル、ハロ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、又は−ＣＦ３基のうちの１−２個の基で任
意に置換されていてもよく；
【００２１】 より好ましくは、Ｒ１は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ ３ 、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、Ｃ１−
Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、ハロ、Ｃ １ −Ｃ６アルキル、又は−ＣＦ３基のうちの１−２個の基で任意に置換されてい
てもよいアリール又はヘテロアリール基であり；そして、 更に好ましくは、Ｒ１は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ ３ Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４ アルキル、又は−ＣＦ３基のうちの１−２個の基で任意に置換されていてもよい
アリール基であり；
【００２２】 より好ましくは、Ｒ１は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ ３ Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４ アルキル、又は−ＣＦ３基のうちの１−２個の基で任意に置換されていてもよい
フェニル基であり；
【００２３】 最も好ましくは、Ｒ１は、ヒドロキシ、−ＯＲ３、ハロ、メチル、又は−ＣＦ ３ 基のうちの１−２個の基で任意に置換されていてもよいフェニル基であり；こ
こで、 Ｒ１のフェニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、及びヘテロシ
クリル基の総計が好ましくは０−３、より好ましくは０−２、最も好ましくは１
−２であり；
【００２４】 式中の各Ｒ３は、独立して、アルキル、ハロアルキル、アリール、ヘテロアリ
ール、アリール−アルキル、又はヘテロアリール−アルキル基であり、ここで、
該アリール及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオー
ル、アミノ、アルカノイルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルフ
ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボ
ニル、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの
うちの１−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００２５】 好ましくは、各Ｒ３は、独立して、Ｃ１−Ｃ８アルキル、１−３個のハロ基の
Ｃ１−Ｃ８ハロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−
アルキル、又はヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であり、ここで、該ア
リール及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルチオール、アミノ、Ｃ１−Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アル
キルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキル
スルホニル、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカ
ルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ８アルキル、１−３個のハロ基のＣ １ −Ｃ８ハロアルキル、又は１−３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルコキシのう
ちの１−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００２６】 より好ましくは、各Ｒ３は、独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１−３個のハロ
基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ ４ −アルキル、又はヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であり、ここで、
該アリール及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１ −Ｃ４アルキルチオール、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ４ アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アル
キルスルホニル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１−３個のハロ基
のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は１−３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシ
のうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００２７】 更に好ましくは、各Ｒ３は、独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリ
ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、又はヘテロアリール
−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であり、ここで、該アリール及びヘテロアリール基は
、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、アミノ、
アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ １ −Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、シア
ノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３のうちの１−３個の
基で任意に置換されていてもよく；
【００２８】 より好ましくは、各Ｒ３は、独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリ
ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、又はヘテロアリール
−Ｃ１−Ｃ２−アルキル基であり、ここで、該アリール及びヘテロアリール基は
、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、アミノ、
アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ １ −Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、シア
ノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３のうちの１−２個の
基で任意に置換されていてもよく；
【００２９】 更に好ましくは、各Ｒ３は、独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリ
ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、又はヘテロアリール
−Ｃ１−Ｃ２−アルキル基であり、ここで、該アリール及びヘテロアリール基は
、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオール、アミノ、
アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニル、Ｃ １ −Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、ハロ
、Ｃ１−Ｃ２アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３のうちの１−２個の基で任意
に置換されていてもよく；
【００３０】 より好ましくは、各Ｒ３は、独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリ
ール、ヘテロアリール、アリールメチル、又はヘテロアリールメチル基であり；
【００３１】 更に好ましくは、各Ｒ３は、独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、フェ
ニル、ヘテロアリール、フェニルメチル、又はヘテロアリールメチル基であり；
【００３２】 最も好ましくは、各Ｒ３は、独立して、メチル、−ＣＦ３、フェニル、ヘテロ
アリール、フェニルメチル、又はヘテロアリールメチル基であり；そして、
【００３３】 各Ｒ４は、独立して、水素又はアルキル基であり；好ましくは、各Ｒ４は、独
立して、水素又はＣ１−Ｃ８アルキル基であり；より好ましくは、各Ｒ４は、独
立して、水素又はＣ１−Ｃ４アルキル基であり；最も好ましくは、各Ｒ４は、独
立して、水素又はメチル基であり；そして、
【００３４】 Ｒ２は水素又はアルキル基であり；好ましくは、Ｒ２は水素又はＣ１−Ｃ４ア
ルキル基であり；より好ましくは、Ｒ２は水素又はメチル基であり；最も好まし
くは、Ｒ２は水素基であり；そして、
【００３５】 Ｖは−ＣＲ８Ｒ１１−又は−ＣＲ８Ｒ１１−ＣＨＲ１２−であり；好ましくは
、Ｖは−ＣＲ８Ｒ１１−であり；代替的に好ましくは、Ｖは−ＣＲ８Ｒ１１−Ｃ
ＨＲ１２−であり；
【００３６】 式中のＲ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、（１）水素、−ＯＲ２０、−
ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ
（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（
Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロアルキル、
アリール、又はヘテロアリール基であるか；又は、（２）−ＯＲ２０、−ＳＲ２ １ 、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）
−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２ −Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール、又はヘテロア
リールのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよい、アルキル、アルケ
ニル、又はアルキニル基であり；ここで、（１）及び（２）の該シクロアルキル
、アリール、及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ
ール、アミノ、アルカノイルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルコキシカ
ルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、ハ
ロアルキル、又はハロアルコキシのうちの１−３個の基で任意に置換されていて
もよく；
【００３７】 好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、（１）水素、−ＯＲ２ ０ 、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３ ３ −Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３ −Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロアル
キル、アリール、又はヘテロアリール基であるか；又は、（２）−ＯＲ２０、−
ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ
（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（
Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール、又はヘ
テロアリールのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１−Ｃ８ アルキル、Ｃ２−Ｃ８アルケニル、又はＣ２−Ｃ８アルキニル基であり；ここで
、（１）及び（２）の該シクロアルキル、アリール、及びヘテロアリール基は、
ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、アミノ、Ｃ １ −Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ８アルコキ
シカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド
、Ｃ１−Ｃ８アルキル、１−３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルキル、又は１−
３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルコキシのうちの１−３個の基で任意に置換さ
れていてもよく；
【００３８】 より好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｎ
Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ ３３ −Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロ
アルキル、アリール、又はヘテロアリール基であるか；又は、（２）−ＯＲ２０ 、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−
Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール、又
はヘテロアリールのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１−
Ｃ８アルキル、Ｃ２−Ｃ８アルケニル、又はＣ２−Ｃ８アルキニル基であり；こ
こで、（１）及び（２）の該シクロアルキル、アリール、及びヘテロアリール基
は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、アミノ
、Ｃ１−Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１ −Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ４アル
コキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、ア
ジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１−３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は
１−３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシのうちの１−３個の基で任意に置
換されていてもよく；
【００３９】 更に好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｎ
Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ ３３ −Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロ
アルキル、アリール、又はヘテロアリール基であるか；又は、（２）−ＯＲ２０ 、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−
Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール、又
はヘテロアリールのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１−
Ｃ４アルキル、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、又はＣ２−Ｃ４アルキニル基であり；こ
こで、（１）及び（２）の該シクロアルキル、アリール、及びヘテロアリール基
は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、アミノ
、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスルフィニル、メチルスル
ホニル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボ
ニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３ 基のうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００４０】 より好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｎ
Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ ３３ −Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロ
アルキル、アリール、又はヘテロアリール基であるか；又は、（２）−ＯＲ２０ 、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−
Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール、又
はヘテロアリールのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１−
Ｃ４アルキル又はＣ２−Ｃ４アルケニル基であり；ここで、（１）及び（２）の
該シクロアルキル、アリール、及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、アミノ、アセチルアミノ、メチル
スルホニルアミノ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、Ｃ１−Ｃ４アルコ
キシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジ
ド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基のうちの１−２個の基で
任意に置換されていてもよく；
【００４１】 更に好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｎ
Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ ３３ −Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロ
アルキル、アリール、又はヘテロアリール基であるか；又は、（２）−ＯＲ２０ 、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−
Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール、又
はヘテロアリールのうちの１−３個の基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１−
Ｃ４アルキル又はＣ２−Ｃ４アルケニル基であり；ここで、（１）及び（２）の
該シクロアルキル、アリール、及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、メチルスルホニル、ハロ、アジド
、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基のうちの１−２個の基で任
意に置換されていてもよく；
【００４２】 より好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、シ
クロアルキル、アリール、又はヘテロアリール基であるか；又は、（２）−ＯＲ ２０ 、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ ３３ −Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、アリール、又はヘテロアリールのうちの１−２個の
基で任意に置換されたＣ１−Ｃ４アルキル又はＣ２−Ｃ４アルケニル基であり；
ここで、（１）及び（２）の該シクロアルキル、アリール、及びヘテロアリール
基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオール、ハロ
、アジド、Ｃ１−Ｃ２アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基のうちの１−２個
の基で任意に置換され；
【００４３】 さらに好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、シ
クロアルキル、アリール又はヘテロアリール基であるか；あるいは、（２）−Ｏ
Ｒ２０、−ＮＲ３３Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、アリ
ール又はヘテロアリールの１〜２個の基で任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ ４ アルキル、又はＣ２−Ｃ４アルケニル基であり；ここで、（１）及び（２）の
シクロアルキル、アリール及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２ア
ルコキシ、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオール、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ２アルキル、
−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基の１〜２個の基で任意に置換されていてもよく；
【００４４】 さらに好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、アリール又はヘテロアリール基であるか；あるいは、（２）−ＯＲ２０ 、アリール又はヘテロアリールの１〜２個の基で任意に置換されていてもよいＣ １ −Ｃ４アルキル、又はＣ２−Ｃ４アルケニル基であり；ここで、（１）及び（
２）のアリール及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、
ハロ、Ｃ１−Ｃ２アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基の１〜２個の基で任意に
置換されていてもよく；
【００４５】 さらに好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、フェニル又はヘテロアリール基であるか；あるいは、（２）−ＯＲ２０ 、フェニル又はヘテロアリールの１〜２個の基で任意に置換されていてもよいＣ １ −Ｃ４アルキル、又はＣ２−Ｃ４アルケニル基であり；ここで、（１）及び（
２）のフェニル及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、
ハロ、Ｃ１−Ｃ２アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基の１〜２個の基で任意に
置換されていてもよく；
【００４６】 さらに好ましくは、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立して、（１）水素、−Ｏ
Ｒ２０、フェニル又はヘテロアリール基であるか；あるいは、（２）−ＯＲ２０ 、フェニル又はヘテロアリールの１〜２個の基で任意に置換されていてもよいＣ １ −Ｃ４アルキル基、又はＣ２−Ｃ４アルケニル基であり；ここで、（１）及び
（２）のフェニル及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、メトキシ、ハロ、メチ
ル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基の１〜２個の基で任意に置換されていてもよく；
【００４７】 さらに好ましくは、Ｖが−ＣＨＲ１１−ＣＨＲ１２−である場合、Ｒ１１及び
Ｒ１２のうちの１つが水素、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ又はＣ１−Ｃ４ アルキル基であり、他方がＲ１１及びＲ１２について上述したものであり、
【００４８】 式中、各Ｒ２０は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロ
アリール、アリール−アルキル、ヘテロアリール−アルキル、アルカノイル、ア
ロイル、又はヘテロアロイル基であり；ここで、アルキル基及びアルケニル基は
−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２で任意に置換されていてもよく、また、アリール基及びヘテロ
アリール基は、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオール、アミノ、アルカノ
イルアミノ、アルキルスルフォニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルス
ルホニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ
、アジド、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１〜３個の基で任意
に置換されていてもよく；
【００４９】 好ましくは、各Ｒ２０は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ２−Ｃ８ア
ルケニル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、ヘテ
ロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ８アルカノイル、アロイル、又は
ヘテロアロイル基であり；ここで、アルキル基及びアルケニル基は−Ｃ（Ｏ）Ｒ ２２ で任意に置換されていてもよく、また、アリール基及びヘテロアリール基は
、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、アミノ、
Ｃ１−Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−
Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ８アルコ
キシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジ
ド、Ｃ１−Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルキル、又は、
１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換され
ていてもよく；
【００５０】 さらに好ましくは、各Ｒ２０は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−
Ｃ４アルケニル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル
、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルカノイル、アロイル
、又はヘテロアロイル基であり；ここで、アルキル基及びアルケニル基は−Ｃ（
Ｏ）Ｒ２２で任意に置換されていてもよく、また、アリール基及びヘテロアリー
ル基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、ア
ミノ、Ｃ１−Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ４ アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ
、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、
又は、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置
換されていてもよく；
【００５１】 さらに好ましくは、各Ｒ２０は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−
Ｃ４アルケニル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル
、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルカノイル、アロイル
、又はヘテロアロイル基であり；ここで、アルキル基及びアルケニル基は−Ｃ（
Ｏ）Ｒ２２で任意に置換されていてもよく、また、アリール基及びヘテロアリー
ル基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、ア
ミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスルフィニル、メチル
スルホニル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカ
ルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣ
Ｆ３基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００５２】 さらに好ましくは、各Ｒ２０は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−
Ｃ４アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、Ｃ２−Ｃ４アルケニル、アリール、ヘテロアリ
ール、アリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキ
ル、又はＣ１−Ｃ４アルカノイル基であり；ここで、アリール基及びヘテロアリ
ール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオール、
ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ２アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基の１〜２個の
基で任意に置換されていてもよく；
【００５３】 さらに好ましくは、各Ｒ２０は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−
Ｃ４アルケニル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル
、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、又はＣ１−Ｃ４アルカノイル基であ
り；
【００５４】 さらに好ましくは、各Ｒ２０は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ２−
Ｃ４アルケニル、フェニル、ヘテロアリール、フェニル−Ｃ１−Ｃ２−アルキル
、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、又は、基であり；また、
【００５５】 最も好ましくは、各Ｒ２０は独立して、水素、メチル、プロペニル、フェニル
、ヘテロアリール、フェニル−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、又はヘテロアリール−Ｃ １ −Ｃ２−アルキル基であり；
【００５６】 式中、各Ｒ２１は独立して、アルキル、アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、アリール
、ヘテロアリール、アリール−アルキル、又はヘテロアリール−アルキル基であ
り；ここで、アリール基及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、アルコキシ、ア
ルキルチオール、アミノ、アルカノイルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ア
ルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニルアミノ、アル
コキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、ハロアルキル、又はハロ
アルコキシの１〜３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００５７】 好ましくは、各Ｒ２１は独立して、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ１−Ｃ８アルキル
−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキ
ル、又はヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であり；ここで、アリール基
及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルチオール、アミノ、Ｃ１−Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルキルス
ルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニル、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニ
ル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ ８ ハロアルキル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルコキシ基の１〜３
個の基で任意に置換されていてもよく；
【００５８】 さらに好ましくは、各Ｒ２１は独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−
アルキル、又はヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であり；ここで、アリ
ール基及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルチオール、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキル
スルホニル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカ
ルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ １ −Ｃ４ハロアルキル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１
〜３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００５９】 さらに好ましくは、各Ｒ２１は独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−
アルキル、又はヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であり；ここで、アリ
ール基及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルチオール、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチ
ルスルフィニル、メチルスルホニル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル
、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００６０】 また、最も好ましくは、各Ｒ２１は独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ ４ アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ ２ −アルキル、又はヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル基であり；ここで、
アリール基及びヘテロアリール基は、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１ −Ｃ４アルキルチオール、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ２アルキル、−ＣＦ３、又は
−ＯＣＦ３基の１〜２個の基で任意に置換されていてもよく；
【００６１】 式中、各Ｒ２２は独立して、ヒドロキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アリー
ル−アルコキシ、ヘテロアリーロキシ、ヘテロアリール−アルコキシ、又は−Ｎ
Ｒ２３Ｒ２４基であり；好ましくは、各Ｒ２２は独立して、ヒドロキシ、Ｃ１−
Ｃ８アルコキシ、アリーロキシ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、ヘテロア
リーロキシ、ヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、又は−ＮＲ２３Ｒ２４ 基であり；
【００６２】 さらに好ましくは、各Ｒ２２は独立して、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ
、アリーロキシ、アリール−Ｃ１−Ｃ２−アルコキシ、ヘテロアリーロキシ、ヘ
テロアリール−Ｃ１−Ｃ２−アルコキシ、又は−ＮＲ２３Ｒ２４基であり；また
、最も好ましくは、各Ｒ２２は独立して、ヒドロキシ又は−ＮＲ２３Ｒ２４基で
あり；
【００６３】 式中、各Ｒ２３は独立して、水素、アルキル、アリール、アリール−アルキル
、ヘテロアリール、又はヘテロアリールアルキル基であり；好ましくは、各Ｒ２ ３ は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、アリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−
アルキル、ヘテロアリール、又はヘテロアリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であ
り；また、最も好ましくは、各Ｒ２３は独立して、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、
アリール、アリール−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、ヘテロアリール、又はヘテロアリ
ール−Ｃ１−Ｃ２アルキル基であり；
【００６４】 また、各Ｒ２４は独立して、水素又はアルキル基であり；好ましくは、各Ｒ２ ４ は独立して、水素又はＣ１−Ｃ８アルキル基であり；さらに好ましくは、各Ｒ ２４ は独立して、水素又はＣ１−Ｃ４アルキル基であり；また、最も好ましくは
、各Ｒ２４は独立して、水素又はＣ１−Ｃ２アルキル基であるか；あるいは、 −ＮＲ２３Ｒ２４は、ヘテロ環又はヘテロアリールの基を表し；好ましくは、
−ＮＲ２３Ｒ２４は、ヘテロ環又はヘテロアリール基を表わし；
【００６５】 また、式中、Ｒ２２、Ｒ２３及び−ＮＲ２３Ｒ２４のヘテロ環及びヘテロアリ
ール基は、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオール、アミノ、アルカノイル
アミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニ
ル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジ
ド、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換
されていてもよく；
【００６６】 好ましくは、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオー
ル、アミノ、Ｃ１−Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルキルスルホニルア
ミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１ −Ｃ８アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニル、シアノ
、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアル
キル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルコキシの１〜３個の基で任意
に置換されていてもよく；
【００６７】 さらに好ましくは、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキル
チオール、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル
、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、
シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハ
ロアルキル、又は、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の
基で任意に置換されていてもよく；
【００６８】 さらに好ましくは、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキル
チオール、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスルフィニル、メ
チルスルホニル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、アミノ、−ＣＦ３ 、又は−ＯＣＦ３基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよく；
【００６９】 さらに好ましくは、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキル
チオール、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基の
１〜２個の基で任意に置換されていてもよく；
【００７０】 また、最も好ましくは、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、Ｃ１−Ｃ２アル
キルチオール、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ２アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３ 基の１〜２個の基で任意に置換されていてもよく；
【００７１】 式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、水素又はアルキル基で
あり；好ましくは、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、水素又はＣ １ −Ｃ４アルキル基であり；また、さらに好ましくは、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ ８ はそれぞれ水素基であるか；ＣＲ５−ＣＲ６、ＣＲ６−ＣＲ７、又はＣＲ７―
ＣＲ８のうちの１つがＣ＝Ｃ（二重結合炭素原子）であり；
【００７２】 式中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立して、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２ の中のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、及びヘテロ環基を合わせた
総数が０〜３、好ましくは０〜２という条件で−Ｂ−Ａであり；
【００７３】 式中、各Ｂは独立して（１）結合であるか；（２）（ａ）アミノ、アルキルア
ミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、
アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ又
はハロの１〜３個の基、及び／又は、（ｂ）アミノ、アルキルアミノ、ジアルキ
ルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホ
ニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロ、アルキル
、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換されていても
よいヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリールの１〜２個の基によって任意
に置換されていてもよいアルキル、アルケニルあるいはアルキニル基であるか、
（３）アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アル
コキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ
、アルキルチオ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１〜
３個の基で任意に置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、又は、（４
）アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキ
シカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、シアノ、ハロ、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１
〜３個の基で任意に置換されていてもよいアリール又はヘテロアリール基であり
；
【００７４】 好ましくは、各Ｂは独立して、（１）結合であるか；（２）（ａ）アミノ、Ｃ １ −Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アル
カノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキ
ルチオ、シアノ、又はハロの１〜３個の基、及び／又は、（ｂ）アミノ、Ｃ１−
Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ８アルカノ
イルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル
スルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチ
オ、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロア
ルキル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任
意に置換されていてもよいヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリールの１〜
２個の基によって任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルキル、Ｃ２−Ｃ８ アルケニル又はＣ２−Ｃ８アルキニル基であるか、（３）アミノ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルア
ミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シ
アノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は
１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換され
ていてもよいヘテロシクリル基であるか、又は、（４）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミ
ノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニ
ルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シア
ノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルキル、
又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ８ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換
されていてもよいアリール又はヘテロアリール基であり；
【００７５】 さらに好ましくは、各Ｂは独立して、（１）結合であるか；（２）（ａ）アミ
ノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ ５ アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４ アルキルチオ、シアノ基、及び／又は（ｂ）１〜３個のハロ基、及び／又は（ｃ
）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ １ −Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ １ −Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１ −Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基の
Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの
１〜３個の基で任意に置換されていてもよい１〜２個のヘテロシクリル、アリー
ル、又はヘテロアリール基によって任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アル
キル基であるか、（３）ヘテロシクリル基であるか、又は、（４）アミノ、Ｃ１ −Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカ
ノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキ
ルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキル
チオ、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロ
アルキル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で
任意に置換されていてもよいアリール又はヘテロアリール基であり；
【００７６】 さらに好ましくは、各Ｂは独立して、（１）結合であるか；（２）（ａ）アミ
ノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ ５ アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４ アルキルチオ、シアノ基、及び／又は、（ｂ）１〜３個のハロ基、及び／又は、
（ｃ）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ
、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ
、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は
−ＯＣＦ３基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよい１〜２個のヘテロシ
クリル、アリール又はヘテロアリール基によって任意に置換されていてもよいＣ １ −Ｃ８アルキル基であるか、（３）ヘテロシクリル基であるか、又は、（４）
アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１ −Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１ −Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−
Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣ
Ｆ３基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよいアリール又はヘテロアリー
ル基であり；
【００７７】 さらに好ましくは、各Ｂは独立して、（１）結合であるか；（２）（ａ）アミ
ノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ ２ アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、ヒドロキ
シ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、及び／又は、（ｂ）１〜２個のハロ基、及び／又は
、（ｃ）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミ
ノ、Ｃ１−Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミ
ノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ
、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣ
Ｆ３基の１〜２個の基で任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、アリール
又はヘテロアリール基によって任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル
基であるか、（３）ヘテロシクリル基であるか、又は、（４）アミノ、Ｃ１−Ｃ ２ アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルカノイ
ルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルス
ルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ
、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基の１〜２個の基で任
意に置換されていてもよいアリール又はヘテロアリール基であり；
【００７８】 さらに好ましくは、各Ｂは独立して、（１）結合又はＣ１−Ｃ４アルキル基で
あるか；あるいは、（２）（ａ）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルアミノ、ジ−（Ｃ １ −Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アル
コキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ
、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル
、−ＣＦ３、又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよいアリール又はヘテ
ロアリール基であり；
【００７９】 最も好ましくは、各Ｂは独立して、結合、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、アリール基
又はヘテロアリール基であり；
【００８０】 式中、各Ａは独立して、（１）水素基であるか；（２）ハロ、シアノ又はニト
ロ基であるか；（３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ（Ｏ）
−ＮＲ３２Ｒ３１、又は−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１基であるか；（４）
−ＯＲ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、又は
−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０基であるか；（５）−ＳＲ３１ 、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１ 、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（
Ｏ）−ＯＲ３０、又は−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１基で
あるか；あるいは（６）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−
ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−Ｎ
Ｒ３３−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、
又は−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基であり；
【００８１】 好ましくは、各Ａは独立して、（１）水素基であるか；（２）ハロ、シアノ又
はニトロ基であるか；（３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ
（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、又は−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１基であるか；
（４）−ＯＲ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１ 、又は−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０基であるか；（５）−Ｓ
Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２ Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、又は−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３ １ 基であるか；あるいは（６）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３ １ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１ 、−ＮＲ３３−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ ３０ 、又は−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基であり；
【００８２】 さらに好ましくは、各Ａは独立して、水素、ハロ、シアノ、ニトロ、−Ｃ（Ｏ
）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−Ｃ（ＮＲ ３２ ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＯＲ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ
）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０ 、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−
Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ ３１ 、−ＮＲ３３−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２ −Ｒ３０、又は−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基であり；
【００８３】 さらに好ましくは、各Ａは独立して、水素、ハロ、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ
（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２ Ｒ３１、−ＯＲ３１、−ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ ３２ Ｒ３１、−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−
Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ
（Ｏ）２−Ｒ３０、又は−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基であり；
【００８４】 さらに好ましくは、各Ａは独立して、水素、ハロ、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ
（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＯＲ３１、−
ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３２ Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、又は−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０ 基であり；最も好ましくは、各Ａは独立して、水素、ハロ、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０ 、又は−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１基であり；
【００８５】 式中、各Ｒ３０は独立して、（１）−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、アルキルアミノ
、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、Ｎ−
（アルコキシカルボニル）−Ｎ−（アルキル）アミノ、アミノカルボニルアミノ
、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
ルスルフィニル、アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、又は、アラルコキシ、ア
リールアルキルチオ、アリールアルキルスルホニル、シクロアルキル、ヘテロシ
クリル、アリール、又はヘテロアリール基の１〜３個の基で任意に置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル又はアルキニル基であるか；ここで、シクロアル
キル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は、アミノ、アルキルア
ミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、
アルキルスルホニルアミノ、アルカノイル、アルコキシカルボニル、ヒドロキシ
、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、シ
アノ、ハロ、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１〜３個の基で任
意に置換されていてもよく；（２）アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ
、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミ
ノ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、
アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換され
ていてもよいヘテロシクリル基であるか；あるいは、（３）アミノ、アルキルア
ミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、
アルキルスルホニルアミノ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、アルコキシ、
アルキルチオ、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、ハロアルキル、又はハロアル
コキシの１〜３個の基で任意に置換されていてもよいアリール基又はヘテロアリ
ール基であり；
【００８６】 好ましくは、各Ｒ３０は独立して、（１）−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイ
ルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１−Ｃ４ア
ルコキシ）カルボニル）−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、アミノカルボニ
ルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アル
コキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、ア
リール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルスルホニ
ル、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、又はヘテロアリー
ル基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ８アルキル、Ｃ２−
Ｃ８アルケニル、又はＣ２−Ｃ８アルキニル基であるか；ここで、シクロアルキ
ル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は、アミノ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルア
ミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、
ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４ アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は１〜３個のハロ基
のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換されていてもよく；（
２）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、
Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、
ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、Ｃ１−
Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は１〜３個のハ
ロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３の基で任意に置換されていてもよいヘ
テロシクリル基であるか；あるいは、（３）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ
、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１ −Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ １ −Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個
のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロア
ルコキシの１〜３個の基で任意に置換されていてもよいアリール基又はヘテロア
リール基であり；
【００８７】 好ましくは、各Ｒ３０は独立して、（１）−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイ
ルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１−Ｃ４ア
ルコキシ）カルボニル）−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、アミノカルボニ
ルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アル
コキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、ア
リール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルスルホニ
ル、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、又はヘテロアリー
ル基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基である
か；ここで、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基
は、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、
Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１−Ｃ４ アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、
シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキ
ル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に
置換されていてもよく；（２）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルミノ、ジ−（Ｃ１−
Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４ア
ルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキ
ルチオ、シアノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアル
キル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意
に置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか；あるいは、（３）アミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、
Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１ −Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は１〜３個の
ハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換されていてもよ
いアリール基又はヘテロアリール基であり；
【００８８】 さらに好ましくは、各Ｒ３０は独立して、（１）−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ １ −Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アル
カノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１−
Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、アミノカ
ルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ １ −Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルコキ
シ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルス
ルホニル、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、又はヘテロ
アリール基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基
であるか；ここで、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリ
ール基は、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ア
ミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルア
ミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１ −Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基の１〜３
個の基で任意に置換されていてもよく；（２）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミ
ノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ １ −Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ
、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ １ −Ｃ２ハロアルキル、又は−ＯＣＦ３の１〜３個の基で任意に置換されていて
もよいヘテロシクリル基であるか；あるいは、（３）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキ
ルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ
、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル
アミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコ
キシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３ 又は−ＯＣＦ３基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよいアリール基又は
ヘテロアリール基であり；
【００８９】 さらに好ましくは、各Ｒ３０は独立して、（１）−ＣＦ３であるか、または−
ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル
）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニ
ルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４ア
ルキル）アミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、又は、アリール−Ｃ１−
Ｃ２−アルコキシ、ヘテロシクリル、アリール、又はヘテロアリール基のうちの
１〜２個の基で任意に置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であり；ここ
で、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は、アミノ、Ｃ１−Ｃ２ア
ルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルカノイルア
ミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイル、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ハ
ロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基の１〜３個の基で任意に置
換されていてもよく；（２）（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ
、又はＣ１−Ｃ４アルキルのうちの１〜２個の基によって置換されていてもよい
ヘテロシクリル基であるか；あるいは、（３）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルアミ
ノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルカノイルアミノ、ヒド
ロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−Ｏ
ＣＦ３基の１〜２個の基で任意に置換されていてもよいアリール基又はヘテロア
リール基であり；
【００９０】 さらに好ましくは、各Ｒ３０は独立して、（１）（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カ
ルボニル、ヒドロキシ、又はＣ１−Ｃ４アルキルのうちの１〜２個の基によって
置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか；あるいは、（２）アミノ、Ｃ １ −Ｃ２アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アル
カノイルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキ
ル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基の１〜２個の基で任意に置換されていてもよいヘ
テロアリール基であり；
【００９１】 最も好ましくは、各Ｒ３０は独立して、Ｃ１−Ｃ４アルキルで任意に置換され
ていてもよいヘテロシクリル基であり；
【００９２】 式中、各Ｒ３１は独立して水素基であるか、あるいは（１）−ＣＯ２Ｒ３４、
アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシ
カルボニルアミノ、Ｎ−（アルコキシカルボニル）−Ｎ−（アルキル）アミノ、
アミノカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ
、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、
又はアラルコキシ、アリールアルキルチオ、アリールアルキルスルホニル、シク
ロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、又はヘテロアリール基の１〜３個の基
で任意に置換されていてもよいアルキル、アルケニル又はアルキニル基であるか
；ここで、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は
、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキ
シカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルカノイル、アルコキシカ
ルボニル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ア
ルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキ
シの１〜３個の基で任意に置換されていてもよく；（２）アミノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、ア
ルキルスルホニルアミノ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、又はハロアルコキシの１〜３個
の基で任意に置換されていてもよいへテロシクリルであるか；又は、（３）アミ
ノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカル
ボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシ
、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、ハロアルキル
、又はハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換されていてもよいアリール基
又はヘテロアリール基であり；
【００９３】 好ましくは、各Ｒ３１は独立して、水素基であるか、あるいは（１）−ＣＯ２ Ｒ３４、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミ
ノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミ
ノ、Ｎ−（（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル
）アミノ、アミノカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒ
ドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキ
ルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アリール−Ｃ １ −Ｃ４−アルコキシ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ、アリール−Ｃ１ −Ｃ４−アルキルスルホニル、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、ヘテロシクリル、ア
リール、又はへテロアリール基の１〜３個の基で任意に置換されていてもよいＣ １ −Ｃ８アルキル、Ｃ２−Ｃ８アルケニル、又はＣ２−Ｃ８アルキニル基である
か；ここで、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基
は、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、
Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１−Ｃ４ アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、
シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキ
ル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に
置換されていてもよく；（２）アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１ −Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコ
キシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４ アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルチオ、シアノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロア
ルキル、又は１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任
意に置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか；又は、（３）アミノ、Ｃ １ −Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アル
カノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルスルホニルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ １ −Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−
Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルキル、又は１〜３個のハ
ロ基のＣ１−Ｃ４ハロアルコキシの１〜３個の基で任意に置換されていてもよい
アリール基又はヘテロアリール基であり；
【００９４】 より好ましくは、Ｒ３１の各々は独立に、水素基、または、（１）１−３個の
基で任意に置換されたＣ１−Ｃ６のアルキル基、ここに置換基は−ＣＯ２Ｒ３４ 、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ １ −Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｎ
−（（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミ
ノ、アミノカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキ
シ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスル
フィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アリール−Ｃ１−Ｃ ４ −アルコキシ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ、アリール−Ｃ１−Ｃ４ −アルキルスルホニル、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール
もしくはヘテロアリール基であり、上記のシクロアルキル、ヘテロシクリル、ア
リール及びヘテロアリール基は１−３個の基によって任意に置換され、これらの
置換基は、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ア
ミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルア
ミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１ −Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ ハロアルキルもしくは１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ハロアルコキシ；（２
）１−３個の基で任意に置換されたヘテロシクリル基、ここに置換基はアミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１ −Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１
−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ハロアルキルもしくは１−３個のハロ基をもつ
Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシ；または、（３）１−３個の置換基で任意に置換され
たアリールもしくはヘテロアリール基、ここに置換基はアミノ、Ｃ１−Ｃ４アル
キルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミ
ノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニ
ルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１
−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ハロアルキルもしくは１−３個のハロ基をもつ
Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシ；
【００９５】 より好ましくは、Ｒ３１の各々は独立に、水素基、または、（１）１−３個の
基で任意に置換されたＣ１−Ｃ６のアルキル基、ここに置換基は−ＣＯ２Ｒ３４ 、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ １ −Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｎ
−（（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミ
ノ、アミノカルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキ
シ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスル
フィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アリール−Ｃ１−Ｃ ４ −アルコキシ、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ、アリール−Ｃ１−Ｃ４ −アルキルスルホニル、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール
もしくはヘテロアリール基であり、上記のシクロアルキル、ヘテロシクリル、ア
リール及びヘテロアリール基は１−３個の基によって任意に置換され、これらの
置換基は、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ア
ミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルア
ミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１ −Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３もしくは−ＯＣＦ３；（２
）１−３個の基で任意に置換されたヘテロシクリル基、ここに置換基はアミノ、
Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、
Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、シアノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル
、１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ２ハロアルキルもしくは−ＯＣＦ３；または
、（３）１−３個の置換基で任意に置換されたアリールもしくはヘテロアリール
基、ここに置換基はアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アル
キル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カル
ボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ
）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、
シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３もしくは−ＯＣＦ３；
【００９６】 より好ましくは、Ｒ３１は独立に、水素基、または、（１）−ＣＦ３、もしく
は、１−２個の基で任意に置換されたＣ１−Ｃ４のアルキル基、ここに置換基は
ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシもしくはアリール−Ｃ１−Ｃ２−アルコキシ
、アリールもしくはヘテロアリール基であり、上記のアリール及びヘテロアリー
ル基は１−２個の基によって任意に置換され、これらの置換基は、アミノ、Ｃ１ −Ｃ２アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルカ
ノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカ
ノイル、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコ
キシ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、−ＣＦ３もしくは−ＯＣＦ３；（２）１−２
個の基で任意に置換されたアリールもしくはヘテロアリール基、ここに置換基は
アミノ、Ｃ１−Ｃ２アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１ −Ｃ２アルカノイルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ、ハロ、Ｃ１−
Ｃ４アルキル、−ＣＦ３もしくは−ＯＣＦ３；
【００９７】 また、最も好ましくは、Ｒ３１の各々は独立に、水素基、または、（１）−Ｃ
Ｆ３、もしくは、１−２個の基で任意に置換されたＣ１−Ｃ４のアルキル基、こ
こに置換基はアリールもしくはヘテロアリール基；または、（２）アリールもし
くはヘテロアリール基；
【００９８】 式中のＲ３２の各々は独立に、（１）水素基；（２）１−３個の基で任意に置
換されたアルキル、アルケニルもしくはアルキニル基、ここに置換基はアミノ、
アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、
シアノもしくはハロ：または、（３）１−３個の基で任意に置換されたアリール
、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリ
ル、ヘテルシクリルアルキル シクロアルキルもしくはシクロアルキルアルキル
基、ここに置換基はアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、
アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、アルキル、ハロアルキルもしくはハロアル
コキシ；
【００９９】 好ましくは、Ｒ３２の各々は独立に、（１）水素基；（２）１−３個の基で任
意に置換されたＣ１−Ｃ８アルキル、Ｃ２−Ｃ８アルケニルもしくはＣ２−Ｃ８ アルキニル基、ここに置換基はアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１ −Ｃ４−アルキル）アミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキルチオ、シアノもしくはハロ：または、（３）１−３個の基で任意に置換さ
れたアリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、ヘテロアリ
ール−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル−Ｃ１−Ｃ４−
アルキル、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルもしくはＣ３−Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ １ −Ｃ４−アルキル基、ここに置換基はアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ
−（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）アミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１ −Ｃ４アルキルチオ、シアノ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１−３個のハロ基をもつＣ １ −Ｃ４ハロアルキルもしくは１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ハロアルコキ
シ；
【０１００】 より好ましくは、Ｒ３２の各々は独立に、水素またはＣ１−Ｃ４アルキル基；
最も好ましくはＲ３２の各々は独立に水素またはメチル基である； 式中のＲ３３の各々は独立に、（１）水素基；（２）１−３個の基で任意に置
換されたヘテロシクリル、アリールもしくはヘテロアリール基で任意に置換され
たアルキル基、ここに置換基はアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ア
ルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、
ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスル
ホニル、シアノ、ハロ、アルキル、ハロアルキルもしくはハロアルコキシ；また
は、（３）１−３個の基で任意に置換されたヘテロシクリル、アリールもしくは
ヘテロアリール基、ここに置換基はアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ
、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミ
ノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル
スルホニル、シアノ、ハロ、アルキル、ハロアルキルもしくはハロアルコキシ；
【０１０１】 好ましくはＲ３３の各々は独立に、（１）水素基；（２）１−３個の基で任意
に置換されたヘテロシクリル、アリールもしくはヘテロアリール基で任意に置換
されたＣ１−Ｃ４アルキル基、ここに置換基はアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミ
ノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ、（
Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニルアミ
ノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４ アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−
Ｃ４アルキル、１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ハロアルキルもしくは１−３
個のハロ基をもつハロアルコキシ；または、（３）１−３個の基で任意に置換さ
れたヘテロシクリル、アリールもしくはヘテロアリール基、ここに置換基はアミ
ノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）アミノ、Ｃ１−
Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−
Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ ４ アルキルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホ
ニル、シアノ、ハロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ ハロアルキルもしくは１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ハロアルコキシ；
【０１０２】 より好ましくはＲ３３の各々は独立に、水素またはＣ１−Ｃ４アルキル基；最
も好ましくはＲ３３の各々は独立に、水素またはメチル基である； 式中のＲ３４の各々は独立に、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、
アリールアルキルまたはヘテロアリールアルキル基であり、上記のアリール及び
ヘテロアリール基は１−３個の基で任意に置換されており、ここに置換基は、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカ
ルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキ
ルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アルキル
、ハロアルキルもしくはハロアルコキシ；
【０１０３】 好ましくはＲ３４の各々は独立に、水素、または、Ｃ１−Ｃ４アルキル、アリ
ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１−Ｃ４−アルキルまたはヘテロアリール
−Ｃ１−Ｃ４−アルキル基であり、上記のアリール及びヘテロアリール基は１−
３個の基で任意に置換されており、ここに置換基は、アミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキ
ルアミノ、ジ−（Ｃ１−Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１−Ｃ５アルカノイルアミノ
、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル
アミノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１−
Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、Ｃ １ −Ｃ４アルキル、１−３個のハロ基をもつＣ１−Ｃ４ハロアルキルもしくは１
−３個のハロ基をもつハロアルコキシ； より好ましくはＲ３４の各々は独立に、水素またはＣ１−Ｃ４アルキル基；最
も好ましくはＲ３４の各々は独立に、水素またはメチル基である。
【０１０４】 上記に使用した記号は以下の意味を有している：
【０１０５】
【化３】 例えば、
【０１０６】
【化４】 である。
【０１０７】 フェニル基もしくは５−６員環の単環ヘテロアリール基で任意に置換された５
−６員環の単環のヘテロアリールまたはヘテロシクリル基によって任意に置換さ
れたアリール基という表現は、（ａ）フェニル基もしくは５−６員環の単環ヘテ
ロアリール基で任意に置換された５−６員環の単環ヘテロアリール基；または、
（ｂ）フェニル基または５−６員環の単環ヘテロアリール基で任意に置換された
５−６員環の単環ヘテロシクリル基；によって任意に置換されたアリール基を意
味する。
【０１０８】 フェニル基もしくは５−６員環の単環ヘテロアリール基で任意に置換されたフ
ェニル基または５−６員環の単環のヘテロアリールもしくはヘテロシクリル基に
よって任意に置換されたヘテロアリール基という表現は、（ａ）フェニル基もし
くは５−６員環の単環ヘテロアリール基で任意に置換されたフェニル基；（ｂ）
フェニル基もしくは５−６員環の単環ヘテロアリール基で任意に置換された５−
６員環の単環ヘテロアリール基；または、（ｃ）フェニル基もしくは５−６員環
の単環ヘテロアリール基で任意に置換された５−６員環の単環ヘテロシクリル基
；によって任意に置換されたヘテロアリール基を意味する。
【０１０９】 本発明化合物は一般に複数の非対称中心を有しており、ラセミ混合物の形態で
示される。本発明は、ラセミ混合物、部分的ラセミ混合物及び独立の鏡像異性体
及び立体異性体を包含する。好ましくは、ヒドロキサム酸基の絶対配置が（Ｒ）
である。好ましくは、ヒドロキサム酸基と水素以外（即ち、Ｒ１１及び／または
Ｒ１２が水素でないとき）のＶの置換基との相対配置がシスである。即ち、ヒド
ロキサム酸とＶの置換基とが環系の同じ面上に存在する。
【０１１０】 好適な化合物を以下に示す： シス−３−ベンジル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−
２−ヒドロキサム酸； トランス−３−ベンジル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパ
ン−２−ヒドロキサム酸； トランス−３−フェニル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパ
ン−２−ヒドロキサム酸； １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸； 酢酸（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル
）−アゼパン−３−イル）メチルエステル； ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン
−２−ヒドロキサム酸； ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼ
パン−２−ヒドロキサム酸； １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル
−アゼパン−２−ヒドロキサム酸； １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−３−スチリル−アゼパン−２−ヒ
ドロキサム酸； ３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル
）−アゼパン−３−イル）アクリル酸； 酢酸（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル
）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イル）メチルエステ
ル； ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−２，３，
４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸； ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−２，
３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸； １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−３−メチルスルファニルメチル−
２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸；及び ３−ベンゾフラン−２−イル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸。
【０１１１】 本文中で使用された以下の用語は以下の定義を有している。
【０１１２】 “アルキル”は単独または組合せて、好ましくは１−１５個の炭素原子（Ｃ１ −Ｃ１５）、より好ましくは１−８個の炭素原子（Ｃ１−Ｃ８）、いっそう好ま
しくは１−６個の炭素原子（Ｃ１−Ｃ６）、よりいっそう好ましくは１−４個の
炭素原子（Ｃ１−Ｃ４）、もっと好ましくは１−３個の炭素原子（Ｃ１−Ｃ３）
、最も好ましくは１−２個の炭素原子（Ｃ１−Ｃ２）を含む直鎖状または分枝状
のアルキル基を意味する。このような基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル
、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル
、ペンチル、イソアミル、ヘキシル、オクチルなどである。
【０１１３】 “アルケニル”は単独または組合わせて、１つまたは複数の二重結合、好まし
くは１−２個の二重結合、より好ましくは１個の二重結合を有しており且つ好ま
しくは２−１５個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ１５）、より好ましくは２−８個の炭素
原子（Ｃ２−Ｃ８）、いっそう好ましくは２−６個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ６）、
よりいっそう好ましくは２−４個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ４）、もっと好ましくは
２−３個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ３）を含む直鎖状または分枝状の炭化水素基を意
味する。このようなアルケニル基の例は、エテニル、プロペニル、２−メチルプ
ロペニル、１，４−ブタジエニルなどである。
【０１１４】 “アルキニル”は単独または組合せて、１つまたは複数の三重結合、好ましく
は１−２個の三重結合、より好ましくは１個の三重結合を有しており且つ好まし
くは２−１５個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ１５）、より好ましくは２−８個の炭素原
子（Ｃ２−Ｃ８）、いっそう好ましくは２−６個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ６）、よ
りいっそう好ましくは２−４個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ４）、もっと好ましくは２
−３個の炭素原子（Ｃ２−Ｃ３）を含む直鎖状または分枝状の炭化水素基を意味
する。このようなアルキニル基の例は、エチニル、プロピニル（プロパルギル）
、ブチニルなどである。
【０１１５】 “アルコキシ”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｏ”型の基を意味する。ここ
に“Ｒ”は上記に定義のアルキル基であり、“Ｏ”は酸素原子である。このよう
なアルコキシ基の例は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ
、ｎ−ブトキシ、イソ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなど
である。
【０１１６】 “アルコキシカルボニル”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−”
型の基を意味する。ここに“Ｒ−Ｏ−”は上記の定義のアルコキシ基であり、“
Ｃ（Ｏ）”はカルボニル基である。
【０１１７】 “アルコキシカルボニルアミノ”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｏ−Ｃ（Ｏ
）−ＮＨ−”型の基を意味する。ここに“Ｒ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）”は上記の定義のア
ルコキシカルボニル基である。アミノ基は、アルキル、アリール、アラルキル、
シクロアルキル、シクロアルキルアルキルなどで任意に置換され得る。
【０１１８】 “アルキルチオ”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｓ−”型の基を意味する。
ここに“Ｒ”は上記に定義のアルキル基であり、“Ｓ”はイオウ原子である。こ
のようなアルキルチオ基の例は、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、
イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、イソ−ブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、
ｔｅｒｔ−ブチルチオなどである。
【０１１９】 “アルキルスルフィニル”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｓ（Ｏ）−”型の
基を意味する。ここに“Ｒ”は上記に定義のアルキル基であり、“Ｓ（Ｏ）”は
一酸化イオウ原子である。このようなアルキルスルフィニル基の例は、メチルス
ルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、イソプロピルス
ルフィニル、ｎ−ブチルスルフィニル、イソ−ブチルスルフィニル、ｓｅｃ−ブ
チルスルフィニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニルなどである。
【０１２０】 “アルキルスルホニル”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｓ（Ｏ）２−”型の
基を意味する。ここに“Ｒ”は上記に定義のアルキル基であり、“Ｓ（Ｏ）２”
は二酸化イオウ原子である。このようなアルキルスルホニル基の例は、メチルス
ルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニ
ル、ｎ−ブチルスルホニル、イソ−ブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルなどである。
【０１２１】 “アルキルスルホニルアミノ”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｓ（Ｏ）２−
ＮＨ−”型の基を意味する。ここに“Ｒ−Ｓ（Ｏ）２−”は上記に定義のアルキ
ルスルホニル基であり、アミノ基は、アルキル、アリール、アラルキル、シクロ
アルキル、シクロアルキルアルキルなどによって任意に置換され得る。
【０１２２】 “アリール”は単独でまたは組合せて、１つまたは複数の置換基で任意に置換
されたフェニル、ビフェニルまたはナフチル基を意味する。ここに置換基はアル
キル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アジド、ニトロ、シアノ、
ハロアルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、シクロアルキル、ヘテロシ
クロ、アルカノイルアミノ、アミド、アミジノ、アルコキシカルボニルアミノ、
Ｎ−アルキルアミジノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、Ｎ−アルキルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド、アラルコキシカルボニルアミノ、アルキルチオ
、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニルなどから選択される。アリール基
の例は、フェニル、ｐ−トリル、４−メトキシフェニル、４−（ｔｅｒｔ−ブト
キシ）フェニル、３−メチル−４−メトキシフェニル、４−ＣＦ３−フェニル、
４−フルオロフェニル、４−クロロフェニル、３−ニトロフェニル、３−アミノ
フェニル、３−アセトアミドフェニル、４−アセトアミドフェニル、２−メチル
−３−アセトアミドフェニル、２−メチル−３−アミノフェニル、３−メチル−
４−アミノフェニル、２−アミノ−３−メチルフェニル、２，４−ジメチル−３
−アミノフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル、４−（４−メトキシフェニル）フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、
３−アミノ−１−ナフチル、２−メチル−３−アミノ−１−ナフチル、６−アミ
ノ−２−ナフチル、４，６−ジメトキシ−２−ナフチル、ピペラジニルフェニル
などである。
【０１２３】 “アリール−アルキル”は単独でまたは組合せて、少なくとも１つの水素原子
、好ましくは１−２個の水素原子が上記に定義のアリール基によって置換された
上記に定義のアルキル基、例えばベンジル、１−、２−フェニルエチル、ジベン
ジルメチル、ヒドロキシフェニルメチル、メチルフェニルメチル、ジフェニルメ
チル、ジクロロフェニルメチル、２−ナフチルメチル、４−メトキシフェニルメ
チルなどを意味する。
【０１２４】 “アリール−アルコキシ”は単独でまたは組合せて、少なくとも１つの水素原
子、好ましくは１−２個の水素原子が上記に定義のアリール基によって置換され
た上記に定義のアルコキシ基、例えばベンジルオキシ、１−、２−フェニルエト
キシ、ジベンジルメトキシ、ヒドロキシフェニルメトキシ、メチルフェニルメト
キシ、ジクロロフェニルメトキシ、４−メトキシフェニルメトキシなどを意味す
る。
【０１２５】 “アリールオキシ”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｏ−”型の基を意味して
おり、ここに“Ｒ”は上記の定義のアリール基である。
【０１２６】 “アロイル”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｃ（Ｏ）−”型の基を意味して
おり、ここに“Ｒ”は上記の定義のアリール基であり、“−Ｃ（Ｏ）−”はカル
ボニルである。
【０１２７】 “アルカノイル”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｃ（Ｏ）−”型の基を意味
しており、ここに“Ｒ”は上記の定義のアルキル基であり、“−Ｃ（Ｏ）−”は
カルボニル基である。このようなアルカノイル基の例は、アセチル、トリフルオ
ロアセチル、ヒドロキシアセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、４−メ
チルバレリルなどである。
【０１２８】 “アルカノイルアミノ”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−”
型の基を意味しており、ここに“Ｒ−Ｃ（Ｏ）−”は上記に定義のアルカノイル
基であり、アミノ基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シク
ロアルキルアルキルなどによって任意に置換され得る。
【０１２９】 “アミノカルボニルアミノ”は単独でまたは組合せて、第二アミノ（ウレイド
）基に置換基をもつアミノ置換カルボニルを意味する。ここに各アミノ基は、ア
ルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ア
ルカノイル、アルコキシカルボニル、アラルコキシカルボニルなどによって任意
にモノ−またはジ−置換され得る。
【０１３０】 “ベンゾ”は単独でまたは組合せて、ベンゼンから誘導された二価の基Ｃ６Ｈ ４ ＝を意味する。
【０１３１】 本文中で使用された“二環”なる用語は、ナフチル及びβ−カルボリニルのよ
うな融合環系、ビフェニル、フェニルピリジル、ナフチル及びジフェニルピペラ
ジニルのような置換環系の双方を包含する。
【０１３２】 “シクロアルキル”は単独でまたは組合せて、好ましくは３−１０個の炭素原
子（Ｃ３−Ｃ１０）、より好ましくは３−８個の炭素原子（Ｃ３−Ｃ８）、いっ
そう好ましくは３−６個の炭素原子（Ｃ３−Ｃ６）を含む飽和または部分飽和し
た好ましくは１つの二重結合をもつ単環、二環または三環のアルキル基を意味す
る。これは、任意にベンゾ融合し且つアリールの定義に関して本文中に定義した
ように任意に置換され得る。このようなシクロアルキル基の例は、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ジヒドロキシシクロヘキ
シル、シクロヘプチル、オクタヒドロナフチル、テトラヒドロナフチル、ジメト
キシテトラヒドロナフチル、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデニルなどである。
【０１３３】 “シクロアルキルアルキル”は単独でまたは組合せて、上記の定義のシクロア
ルキル基によって置換された上記の定義のアルキル基を意味する。このようなシ
クロアルキルアルキル基の例は、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、
シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、１−シクロペンチルエチル、１
−シクロヘキシルエチル、２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチ
ル、ヒドロキシシクロペンチルプロピル、テトラヒドロナフチルプロピル、シク
ロヘキシルブチルなどである。
【０１３４】 “ヘテロ原子”は窒素、酸素及びイオウヘテロ原子を意味する。
【０１３５】 “ヘテロシクリル”は単独でまたは組合せて、少なくとも１個、好ましくは１
−４個、より好ましくは１−３個、いっそう好ましくは１−２個の窒素、酸素ま
たはイオウ原子を環員として含み且つ好ましくは各環に３−８個の環員、より好
ましくは各環に５−８個の環員を有する飽和または部分不飽和の好ましくは１つ
の二重結合をもつ単環または二環、好ましくは単環の複素環基を意味する。“ヘ
テロシクリル”は、イオウ環員のスルホン及びスルホキシド誘導体並びに第三窒
素環員のＮ−酸化物を包含し、炭素環融合した好ましくは３−６個の環炭素原子
、より好ましくは５−６個の環炭素原子をもつベンゾ融合環系を包含する。“ヘ
テロシクリル”基の少なくとも１個、好ましくは１−４個、より好ましくは１−
３個、いっそう好ましくは１−２個の炭素原子が、ハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、ヒドロキシ、オキソ、チオキソ、アリール、アラルキル、ヘテロアリール
、ヘテロアラルキル、アミジノ、Ｎ−アルキルアミジノ、アルコキシカルボニル
アミノ、アルキルスルホニルアミノなどによって任意に置換され、及び／または
、第二窒素原子が、ヒドロキシ、アルキル、アラルコキシカルボニル、アルカノ
イル、アルコキシカルボニル、ヘテロアラルキル、アリールまたはアラルキル基
によって任意に置換され得る。より好ましくは、“ヘテロシクリル”は単独でま
たは組合せて、環あたり５−８個の環員を有する単環または二環の飽和複素環系
の基であり、１−３個の環員は酸素、イオウまたは窒素ヘテロ原子であり、この
ヘテロ原子は任意に部分不飽和またはベンゾ融合しており、１−２個のオキソま
たはチオキソ基によって任意に置換されている。このようなヘテロシクリル基の
例は、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チアモルホ
リニル、４−ベンジル−ピペラジン−１−イル、ピリミジニル、テトラヒドロフ
リル、ピラゾリドニル、ピラゾリニル、ピリダジノニル、ピロリドニル、テトラ
ヒドロチエニル並びにそのスルホキシド及びスルホン誘導体、２，３−ジヒドロ
インドリル、テトラヒドロキノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノ
リニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−１−オキソ−イソキノリニル、２，３
−ジヒドロベンゾフリル、ベンゾピラニル、メチレンジオキシフェニル、エチレ
ンジオキシフェニルなどである。
【０１３６】 “ヘテロシクリルアルキル”は単独でまたは組合せて、少なくとも１個、好ま
しくは１−２個の水素原子が上記に定義のヘテロシクリル基によって置換された
上記の定義のアルキル基、例えば、ピロリジニルメチル、テトラヒドロチエニル
メチル、ピペリジニルエチルなどを意味する。
【０１３７】 “ヘテロアリール”は単独でまたは組合せて、少なくとも１個、好ましくは１
−４個、より好ましくは１−３個、いっそう好ましくは１−２個の窒素、酸素ま
たはイオウ原子を環員として有しており且つ好ましくは各環に５−６個の環員を
有している単環または二環、好ましくは単環の芳香族複素環を意味する。環は任
意にベンゾ融合したまたは好ましくは飽和の３−４個の炭素原子（Ｃ３−Ｃ４）
が炭素環融合した５−６員環の環を形成し、アリール及びヘテロシクリルの定義
に関して上記に定義のように任意に置換されている。より好ましくは、“ヘテロ
アリール”は単独でまたは組合せて、環あたり５−６の環員を有しており、１−
３個の環員が酸素イオウまたは窒素ヘテロ原子であり、任意にベンゾ融合したま
たは飽和Ｃ３−Ｃ４−炭素環融合した単環または二環の芳香族複素環系の基であ
る。このようなヘテロアリール基の例は、イミダゾリル、１−ベンジルオキシカ
ルボニルイミダゾール−４−イル、ピロリル、ピラゾリル、ピリジル、２−（１
−ピペリジニル）ピリジル、２−（４−ベンジルピペラジン−１−イル）−１−
ピリジニル、ピラジニル、トリアゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリル、チ
アゾリル、インドリル、キノリニル、１−オキシド−２−キノリニル、イソキノ
リニル、５，６，７，８−テトラヒドロキノリニル、５，６，７，８−テトラヒ
ドロイソキノリニル、キノキサリニル、ベンゾチアゾリル、β−カルボリニル、
ベンゾフリル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリルなどである。
【０１３８】 “ヘテロアロイル”は単独でまたは組合せて、“Ｒ−Ｃ（Ｏ）−”型の基を意
味しており、ここに“Ｒ”は上記の定義のヘテロアリール基であり、“−Ｃ（Ｏ
）−”はカルボニルである。
【０１３９】 “ヘテロアリール−アルキル”は単独でまたは組合せて、少なくとも１個、好
ましくは１−２個の水素原子が上記の定義のヘテロアリール基で置換された上記
に定義のアルキル基を意味しており、例えば、３−フリルプロピル、２−ピロリ
ルプロピル、クロロキノリニルメチル、２−チエニルエチル、ピリジルメチル、
１−イミダゾリルエチルなどである。
【０１４０】 “ハロゲン”及び“ハロ”は単独でまたは組合せて、フルオロ、クロロ、ブロ
モまたヨード基を意味する。
【０１４１】 “ハロアルキル”は単独でまたは組合せて、少なくとも１個、好ましくは１−
３個の水素原子がハロゲン基、より好ましくはフルオロまたはクロロ基によって
置換された上記に定義のアルキル基を意味する。このようなハロアルキル基の例
は、１，１，１−トリフルオロエチル、クロロメチル、１−ブロモエチル、フル
オロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ビス（トリフルオロメチ
ル）メチルなどである。
【０１４２】 “ハロアルコキシ”は単独でまたは組合せて、少なくとも１個、好ましくは１
−３個の水素原子がハロゲン基、より好ましくはフルオロまたはクロロ基で置換
された上記に定義のアルコキシ基を意味する。このようなハロアルコキシ基の例
は、２，２，２−トリフルオロエトキシ、クロロメトキシ、２−ブロモエトキシ
、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、ビス（トリ
フルオロメチル）メトキシなどである。
【０１４３】 “スルフィニル”は単独でまたは組合せて、“−Ｓ（Ｏ）−”型のジラジカル
を意味しており、ここに“Ｓ（Ｏ）”は一酸化イオウ原子である。“スルホニル
”は単独でまたは組合せて、“−Ｓ（Ｏ）２−”型のジラジカルを意味しており
、ここに“Ｓ（Ｏ）２”は二酸化イオウ原子である。
【０１４４】 “脱離基”は一般に、アミン、チオールまたはアルコール求核剤のような求核
剤によって容易に置換され得る基を意味する。このような脱離基は当業界で公知
である。このような脱離基の非限定例は、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−
ヒドロキシベンゾトリアゾール、ハロゲン化物、トリフラート、トシラートなど
である。好ましい脱離基は本文中で適宜指示する。
【０１４５】 “保護基”は一般に、カルボキシ、アミノ、ヒドロキシ、メルカプトなどのよ
うな選択された反応性基が求核反応、求電子反応、酸化、還元などのような不都
合な反応を生じることを防止するために使用される当業界で公知の基を意味する
。好ましい保護基は本文中で適宜指示する。アミノ保護基の非限定例は、アラル
キル、置換アラルキル、シクロアルケニルアルキル、置換シクロアルケニルアル
キル、アリル、置換アリル、アシル、アルコキシカルボニル、アラルコキシカル
ボニル、シリルなどである。アラルキルの非限定例は、ベンジル、オルト−メチ
ルベンジル、トリチル及びベンズヒドリルであり、これらは、ハロゲン、アルキ
ル、アルコキシ、ヒドロキシ、ニトロ、アシルアミノ、アシルなど並びにホスホ
ニウム塩及びアンモニウム塩のような塩によって任意に置換され得る。アリール
基の例は、フェニル、ナフチル、インダニル、アントラセニル、９−（９−フェ
ニルフルオレニル）、フェナントレニル、ジュレニルなどである。好ましくは６
−１０個の炭素原子を有するシクロアルケニルアルキルまたは置換シクロアルケ
ニルアルキル基の非限定例はシクロヘキセニルメチルなどである。適当なアシル
、アルコキシカルボニル及びアラルコキシカルボニル基は、ベンジルオキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソ−ブトキシカルボニル、ベンゾイル、置
換ベンゾイル、ブチリル、アセチル、トリ−フルオロアセチル、トリ−クロロア
セチル、フタロイルなどである。同一アミノ基を保護するために保護基の混合物
を使用してもよく、例えば、第一アミノ基をアラルキル基とアラルコキシカルボ
ニル基との双方によって保護できる。アミノ保護基はまた、結合した窒素と共に
１，２−ビス（メチレン）ベンゼン、フタルイミジル、スクシニミジル、マレイ
ミジルなどの複素環を形成してもよく、これらの複素環基は更に隣接するアリー
ル及びシクロアルキル環を含んでもよい。更に、複素環基は、ニトロフタルイミ
ジルのようにモノ−、ジ−またはトリ−置換されていてもよい。アミノ基はまた
、塩酸塩、トルエンスルホン酸及びトリフルオロ酢酸などのような付加塩を形成
することによって酸化のような不都合な反応から保護され得る。多くのアミノ保
護基はまた、カルボキシ、ヒドロキシ及びメルカプト基の保護にも適している。
例えばアラルキル基。アルキル基はまた、ｔｅｒｔ−ブチルのようなヒドロキシ
及びメルカプト基の保護にも好適な基である。
【０１４６】 シリル保護基は、１個または複数のアルキル、アリール及びアラルキル基によ
って任意に置換されたケイ素原子である。適当なシリル保護基の非限定例は、ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−イソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル、ジメチルフェニルシリル、１，２−ビス（ジメチルシリル
）ベンゼン、１，２−ビス（ジメチルシリル）エタン及びジフェニルメチルシリ
ルである。アミノ基のシリル化によってモノ−またはジ−シリルアミノ基が得ら
れる。アミノアルコール化合物のシリル化によってＮ，Ｎ，Ｏ−トリ−シリル誘
導体が形成される。例えば金属水酸化物または弗化アンモニウム試薬による処理
を不連続な反応段階として行うかまたはアルコール基との反応中にその場で行う
ことによってシリルエーテル官能基からシリル官能基を容易に除去し得る。適当
なシリル化剤は例えば、トリメチルシリルクロリド、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチ
ルシリルクロリド、フェニルジメチルシリルクロリド、ジフェニルメチルシリル
クロリドまたはこれらをイミダゾールもしくはＤＭＦと組合せた物質である。ア
ミンのシリル化及びシリル保護基の除去は当業者に公知の方法である。対応する
アミノ酸、アミノ酸アミドまたはアミノ酸エステルからこれらのアミン誘導体を
製造する方法も、アミノ酸／アミノ酸エステルまたはアミノアルコール化学を含
む有機化学業界の当業者に公知である。
【０１４７】 保護基は、分子の他の部分に影響を与えない条件下で除去される。これらの方
法は当業界で公知であり、酸加水分解、水素化分解などがある。好ましい方法で
は、アルコール、酢酸などまたはその混合物のような適当な溶媒系中で炭素に付
けたパラジウムを使用する水素化分解によってベンジルオキシカルボニル基のよ
うな保護基を除去する。ｔ−ブトキシカルボニル保護基は、ジオキサンまたはメ
チレンクロリドのような適当な溶媒系中でＨＣｌまたはトリフルオロ酢酸のよう
な無機または有機の酸を使用することによって除去できる。得られたアミノ塩を
中和して遊離アミンが容易に得られる。メチル、エチル、ベンジル、ｔｅｒｔ−
ブチル、４−メトキシフェニルメチルなどのカルボキシ保護基は当業者に公知の
加水分解条件及び水素化分解条件下で除去できる。
【０１４８】 本発明化合物の製造手順を以下に示す。化合物が不特定の立体化学をもつので
、化合物の製造に関する一般手順を示したことに注目されたい。しかしながらこ
れらの手順は、例えば１つの基に関する立体化学が（Ｓ）または（Ｒ）であるよ
うな特定の立体化学をもつ化合物に普遍的に適用される。更に、一つの立体化学
（例えば（Ｒ））を有する化合物はしばしば、公知の方法例えば反転を使用して
逆の立体化学（即ち（Ｓ））を有する化合物を製造するために使用できる。
【０１４９】 式Ｉの化合物の製造 前出の式Ｉで示した本発明化合物は種々の合成技術を使用して製造され得る。
多くの製造技術は参考文献に開示されている。特に、本発明化合物は以下に説明
する一般手順で製造できる。
【０１５０】 本発明の新規な化合物の製造に使用し得る一般合成手順を反応スキームＩに示
す。反応スキームＩの合成手順は、シュミット環拡大に基づいて共役付加による
置換の導入後に中員環を形成する方法である。この実施態様によれば、当業界で
公知の方法で製造した置換α，β不飽和ケトンを、（任意にヘテロ原子で置換さ
れた）アルキルまたはアリール有機金属試薬、好ましくは銅塩（ｃｕｐｒａｔｅ
）または銅で触媒したグリニャール（Ｐｏｓｎｅｒ，Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔ．１９
７２，１９，１−１１３参照）によって、−７８℃から室温までの範囲の温度で
、好ましくはエーテル溶媒中で処理し、生じたアニオンをクロロギ酸エステルま
たは他のアシル化剤で捕獲する。置換β−ケトエステルをシュミット条件下で転
位させて（Ｓｃｒｉｖｅｎ Ａｚｉｄｅｓ ａｎｄ Ｎｉｔｒｅｎｅｓ，Ａｃａ
ｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，１９８４参照）ラクタムとする。
【０１５１】
【化５】 ラクタムを当業者に公知の方法で好ましくはＴＨＦ中の水素化アルミニウムリ
チウムまたはＲｅｄ−Ａｌで還元してアミノアルコールとする。塩素化溶媒中、
塩基、好ましくはトリエチルアミンのようなヒンダードアミン塩基の存在下でハ
ロゲン化スルホニルによってスルホニル化すると置換スルホンアミドが得られる
。標準条件下（Ｈｕｄｌｉｃｋｙ，Ｏｘｉｄａｔｉｏｎｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉ
ｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ＡＣＳ ｍｏｎｇｒａｐｈ １８６，１９９０参照）
、好ましくはジョーンズ条件下で酸化すると酸が得られる。公知条件下で酸を好
ましくは酸塩化物として活性化し、ヒドロキシルアミンと縮合させるとヒドロキ
サム酸が最終生成物として得られる。
【０１５２】 本発明の新規な化合物の製造に反応スキームＩの一般合成手順を使用するとき
、Ｒは、アルデヒド、ハロゲン化基または結合形成反応を妨害、競合もしくは抑
制する能力をもつ当業界で公知の他の基を含有しないのが好ましい。
【０１５３】
【化６】 本発明の新規な化合物の製造に使用し得る第二の一般合成手順を反応スキーム
ＩＩに示す。このスキームではアゼピン環に到達する経路が使用される。この方
法によれば、容易に入手できるホルナー−エモンス試薬を標準条件下で（Ｗａｄ
ｓｗｏｒｔｈ，Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，１９７７，２５，７３参照）シリ
ルエーテルとアルキル鎖の付加置換（Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０を導入
するため）とによって種々に置換されたアルデヒドと反応させてα，β−不飽和
エステルを得る。シリル基の脱保護、アルコールの活性化による脱離基の発生、
及び、分子内塩基触媒閉鎖によって反応スキームＩに記載の中間体と同様の中間
体が得られる。次いで、前述のように脱保護し処理すると、所望のヒドロキサム
酸生成物が得られる。
【０１５４】 本発明の新規な化合物の製造に使用し得る第三の一般合成手順を反応スキーム
ＩＩＩに示す。このスキームはアゼピン環に到達する経路を使用する。
【０１５５】 容易に入手し得るアスパラギン酸またはグルタミン酸の誘導体を、類似体に関
して既に記載された手順（Ｂａｌｄｗｉｎ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９８９
，４５，６３０９及び本文中に引用の参考文献参照）で保護しアリル化する。生
じたスルホンアミドのＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応（Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，Ｓｙｎｔ
ｈｅｓｉｓ，１９８１，１参照）によってビスオレフィンを得る。得られたオレ
フィンをメタセシス試薬（Ｓｃｈｕｓｔｅｒ，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．
Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．１９９７，３６，２０３６参照）で処理すると環化オレフィン
が得られる。当業者に公知のごとくケン化し、次いで得られた酸を公知条件下で
（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９７４，３０，２１５１）クルチウス転位させる
と所望のカーバメートが得られる。ｔ−ブチル酸保護したカーバメートを濃トリ
フルオロ酢酸（ＴＦＡ）で脱保護すると最終生成物が得られる。更に、クルチウ
ス転位のために適当なアルコール捕獲剤、例えば４−メトキシベンジルアルコー
ルを選択することによって、塩素化溶媒中の希（３％）ＴＦＡでカーバメートを
特異的にアミンに脱保護し、ｔ−ブチル保護された酸アミン塩としてもよい。前
述のようなスルホニル化、または、当業者に公知の適当なアルキル化剤もしくは
アシル化剤による処理、及び、前述のようなｔ−ブチルエステルの脱保護によっ
てカルボン酸中間体が得られる。ヨウ化アリルまたはアリルアルコールの同族体
、例えば４−ヨード−１−ブテン、４−ヒドロキシ−１−ブテン、５−ヨード−
１−ペンテン、５−ヒドロキシ−１−ペンテン、４−ヨード−２−ブテン、４−
ヒドロキシ−２−ブテンなどの使用によって拡大環を形成し得る。
【０１５６】
【化７】 反応スキームＩＩＩで得られた中間体を置換基Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ １０ の出発材料として使用し得る。例えば、アスパラギン酸誘導体を種々のポリ
置換ヨウ化アリルまたはトリフラート、例えばＣＨ２＝ＣＨ２ＣＨＲ７Ｒ１０Ｉ
でアルキル化し、次いでアリル及びホモアリルアルコールとＭｉｔｚｕｎｏｂｕ
反応させてメタセシス反応のための中間体を得る。請求の範囲に記載の化合物は
また、メタセシス後のオレフィン系中間体の官能化によって製造し得る。例えば
、アルコールまたは酢酸エチルのような溶媒中、標準条件下、好ましくは水素雰
囲気下のＰｄ／Ｃを用いてオレフィンを水素化し得る。オレフィンをボラン試薬
（Ｂｒｏｗｎ，Ｂｏｒａｎｅ Ｒｅａｇｅｎｔｓ，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓ
ｓ，Ｎｙ，１９８８参照）、好ましくはＢＨ３−ＤＭＳでホウ水素化し、得られ
たボラン錯体をＨ２Ｏ２で酸化してアルコールを得るかまたはクロム試薬で酸化
してケトンを得る。ケトンはウィッチヒ試薬、有機金属剤と共に求電子剤として
作用できるかまたは塩基性もしくは酸性条件下でアルデヒドと反応してアルドー
ル縮合し得る。オレフィンは当業界で公知のクロムまたは好ましくはセレン試薬
（Ｒａｂｊｏｈｎ，Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，１９７６，２４，２６１参照
）とアリル酸化してアリルアルコールとなる。これを活性化して脱離基を生じさ
せ、パラジウムまたはルイス酸の触媒反応を任意に伴って中性または塩基性条件
下で当業界で公知の炭素、酸素、窒素またはイオウ求核剤で置換し得る。付加的
化合物は、オレフィンをパラジウム触媒の存在下でハロゲン化アリールもしくは
アルケニルまたはトリフラートで処理してＨｅｃｋ反応させることによって得ら
れる（パラジウム触媒を使用する結合形成に関してはＴｓｕｊｉ，Ｐａｌｌａｄ
ｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，Ｗｉｌｅｙ，１９９
５参照）。形成されたオレフィンを前述のごとく官能化すると、付加的置換が得
られる。オレフィンをＭＣＰＢＡまたは近縁の過酸化物でエポキシ化し、エポキ
シドをルイス酸の存在下または非存在下で当業界で公知の反応性炭素、窒素、酸
素またはイオウ求核剤で置換してもよい。
【０１５７】 あるいは、アルコール（Ｒ３０−ＯＨ）の代わりにアミン（ＨＮＲ３１Ｒ３２ ）を使用することによってクルチウス転位で形成されたイソシアナート中間体を
反応させることによって置換尿素誘導体を製造してもよい（反応スキームＩＶ）
。
【０１５８】
【化８】
【０１５９】
【化９】 更に、反応スキームＩＩＩで形成されたカーバメートを酸の存在下で加水分解
して遊離アミンとし（反応スキームＶ）、これを反応スキームＶＩに示すような
アルキル化、還元性アルキル化、スルホニル化、アミノスルホニル化、アシル化
などによって誘導体化してもよい。
【０１６０】
【化１０】 上記の記載から、本発明の新規な化合物全部の製造に使用できる単一の一般合
成手順は存在しないことが明らかであろう。当業者に公知の基の幾つかは合成経
路に関与する反応の幾つかを妨害、競合または抑制する能力を有すると考えられ
るからである。しかしながら、当業者は合成経路の過程で基の導入及び保護基の
使用に適正な点を十分に認識し得るであろう。
【０１６１】 ハロゲン化スルホニルは、適当なアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテ
ロシクリル及び同様のグリニャールまたはリチウム試薬をスルフリルクロリドま
たは二酸化イオウと反応させ、次いでハロゲン好ましくは塩素と反応させること
によって製造できる。アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アリール及
び同様のグリニャールまたはリチウム試薬は、市販されているかまたは市販の出
発材料から当業界で公知の方法で容易に製造できる対応ハロゲン化（クロロまた
はブロモなど）化合物から製造できる。あるいは、水の存在下の塩素を慎重に制
御した条件下で使用してメルカプタンを酸化してスルホニルクロリドとしてもよ
い。更に、ＰＣｌ５、ＳＯＣｌ２、ＣｌＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）Ｃｌのような試薬を用
いてスルホン酸をハロゲン化スルホニルに変換し、更に適当な脱水剤を使用して
無水物としてもよい。スルホン酸は市販製品でもよくまたは市販の出発材料から
当業界で公知の手順を使用して製造してもよい。ハロゲン化スルホニルの代わり
に、ハロゲン化スルフィニルまたはハロゲン化スルフェニルを使用し、スルホニ
ル部がそれぞれスルフィニル部またはチオ部によって置換された化合物を製造す
ることもできる。アリールスルホン酸、ベンゾ融合ヘテロシクリルスルホン酸ま
たはヘテロアリールスルホン酸は、当業界で公知の方法による芳香環のスルホン
化、例えば硫酸、ＳＯ３、または、ＤＭＦ（ＳＯ３）、ピリジン（ＳＯ３）、Ｎ
，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＳＯ３）のようなＳＯ３錯体との反応によって製
造できる。好ましくは、このようなハロゲン化スルホニルは、このような芳香族
化合物からＤＭＦ（ＳＯ３）とＳＯＣｌ２またはＣｌＣ（Ｏ）Ｃ（Ｏ）Ｃｌとの
反応によって製造される。反応は、段階的に行われてもよくまたは単一ポットで
行われてもよい。
【０１６２】 付加的Ｒ１置換は、ハロゲン化スルホニルと近縁アミンとの反応後にスルホン
アミドを更に反応させることによって得られる。例えば、ニトロ置換アリールま
たはヘテロアリールスルホンアミドをアニリンに還元し、ジアゾニウム塩に置換
または変換し、当業者に公知の方法によって更に反応させて記載の化合物を得る
。付加的Ｒ１置換のためには、フッ素、ハロゲン、または、トリフルオロメタン
スルホニルオキシ置換アリールまたはヘテロアリールまたはアルキルスルホニル
クロリドを近縁アミンと反応させ、次いでパラジウムのような遷移金属触媒の存
在下または非存在下で反応性中間体を酸素、窒素、イオウまたは炭素求核剤で置
換することによって所望の化合物とする（この主題の専門文献に関してはＭｉｌ
ｌｅｒ，Ａｒｏｍａｔｉｃ，Ｎｕｃｌｅｏｐｈｉｌｉｃ Ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｉ
ｏｎ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，ＮＹ，１９６８参照）。
【０１６３】 アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、ヘテロシクリルスルホン酸、ヘテ
ロアリールスルホン酸、アルキルメルカプタン、アリールメルカプタン、ヘテロ
シクリルメルカプタン、ヘテロアリールメルカプタン、アルキルハロゲン化物、
アリールハロゲン化物、ヘテロシクリルハロゲン化物、ヘテロアリールハロゲン
化物などは市販されているかまたは市販の出発材料から当業界で公知の標準方法
を使用して容易に製造され得る。
【０１６４】 チオエーテル誘導体は、適当な溶媒中で適当な酸化剤で酸化させることによっ
て対応するスルホンまたはスルホキシドに変換できる。適当な酸化剤は例えば、
過酸化水素、メタ−過ホウ酸ナトリウム、オキソン（ペルオキシモノ硫酸カリウ
ム）、メタ−クロロペルオキシ−安息香酸、過ヨウ素酸など及びその混合物であ
る。適当な溶媒は、（メタ−過ホウ酸ナトリウム用の）酢酸、他の過酸用のＴＨ
Ｆ、ジオキサンのようなエーテル、アセトニトリル及びＤＭＦ並びにそれらの混
合物である。
【０１６５】 本発明化合物はラセミ形態または光学的に純粋な形態で生成し得る。単一の鏡
像異性体を製造するときには、光学的に純粋な出発材料を用いて合成を開始する
か、塩基性または酸性のラセミ中間体を当業界で公知のようにそれぞれ適当なキ
ラル酸もしくはキラル塩基で分解するか、または、立体異性体対がクロマトグラ
フィーもしくは結晶化によって分離される場所でラセミ中間体もしくは最終生成
物にキラル保護基を付加することによって化合物を合成する。
【０１６６】 上述の化学反応は本発明化合物の製造に最も広く適用されるように一般的に開
示されている。場合によっては反応が開示の範囲に包含される各化合物に記載の
ように適用できないこともある。このような化合物は当業者によって容易に認識
され得る。このような場合にはいずれも、例えば妨害基の適当な保護、慣用の代
替試薬の使用、反応条件の常套的な変更などの当業者に公知の慣用に修正によっ
て反応を成功させるか、または、本文中もしくは他の文献に開示された他の反応
を適用して対応する本発明の化合物を製造する。すべての製造方法ですべての出
発材料は公知であるかまたは公知の出発材料から容易に製造され得る。
【０１６７】 本発明化合物のプロドラッグも本発明の対象である。プロドラッグは、患者に
投与された後、加水分解、物質代謝などのようなｉｎ ｖｉｖｏ生理作用によっ
て本発明化合物に化学的に変性される活性または不活性の化合物である。プロド
ラッグの適性並びに製造及び使用の技術は当業者に公知である。エステルを含む
プロドラッグの概要に関してはＳｖｅｎｓｓｏｎ ａｎｄ Ｔｕｎｅｋ Ｄｒｕ
ｇ Ｍｅｔａｂｏｌｉｓｍ Ｒｅｖｉｅｗｓ １６５（１９８８）及びＢｕｎｄ
ｇａａｒｄ Ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｐｒｏｄｒｕｇｓ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ（１９
８５）を参照するとよい。マスクされたカルボキシレートアニオンの例は、アル
キル（例えば、メチル、エチル）、シクロアルキル（例えば、シクロヘキシル）
、アラルキル（例えば、ベンジル、ｐ−メトキシベンジル）、及び、アルキルカ
ルボニルオキシアルキル（例えば、ピバロイルオキシメチル）のような種々のエ
ステルである。アミンはアリールカルボニルオキシメチル置換誘導体としてマス
クされ、エステラーゼによってｉｎ ｖｉｖｏ開裂されて遊離薬物とホルムアル
デヒドとを放出する（Ｂｕｎｇａａｒｄ Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２５０３（１
９８９））。また、イミダゾール、イミド、インドールなどのような酸性ＮＨ基
を含有する薬物はＮ−アシルオキシメチル基によってマスクされている（Ｂｕｎ
ｄｇａａｒｄ Ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｐｒｏｄｒｕｇｓ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ（１
９８５））。ヒドロキシ基はエステル及びエーテルとしてマスクされている。欧
州特許ＥＰ０３９，０５１（Ｓｌｏａｎ ａｎｄ Ｌｉｔｔｌｅ，４／１１／８
１）は、マンニッヒ塩基ヒドロキサム酸プロドラッグ、その製造及び使用を開示
している。
【０１６８】 更に詳細な説明の必要なく当業者は上記の記載から本発明を十分に利用できる
と考えられる。従って以下の好ましい特定実施態様は本発明の単なる代表例であ
って本発明の開示を全く限定しないことを理解されたい。
【０１６９】 すべての試薬は入手後に精製しないで使用した。すべてのプロトン及びＮＭＲ
スペクトルはＢｒｕｋｅｒ核磁気共鳴分光計で得られた。
【０１７０】 以下の実施例は本発明化合物及び本発明化合物の製造に使用し得る中間体の製
造を示す。
【０１７１】 実施例１
【０１７２】
【化１１】 ｃｉｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−ヒドロキサム酸の調製 ステップＡ。２−ベンジル−６−オキソ−シクロヘキサンカルボン酸エチルエ
ステル 冷却した（−７８℃）、シアン化銅（１．０２ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）の無水
テトラヒドロフラン２５ｍＬ懸濁液に、アルゴン中撹拌しながら１５分かけて塩
化ベンジルマグネシウム（２．０Ｍテトラヒドロフラン溶液６．２ｍＬ、１２．
５ｍｍｏｌ）を滴加した。浴温を、４５分かけて−６０℃まで温めた。２−シク
ロヘキセノン（１．０ｇ、１０．４ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン１０ｍ
Ｌ溶液を−７８℃まで冷却し、次いで、カニューレによりクプラート溶液に加え
た。反応物を−７８℃で１時間撹拌し、次いで、０℃までゆっくりと温めた。反
応溶液を−７８℃まで冷却し、クロロギ酸エチル（１．２４ｇ、１１．４ｍｍｏ
ｌ）を滴加した。次いで、反応物を室温までゆっくりと温め、１８時間反応させ
た。反応物を塩化メチレン２５０ｍＬで希釈し、水酸化アンモニウムでｐＨ８に
緩衝させた塩化アンモニウム溶液でクエンチした。水層をさらに塩化メチレンで
抽出した。合わせた有機相を水、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ
過して濃縮すると、粘り気のある油が残った。クロマトグラフィー（シリカゲル
、酢酸エチルの１％〜２．５％ヘキサン溶液のグラジエント）により、ジアステ
レオマーの混合物が得られた（（Ｍ＋Ｈ）＋２６１．１、（Ｍ＋ＮＨ４）＋２７
８．１）。
【０１７３】 ステップＢ。３−ベンジル−７−オキソ−アゼパン−２−カルボン酸エチルエ
ステル ２−ベンジル−６−オキソ−シクロヘキサンカルボン酸エチルエステル（４．
９６ｇ、１９．１ｍｍｏｌ）のクロロホルム１６０ｍＬ溶液を、氷で０℃まで冷
却した。メタンスルホン酸（１８．３ｇ、１９０ｍｍｏｌ）を一度に加え、溶液
を平衡させた。アジ化ナトリウム（６．１８ｇ、９５ｍｍｏｌ）を３回に分け、
１０分かけて加えた。添加終了後、反応混合物を３０分間加熱還流した。反応物
をクロロホルム２００ｍＬで希釈し、５％重炭酸ナトリウム溶液を発泡が収まる
まで注意深く加えた。水層を第２のクロロホルム１００ｍＬで抽出した。合わせ
た有機層を５％重炭酸ナトリウム、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
ろ過して濃縮すると、流動性のある黄色の油が残った。クロマトグラフィ（シリ
カゲル、メタノールの０〜１％塩化メチレン溶液）により、２つの純粋なジアス
テレオマー（ｃｉｓおよびｔｒａｎｓ、（Ｍ＋Ｈ）＋２７６．１）および混合し
た分画が得られた。
【０１７４】 ステップＣ。ｃｉｓ−（３−ベンジル−アゼパン−２−イル）−メタノール ｃｉｓ−３−ベンジル−７−オキソ−アゼパン−２−カルボン酸エチルエステ
ル（０．４６ｇ、１．６６ｍｍｏｌ）を、火炎乾燥しアルゴンを流した１００ｍ
Ｌの丸底フラスコに充填した。無水テトラヒドロフラン２０ｍＬを加え、溶液を
０℃まで冷却した。水素化アルミニウムリチウム（１．０Ｍテトラヒドロフラン
溶液２．７ｍＬ、２．７ｍｍｏｌ）を滴加した。反応物を加熱還流し、１８時間
反応させた。溶液を０℃まで冷却し、次いで硫酸ナトリウム１０水和物を分けて
加え、懸濁液を３０分間撹拌した。懸濁液を、ガラス繊維フィルタを通してろ過
すると透明な溶液が残り、これを真空で濃縮すると流動性のある黄色の油（（Ｍ
＋Ｈ）＋２２０．３）が残り、これをさらに精製することなく使用した。
【０１７５】 ステップＤ。ｃｉｓ−（３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−２−イル）−メタノール ｃｉｓ−（３−ベンジル−アゼパン−２−イル）−メタノール（２８２ｍｇ、
１．２９ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン１０ｍＬ溶液を０℃まで冷却した。トリ
エチルアミン（１４３ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）、次いで塩化４−メトキシベン
ゼンスルホニル（２８０ｍｇ、１．３５ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温まで
温め、２時間反応させた。塩化メチレン２０ｍＬを加え、粗反応混合物を、５％
重炭酸ナトリウムで２回、食塩水で１回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過
して真空で濃縮すると、橙色の油が残り、このクロマトグラフ（シリカゲル、メ
タノールの０〜５％塩化メチレン溶液）を行うと、純粋な生成物（（Ｍ＋Ｈ）＋ ３９０．２、（Ｍ＋ＮＨ４）＋４０７．２）が得られた。
【０１７６】 ステップＥ。ｃｉｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル
）−アゼパン−２−カルボン酸 ｃｉｓ−（３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−イル）−メタノール（２１５ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）のアセトン６．
０ｍＬ溶液を０℃まで冷却した。Ｊｏｎｅｓ試薬（ＦｅｉｓｅｒおよびＦｅｉｓ
ｅｒ、「Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」、
第１巻、１４２ページ、１９６７年）１．０ｍＬを加えた。反応物を室温まで温
め、次いで、１時間撹拌した。酢酸エチル２０ｍＬ、次いで、１０％重亜硫酸ナ
トリウム１０ｍＬを加えた。２層を分離し、水相をさらに酢酸エチルで抽出した
。酸を０．１Ｎ水酸化ナトリウムで２回抽出し、次いで酢酸エチルで洗浄した。
水溶液を１Ｍ塩酸で再びｐＨ３の酸性とし、酢酸エチルで２回抽出し、硫酸ナト
リウムで乾燥し、ろ過し、真空で濃縮すると、透明な無色の油が残り、これをさ
らに精製することなく使用した。
【０１７７】 ステップＦ。ｃｉｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル
）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸 ｃｉｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−カルボン酸（１４６ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を無水塩化メチレン４ｍＬ
に溶かした。ジメチルホルムアミド（１０μＬ）と、続いて塩化オキサリル（２
．０Ｍ溶液０．３６ｍＬ、０．７２ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で３０分
間撹拌させた。別のフラスコで、テトラヒドロフラン２．０ｍＬを使用してヒド
ロキシルアミン塩酸塩（１２５ｍｇ、１．８ｍｍｏｌ）を懸濁させた。水０．２
ｍＬを加えて混合物を溶かした。この溶液を氷で冷却し、次いでトリエチルアミ
ン（２９０ｍｇ、２．８８ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液を０℃で３０分間撹拌
した。次いで、酸塩化物溶液を加え、反応物を０℃でさらに３０分間撹拌した。
酢酸エチル２０ｍＬと、続いて０．２５Ｍ塩酸２０ｍＬを加えた。２層を分離し
、水相を別の酢酸エチル２０ｍＬで抽出した。合わせた有機相を食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウムで洗浄し、ろ過し、濃縮すると、透明で無色の油が残り、この
クロマトグラフ（シリカゲル、メタノールの０〜１％塩化メチレン溶液）を行う
と、標題化合物（（Ｍ＋Ｈ）＋４１９．２、（Ｍ＋ＮＨ４）＋４３６．２）が得
られた。
【０１７８】 実施例２
【０１７９】
【化１２】 ｔｒａｎｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼ
パン−２−ヒドロキサム酸の調製 ｔｒａｎｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼ
パン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドは、ｃｉｓ−３−ベンジル−１−（４−
メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドの
調製手順を使用し、ｔｒａｎｓ−３−ベンジル−７−オキソ−アゼパン−２−カ
ルボン酸エチルエステルから合成した。
【０１８０】 実施例３
【０１８１】
【化１３】 ｔｒａｎｓ−３−フェニル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼ
パン−２−ヒドロキサム酸の調製 ステップＡ。２−フェニル−６−オキソ−アゼパン−２−カルボン酸エチルエ
ステル シアン化銅（１．６ｇ、１７．８ｍｍｏｌ）を丸底フラスコに充填し、減圧下
で注意深く火炎乾燥した。次いで、フラスコにアルゴンを通し、このプロセスを
もう２回繰り返した。無水エーテル５０ｍＬを加え、懸濁液を−７８℃まで冷却
した。フェニルリチウム（１．８Ｍシクロヘキサン溶液１９．９ｍＬ、３５．８
ｍｍｏｌ）を滴加した。反応物を３０分かけて−６０℃まで温め、次いで、再び
−７８℃まで冷却した。６−オキソ−シクロヘキス−１−エンカルボン酸エチル
エステル（２．５ｇ、１４．９ｍｍｏｌ、Ｒｅｉｃｈ他、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．、９７巻、１９、５４３４〜５４４７ページ、１９７５年の方法に
よって調製した）を無水エーテル７．５ｍＬに溶かし、−７８℃まで冷却し、カ
ニューレによりクプラート溶液に加えた。反応物を室温までゆっくりと温めた。
エーテル５０ｍＬを反応混合物に加え、次いで２．０Ｍ塩化アンモニウム５０ｍ
Ｌを加えることにより反応物をクエンチした。２層を分離し、有機相を別の塩化
アンモニウム、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過して真空濃縮し
た。残渣のクロマトグラフ（シリカゲル、酢酸エチルの１％〜５％ヘキサン溶液
のグラジエント）により、ジアステレオマーの混合物が得られた（（Ｍ＋Ｈ）＋ ２４７．１、（Ｍ＋ＮＨ４）＋２６４．１）。
【０１８２】 ステップＢ〜Ｆ。ｔｒａｎｓ−３−フェニル−１−（４−メトキシベンゼンス
ルホニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸 ｔｒａｎｓ−３−フェニル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼ
パン−２−ヒドロキサム酸は、ｃｉｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベン
ゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸−ヒドロキシアミドの調製に使用
した手順と同一の方法で、２−フェニル−６−オキソ−アゼパン ２−カルボン
酸エチルエステルから合成した。
【０１８３】 実施例４
【０１８４】
【化１４】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸の
調製 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸は
、ｃｉｓ−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−カルボン酸−ヒドロキシアミドの調製に使用した手順と同一の方法で、６
−オキソ−シクロヘキサンカルボン酸エチルエステルから合成した。
【０１８５】 実施例５
【０１８６】
【化１５】 酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル
）−アゼパン−３−イルメチルエステルの調製 ステップＡ。３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン
酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．０６ｇ、２．５６ｍｍｏＬ）のＴＨＦ１
２．８ｍＬ溶液に、０℃でボラン−ＴＨＦ溶液（１Ｍ、６．４ｍＬ）を滴加した
。反応物を３０分後に周囲温度まで温め、２０時間撹拌させた後に氷浴温度まで
冷却し、１：１酢酸および水溶液で注意深くクエンチした。この溶液を１時間撹
拌した後、溶媒の大部分を減圧下で除去した。残渣を酢酸エチルに溶かし食塩水
で洗浄した。この溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。溶媒を減圧
下で除去し、カラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチルの２５％から３０％
ヘキサン溶液）により精製すると、透明な油として３−ヒドロキシメチル−１−
（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−
ブチルエステル（ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝４００、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４１７）、
および透明な油として対応するアルデヒド（３１ｍｇ、３％）（ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ
）＋＝３９８、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４１５）が得られた。
【０１８７】 ステップＢ：３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（０．５ｇ、１．２５ｍｍｏＬ）
のジクロロメタン６．３ｍＬ溶液に、トリエチルアミン（０．１９ｍＬ、１．３
８ｍｍｏＬ）およびジメチルアミノピリジン（１５ｍｇ、０．１２５ｍｍｏＬ）
を加えた。この溶液を０℃まで冷却し、無水酢酸（０．１８ｍｌ、１．８８ｍｍ
ｏＬ）を同時に加えた。５分後、反応物をジクロロメタンで希釈し、０．５Ｎ
ＨＣｌ、水、および食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、ろ過した。溶媒を減圧下で除去すると、３−アセトキシメチル−１−（４
−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチ
ルエステルが得られた。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝４４２、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４５
９。
【０１８８】 ステップＣ：３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−２−カルボン酸 ３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２６６ｍｇ、０．６ｍｍｏＬ）
のジクロロメタン１．５ｍＬ溶液に、０℃でトリフルオロ酢酸１．５ｍＬを加え
た。反応物を徐々に周囲温度まで温め、１．４時間後に溶媒を減圧下で除去した
。残渣をトルエンで２回共沸させ、カラムクロマトグラフィ（シリカ、１％酢酸
を含む酢酸エチルの３０％ヘキサン溶液から１％酢酸を含むメタノールの４％ジ
クロロメタン溶液）により精製すると、３−アセトキシメチル−１−（４−メト
キシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸が定量的に得られた。
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝３８６、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４０３。
【０１８９】 ステップＤ：酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼ
ンスルホニル）−アゼパン−３−イルメチルエステル ３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−カルボン酸（１０７ｍｇ、０．２８ｍｍｏＬ）のジクロロメタン５．６
ｍＬ溶液に、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．１９５ｍＬ、１．１２
ｍｍｏＬ）を加えた。この溶液を０℃まで冷却し、ヒドロキシルアミン（５８．
４ｍｇ、０．８４ｍｍｏＬ）と、続いてＰｙＢｒｏＰ（１５５ｍｇ、０３３３ｍ
ｍｏＬ）を加えた。反応物を１５分後に周囲温度まで温め、５．５時間後に停止
させた。残渣を酢酸エチルで希釈し、０．５Ｎ ＨＣｌ、および食塩水で順次洗
浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。溶媒を減圧下で蒸
発させ、残渣を、カラムクロマトグラフィ（シリカ、メタノールの０．５％から
１．５％ジクロロメタン溶液）により精製すると、酢酸２−ヒドロキシカルバモ
イル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−３−イルメチル
エステルが得られた。ＭＳ：（Ｍ−Ｈ）−＝３９９。
【０１９０】 実施例６
【０１９１】
【化１６】 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドの調製 酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル
）−アゼパン−３−イルメチルエステルのメタノール１．１ｍＬ溶液に、１．０
Ｍ ＬｉＯＨ水溶液０．１ｍＬを周囲温度で加えた。減圧下で溶媒を蒸発させる
ことにより、３０分後に反応を停止させた。残渣を水に溶かし、ジエチルエーテ
ルで２回洗浄し、続いて１Ｎ ＨＣｌで水をｐＨ＝１の酸性とした。水層を酢酸
エチルで２回抽出し、これを無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。溶媒を
減圧下で蒸発させ、カラムクロマトグラフィ（シリカ、メタノールの２％から８
％ジクロロメタン溶液）で精製すると、薄い皮膜が得られ、これを凍結乾燥する
と、白色の凍結乾燥品（ｌｙｏｐｈｏｌａｔｅ）として３−ヒドロキシメチル−
１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロ
キシアミドが得られた。ＭＳ：（Ｍ−Ｈ）−＝３５７。
【０１９２】 実施例７
【０１９３】
【化１７】 ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−ア
ゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドの調製 ステップＡ：３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−アゼパン−２−カルボン酸 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１１０ｍｇ、０．２７５ｍｍｏ
Ｌ）のシクロヘキサン３．９ｍＬおよびジクロロメタン１．９５ｍＬ溶液に、ト
リクロロアセトイミド酸ベンジル（０．１ｍＬ、０．５５ｍｍｏＬ）を加えた。
溶液を０℃まで冷却し、トリフルオロメタンスルホン酸（０．００８ｍＬ、０．
０９１ｍｍｏＬ）を加えた。２．５時間後、反応物をろ過し、ケークをシクロヘ
キサンおよびジクロロメタンの２：１溶液で洗浄し、溶媒を減圧下で蒸発させ、
残渣を酢酸エチルに溶かした。溶液を希重炭酸ナトリウムおよび食塩水で順次洗
浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で蒸発
させた。残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸の３０％ヘキサン溶液か
らメタノールの５％ジクロロメタン溶液）により精製すると、３−ベンジルオキ
シメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボ
ン酸が得られた。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝４３４、（Ｍ−Ｈ）−＝４３２。
【０１９４】 ステップＢ：３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ベンズヒドリルオキシ−アミド ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼ
パン−２−カルボン酸（１９ｍｇ、０．０４４ｍｍｏＬ）のジメチルホルムアミ
ド０．６３ｍＬ溶液に、１−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾール水和物（７．１ｍ
ｇ、０．０５２５ｍｍｏＬ）およびＯ−ベンズヒドリル−ヒドロキシルアミン（
１０．４ｍｇ、０．０５２５ｍｍｏＬ）を加えた。この溶液を０℃まで冷却し、
１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（１０
ｍｇ、０．０５２５ｍｍｏＬ）を加えた。この反応物を２０分後に周囲温度まで
温め、酢酸エチルで希釈することにより３時間後に反応を停止させた。この溶液
を飽和重炭酸ナトリウム、０．５Ｎ ＨＣｌ、および食塩水で順次洗浄した。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で除去した。残渣
をカラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチルの２０％から３０％ヘキサン溶
液）により精製すると、３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベン
ゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ベンズヒドリルオキシ−アミドが
得られた。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝６１５、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝６３２。
【０１９５】 ステップＣ：３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミド ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−ア
ゼパン−２−カルボン酸ベンズヒドリルオキシ−アミド（１０ｍｇ、０．０１６
ｍｍｏＬ）のジクロロメタン０．２５ｍＬ溶液に、０℃でトリフルオロ酢酸０．
２５ｍＬと、続いてトリエチルシラン（３．７ｍｇ、０．０３２ｍｍｏＬ）を加
えた。５０分後、溶媒を減圧下で除去し、残渣をトルエンで２回共沸させた。次
いで、残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカ、メタノールの１．５％から３％
ジクロロメタン溶液）により精製すると、３−ベンジルオキシメチル−１−（４
−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミ
ドが得られた。ＭＳ：（Ｍ−Ｈ）−＝４４７。
【０１９６】 実施例８
【０１９７】
【化１８】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチ
ル−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドの調製 ステップＡ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスル
ファニルメチル−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（０．２ｍｇ、０．５ｍｍｏＬ）
のエチレングリコールジメチルエーテル６ｍＬ溶液に、ジフェニルジスルフィド
（０．５５ｇ、２．５０３ｍｍｏＬ）およびトリブチルホスフィン（０．６２４
ｍＬ、２．５０３ｍｍｏＬ）を加えた。反応物を加熱還流し、２０分後に周囲温
度まで冷却した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を酢酸エチルに溶かし、食塩水で
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で除去した。
残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチルの５％から２０％ヘキサン
溶液）により精製すると、１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フ
ェニルスルファニルメチル−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステ
ルが得られた（０．１１０ｇ、４５％）。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝４９２、（Ｍ＋
ＮＨ４）＋＝５０９。
【０１９８】 ステップＢ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスル
ファニルメチル−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミド １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチ
ル−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドは、酢酸２−ヒドロキシカルバ
モイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−３−イルメチル
エステルの調製に使用した手順と同一の方法で、１−（４−メトキシ−ベンゼン
スルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル−アゼパン−２−カルボン酸ｔ
ｅｒｔ−ブチルエステルから合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４５１、（Ｍ＋ＮＨ ４ ）＋＝４６８。
【０１９９】 実施例９
【０２００】
【化１９】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−アゼパン−２−
カルボン酸ヒドロキシアミドの調製 ステップＡ：３−ホルミル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−ア
ゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−
２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（０．５ｇ、１．２５ｍｍｏＬ）のＴ
ＨＦ１．２５ｍＬ溶液に、臭化ナトリウム（１９ｍｇ、０．１９ｍｍｏＬ）を加
えた。この懸濁液を０℃まで冷却し、ＴＥＭＰＯ（２５ｍｇ、５％）と、続いて
重炭酸ナトリウムの０．１２９Ｍ Ｃｌｏｒｏｘ漂白剤溶液１．４１ｍＬを加え
た。反応物を徐々に周囲温度まで温めながら磁気撹拌を強めると二相溶液が得ら
れ、その速度を３時間保った。次いで、反応物を亜硫酸ナトリウム（１．２６ｇ
）でクエンチした。２０分後、水および酢酸エチルを加え、２層を分離し、有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を
カラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチルの１５％から２５％ヘキサン溶液
）により精製すると、３−ホルミル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル
）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルが得られた。ＭＳ：（
Ｍ＋Ｈ）＋＝３９８、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４１５。
【０２０１】 ステップＢ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−ア
ゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル 臭化ベンジルトリフェニルホスホニウム（２２９ｍｇ、０．５２８ｍｍｏＬ）
のＴＨＦ２ｍＬ溶液に、０℃で、ブチルリチウムの２．０Ｍペンタン溶液（０．
２７２ｍＬ）を加えた。５分後、溶液を周囲温度まで温め、その温度で３０分間
保った後、ＴＨＦ１．５２ｍＬに溶かした３−ホルミル−１−（４−メトキシ−
ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（
２００ｍｇ、０．５０３ｍｍｏＬ）に加えた。２０時間後、水を滴下することに
より反応物をクエンチし、反応物を酢酸エチルで希釈して食塩水で２回洗浄した
。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で蒸発させた
。残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチルの２０％から２５％ヘキ
サン溶液）により精製すると、１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３
−スチリル−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルが得られた。
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝４７２、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４８９。
【０２０２】 ステップＣ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−ア
ゼパン−２−カルボン酸 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−アゼパン−２−
カルボン酸は、３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−２−カルボン酸の調製に使用した手順と同一の方法で、１−（
４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−アゼパン−２−カルボン
酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルから合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４１６、（Ｍ＋
ＮＨ４）＋＝４３３。
【０２０３】 ステップＤ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−ア
ゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミド １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−アゼパン−２−
カルボン酸ヒドロキシアミドは、３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキ
シ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドの調製
に使用した手順と同一の方法で、１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−
３−スチリル−アゼパン−２−カルボン酸から合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４
３１、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４４８、（Ｍ−Ｈ）−＝４２９。
【０２０４】 実施例１０
【０２０５】
【化２０】 ３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−３−イル）−アクリル酸の調製 ステップＡ：３−（２−エトキシカルボニル−ビニル）−１−（４−メトキシ
ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル ３−ホルミル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−
カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３１０ｍｇ、０．７８ｍｍｏＬ）のベン
ゼン８．１ｍＬ溶液に、周囲温度で（カルボエトキシメチレン）トリフェニルホ
スホラン（４０８ｍｇ、１．１７ｍｍｏＬ）を加えた。２４時間後にさらに３１
０ｍｇを加え、反応を７２時間続けた。溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をカラム
クロマトグラフ（シリカ、酢酸エチルの１８％から２５％ヘキサン溶液）により
精製すると、３−（２−エトキシカルボニル−ビニル）−１−（４−メトキシ−
ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルが
得られた。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝４６８、（Ｍ＋ＮＨＹ４）＋＝４８５。
【０２０６】 ステップＢ：３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベン
ゼンスルホニル）−アゼパン−３−イル）−アクリル酸エチルエステル ３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−３−イル）−アクリル酸エチルエステルは、酢酸２−ヒドロキ
シカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−３−
イルメチルエステルの調製に使用した手順と同一の方法で、３−（２−エトキシ
カルボニル−ビニル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−
２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルから合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４
２７。
【０２０７】 ステップＣ：３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベン
ゼンスルホニル）−アゼパン−３−イル）−アクリル酸 ３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−３−イル）−アクリル酸エチルエステル（４１ｍｇ、０．０９
６ｍｍｏＬ）のＴＨＦ０．９６ｍＬおよび水１．１ｍＬ溶液に、周囲温度で水酸
化リチウム（１２ｍｇ、０．２８８ｍｍｏＬ）を加えた。３．５時間後、反応溶
媒を減圧下で蒸発させ、残渣を水で希釈してジエチルエーテルで２回洗浄した。
水層をｐＨ＝１の酸性とし、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過して溶媒を減圧下で蒸発させた。残渣
を凍結乾燥すると、３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−
ベンゼンスルホニル）−アゼパン−３−イル）−アクリル酸が得られた。ＭＳ：
（Ｍ＋Ｈ）＋＝３９９、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４１６、（Ｍ−Ｈ）＋＝３９７。
【０２０８】 実施例１１
【０２０９】
【化２１】 酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル
）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメチルエステル
の調製 ステップＡ：３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒ
ｔ−ブチルエステル １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１．
１７ｇ、２．６５ｍｍｏＬ）のＴＨＦ２６．５ｍＬ溶液を撹拌し、０℃でトリエ
チルアミン（０．４０６ｍＬ、２．９１５ｍｍｏＬ）と、続いてクロロギ酸イソ
ブチル（０．３７８ｍＬ、２．９１５ｍｍｏＬ）を加えた。この懸濁液を１時間
撹拌させた。次いで、懸濁液を滴下ロート中にろ過し、これを予め調製した水素
化ホウ素ナトリウム（３２１ｍｇ、８．４８ｍｍｏＬ）の水１．６３ｍＬ溶液に
０℃で滴加した。２．５時間後、溶媒を除去させ、残渣を酢酸エチルおよび水で
希釈した。溶液を０．５Ｎ ＨＣＬで１回洗浄し、２層を分離し、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をカラムクロマト
グラフィ（シリカ、酢酸エチルの２５％から３５％ヘキサン溶液）により精製す
ると、３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチ
ルエステルが得られた。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋＝３９８、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４１
５。
【０２１０】 ステップＢ：３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸 ３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３
，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸は、３−アセトキシ
メチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カルボン
酸の調製に使用した手順と同一の方法で、３−ヒドロキシメチル−１−（４−メ
トキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピ
ン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルから合成した。ＭＳ（Ｍ−Ｈ）− ＝３８２。
【０２１１】 ステップＣ：酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼ
ンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメ
チルエステル ３−アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３
，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸（１０１ｍｇ、０．
２６３ｍｍｏＬ）のジメチルホルムアミド３ｍＬ溶液に、−２０℃でアルゴンブ
ランケット（ｂｌａｎｋｅｔ）中、Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル−シリル）
ヒドロキシルアミン（５０ｍｇ、０．３４２ｍｍｏＬ）と、続いてＮ，Ｎ−ジイ
ソプロピルエチルアミン（０．０６９ｍＬ、０．３４２ｍｍｏＬ）を加えた。（
Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチ
ルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩）（１１０ｍｇ、０．２８９ｍｍｏＬ）を
加え、温度を−２０℃に４０分間保った後、周囲温度まで温めた。反応物を１９
時間撹拌させ、酢酸エチルで希釈した。１０％クエン酸を加えて３０分間撹拌し
、次いで、反応物を水、０．５Ｎ ＨＣＬ、希重炭酸ナトリウム、および食塩水
で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧
下で除去した。残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカ、メタノールの０．５％
から３％ジクロロメタン溶液）により精製すると、酢酸２−ヒドロキシカルバモ
イル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒ
ドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメチルエステルが得られた。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ） ＋ ＝３９９、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４１６。
【０２１２】 実施例１２
【０２１３】
【化２２】 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３
，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドの
調製 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３
，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシアミドは
、３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−カルボン酸ヒドロキシアミドの調製に使用した手順と同一の方法で、酢酸
２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメチルエステルから合
成した。ＭＳ（Ｍ−Ｈ）−＝３５５。
【０２１４】 実施例１３
【０２１５】
【化２３】 ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシアミ
ドの調製 ステップＡ：３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔ
ｅｒｔ−ブチルエステル ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチ
ルエステルは、３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−アゼパン−２−カルボン酸の調製に使用した手順と同一の方法で、３
−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４
，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステ
ルから合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４８８、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝５０５。
【０２１６】 ステップＢ：３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸 ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸は、３−アセト
キシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カル
ボン酸の調製に使用した手順と同一の方法で、３−ベンジルオキシメチル−１−
（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ
−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルから合成した。ＭＳ（Ｍ
−Ｈ）−＝４３０。
【０２１７】 ステップＣ：３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒ
ドロキシアミド ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシアミ
ドは、酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホ
ニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメチルエス
テルの調製に使用した手順と同一の方法で、３−ベンジルオキシメチル−１−（
４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−
アゼピン−２−カルボン酸から合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４４７、（Ｍ＋Ｎ
Ｈ４）＋＝４６４。
【０２１８】 実施例１４
【０２１９】
【化２４】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチ
ル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキ
シアミドの調製 ステップＡ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスル
ファニルメチル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボ
ン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチ
ル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ
−ブチルエステルは、１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニ
ルスルファニルメチル−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの
調製に使用した手順と同一の方法で、３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキ
シ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−
２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルから合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４
９０、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝５０７。
【０２２０】 ステップＢ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスル
ファニルメチル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボ
ン酸 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチ
ル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸は、３−
アセトキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２
−カルボン酸の調製に使用した手順と同一の方法で、１−（４−メトキシ−ベン
ゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル−２，３，４，７−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルから合成し
た。ＭＳ（Ｍ−Ｈ）−＝４３２。
【０２２１】 ステップＣ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスル
ファニルメチル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボ
ン酸ヒドロキシアミド １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチ
ル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキ
シアミドは、酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼン
スルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメチ
ルエステルの調製に使用した手順と同一の方法で、１−（４−メトキシ−ベンゼ
ンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル−２，３，４，７−テトラヒ
ドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸から合成した。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）＋＝４４
９、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝４６６。
【０２２２】 実施例１５
【０２２３】
【化２５】 ３−ベンゾフラン−２−イル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−
２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシア
ミドの調製 ステップＡ：３−ベンゾフラン−２−イル−１−（４−メトキシ−ベンゼンス
ルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸
ｔｅｒｔ−ブチルエステル １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（０．
７ｇ、１．５９ｍｍｏＬ）のジメチルホルムアミド１．７ｍＬ溶液を撹拌し、０
℃でイミダゾール（２３８ｍｇ、３．５ｍｍｏＬ）および塩化ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル（２６３ｍｇ、１．７４ｍｍｏＬ）を加えた。反応物を１時間後
に周囲温度まで温め、４時間後に酢酸エチルで希釈した。反応物を水、塩化アン
モニウム、および食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、ろ過して溶媒を減圧下で蒸発させた。粗製物を高真空で１８時間保存した。
次いで、残渣をジクロロメタンに溶かし、０℃まで冷却した。この溶液に、触媒
量のジメチルホルムアミドおよび２．０Ｍ塩化オキサリル（０．７０８ｍＬ、１
．４１ｍｍｏＬ）を加えた。反応物を３０分後に周囲温度まで温め、３時間後に
溶媒を減圧下で蒸発させた。酸塩化物をトルエンで２回共沸させ、トルエン１ｍ
Ｌに溶かした。この溶液を、還流させたベンゼントリフェニルホスフィンフェノ
ール（６３３ｍｇ、１．４１ｍｍｏＬ）およびトリエチルアミン（０．５９ｍＬ
、４．２３ｍｍｏＬ）のトルエン５．６５ｍＬ懸濁液に加えた。反応物を２．５
時間還流させ、１８時間かけて周囲温度までゆっくりと冷却した。次いで、反応
物を酢酸エチルで希釈し、１Ｎ ＨＣＬ、半飽和重炭酸ナトリウム、および食塩
水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を減
圧下で除去した。残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチルの５％か
ら１５％ヘキサン溶液）により精製すると、３−ベンゾフラン−２−イル−１−
（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ
−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルが得られた。ＭＳ（Ｍ＋
Ｈ）＋＝４８４、（Ｍ＋ＮＨ４）＋＝５０１。
【０２２４】 ステップＢ：３−ベンゾフラン−２−イル−１−（４−メトキシ−ベンゼンス
ルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸 ３−ベンゾフラン−２−イル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−
２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸は、３−アセ
トキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−カ
ルボン酸の調製に使用した手順と同一の方法で、３−ベンゾフラン−２−イル−
１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−
１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルから合成した。ＭＳ
（Ｍ−Ｈ）＋＝４２６。
【０２２５】 ステップＣ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスル
ファニルメチル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボ
ン酸ヒドロキシアミド １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチ
ル−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキ
シアミドは、酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼン
スルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメチ
ルエステルの調製に使用した手順と同一の方法で、３−ベンゾフラン−２−イル
−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸から合成した。ＭＳ（Ｍ−Ｈ）＋＝４４１。
【０２２６】 実施例１６
【０２２７】
【化２６】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸３−ベンジルエステル２−ｔｅｒｔ−
ブチルエステルの調製 ステップＡ：２−アミノコハク酸４−ベンジルエステル１−ｔｅｒｔ−ブチル
エステル Ｄ−アスパラギン酸β−ベンジルエステル（９ｇ、４０．３ｍｍｏｌ）をジオ
キサン７５ｍｌおよび硫酸７．５ｍｌに懸濁し、−１５℃まで冷却する。２−メ
チルプロペン（７５ｍｌ）を加え、反応混合物を密封し、室温で４時間撹拌する
。次いで、反応混合物を０℃まで冷却し、ジエチルエーテル６００ｍｌおよび１
Ｍ ＮａＯＨ３２５ｍｌに注加する。有機相を分離し、水相をジエチルエーテル
２００ｍｌで２回抽出する。合わせた有機分画をＭｇＳＯ４で３０分間乾燥し、
ろ過する。ジエチルエーテルを蒸発させ、残った油を高真空で２４時間乾燥する
。計算値２８０．２、実測値（ＭＨ）＋２８０。
【０２２８】 ステップＢ：２−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニルアミノ）−コハク酸４
−ベンジルエステル１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル ２−アミノコハク酸４−ベンジルエステル１−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（９
．５７ｇ、３３．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（９．３ｍｌ、６６．８ｍｍ
ｏｌ）および塩化４−メトキシベンゼンスルホニル（６．９ｇ、３３．４ｍｍｏ
ｌ）をジクロロメタン（ＤＣＭ）５０ｍｌに溶かし、室温で１時間撹拌する。反
応混合物をＤＣＭ５０ｍｌで希釈する。水２００ｍｌを加え、有機相を分離する
。水相をＤＣＭで２回抽出する。合わせた有機抽出物をＭｇＳＯ４で乾燥し、ろ
過する。溶媒を蒸発させ、残った油をジエチルエーテル／酢酸エチルから白色の
針状晶として再結晶する。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）、ｐｐｍ：８．２Ｈｚ、
（ｄ、１Ｈ）、７．７Ｈｚ（ｄ、２Ｈ）、７．３Ｈｚ（ｍ、５Ｈ）、７．１Ｈｚ
（ｄ、２Ｈ）、５．０５Ｈｚ（ｄ、２Ｈ）、４．０８Ｈｚ（ｄｄ、１Ｈ）、３．
９Ｈｚ（ｓ、３Ｈ）、２．７２Ｈｚ（ｄｄ、１Ｈ）、２．５９Ｈｚ（ｄｄ、１Ｈ
）、１．２１Ｈｚ（ｓ、９Ｈ）。
【０２２９】 ステップＣ：２−アリル−３−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニルアミノ）
−コハク酸１−ベンジルエステル４−ｔｅｒｔ−ブチルエステル 乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１００ｍｌを−７８℃まで冷却する。この
温度を維持しながら、リチウムビス（トリメチルシリル）アミドの１Ｍ ＴＨＦ
溶液（４７．３５ｍｌ、４７．３５ｍｍｏｌ）を加える。２−（４−メトキシ−
ベンゼンスルホニルアミノ）−コハク酸４−ベンジルエステル１−ｔｅｒｔ−ブ
チルエステル（１０．１ｇ、２２．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ４５ｍｌに溶かし、反
応溶液に滴加する。反応混合物を１時間撹拌させ、次いで−４０℃まで短時間温
める。−７８℃まで再冷却した後、ＴＨＦ３０ｍｌに溶かしたヨウ化アリル（３
．１ｍｌ、３３．８ｍｍｏｌ）を滴加する。反応混合物を−４０℃まで温め、Ｎ
Ｈ４Ｃｌ溶液でクエンチする。有機相を分離してＭｇＳＯ４で乾燥し、ろ過する
。溶媒を蒸発させ、生成物を短いフラッシュクロマトグラフィカラムで精製する
。ヘキサン／酢酸エチル（９：１）。計算値４８９．６、実測値（ＭＨ）＋４９
０。
【０２３０】 ステップＤ：２−アリル−３−（アリル−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニ
ル）アミノ）−コハク酸１−ベンジルエステル４−ｔｅｒｔ−ブチルエステル トリフェニルホスフィン（１ｇ、３．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）６０ｍＬに溶かし、０℃まで冷却する。ジアゾプロピルジカルボン酸エス
テル（ＤＩＡＤ）（０．７７ｍｌ、３．９ｍｍｏｌ）を注射器で加え、反応混合
物を３０分間撹拌する。黄色の懸濁液にアリルアルコール（１６μｌ、０．２３
ｍｍｏｌ）を加え、次いで１０分後に２−アリル−３−（４−メトキシ−ベンゼ
ンスルホニルアミノ）−コハク酸１−ベンジルエステル４−ｔｅｒｔ−ブチルエ
ステル（１．４ｇ、２．６ｍｍｏｌ）を加える。反応混合物を０℃で３０分間撹
拌し、次いで室温まで温める。大部分のＴＨＦを蒸発させ、ヘキサン／酢酸エチ
ル（２：１）でフラッシュクロマトグラフィを行うと、所望の生成物が得られる
。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３４００ＭＨｚ）、ｐｐｍ：７．８０（ｄ、２Ｈ）、
７．３８（ｍ、５Ｈ）、６．９５（ｄ、２Ｈ）、５．７５（ｍ、２Ｈ）、５．１
０（ｍ、６Ｈ）、３．９５（ｍ、２Ｈ）、３．９０（ｓ、３Ｈ）、３．２１（ｄ
ｄｄ、１Ｈ）、２．５０（ｄｄｄ、１Ｈ）、２．３５（ｄｄｄ、１Ｈ）、１．４
０（ｓ、９Ｈ）。
【０２３１】 ステップＥ：１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−
テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸３−ベンジルエステル２
−ｔｅｒｔ−ブチルエステル ２−アリル−３−（アリル−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アミノ
）−コハク酸１−ベンジルエステル４−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（５．５ｇ、
１０．４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン４０ｍｌに溶かし、アルゴンを３回流して
酸素を除去する。触媒（ＲｕＣｌ２（ＰＣｙ３）２＝−Ｐｈ）（１００ｍｇ、０
．１２ｍｍｏｌ）を加え、反応物にアルゴンをもう１回流して酸素を除去する。
反応溶液を室温で７時間撹拌する。ルテニウム触媒（９０ｍｇ、０．１１ｍｍｏ
ｌ）をさらに加え、反応物を一夜撹拌する。溶媒を蒸発させ、ヘキサン／酢酸エ
チル（３：１）でフラッシュクロマトグラフィを行うと、生成物が得られた。１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３４００Ｍｈｚ）、ｐｐｍ：７．８１（ｄ、２Ｈ）、７．
３７（ｍ、５Ｈ）、６．９３（ｄ、２Ｈ）、５．６０（ｍ、２Ｈ）、５．１０（
ｍ、３Ｈ）、４．１８（ｄｄ、１Ｈ）、４．０５（ｄｄ、１Ｈ）、３．８８（ｓ
、３Ｈ）、３．２０（ｄｄｄ、１Ｈ）、２．６８（ｍ、２Ｈ）、１．３２（ｓ、
９Ｈ）。
【０２３２】 実施例１７
【０２３３】
【化２７】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステルの調製 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸３−ベンジルエステル２−ｔｅｒｔ−
ブチルエステル（６ｇ、１２ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン１２０ｍｌおよ
び水７８ｍｌの混合物に溶かす。ＬｉＯＨ・Ｈ２Ｏ（１ｇ、２４ｍｍｏｌ）を加
える。４５分後、さらに水（１５ｍｌ）を加え、反応溶液を室温で２４時間撹拌
する。溶媒を蒸発させ、残った固体を水／ジエチルエーテルに溶かす。水層をｐ
Ｈ１の酸性とする。有機相を分離し、水相を酢酸エチルで２回抽出する。合わせ
た有機分画をＭｇＳＯ４で乾燥し、ろ過する。溶媒を蒸発させると生成物が得ら
れる。計算値４１２．５、実測値（ＭＨ）＋４１２．１。
【０２３４】 実施例１８
【０２３５】
【化２８】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン
酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステルの調製 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ
−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸３−ベンジルエステル２−ｔｅｒｔ−
ブチルエステル（２．２８ｇ、４．５ｍｍｏｌ）を、ジオキサン／メタノール（
３：１）４０ｍｌに溶かす。アルゴンを流しながらパラジウム炭素（１０％）（
１７０ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を加える。フラスコを排気し、水素を３回流す
。反応物を室温で６時間撹拌する。セライトを通してろ過し溶媒を蒸発させると
生成物が得られた。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ、４００ＭＨｚ）、ｐｐｍ：７．８
１（ｄ、２Ｈ）、６．９５（ｄ、２Ｈ）、５．４０（ｄ、１Ｈ）、３．６８（ｓ
、３Ｈ）、３．６５（ｍ、１Ｈ）、３．２５（ｍ、１Ｈ）、２．９２（ｍ、１Ｈ
）、２．１５（ｍ、１Ｈ）、１．９５（ｍ、１Ｈ）、１．７８（ｍ、２Ｈ）、１
．２５（ｓ、９Ｈ）。
【０２３６】 実施例１９
【０２３７】
【化２９】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン
酸２−（ヒドロキシアミド）３−（フェネチルアミド）の調製 ステップＡ。１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェネチルカ
ルバモイル−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン
酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１７１ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）をジメチル
ホルムアミド（ＤＭＦ）５ｍｌに溶かす。フェネチルアミン（６３μｌ、０．５
ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（６４ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ
）および１−（３−ジメチル−アミノプロピル）−３−エチル−カルボ−ジイミ
ド塩酸塩（ＥＤＣ）（１２１ｍｇ、０．６３ｍｍｏｌ）を加える。反応混合物を
室温で４時間撹拌する。ＤＭＦを蒸発させ、残った油を酢酸エチルに溶かし、２
Ｍクエン酸、次いで０．５Ｍ ＮａＨＣＯ３溶液で洗浄する。ヘキサン／酢酸エ
チル（３：２）のフラッシュクロマトグラフィにより、生成物が得られた。計算
値５１７．６、実測値（ＭＨ）＋５１７．１。
【０２３８】 ステップＢ。１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェネチルカ
ルバモイル−アゼパン−２−カルボン酸 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェネチルカルバモイル−
アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（１１２ｍｇ、０．２１ｍ
ｍｏｌ）をジクロロメタン／トリフルオロ酢酸（３：１）４ｍｌに溶かし、室温
で５時間撹拌する。溶媒／試薬を蒸発させ、残った油をトルエンから２回共沸さ
せる。ヘキサン／酢酸エチル（１：２）のフラッシュクロマトグラフィにより、
生成物が得られた。計算値４５９．６、実測値（ＭＨ）＋４５９。
【０２３９】 ステップＣ。１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３
−ジカルボン酸２−（ベンジルオキシアミド）３−（フェネチルアミド） １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェネチル−カルバモイル
−アゼパン−２−カルボン酸（７１ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）をジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ）５ｍｌに溶かす。ベンジルヒドロキシルアミン（３０ｍｇ、０
．１８ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２４ｍｇ、０．１５ｍ
ｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（４２μｌ、０．３７ｍｍｏｌ）および１−（
３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（
３５．５ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を加える。反応混合物を室温で一夜撹拌する
。溶媒を蒸発させ、残った油をヘキサン／酢酸エチル（１：１）でフラッシュク
ロマトグラフィにより精製する。Ｅｘｐ．５６６．７、実測値（ＭＨ）＋５６６
．２。
【０２４０】 ステップＤ。１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３
−ジカルボン酸２−（ヒドロキシアミド）３−（フェネチルアミド） １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン
酸２−（ベンジルオキシアミド）３−（フェネチルアミド）（６０ｍｇ、０．１
１ｍｍｏｌ）をジオキサン／メタノール（１：１）８ｍｌに溶かす。フラスコに
アルゴンを流し、Ｐｄ／Ｃ（１０％）（４０ｍｇ）を加える。反応懸濁液に水素
を流し、７時間撹拌する。反応懸濁液をセライトを通してろ過し、溶媒を蒸発さ
せると生成物が得られる。計算値４７５．６、実測値（ＭＨ）＋４７６．２。
【０２４１】 実施例２０
【０２４２】
【化３０】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−（４−メトキシ−ベンジル
オキシカルボニル−アミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン
−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの調製 反応は、アルゴン雰囲気中で光を排除して行う。１−（４−メトキシ−ベンゼ
ンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジ
カルボン酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（５５０ｍｇ、１．３４ｍｍｏｌ）を
乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）７ｍｌに溶かす。トリプロピルアミン（ＴＰ
Ａ）（２８０μｌ、１．４７ｍｍｏｌ）を加え、反応物を室温で３０分間撹拌す
る。ジフェニルホスホリルアジド（３１８μｌ、１．４７ｍｍｏｌ）を加え、反
応物を３時間で徐々に４０℃まで加熱する。次いで、反応温度を６時間で還流条
件まで上昇させる。反応混合物を室温まで冷却させ、４−メトキシベンジルアル
コール（１８４μｌ、１．４７ｍｍｏｌ）を加える。反応物を一夜加熱還流する
。溶媒を蒸発させる。ヘキサン／酢酸エチル（２：１）のフラッシュクロマトグ
ラフィにより、生成物が得られた。計算値３８３．５、実測値（ＭＨ）＋３８３
．０。
【０２４３】 実施例２１
【０２４４】
【化３１】 （２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−
２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イル）−カルバミン酸ベ
ンジルエステルの調製 ステップＡ。３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（４−メトキシベン
ゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カル
ボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル 反応は、アルゴン雰囲気中で行う。１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル
）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸２
−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３００ｍｇ、０．７３ｍｍｏｌ）をジオキサン（
乾燥）４ｍｌに溶かす。トリプロピルアミン（ＴＰＡ）（９８μｌ、０．７３ｍ
ｍｏｌ）を加え、反応物を室温で１５分間撹拌する。ジフェニルホスホリルアジ
ド（１５７μｌ、０．７３ｍｍｏｌ）を加え、反応物を３時間で徐々に６０℃ま
で加熱する。次いで、反応物を室温まで冷却させる。ベンジルアルコール（２３
５μｌ、２．２ｍｍｏｌ）を加え、反応溶液を一夜６０℃まで加熱する。反応溶
液を酢酸エチルで希釈し、２Ｍクエン酸および水で洗浄する。有機相を分離し、
ＭｇＳＯ４で乾燥し、ろ過する。溶媒を蒸発させ、残った油をヘキサン／酢酸エ
チル（２：１）でフラッシュクロマトグラフィにより精製する。計算値５１６．
６、実測値（ＭＨ）＋５１７。
【０２４５】 ステップＢ。３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（４−メトキシ−ベ
ンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カ
ルボン酸 ３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホ
ニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅ
ｒｔ−ブチルエステル（２８ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ）を、１−（４−メトキ
シ−ベンゼンスルホニル）−３−フェネチルカルバモイル−アゼパン−２−カル
ボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルと同一の方法で反応させると、遊離酸が得られ
る。計算値４６０．５１、実測値（ＭＨ）＋４６０．９。
【０２４６】 ステップＣ。（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシベンゼンス
ルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イル）−カ
ルバミン酸ベンジルエステル ３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホ
ニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸（２
１ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）を、乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶か
し、−２０℃まで冷却する。ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルヒドロキシルアミ
ン（７ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）、Ｈｕｎｉｇｓ塩基（９．８μｌ、０．０５ｍ
ｍｏｌ）および（Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３
，３−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＨＡＴＵ）（１８ｍｇ
、０．０５ｍｍｏｌ）を加える。反応溶液を１時間撹拌し、次いで室温まで温め
る。溶媒を蒸発させる。残渣をジクロロメタン／メタノール（９：１）のフラッ
シュクロマトグラフィにより精製すると、所望のヒドロキシアミドが得られる。
計算値４７６．５、実測値（ＭＨ）＋４７６。
【０２４７】 実施例２２
【０２４８】
【化３２】 ３−（３，３−ジベンジルウレイド）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニ
ル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸の調製 ステップＡ。３−（３，３−ジベンジルウレイド）−１−（４−メトキシベン
ゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カル
ボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル 反応は、アルゴンブランケット中で行う。１−（４−メトキシ−ベンゼンスル
ホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボ
ン酸２−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２０４ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を乾燥ジオ
キサン１０ｍｌに溶かす。トリプロピルアミン（９４μｌ、０．５ｍｍｏｌ）、
次いでジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）を加える。反応物を５時間で７
５℃まで加熱する。室温まで冷却させた後、ジベンジルアミン（１９０．６μｌ
、１ｍｍｏｌ）を注射器で加える。反応物を７０℃まで加熱し、一夜撹拌する。
溶媒を蒸発させ、ヘキサン／酢酸エチル（１：１）のフラッシュクロマトグラフ
ィにより生成物が得られた。計算値６０６．８、実測値（ＭＨ）＋６０６．２。
【０２４９】 ステップＢ。３−（３，３−ジベンジルウレイド）−１−（４−メトキシ−ベ
ンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カ
ルボン酸 ３−（３，３−ジベンジルウレイド）−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホ
ニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅ
ｒｔ−ブチルエステル（２００ｍｇ、０．３３ｍＭｏｌ）を、１−（４−メトキ
シベンゼンスルホニル）−３−フェネチルカルバモイル−アゼパン−２−カルボ
ン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルと同一の方法で反応させ、ジクロロメタン／メタ
ノール（９：１）のフラッシュクロマトグラフィにより精製すると、遊離酸が得
られる。計算値５５０．６、実測値（ＭＨ）＋＝５５０。
【０２５０】 実施例２３
【０２５１】
【化３３】 ３−アミノ−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−
テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの調
製 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−（４−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−アミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−
２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３７０ｍｇ、０．７１ｍＭｏｌ）を
、３％トリフルオロ酢酸を含むジクロロメタン（１５ｍｌ）に溶かす。反応物を
室温で１時間撹拌する。溶媒を蒸発させ、残った油をトルエンから２回共沸させ
る。ジクロロメタン／メタノール（７：１）のフラッシュクロマトグラフィによ
り、遊離塩基が得られる。計算値５４６．６、実測値（ＭＨ）＋５４７。
【０２５２】 実施例２４
【０２５３】
【化３４】 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−（フェニルメタンスルホニ
ルアミノ）２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸の
調製 ステップＡ。１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−（フェニルメ
タンスルホニルアミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２
−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル ３−アミノ−１−１（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，４，７
−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（
３８ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタン３ｍｌに溶かす。Ｈｕｎｉｇ
ｓ塩基（４２μｌ、０．２４ｍｍｏｌ）と、次いで塩化アルファ−トルエンスル
ホニル（２８．４ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を加える。反応混合物を室温で４時
間撹拌する。溶媒を蒸発させ、残った油をヘキサン／酢酸エチル（２：１）のフ
ラッシュクロマトグラフィにより精製する。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３４００Ｍ
Ｈｚ）、ｐｐｍ：７．７５（ｄ、２Ｈ）、７．５０（ｍ、２Ｈ）、７．４（ｍ、
３Ｈ）、６．９９（ｄ、２Ｈ）、５．７０（ｍ、２Ｈ）、４．８５（ｄ、１Ｈ）
、４．５６（ｄ、１Ｈ）、４．３５（ｄｄ、２Ｈ）、４．２２（ｄｄ、１Ｈ）、
４．０２（ｍ、１Ｈ）、３．９０（ｍ、３Ｈ）、３．８３（ｍ、１Ｈ）、２．５
０（ｍ、１Ｈ）、２．３０（ｍ、１Ｈ）、１．３０（ｓ、９Ｈ）。
【０２５４】 ステップＢ。１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−（フェニルメ
タンスルホニルアミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２
−カルボン酸 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−（フェニルメタンスルホニ
ルアミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸
ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２９ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ）を、１−（４−メ
トキシベンゼンスルホニル）−３−フェネチルカルバモイル−アゼパン−２−カ
ルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルと同一の方法で反応させる。計算値４７９．
５、実測値（Ｍ−Ｈ）＋４７８．６。計算値４９８．６、実測値（ＭＮＨ４）＋ ４９８．１。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ、４００ＭＨｚ）、ｐｐｍ：７．８５（ｄ
、２Ｈ）、７．３８（ｍ、５Ｈ）、７．０１（ｄ、２Ｈ）、５．５（ｍ、２Ｈ）
、４．４５（ｄ、２Ｈ）、４．３０（ｄ、２Ｈ）、４．１５（ｍ、２Ｈ）、４．
００（ｍ、１Ｈ）、３．９０（ｄｄ、１Ｈ）、３．８３（ｓ、３Ｈ）、２．１８
（ｍ、２Ｈ）。
【０２５５】 実施例２５
【０２５６】
【化３５】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−３−（３−フェニルプロピオニル
アミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸の
調製 ステップＡ。１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−３−（３−フェニル
プロピオニルアミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−
カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル ３−アミノ−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テ
トラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３１
ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン４ｍｌに溶解し、０℃に冷却する。
Ｈｕｎｉｇｓ塩基（３４μｌ、０．１２ｍｍｏｌ）を添加し、その後、塩化ヒド
ロシンナミル（１８μｌ、０．１２ｍｍｏｌ）を添加する。反応物を０℃で１時
間撹拌し、次いで室温に温める。溶媒を蒸発させ、残った油をジクロロメタン／
メタノール（９：１）のフラッシュクロマトグラフィにより精製し、生成物が得
られた。計算値５１３．６、実測値（ＭＨ）＋＝５１４．９。
【０２５７】 ステップＢ。１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−３−（３−フェニル
プロピオニルアミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−
カルボン酸 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−３−（３−フェニルプロピオニル
アミノ）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔ
ｅｒｔ−ブチルエステル（２２ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）を、１−（４−メトキ
シベンゼンスルホニル）−３−フェネチルカルバモイル−アゼパン−２−カルボ
ン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルと同様に反応させ、ジクロロメタン／メタノール
（９：１）のフラッシュクロマトグラフィにより精製し、酸が得られた。計算値
４５７．５、実測値（Ｍ−Ｈ）＋４５６．６；１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ、４００
ＭＨｚ）、ｐｐｍ：７．７８（ｄ，２Ｈ）、７．２８（ｍ，２Ｈ）、７．２０（
ｍ，３Ｈ）、７．０１（ｄ，２Ｈ）、５．６（ｍ，１Ｈ）、５．５（ｍ，１Ｈ）
、４．３（ｍ，３Ｈ）、４．０（ｍ，１Ｈ）、３．８２（ｓ，３Ｈ）、２．８（
ｔ，２Ｈ）、２．３５（ｍ，２Ｈ）、２．０５（ｍ，２Ｈ）。
【０２５８】 実施例２６
【０２５９】
【化３６】 ３−（３−ベンジルウレイド）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−
２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸の調製 ステップＡ。３−（３−ベンジルウレイド）−１−（４−メトキシベンゼンス
ルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸
ｔｅｒｔ−ブチルエステル ３−アミノ−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テ
トラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（３３
ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ）を、乾性ジオキサン３ｍｌに溶解する。ベンジルイソ
シアネート（１０．６μｌ、０．０８６ｍｍｏｌ）を添加し、反応物を室温で１
時間撹拌する。溶媒を蒸発させ、ジクロロメタン／メタノール（７：１）のフラ
ッシュクロマトグラフィを行い、生成物が得られた。計算値５１５．６、実測値
（ＭＨ）＋５１５．９。
【０２６０】 ステップＢ。３−（３−ベンジルウレイド）−１−（４−メトキシベンゼンス
ルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸 ３−（３−ベンジルウレイド）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−
２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブ
チルエステル（２５ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を、１−（４−メトキシベンゼン
スルホニル）−３−フェネチルカルバモイル−アゼパン−２−カルボン酸ｔｅｒ
ｔ−ブチルエステルと同様に反応させ、ジクロロメタン／メタノール（９：１）
のフラッシュクロマトグラフィにより精製する。計算値４５８．５、実測値（Ｍ
−Ｈ）＋４５８．２；１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ、４００ＭＨｚ）、ｐｐｍ：７．
７９（ｄ，２Ｈ）、７．３０（ｍ，２Ｈ）、７．２０（ｍ，３Ｈ）、７．０２（
ｄ，２Ｈ）、５．６０（ｍ，１Ｈ）、５．５０（ｍ，１Ｈ）、４．３（ｍ，３Ｈ
）、４．００（ｍ，１Ｈ）、３．９３（ｍ，３Ｈ）、２．８１（ｔ，２Ｈ）、２
．３５（ｍ，２Ｈ）、２．０５（ｍ，２Ｈ）。
【０２６１】 実施例２７
【０２６２】
【化３７】 ３−（ヒドロキシフェニルメチル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル
）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸の調
製 ステップＡ。１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テ
トラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸３−ベンジルエステル １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−
１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸３−ベンジルエステル２−ｔｅｒｔ−ブ
チルエステル（１．６ｇ、３．２ｍｍｏｌ）を無水塩化メチレン（１６ｍＬ）に
溶解し、トリフルオロ酢酸（４ｍＬ）で処理した。溶液を周囲温度で３時間撹拌
し、次いで溶媒を真空中で除去した。残渣をトルエンと共に２回蒸発させ、次い
でカラムクロマトグラフィ（シリカ）により精製し、１−（４−メトキシベンゼ
ンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２，３−ジ
カルボン酸３−ベンジルエステルを得た。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋ ４４６。
【０２６３】 ステップＢ。２−ベンズヒドリロキシカルバモイル−１−（４−メトキシベン
ゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−カル
ボン酸ベンジルエステル １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−
１Ｈ−アゼピン−２，３−ジカルボン酸３−ベンジルエステル（４１７ｍｇ、０
．９４ｍｍｏＬ）を無水ＤＭＦ（５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。次いでこ
の溶液を、ジフェニルヒドロキシルアミン（２６５ｍｇ、１．１２ｍｍｏＬ）と
ＨＡＴＵ（３９１ｍｇ、１．０ｍｍｏＬ）で処理した。反応混合物を０℃で１時
間撹拌し、次いで２５℃で一晩撹拌した。次いでこの混合物を真空中で濃縮し、
カラムクロマトグラフィ（シリカ、ジエチルエーテルの４０％へキサン溶液）に
より精製して、２−ベンズヒドリロキシカルバモイル−１−（４−メトキシベン
ゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−カル
ボン酸ベンジルエステルを得た。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋ ６２７。
【０２６４】 ステップＣ。７−ベンズヒドリロキシ−１−（４−メトキシベンゼンスルホニ
ル）−２，５，５ａ，８ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−ピロロ［３，４−ｂ］アゼピ
ン−６，８−ジオン ２−ベンズヒドリロキシカルバモイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニ
ル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−カルボン酸ベンジ
ルエステル（４３０ｍｇ、０．６９ｍｍｏＬ）をＴＨＦ：Ｈ２Ｏ（１：１、１０
ｍＬ）混合物中に溶解し、次いでＬｉＯＨ（３５ｍｇ、０．８２ｍｍｏＬ）で処
理した。この溶液を、周囲温度で一晩撹拌した。ＴＨＦを真空中で除去し、得ら
れた混合物を、２Ｍの水性クエン酸で酸性にした。生成物をジエチルエーテル中
に抽出し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラ
フィ（シリカ、メタノールの１０％クロロホルム溶液）により精製して、７−ベ
ンズヒドリロキシ−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，５，５ａ，
８ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−ピロロ［３，４−ｂ］アゼピン−６，８−ジオンを
得た。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋ ５１９。
【０２６５】 ステップＤ。３−ベンゾイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ベンズヒドリロ
キシアミド ７−ベンズヒドリロキシ−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，５
，５ａ，８ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−ピロロ［３，４−ｂ］アゼピン−６，８−
ジオン（１００ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２ｍＬ）中に溶解し、−７
８℃に冷却した。この溶液を、臭化フェニルマグネシウムの３Ｍジエチルエーテ
ル溶液で１滴ずつ処理し、次いで周囲温度に温めた。反応混合物をさらに室温で
２．５時間撹拌し、０℃に冷却し、飽和水性ＮＨ４Ｃｌ（２ｍＬ）でクエンチし
た。次いでこの混合物をＨ２Ｏとジエチルエーテルで希釈し、層を分離した。有
機相をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濃縮した。残渣をフラッシ
ュクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチルの５から１０％トルエン溶液）により
精製して、３−ベンゾイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３
，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ベンズヒドリロキシ
アミドを得た。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋ ５９６．９、（Ｍ＋ＮＨ４）＋ ６１４．
２。
【０２６６】 ステップＥ。３−（ヒドロキシフェニルメチル）−１−（４−メトキシベンゼ
ンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボ
ン酸ベンズヒドリロキシアミド ３−ベンゾイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３，４，７
−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ベンズヒドリロキシアミド（
３２ｍｇ、０．０５４ｍｍｏＬ）をメタノール：ジクロロメタン（３：１、１．
３ｍＬ）混合物中に溶解し、０℃に冷却した。この溶液を水素化ホウ素ナトリウ
ムで処理し、０から２５℃で５時間撹拌した。溶液を真空中で除去し、残渣をジ
クロロメタンで戻した。この溶液を１Ｍ水性ＨＣｌとＨ２Ｏで洗浄し、乾燥し（
Ｎａ２ＳＯ４）、濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィ（シリカ、メタ
ノールの１．２５％ジクロロメタン溶液）により精製し、３−（ヒドロキシフェ
ニルメチル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テ
トラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ベンズヒドリロキシアミドを得た
。ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）＋ ５９８．８、（Ｍ＋ＮＨ４）＋ ６１５．７。
【０２６７】 ステップＦ。３−（ヒドロキシフェニルメチル）−１−（４−メトキシベンゼ
ンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボ
ン酸ヒドロキシアミド ３−（ヒドロキシフェニルメチル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル
）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ベンズヒ
ドリロキシアミド（５ｍｇ、０．００８ｍｍｏＬ）のジクロロメタン溶液（１ｍ
Ｌ）を０℃に冷却した。この溶液をトリフルオロ酢酸（０．１ｍＬ）で処理し、
その後、トリエチルシランの０．３１Ｍジクロロメタン溶液（０．０２６ｍＬ）
で処理した。反応混合物を、３５分にわたって０℃から２５℃まで温め、次いで
溶媒を真空中で除去し、残渣をトルエンと共に蒸発させた。残渣をフラッシュク
ロマトグラフィ（シリカ、メタノールの５から１０％ジクロロメタン溶液）によ
り精製して、白色固体の３−（ヒドロキシフェニルメチル）−１−（４−メトキ
シベンゼンスルホニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２
−カルボン酸ヒドロキシアミドを得た。ＭＳ：（Ｍ−Ｈ）− ４３０．９。
【０２６８】 実施例２８ 上記実施例１〜２７の手順を使用して、以下の化合物も調製した。
【０２６９】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキスアミド）３−（フェンメチルアミド）：計算値４６０．５４、
実測値（ＭＨ）＋＝４６１；。
【０２７０】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキスアミド）３−（フェンプロピルアミド）：計算値４８８．５９
、実測値（ＭＨ）＋＝４８９；。
【０２７１】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキスアミド）３−（４−フェノキシ−２−エチルアミド）：計算値
４９１．５７、実測値（ＭＨ）＋＝４９２；。
【０２７２】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキスアミド）３−（チオピペリジンアミド）：計算値４５７．６、
実測値（ＭＨ）＋＝４５８；。
【０２７３】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキスアミド）３−（フェニルメチルスルファニルエチルアミド）：
計算値５２０．６６、実測値（ＭＨ）＋＝５２１；。
【０２７４】 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキスアミド）３−（４−フェノキシフェネチルアミド）：計算値５
６６．６、実測値（ＭＨ）＋＝５６７；。
【０２７５】 シス−３−（４−フェニルベンジル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニ
ル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸：計算値４９４．６、実測値（ＭＨ）＋＝
４９５；。
【０２７６】 トランス−３−（４−フェニルベンジル）−１−（４−メトキシベンゼンスル
ホニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸：計算値４９４．６、実測値（ＭＨ） ＋ ＝４９５；。
【０２７７】 トランス−３−メチル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−ヒドロキサム酸：計算値３４２．４、実測値（ＭＨ）＋＝３４３。
【０２７８】 実施例２９ 上記実施例１〜２７の手順を使用して、以下の化合物を調製することができる
。
【０２７９】
【化３８】
【０２８０】 実施例３０ 上記全般的な説明および上記実施例の手順を使用して、表Ｉ〜ＶＩの化合物を
調製することができる。
【０２８１】
【表１】
【０２８２】
【表２】
【０２８３】
【表３】
【０２８４】
【表４】
【０２８５】
【表５】
【０２８６】
【表６】
【０２８７】
【表７】
【０２８８】
【表８】
【０２８９】
【表９】
【０２９０】
【表１０】
【０２９１】
【表１１】
【０２９２】
【表１２】
【０２９３】
【表１３】
【０２９４】
【表１４】
【０２９５】
【表１５】
【０２９６】
【表１６】
【０２９７】
【表１７】
【０２９８】
【表１８】
【０２９９】 実施例３１ 下記のアッセイは、本発明の化合物の、ＬＰＳ刺激後の単球によるＴＮＦ−α
産生を阻害する能力を特徴付けるために用いるインビトロアッセイ、ヒト単球Ｔ
ＮＦコンバターゼアッセイ、ヒト好中球コラゲナーゼアッセイ、およびヒト線維
芽細胞ストロメリシンアッセイである。
【０３００】 リポ多糖活性化単球ＴＮＦ産生アッセイ 単球の単離 試験化合物を、細菌リポ多糖（ＬＰＳ）によって活性化された単球による腫瘍
壊死因子（ＴＮＦ）産生を阻害する能力についてインビトロで評価した。新鮮残
存白血球原料（血小板フェレーシスの副生成物）を、地域の血液バンクから得、
末梢血単核細胞（ＰＢＭＣ）をＦｉｃｏｌ−Ｐａｑｕｅ Ｐｌｕｓ（Ｐｈａｒｍ
ａｃｉａ）を用いた密度勾配遠心分離法によって単離した。ＰＢＭＣを、２％Ｆ
ＣＳ（１０ｍＭ）、０．３ｍｇ／ｍｌのグルタミン酸塩、１００Ｕ／ｍｌのペニ
シリンＧおよび１００ｍｇ／ｍｌの硫酸ストレプトマイシンを含む補足ＤＭＥＭ
（完全培地）中、２×１０６／ｍｌで懸濁した。細胞をＦａｌｃｏｎ平底９６穴
培養プレートに播種し（２００μｌ／ウェル）、３７℃、６％ＣＯ２で終夜培養
した。非付着性の細胞を新鮮培地２００μｌ／ウェルで洗浄することによって除
去した。付着細胞を含むウェル（単球約７０％）に新鮮培地１００μｌを補充し
た。
【０３０１】 試験化合物保存溶液の調製 試験化合物をＤＭＳに溶解した。化合物の保存溶液を初期濃度１０〜５０μＭ
に調製した。保存溶液をまず完全培地で２０〜２００μＭに希釈した。次いで完
全培地により各化合物の９段階の２倍希釈液を調製した。
【０３０２】 試験化合物による細胞の処理とリポ多糖によるＴＮＦ産生の活性化 各試験化合物の希釈液１００μｌを、付着単球と完全培地１００μｌを含むマ
イクロタイターウェルに加えた。単球を試験化合物と共に６０分間培養し、その
時点で３０ｎｇ／ｍｌの大腸菌Ｋ５３２由来リポ多糖を含む完全培地２５μｌを
各ウェルに加えた。細胞をさらに４時間培養した。次いで培養上清を除去し、上
清中のＴＮＦをＥＬＩＳＡを用いて定量した。
【０３０３】 ＴＮＦのＥＬＩＳＡ 平底９６穴Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｈｉｇｈ Ｂｉｎｄｉｎｇ ＥＬＩＳＡプレート
を、３μｇ／ｍｌのネズミ抗ヒトＴＮＦａ ＭＡｂ（Ｒ＆Ｄ Ｓｙｓｔｅｍｓ
＃ＭＡＢ２１０）１５０μＬ／ウェルで終夜（４℃）コーティングした。次いで
ウェルを、２０ｍｇ／ｍｌのＢＳＡを含む補足ＣａＣｌ２不含ＥＬＩＳＡ緩衝液
（標準ＥＬＩＳＡ緩衝液：２０ｍＭ、１５０ｍＭのＮａＣｌ、２ｍＭのＣａＣｌ ２ 、０．１５ｍＭチメロサール、ｐＨ７．４）２００μＬ／ウェルを用いて室温
で１時間ブロックした。プレートを洗浄し、１００μｌの試験上清（１：３に希
釈）または標準溶液を補充した。標準溶液は、１ｎｇ／ｍｌの組換えヒトＴＮＦ
（Ｒ＆Ｄ Ｓｙｓｔｅｍｓ）保存溶液の１１段階の１．５倍希釈液で構成されて
いた。プレートを環状振盪機（３００ｒｐｍ）上、室温で１時間インキュベート
し、４：１の比でビオチン化した０．５μｇ／ｍｌのヤギ抗ヒトＴＮＦａ（Ｒ＆
Ｄ ｓｙｓｔｅｍｓ ＃ＡＢ−２１０−ＮＡ）１００μｌ／ウェルで洗浄し、こ
れを補充した。プレートを４０分間インキュベートし、０．０２μｇ／ｍｌのア
ルカリ性ホスファターゼ結合ストレプトアビジン（Ｊａｃｋｓｏｎ Ｉｍｍｕｎ
ｏＲｅｓｅａｒｃｈ ＃０１６−０５０−０８４）１００μｌ／ウェルで洗浄し
、これを補充した。プレートを３０分間インキュベートし、１ｍｇ／ｍｌのリン
酸ｐ−ニトロフェニル２００μｌ／ウェルで洗浄し、これを補充した。３０分後
、プレートをＶｍａｘプレート読みとり器上、４０５ｎｍで測定した。
【０３０４】 データ分析 標準曲線データを２次多項式に合わせ、ＯＤからこの式を濃度について解くこ
とにより未知のＴＮＦａ濃度を求めた。次いで、２次多項式を用いてＴＮＦ濃度
を試験化合物濃度に対してプロットした。次いで、この式を用いてＴＮＦ産生の
５０％低下を引き起こす試験化合物濃度を計算した。
【０３０５】 ヒト単球ＴＮＦコンバターゼアッセイ ＴＮＦコンバターゼ活性は、ジニトロフェニル（ＤＮＰ）標識したペプチド基
質のアミノ酸ＡｌａとＶａｌとの間の加水分解による切断によって示される。反
応に用いるＴＮＦコンバターゼの純度に応じて、不適当に切断されたＤＮＰ−ペ
プチドの加水分解も可能である。ヒト単球ＴＮＦコンバターゼ活性は、ＤＮＰ−
標識ペプチド基質（１）ＤＮＰ−ＳＰＬＡＱＡＶＲＳＳＳＲ−ＣＯＮＨ２、なら
びに切断ペプチド：（２）ＤＮＰ−ＳＰＬＡＱ−ＣＯＯＨ（ＧｌｎとＡｌａとの
間で不適当に切断）、（３）ＤＮＰ−ＳＰＬＡＱＡ−ＣＯＯＨ（正しく切断）、
および（４）ＤＮＰ−ＳＰＬＡＱＡＶ−ＣＯＯＨ（ＶａｌとＡｒｇとの間で不適
当に切断）を用いることによって求める。
【０３０６】 全長および切断されたＤＮＰ−ペプチドを、逆相ＨＰＬＣを用い、３５０ｎＭ
（ジニトロフェニルが吸収する波長）でモニターして分離し、定量する。反応中
のＴＮＦコンバターゼの阻害物質を、ペプチド３のピーク高さ減少およびペプチ
ド１のピーク高さ増加によって検出する。阻害は、阻害物質を含まないサンプル
（対照条件）のペプチド３のピーク高さと阻害物質を含むサンプルのペプチドｎ
ｏ．３のピーク高さとを比較することによって、対照のパーセントとして計算す
る。
【０３０７】 一般に、ＤＭＳＯ中２ｍＭの化合物をまず４０ｍＭ Ｔｒｉｓ、ｐＨ７．５で
１：１１．８に希釈する。さらに最終反応混合物中で１：１７の化合物の希釈が
起こる。この反応混合物は２．５μＬの希釈化合物、２０μＬのペプチド１，お
よび２０μＬのＴＮＦコンバターゼを含む。これにより、最終反応容積中の化合
物濃度は１０μＭ、０．５％ＤＭＳＯとなる。化合物を初めに１０ｕＭでスクリ
ーニングし、選択された化合物をさらにアッセイしてＩＣ５０を求める。
【０３０８】 ヒト好中球コラゲナーゼアッセイ ヒト好中球コラゲナーゼ（ＨＮＣ）活性を、蛍光発生ペプチド基質Ｄｎｐ−Ｐ
ｒｏ−ｂ−シクロヘキシル−Ａｌａ−Ｇｌｙ−Ｃｙｓ（Ｍｅ）−Ｈｉｓ−Ａｌａ
−Ｌｙｓ−（Ｎ−メチルアントラニル酸）−ＮＨ２を用いて求める。Ｎ−末端Ｄ
ｎｐ基およびＣ−末端Ｎ−メチル−アントラニリル部分（Ｎｍａ）は、ペプチド
がＧｌｙ−Ｃｙｓ（ｍｅ）結合で切断されるまでは蛍光自己消光する。切断生成
物からの蛍光をＢｉｏ−Ｔｅｋ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＦＬ５００蛍光マイク
ロプレート読みとり器（励起３６０ｎｍ、発光４６０ｎｍ）上で測定する。アッ
セイを９６穴プレートで実施し（２回）、基質のＫｍ＝５１ｎＭ、アクチノニン
のＫｉ＝７２２ｎＭが求められている。試験化合物（１００、３３および１０ｍ
Ｍ）の基質に対するＨＮＣ活性阻害をアクチノニンの活性に対して比較し、選択
された化合物についてＫｉを求めた。
【０３０９】 ヒト線維芽細胞ストロメリシンアッセイ ヒト線維芽細胞ストロメリシン（ＨＦＳ）活性を、蛍光発生ペプチド基質Ｄｎ
ｐ−Ｐｒｏ−ｂ−シクロヘキシル−Ａｌａ−Ｇｌｙ−Ｃｙｓ（Ｍｅ）−Ｈｉｓ−
Ａｌａ−Ｌｙｓ−（Ｎ−メチルアントラニル酸）−ＮＨ２を用いて求める。Ｎ−
末端Ｄｎｐ基およびＣ−末端Ｎ−メチル−アントラニリル部分（Ｎｍａ）は、ペ
プチドがＧｌｙ−Ｃｙｓ（ｍｅ）結合で切断されるまでは蛍光自己消光する。切
断生成物からの蛍光をＢｉｏ−Ｔｅｋ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＦＬ５００蛍光
マイクロプレート読みとり器（励起３６０ｎｍ、発光４６０ｎｍ）上で測定する
。アッセイを９６穴プレートで実施し（２回）、基質のＫｍ＝５１ｎＭ、アクチ
ノニン（酵素活性阻害物、Ｓｉｇｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ、ミズーリ州セントル
イス、Ａ６６７１）のＫｉ＝７２２ｎＭが標準対照として求められている。試験
化合物（１００、３３および１０ｍＭ）の基質に対するＨＦＳ活性阻害をアクチ
ノニンの活性に対して比較し、選択された化合物についてＫｉを求めた。
【０３１０】 マウスにおけるＬＰＳによるＴＮＦ−α産生阻害 オスＤＢＡ／１ＬＡＣＪマウスに、ベヒクルまたはベヒクル中の試験化合物（
賦形剤は０．０３Ｎ ＨＣｌ中０．５％トラガカントで構成されている）を投与
した後、リポ多糖（２ｍｇ／ｋｇ、Ｉ．Ｖ．）を注射した。ＬＰＳ注射の９０分
後、血液を採取し、血清のＴＮＦレベルをＥＬＩＳＡにより分析した。
【０３１１】 下記の化合物が、ＩＣ５０が１０μＭ未満のＴＮＦコンバターゼ、ＨＮＣおよ
び／またはＨＦＳ阻害活性を有していた。 シス−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２
−ヒドロキサム酸、 トランス−３−ベンジル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−ヒドロキサム酸、 トランス−３−フェニル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−ヒドロキサム酸、 １−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−
アゼパン−３−イルメチルエステル、 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン
−２−カルボン酸ヒドロキサミド、 ３−ベンジロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパ
ン−２−カルボン酸ヒドロキシアミド、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル
−アゼパン−２−カルボン酸ヒドロキシアミド、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−スチリル−アゼパン−２−カ
ルボン酸ヒドロキシアミド、 ３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル
）−アゼパン−３−イル）−アクリル酸、 酢酸２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）
−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イルメチルエステル、 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３，
４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシアミド、 ３−ベンジロキシメチル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２，３
，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシアミド、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル
−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシ
アミド、 ３−ベンゾフラン−２−イル−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−カルボン酸ヒドロキシアミ
ド、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキサミド）３−（フェンメチルアミド）、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキサミド）３−（フェネチルアミド）、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキサミド）３−（フェンプロピルアミド）、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキサミド）３−（４−フェノキシ−２−エチルアミド）、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキサミド）３−（フェニルメチルスルファニルエチルアミド）、 １−（４−メトキシ−ベンゼンスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸
２−（ヒドロキサミド）３−（４−フェノキシフェネチルアミド）、 シス−３−（４−フェニルベンジル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル
）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 トランス−３−（４−フェニルベンジル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホ
ニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 トランス−３−メチル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−アゼパン−
２−ヒドロキサム酸、 （２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシベンゼンスルホニル）−２
，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イル）−カルバミン酸ベン
ジルエステル、および ３−（ヒドロキシ−フェニル−メチル）−１−（４−メトキシ−ベンゼンスルホ
ニル）−２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸
。
【０３１２】 本発明から選択された化合物は、ＬＰＳマウスモデルにおいてインビボ活性を
示し、本発明の化合物存在下でＴＮＦ−α血清レベルが低下した。本発明からの
化合物が、アジュバント関節炎モデルで抗炎症活性を有することを示すことがで
きる。
【０３１３】 治療法 本発明の化合物はすべて、ＴＮＦ−α仲介性の疾病状態の予防および治療に有
用である。これらの化合物はまた、ＨＮＣおよび／またはＨＦＳが役割を果たす
疾病状態の予防および治療にも有用である。好ましくは、本発明の化合物は、慢
性関節リウマチ、変形性関節症、リウマチ様脊椎炎、痛風性関節炎、炎症性腸疾
患、成人呼吸障害症候群（ＡＲＤＳ）、乾癬、クローン病、アレルギー性鼻炎、
潰瘍性結腸炎、アナフィラキシー、接触性皮膚炎、喘息、ＨＩＶ−１、ＨＩＶ−
２、ＨＩＶ−３、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、インフルエンザ、アデノウ
イルス、ならびにＨＳＶ−１、ＨＳＶ−２、および帯状ヘルペスウイルスを含む
ヘルペスウイルスなどのＴＮＦ−α阻害に感受性のウイルスを含む抗ウイルス療
法、筋変性、悪液質、ライター症候群、ＩＩ型糖尿病、骨吸収疾患、移植片対宿
主疾患、虚血再灌流傷害、脳外傷、アテローム性動脈硬化症、アルツハイマー病
、多発性硬化症、大脳マラリア、敗血症、敗血症性ショック、毒素ショック症候
群、感染症が原因の発熱および筋肉痛の予防および治療に有用である。
【０３１４】 本発明は、ＴＮＦ−ａ、ＨＮＣおよび／またはＨＦＳレベルが上昇している疾
病状態の治療法であって、本発明の化合物の有効量を投与することを含む治療法
を提供する。本発明の化合物は、哺乳動物細胞により上昇した、または調節され
ていないＴＮＦ−ａ、ＨＮＣおよび／またはＨＦＳによって増悪または仲介され
る、ヒトまたは他の哺乳動物におけるいかなる疾病状態の予防および短期または
長期治療にも有用である。さらに好ましくは、本発明は、必要に応じて哺乳動物
のＴＮＦ−αレベルを低下させる方法であって、本発明またはその医薬品組成物
の有効量を投与することを含む方法に関する。加えて、本発明は、必要に応じて
哺乳動物のＨＮＣおよび／またはＨＦＳ活性レベルを低下させ方法であって、本
発明またはその医薬品組成物の有効量を投与することを含む方法に関する。
【０３１５】 本発明の化合物またはその医薬品組成物は、慢性関節リウマチ、変形性関節症
、リウマチ様脊椎炎、痛風性関節炎、炎症性腸疾患、成人呼吸障害症候群（ＡＲ
ＤＳ）、乾癬、クローン病、アレルギー性鼻炎、潰瘍性結腸炎、アナフィラキシ
ー、接触性皮膚炎、喘息、ＨＩＶ−１、ＨＩＶ−２、ＨＩＶ−３、サイトメガロ
ウイルス（ＣＭＶ）、インフルエンザ、アデノウイルス、ならびにＨＳＶ−１、
ＨＳＶ−２、および帯状ヘルペスウイルスを含むヘルペスウイルスなどのＴＮＦ
−α阻害に感受性のウイルスを含む抗ウイルス療法、筋変性、悪液質、ライター
症候群、ＩＩ型糖尿病、骨吸収疾患、移植片対宿主疾患、虚血再灌流傷害、アテ
ローム性動脈硬化症、脳外傷、アルツハイマー病、多発性硬化症、大脳マラリア
、敗血症、敗血症性ショック、毒素ショック症候群、感染症が原因の発熱および
筋肉痛を含むいくつかの疾病状態の治療または予防に有用である。
【０３１６】 医薬品組成物 本発明はさらに、ＴＮＦ−α仲介性の疾病状態の予防および短期的または長期
的治療のための医薬品の製造における、本発明の化合物の使用に関する。加えて
、本発明の化合物は、ＨＮＣおよび／またはＨＦＳが役割を果たす疾病状態を治
療するための医薬品の製造に有用である。
【０３１７】 本発明はまた、本発明の化合物および薬剤として許容される担体、ならびに望
まれる場合には他の活性成分を含む医薬品組成物にも関する。本発明の化合物は
、いかなる適当な経路によっても投与されるが、そのような経路に適合した医薬
品組成物の形で、かつ企図された治療のために有効な用量で投与されることが好
ましい。本発明の化合物が悪化を阻止するため、または疾病に関連する組織損傷
を防止するために必要とされる、治療上有効な用量は、当業者には容易に確認さ
れる。
【０３１８】 疾病状態の予防および治療のために、本発明の化合物は、通常の薬剤として許
容される担体、補助薬および賦形剤を含む投与単位製剤で、経口、非経口、もし
くは吸入スプレーにより、直腸内、または局所的に投与することができる。本明
細書で用いる非経口という用語には、皮下、静脈内、筋肉内、胸骨内、注入技術
または腹腔内が含まれる。
【０３１９】 担体物質と組み合わせることによって単一の剤形を作ることができる活性成分
の量は、治療される宿主および特定の投与様式に応じて異なることになる。
【０３２０】 本発明の化合物および／または本発明の組成物を用いた、疾病状態を治療する
ための投与計画は、患者の疾病のタイプ、年齢、体重、性別および医学的状態、
状態の重症度、投与経路、用いる特定の化合物の活性、有効性、薬物動態および
毒物学的性質などの薬理学的考察、薬物送達システムを利用するかどうか、およ
び化合物を複合製剤の一部として投与するかどうかを含む、様々な要因に基づい
ている。したがって、投与計画は大きく異なることがある。１日に体重１ｋｇあ
たり約０．０１ｍｇ〜８０ｍｇ程度の用量が本明細書で開示されたすべての使用
法に対して有用であり、約０．５ｍｇ〜３０ｍｇ／ｋｇ程度が好ましく、約１ｍ
ｇ〜１５ｍｇ／ｋｇ程度がより好ましい。薬剤として活性のある本発明の化合物
を、通常の薬学的方法に従って処理し、患者、ヒトを含む哺乳動物に投与するた
めの薬物を生産することができる。
【０３２１】 経口投与のために、医薬品組成物は、例えば、カプセル剤、錠剤、懸濁剤、ま
たは液剤の形であってもよい。医薬品組成物は、所定の量の活性成分を含む投与
単位の剤形に作ることが好ましい。例えば、これらは約１〜２５０ｍｇの量の活
性成分を含んでもよく、約２５〜１５０ｍｇの量が好ましい。ヒトまたは他の哺
乳動物に適した１日用量は、患者の状態やその他の要因に応じて大きく異なるこ
とがある。
【０３２２】 本発明の化合物はまた、食塩水、デキストロース、または水を含む適当な担体
との組成物として、注射によって投与することもできる。１日の非経口投与計画
は、全体重１ｋｇあたり約０．１〜約８０ｍｇで、約０．５〜約３０ｍｇ／ｋｇ
が好ましく、約１ｍｇ〜１５ｍｇ／ｋｇがより好ましい。
【０３２３】 注射用製剤、例えば、滅菌注射用水性または油性懸濁剤を、適当な分散剤また
は湿潤剤および懸濁化剤を用いて知られている技術に従って調合することができ
る。滅菌注射用製剤は、非毒性の非経口的に許容される希釈剤または溶媒の滅菌
注射用溶液または懸濁液、例えば、１，３−ブタンジオール溶液であってもよい
。許容される賦形剤および溶媒の中で、使用できるものは水、リンガー液、およ
び等張塩化ナトリウム溶液である。加えて、滅菌した固定油を、溶媒または懸濁
媒質として通常用いる。この目的のために、合成モノ−またはジグリセリドを含
むいかなる無菌の固定油も用いることができる。加えて、オレイン酸などの脂肪
酸も、注射剤の調製に用いられる。
【０３２４】 薬物の直腸内投与のための坐剤は、薬物を、常温では固体であるが直腸の温度
では液体で、したがって直腸内で溶解して薬物を放出することになる、カカオ脂
およびポリエチレングリコールなどの適当な非刺激性添加物と混合することによ
って調製することができる。
【０３２５】 本発明の化合物の適当な局所用量は、０．１ｍｇ〜１５０ｍｇを１日に１〜４
回、好ましくは２〜３回で投与するものである。局所投与のために、活性成分は
０．００１％〜１０％ｗ／ｗ、例えば製剤の１〜２重量％を含むことができ、１
０％ｗ／ｗまで含むことはできるが、５％ｗ／ｗ以下であることが好ましく、製
剤の０．１％〜１％がより好ましい。局所投与に適した製剤には、リニメント、
ローション、軟膏、クリーム、またはペーストなどの皮膚からの浸透に適した液
状または半流動性の製剤と眼、耳または鼻への投与に適した滴剤とが含まれる。
【０３２６】 投与のために、本発明の化合物は通常、指示された投与経路にとって適当な１
つまたは複数の補助薬と組み合わせる。化合物は、乳糖、ショ糖、デンプン散剤
、アルカン酸のセルロースエステル、ステアリン酸、タルク、ステアリン酸マグ
ネシウム、ナトリウム、酸化マグネシウム、リン酸および硫酸のナトリウムおよ
びカルシウム塩、アカシア、ゼラチン、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルピロ
リジン、ならびに／またはポリビニルアルコールと混合し、通常の投与のために
錠剤化またはカプセル化することもできる。あるいは、本発明の化合物を食塩水
、水、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、エタノール、トウモロ
コシ油、ラッカセイ油、綿実油、ゴマ油、ベンジルアルコール、および／または
様々な緩衝液に溶解することもできる。その他の補助薬および投与様式は薬学の
分野ではよく知られている。担体または希釈液は、モノステアリン酸グリセリン
またはジステアリン酸グリセリンなどの時間遅延物質単独もしくはろうと共に、
または当技術分野においてよく知られている他の物質を含みうる。
【０３２７】 医薬品組成物は、顆粒、粉末もしくは坐剤を含む固体の剤形、または溶液、懸
濁液、もしくは乳液などの液体の剤形に調合することができる。医薬品組成物は
、滅菌などの通常の薬学的操作にかけることもでき、かつ／または腐剤剤、安定
化剤、湿潤剤、乳化剤、緩衝剤などの通常の補助薬を含むこともできる。
【０３２８】 経口投与用の固体の剤形には、カプセル、錠剤、丸剤、粉末、および顆粒が含
まれうる。このような固体の剤形において、活性化合物は、ショ糖、乳糖または
デンプンなどの少なくとも１つの不活性希釈剤と混合することができる。このよ
うな剤形はまた、通常の慣例として、不活性希釈剤以外の追加の物質、例えばス
テアリン酸マグネシウムなどの潤滑剤を含むこともできる。カプセル、錠剤、お
よび丸剤の場合、剤形はまた緩衝剤も含むことができる。錠剤および丸剤はさら
に、腸溶コーティングで調製することもできる。
【０３２９】 経口投与用の液体の剤形には、水などの当技術分野において一般に用いられる
不活性希釈剤を含む、薬剤として許容される乳液、溶液、懸濁液、シロップ、お
よびエリキシルが含まれうる。このような組成物はまた、湿潤剤、乳化剤および
懸濁化剤などの補助薬、ならびに甘味料、香味料、および香料も含むことができ
る。
【０３３０】 本発明の化合物は、１つまたは複数の不斉炭素原子を有することができ、した
がって、光学異性体の形ならびにそのラセミまたは非ラセミ混合物の形で存在す
ることができる。光学異性体は、通常の方法、例えば光学活性な酸または塩基と
の処理によりジアステレオ異性体の塩を形成する方法に従ってのラセミ混合物の
分割によって得ることができる。適当な酸の例は、酒石酸、ジアセチル酒石酸、
ジベンゾイル酒石酸、ジトルオイル酒石酸、およびカンファースルホン酸で、次
いでジアステレオ異性体混合物の結晶化による分離に続き、これらの塩から光学
活性な塩基が遊離される。光学異性体の異なる分離法は、鏡像異性体の分離を最
大化するよう適当に選択したキラルなクロマトグラフィカラムの使用に関与する
。さらに別の利用可能な方法は、式Ｉの化合物を光学的に純粋な酸の活性化型ま
たは光学的に純粋なイソシアネートと反応させることによる、共有結合ジアステ
レオ異性体分子の合成に関与する。合成したジアステレオ異性体をクロマトグラ
フィ、蒸留、結晶化または昇華などの通常の手段によって分離し、次いで加水分
解して鏡像異性体として純粋な化合物を得ることができる。式Ｉの光学活性化合
物も同様に、光学活性な出発物質を用いることによって得ることができる。これ
らの異性体は遊離酸、遊離塩基、エステルまたは塩の形でもよい。
【０３３１】 本発明の化合物は、無機または有機酸から誘導した塩の形で用いることができ
る。これらの塩には下記のものが含まれるが、これらに限定されることはない。
すなわち、酢酸塩、アジピン酸塩、アルギン酸塩、クエン酸塩、アスパラギン酸
塩、安息香酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、重硫酸塩、酪酸塩、樟脳酸塩、カンフ
ァースルホン酸塩、ジグルコン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ドデシル
硫酸塩、エタンスルホン酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、ヘミ硫
酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、フマル酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ
化水素酸塩、２−ヒドロキシ−エタンスルホン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、メ
タンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、シュウ酸塩、
パルモエート、ペクチニン酸塩、過硫酸塩、３−フェニルプロピオン酸塩、ピク
リン酸塩、ピバル酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸
塩、トシル酸塩、メシレートおよびウンデカン酸塩である。また、塩基性の窒素
含有基も、塩化、臭化、およびヨウ化メチル、エチル、プロピル、およびブチル
などの低級ハロゲン化アルキル、硫酸ジメチル、ジエチル、ジブチル、およびジ
アミルのような硫酸ジアルキル、塩化、臭化、およびヨウ化デシル、ラウリル、
ミリスチル、およびステアリルなどの長鎖ハロゲン化物、臭化ベンジルおよびフ
ェネチルのようなハロゲン化アラルキル、その他の物質を用いて４級化すること
ができる。それにより水または油に可溶性または分散性の生成物が得られる。
【０３３２】 薬剤として許容される酸付加塩を形成するために用いることができる酸の例に
は、塩酸、硫酸およびリン酸などの無機酸と、シュウ酸、マレイン酸、コハク酸
およびクエン酸などの有機酸が含まれる。その他の例には、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウムもしくはマグネシウムなどのアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属との塩、または有機塩基との塩が含まれる。
【０３３３】 本発明の化合物は単独の活性薬物として投与することができるが、１つまたは
複数の他の物質との組み合わせで用いることもできる。組み合わせとして投与す
るとき、治療薬を、同時に投与する別々の組成物として調合することもでき、ま
たは単一の組成物として投与することもできる。
【０３３４】 前述したことは本発明の単なる例示にすぎず、本発明を開示した化合物に限定
するものではない。当業者には明白な変異および変更は、添付の特許請求の範囲
に定義される本発明の範囲および本質に含まれるものである。
【０３３５】 前述の説明から、当業者であれば本発明の本質的特徴を容易に確認することが
でき、その精神および範囲から逸脱することなく、本発明を様々な用法および条
件に適合させるために様々な変更および修正を加えることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｐ 3/10 Ａ６１Ｐ 3/10 9/00 9/00 9/10 9/10 11/00 11/00 11/06 11/06 13/12 13/12 17/00 17/00 17/06 17/06 19/02 19/02 19/08 19/08 25/28 25/28 27/02 27/02 29/00 １０１ 29/00 １０１ 31/12 31/12 31/18 31/18 31/22 31/22 35/00 35/00 35/04 35/04 37/04 37/04 43/00 43/00 １１１ １１１ Ｃ０７Ｄ 225/02 Ｃ０７Ｄ 225/02 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ， ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，Ｌ Ｔ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ， ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，Ｕ Ａ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 ターミン，アンドレアス アメリカ合衆国、コロラド・80303、ボー ルダー、ダートマス・アベニユー・2360 (72)発明者 ハメル，コンラツド アメリカ合衆国、コロラド・80027、ルイ スビル、ウエスト・バーバリイ・サーク ル・1767 Ｆターム(参考） 4C034 EA10 4C086 AA01 AA02 AA03 BC31 GA04 GA07 GA10 MA02 MA05 NA14 ZA02 ZA07 ZA08 ZA16 ZA33 ZA34 ZA36 ZA45 ZA59 ZA66 ZA67 ZA68 ZA81 ZA89 ZA94 ZA96 ZB02 ZB11 ZB13 ZB15 ZB26 ZB32 ZB33 ZB35 ZC01 ZC20 ZC35 ZC37 ZC41 ZC55

Claims (31)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式の化合物又は薬学上許容できるその塩： 【化１】 ［式中、 Ｒ１は（１）１〜３個の−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ
    （Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘテロアリール、シ
    クロアルキル又はヘテロシクリル基で任意に置換されていてもよい、アルキル、
    アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はヘテロシクリル基であるか、（２
    ）任意に置換されていてもよい５〜６員環の単環式へテロアリール又はヘテロシ
    クリル基（これはフェニル基又は５〜６員環の単環式へテロアリール基で任意に
    置換されていてもよい）で任意に置換されていてもよい、アリール基であるか、
    もしくは（３）任意に置換されていてもよいフェニルもしくは５〜６員環の単環
    式へテロアリール又はヘテロシクリル基（これはフェニル基又は５〜６員環の単
    環式へテロアリール基で任意に置換されていてもよい）で任意に置換されていて
    もよい、ヘテロアリール基であって、（１）、（２）及び（３）のフェニル、ア
    リール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシクリル基は１〜３個のヒ
    ドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ
    ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アルカノイルアミノ、アルキルスルホニルアミ
    ノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジ
    ド、アルキル又はハロアルキル基で任意に置換されていてもよい；ただし、Ｒ１ 中のフェニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシクリル
    基の総数は０〜３とする； ここで、各Ｒ３は独立してアルキル、ハロアルキル、アリール、ヘテロアリー
    ル、アリール−アルキル又はヘテロアリール−アルキル基であって、そのアリー
    ル及びヘテロアリール基は１〜３個のヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオー
    ル、アミノ、アルカノイルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルフ
    ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボ
    ニル、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で
    任意に置換されていてもよく；また、各Ｒ４は独立して水素又はアルキル基であ
    る； Ｒ２は水素又はアルキル基である； Ｖは−ＣＲ８Ｒ１１−又は−ＣＲ８Ｒ１１−ＣＨＲ１２−であり、ここで、Ｒ １１ とＲ１２はそれぞれ独立して（１）水素、−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（
    Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−
    ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロアルキル、アリール又はヘテロ
    アリール基であるか、（２）１〜３個の−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ ２２ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−Ｎ
    Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ ３３ −Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール又はヘテロアリール基で任意に置
    換されていてもよい、アルキル、アルケニル又はアルキニル基であって、（１）
    と（２）のシクロアルキル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒドロ
    キシ、アルコキシ、アルキルチオール、アミノ、アルカノイルアミノ、アルキル
    スルホニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、シア
    ノ、ハロ、アジド、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換
    されていてもよく； ここで、各Ｒ２０は独立して水素、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロ
    アリール、アリール−アルキル、ヘテロアリール−アルキル、アルカノイル、ア
    ロイル又はヘテロアロイル基であって、そのアルキル及びアルケニル基は−Ｃ（
    Ｏ）Ｒ２２で任意に置換されていてもよく、またそのアリール及びヘテロアリー
    ル基は１〜３個のヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオール、アミノ、アルカ
    ノイルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルス
    ルホニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ
    、アジド、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換されてい
    てもよく； 各Ｒ２１は独立してアルキル、アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、アリール、ヘテロ
    アリール、アリール−アルキル又はヘテロアリール−アルキル基であって、その
    アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒドロキシ、アルコキシ、アルキル
    チオール、アミノ、アルカノイルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキル
    スルフィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシ
    カルボニル、シアノ、ハロ、アジド、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキ
    シ基で任意に置換されていてもよく； ここで、各Ｒ２２は独立してヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アリ
    ール−アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリール−アルコキシ又は−
    ＮＲ２３Ｒ２４基であって、ここに各Ｒ２３は独立して水素、アルキル、アリー
    ル、アリール−アルキル、ヘテロアリール又はヘテロアリール−アルキル基であ
    り、かつ各Ｒ２４が独立して水素又はアルキル基であるか、もしくは−ＮＲ２３ Ｒ２４がヘテロシクリル又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３及び−Ｎ
    Ｒ２３Ｒ２４のヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒ
    ドロキシ、アルコキシ、アルキルチオール、アミノ、アルカノイルアミノ、アル
    キルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルコキ
    シカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、アルキル
    、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい； また、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して水素又はアルキル基であ
    るか、ＣＲ５−ＣＲ６、ＣＲ６−ＣＲ７又はＣＲ７−ＣＲ８の１つがＣ＝Ｃであ
    る； Ｒ９とＲ１０はそれぞれ独立して−Ｂ−Ａである；ただし、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ １１ 及びＲ１２中のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシク
    リル基の合計総数は０〜３とする； ここで、各Ｂは独立して、 （１）結合であるか、 （２）（ａ）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノ
    イルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロ
    キシ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ又はハロ基、及び／又は（ｂ）１〜３
    個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコ
    キシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、
    アルキルチオ、シアノ、ハロ、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で
    任意に置換されていてもよい、１〜２個のヘテロシクリル、アリール又はヘテロ
    アリール基、で任意に置換されていてもよい、アルキル、アルケニル又はアルキ
    ニル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルア
    ミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、
    アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキ
    シ基で任意に置換されていてもよい、ヘテロシクリル基であるか、 （４）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルア
    ミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、
    アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロ、アルキル、ハロアルキル又はハロア
    ルコキシ基で任意に置換されていてもよい、アリール又はヘテロアリール基であ
    り； 各Ａは独立して、 （１）水素基であるか、 （２）ハロ、シアノ又はニトロ基であるか、 （３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３ １ 又は−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１基であるか、 （４）−ＯＲ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１ 又は−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０基であるか、 （５）−ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２ −ＮＲ３２Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）２ −ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０又は−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ ３２ Ｒ３１基であるか、 （６）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ
    ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（ＮＲ ３２ ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０又は−ＮＲ３３−Ｓ
    （Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基である； ここで、各Ｒ３０は独立して、 （１）１〜３個の−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ
    、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、Ｎ−（アルコキシカルボ
    ニル）−Ｎ−（アルキル）アミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルスルホニ
    ルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ア
    ルキルスルホニル、シアノ、ハロ又はアラルコキシ、アリール−アルキルチオ、
    アリール−アルキルスルホニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又
    はヘテロアリール基（ここで、そのシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール
    及びヘテロアリール基は１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ
    、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミ
    ノ、アルカノイル、アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル
    チオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アルキル、
    ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい）で任意に置
    換されていてもよい、アルキル、アルケニル又はアルキニル基であるか、 （２）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルア
    ミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルコキシカ
    ルボニル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、アルキル、ハロア
    ルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい、ヘテロシクリル基
    であるか、 （３）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルア
    ミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルコキシカ
    ルボニル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ハロ、アジド、ア
    ルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい、ア
    リール又はヘテロアリール基であり； 各Ｒ３１は独立して水素基又はＲ３０である； またここで、各Ｒ３２は独立して、 （１）水素基であるか、 （２）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、ア
    ルコキシ、アルキルチオ、シアノ又はハロ基で任意に置換されていてもよい、ア
    ルキル、アルケニル又はアルキニル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、ア
    ルコキシ、アルキルチオ、シアノ、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ
    基で任意に置換されていてもよい、アリール、ヘテロアリール、アリール−アル
    キル、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、
    シクロアルキル又はシクロアルキルアルキル基であり； 各Ｒ３３は独立して、 （１）水素基であるか、 （２）１個のヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール基（これは１〜３個
    のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキ
    シカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、ア
    ルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、アル
    キル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい）で任
    意に置換されていてもよい、アルキル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルア
    ミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、
    アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、シア
    ノ、ハロ、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換されてい
    てもよい、ヘテロシクリル、アリール又はへテロアリール基であり； 各Ｒ３４は独立して水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アリール−
    アルキル又はヘテロアリール−アルキル基であって、そのアリール及びヘテロア
    リール基は１〜３個のアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイ
    ルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキ
    シ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
    シアノ、ハロ、アルキル、ハロアルキル又はハロアルコキシ基で任意に置換され
    ていてもよい］。
  2. 【請求項２】 Ｒ１が（１）１〜３個の−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ
    （Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘ
    テロアリール、シクロアルキル又はヘテロシクリル基で任意に置換されていても
    よい、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニ
    ル、シクロアルキル又はヘテロシクリル基であるか、（２）任意に置換されてい
    てもよい５〜６員環の単環式へテロアリール又はヘテロシクリル基（これはフェ
    ニル基又は５〜６員環の単環式へテロアリール基で任意に置換されていてもよい
    ）で任意に置換されていてもよい、アリール基であるか、もしくは（３）任意に
    置換されていてもよいフェニルもしくは５〜６員環の単環式へテロアリール又は
    ヘテロシクリル基（これはフェニル基又は５〜６員環の単環式へテロアリール基
    で任意に置換されていてもよい）で任意に置換されていてもよい、ヘテロアリー
    ル基であり、（１）、（２）及び（３）のフェニル、アリール、ヘテロアリール
    、シクロアルキル及びヘテロシクリル基は１〜３個のヒドロキシ、−ＯＲ３、−
    ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、
    アミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルキルスルホニルアミノ
    、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル、
    シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ８アルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜
    Ｃ８ハロアルキル基で任意に置換されていてもよく（ただし、Ｒ１中のフェニル
    、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシクリル基の総数は０
    〜３とする）； 各Ｒ３が独立してＣ１〜Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハ
    ロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又は
    ヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基であって、そのアリール及びヘテロア
    リール基は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    チオール、アミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルキルスルホ
    ニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル
    、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル、
    シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ ８ ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルコキシ基で任意
    に置換されていてもよく；また、各Ｒ４が独立して水素又はＣ１〜Ｃ８アルキル
    基であり； Ｒ２が水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であり； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−又は−ＣＲ８Ｒ１１−ＣＨＲ１２−であって、Ｒ１１と
    Ｒ１２はそれぞれ独立して（１）水素、−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ ２２ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−Ｎ
    Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ ３３ −Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロアルキル、アリール又はヘテロアリ
    ール基であるか、（２）１〜３個の−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３ ３ −Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−
    Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール又はヘテロアリール基で任意に置換され
    ていてもよい、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル又はＣ２〜Ｃ８アル
    キニル基であって、（１）と（２）のシクロアルキル、アリール及びヘテロアリ
    ール基は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチ
    オール、アミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルキルスルホニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、
    Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル、シ
    アノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルコキシ基で任意に
    置換されていてもよく； 各Ｒ２０が独立して水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル、アリ
    ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ８アルカノイル、アロイル又はヘテロアロイル基
    であって、そのアルキル及びアルケニル基は−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２で任意に置換され
    ていてもよく、またそのアリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒドロキシ
    、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、Ｃ１〜Ｃ８ア
    ルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    スルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ ８ アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルキル又は１〜３個のハ
    ロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２１が独立してＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２ ２ 、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はヘテロア
    リール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基であって、そのアリール及びヘテロアリール基
    は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール
    、アミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルキルスルホニルアミ
    ノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜
    Ｃ８アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル、シアノ、
    ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロア
    ルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルコキシ基で任意に置換さ
    れていてもよく； 各Ｒ２２が独立してヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ、アリールオキシ、ア
    リール−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ４−アルコキシ又は−ＮＲ２３Ｒ２４基であって、ここに各Ｒ２３は独立
    して水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、アリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、
    ヘテロアリール又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基であり、かつ各Ｒ ２４ が独立して水素又はＣ１〜Ｃ８アルキル基であるか、もしくは−ＮＲ２３Ｒ ２４ がヘテロシクリル又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３及び−ＮＲ ２３ Ｒ２４のヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒド
    ロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、Ｃ１〜
    Ｃ８アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４ア
    ルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカ
    ルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ １ 〜Ｃ８アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルキル又は１〜３
    個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよく； Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８がそれぞれ独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基
    であるか、ＣＲ５−ＣＲ６、ＣＲ６−ＣＲ７又はＣＲ７−ＣＲ８の１つがＣ＝Ｃ
    であり； Ｒ９とＲ１０がそれぞれ独立して−Ｂ−Ａであり（ただし、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ １１ 及びＲ１２中のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシク
    リル基の合計総数は０〜３とする）； 各Ｂが独立して、 （１）結合であるか、 （２）（ａ）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４ア
    ルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カ
    ルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ ４ アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ又はハロ基、及び／又は（ｂ）
    １〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミ
    ノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミ
    ノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ
    、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハ
    ロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロ
    アルコキシ基で任意に置換されていてもよい１〜２個のヘテロシクリル、アリー
    ル又はヘテロアリール基、で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ８アルキル
    、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル又はＣ２〜Ｃ８アルキニル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハ
    ロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロ
    アルコキシ基で任意に置換されていてもよい、ヘテロシクリル基であるか、 （４）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３
    個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ８ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ ８ ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい、アリール又はヘテロアリー
    ル基であり； 各Ａが独立して、 （１）水素基であるか、 （２）ハロ、シアノ又はニトロ基であるか、 （３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３ １ 又は−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１基であるか、 （４）−ＯＲ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１ 又は−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０基であるか、 （５）−ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２ −ＮＲ３２Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｓ（Ｏ）２ −ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０又は−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ ３２ Ｒ３１基であるか、 （６）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ
    ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（ＮＲ ３２ ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０又は−ＮＲ３３−Ｓ
    （Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基であり； 各Ｒ３０が独立して、 （１）１〜３個の−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ）カルボニルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ
    −（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、アミノカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    チオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、シア
    ノ、ハロ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキ
    ルチオ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルスルホニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキ
    ル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール基（ここで、そのシクロアル
    キル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のアミノ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカ
    ノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カル
    ボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１〜
    Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３
    個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい）
    で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル又
    はＣ２〜Ｃ８アルキニル基であるか、 （２）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カ
    ルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は
    １〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていても
    よい、ヘテロシクリル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カ
    ルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハ
    ロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置
    換されていてもよい、アリール又はヘテロアリール基であり； 各Ｒ３１が独立して水素基又はＲ３０であり； 各Ｒ３２が独立して、 （１）水素基であるか、 （２）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ又はハロ基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ２〜Ｃ８ アルケニル又はＣ２〜Ｃ８アルキニル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は
    １〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていても
    よい、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、ヘテロア
    リール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル−Ｃ１〜Ｃ４ −アルキル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル又はＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１ 〜Ｃ４−アルキル基であり； 各Ｒ３３が独立して、 （１）水素基であるか、 （２）１個のヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール基（これは１〜３個
    のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１ 〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１ 〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜
    Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスル
    ホニル、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ ４ ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意
    に置換されていてもよい）で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ ４ アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基
    を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つハロアルコキシ基で
    任意に置換されていてもよい、ヘテロシクリル、アリール又はへテロアリール基
    であり； 各Ｒ３４が独立して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、アリール、ヘテロアリール、
    アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基
    であって、そのアリール及びヘテロアリール基は１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４ アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルア
    ミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホ
    ニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ
    、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１
    〜３個のハロ基を持つハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよく； シクロアルキルは、部分不飽和又はベンゾ縮合型であってもよい３〜１０員環
    の単環式、二環式又は三環式の炭素環式アルキル基であり；ヘテロシクリルは、
    環１個につき５〜８員環を有する単環式又は二環式の飽和ヘテロ環式環構造の基
    であって、１〜３員環が酸素、イオウ又は窒素ヘテロ原子であり、任意に部分不
    飽和又はベンゾ縮合型であってもよいと共に、１〜２個のオキソ又はチオオキソ
    基で任意に置換されていてもよく；アリールは、フェニル、ビフェニル又はナフ
    チル基であり；ヘテロアリールは、環１個につき５〜６員環の単環式又は二環式
    の芳香族ヘテロ環式環構造の基であって、１〜３員環が酸素、イオウ又は窒素ヘ
    テロ原子であり、任意にベンゾ縮合型又は飽和Ｃ３〜Ｃ４炭素環縮合型であって
    もよい、 請求項１に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  3. 【請求項３】 Ｒ１が（１）１〜３個の−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ
    （Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、―Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘ
    テロアリール、シクロアルキル又はヘテロシクリル基で任意に置換されていても
    よい、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニ
    ル、シクロアルキル又はヘテロシクリル基であるか、（２）任意に置換されてい
    てもよい５〜６員環の単環式へテロアリール又はヘテロシクリル基（これはフェ
    ニル基又は５〜６員環の単環式へテロアリール基で任意に置換されていてもよい
    ）で任意に置換されていてもよい、アリール基であるか、もしくは（３）任意に
    置換されていてもよいフェニルもしくは５〜６員環の単環式へテロアリール又は
    へテロサイクリル基（これはフェニル基又は５〜６員環の単環式へテロアリール
    基で任意に置換されていてもよい）で任意に置換されていてもよい、ヘテロアリ
    ール基であって、（１）、（２）及び（３）のフェニル、アリール、ヘテロアリ
    ール、シクロアルキル及びヘテロシクリル基は１〜３個のヒドロキシ、−ＯＲ３ 、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ ４ 、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルア
    ミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニ
    ル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ １ 〜Ｃ４ハロアルキル基で任意に置換されていてもよく（ただし、Ｒ１中のフェ
    ニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシクリル基の総数
    は０〜３とする）； 各Ｒ３が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハ
    ロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又は
    ヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基であって、そのアリール及びヘテロア
    リール基は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    チオール、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホ
    ニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル
    、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、
    シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ ４ ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意
    に置換されていてもよく；また、各Ｒ４が独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル
    基であり； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−又は−ＣＲ８Ｒ１１−ＣＨＲ１２−であって、Ｒ１１と
    Ｒ１２はそれぞれ独立して（１）水素、−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ ２２ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−Ｎ
    Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３ ３ −Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロアルキル、アリール又はヘテロアリー
    ル基であるか、（２）１〜３個の−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、
    −ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ
    （Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール又はヘテロアリール基で任意に置換されて
    いてもよい、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル又はＣ２〜Ｃ８アルキ
    ニル基であって、（１）と（２）のシクロアルキル、アリール及びヘテロアリー
    ル基は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ
    ール、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル
    アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ １ 〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シア
    ノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハ
    ロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置
    換されていてもよく； 各Ｒ２０が独立して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、アリ
    ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルカノイル、アロイル又はヘテロアロイル基
    であって、そのアルキル及びアルケニル基は−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２で任意に置換され
    ていてもよく、またそのアリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒドロキシ
    、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４ア
    ルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    スルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ ４ アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３個のハ
    ロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２１が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２ ２ 、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はヘテロア
    リール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基であって、そのアリール及びヘテロアリール基
    は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール
    、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミ
    ノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜
    Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、
    ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロア
    ルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換さ
    れていてもよく； 各Ｒ２２が独立してヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、アリールオキシ、ア
    リール−Ｃ１〜Ｃ２−アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ２−アルコキシ又は−ＮＲ２３Ｒ２４基であって、ここに各Ｒ２３は独立
    して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、アリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、
    ヘテロアリール又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル基であり、かつ各Ｒ ２４ が独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であるか、もしくは−ＮＲ２３Ｒ ２４ がヘテロシクリル又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３及び−ＮＲ ２３ Ｒ２４のヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒド
    ロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、Ｃ１〜
    Ｃ４アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４ア
    ルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカ
    ルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３
    個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよく； 各Ｂが独立して、 （１）結合であるか、 （２）（ａ）１個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボ
    ニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４ア
    ルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ基、及び／又は（ｂ）１〜３個のハ
    ロ基、及び／又は（ｃ）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ
    、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４ アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３個のハロ
    基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい１〜２個の
    ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール基、で任意に置換されていてもよ
    い、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基であるか、 （３）ヘテロシクリル基であるか、 （４）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３
    個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ ４ ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい、アリール又はヘテロアリー
    ル基であり； 各Ｒ３０が独立して、 （１）１〜３個の−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ）カルボニルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ
    −（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、アミノカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    チオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、シア
    ノ、ハロ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキ
    ルチオ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルスルホニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキ
    ル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール基（ここで、そのシクロアル
    キル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のアミノ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカ
    ノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カル
    ボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１〜
    Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は１〜３
    個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていてもよい）
    で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であるか、 （２）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カ
    ルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルキル又は
    １〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置換されていても
    よい、ヘテロシクリル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カ
    ルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハ
    ロアルキル又は１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基で任意に置
    換されていてもよい、アリール又はヘテロアリール基であり； 各Ｒ３１が独立して水素基又はＲ３０であり； 各Ｒ３２が独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であり； 各Ｒ３３が独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であり； 各Ｒ３４が独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基である、 請求項２に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  4. 【請求項４】 Ｒ１が（１）１〜３個の−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ
    （Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、―Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘ
    テロアリール、シクロアルキル又はヘテロシクリル基で任意に置換されていても
    よい、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基であるか、（２）任意に置換されていてもよい５
    〜６員環の単環式へテロアリール又はヘテロシクリル基（これはフェニル基又は
    ５〜６員環の単環式へテロアリール基で任意に置換されていてもよい）で任意に
    置換されていてもよい、アリール基であるか、もしくは（３）任意に置換されて
    いてもよいフェニルもしくは５〜６員環の単環式へテロアリール又はへテロサイ
    クリル基（これはフェニル基又は５〜６員環の単環式へテロアリール基で任意に
    置換されていてもよい）で任意に置換されていてもよい、ヘテロアリール基であ
    って、（１）、（２）及び（３）のフェニル、アリール、ヘテロアリール、シク
    ロアルキル及びヘテロシクリル基は１〜３個のヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３ 、−Ｓ（Ｏ）Ｒ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ
    、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル
    アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル
    又は−ＣＦ３基で任意に置換されていてもよく（ただし、Ｒ１中のフェニル、ア
    リール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシクリル基の総数は０〜３
    とする）； 各Ｒ３が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリール、ヘテロアリール
    、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル
    基であって、そのアリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１ 〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、アセチルアミノ、メ
    チルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ
    カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ ４ アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく；また、
    各Ｒ４が独立して水素又はメチル基であり； Ｒ２が水素又はメチル基であり； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−又は−ＣＲ８Ｒ１１−ＣＨＲ１２−であって、Ｒ１１と
    Ｒ１２はそれぞれ独立して（１）水素、−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ ２２ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−Ｎ
    Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３ ３ −Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロアルキル、アリール又はヘテロアリー
    ル基であるか、（２）１〜３個の−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、
    −ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ
    （Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール又はヘテロアリール基で任意に置換されて
    いてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル又はＣ２〜Ｃ４アルキ
    ニル基であって、（１）と（２）のシクロアルキル、アリール及びヘテロアリー
    ル基は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ
    ール、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスルフィニル
    、メチルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は
    −ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２０が独立して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、アリ
    ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルカノイル、アロイル又はヘテロアロイル基
    であって、そのアルキル及びアルケニル基は−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２で任意に置換され
    ていてもよく、またそのアリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒドロキシ
    、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、アセチルアミ
    ノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、Ｃ１〜
    Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、
    ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換さ
    れていてもよく； 各Ｒ２１が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２ ２ 、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はヘテロア
    リール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基であって、そのアリール及びヘテロアリール基
    は１〜３個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール
    、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスルフィニル、メ
    チルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキ
    シカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−Ｏ
    ＣＦ３基で任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２２が独立してヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、アリールオキシ、ア
    リール−Ｃ１〜Ｃ２−アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ２−アルコキシ又は−ＮＲ２３Ｒ２４基であって、ここに各Ｒ２３は独立
    して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、アリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、
    ヘテロアリール又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル基であり、かつ各Ｒ ２４ が独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であるか、もしくは−ＮＲ２３Ｒ ２４ がヘテロシクリル又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３及び−ＮＲ ２３ Ｒ２４のヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のヒド
    ロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、アセチ
    ルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、
    Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シ
    アノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に
    置換されていてもよく； 各Ｂが独立して、 （１）結合であるか、 （２）（ａ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）ア
    ミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルア
    ミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキ
    シ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ基、及び／又は（ｂ）１〜３個のハロ基、
    及び／又は（ｃ）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ ４ アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ
    ）カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１ 〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、１〜２個のヘテ
    ロシクリル、アリール又はヘテロアリール基、で任意に置換されていてもよいＣ １ 〜Ｃ８アルキル基であるか、 （３）ヘテロシクリル基であるか、 （４）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ ３ 又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、アリール又はヘテロアリー
    ル基であり； 各Ａが独立して、 （１）水素基であるか、 （２）ハロ、シアノ又はニトロ基であるか、 （３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３ １ 又は−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１基であるか、 （４）−ＯＲ３１、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１又は−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３ １ 基であるか、 （５）−ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０又は−Ｓ（Ｏ） ２ −ＮＲ３２Ｒ３１基であるか、 （６）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ
    ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（ＮＲ ３２ ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０又は−ＮＲ３３−Ｓ
    （Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基であり； 各Ｒ３０が独立して、 （１）１〜３個の−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ）カルボニルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ
    −（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、アミノカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    チオ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、シア
    ノ、ハロ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキ
    ルチオ、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルスルホニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキ
    ル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール基（ここで、そのシクロアル
    キル、ヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個のアミノ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカ
    ノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カル
    ボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、Ｃ１〜
    Ｃ４アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、シアノ、ハロ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい）
    で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であるか、 （２）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カ
    ルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、１〜３個のハロ基を持つＣ１〜Ｃ２ハロアルキル又は
    −ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、ヘテロシクリル基であるか、 （３）１〜３個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カ
    ルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ、シア
    ノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されて
    いてもよい、アリール又はヘテロアリール基であり； 各Ｒ３１が独立して水素基又はＲ３０であり； 各Ｒ３３が独立して水素又はメチル基である、 請求項３に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  5. 【請求項５】 Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−であって、Ｒ１１は（１）水素、−Ｏ
    Ｒ２０、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−Ｎ
    Ｒ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３ ３ −Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロア
    ルキル、アリール又はヘテロアリール基であるか、（２）１〜３個の−ＯＲ２０ 、−ＳＲ２１、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３ −Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ
    （Ｏ）２−Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール又はヘ
    テロアリール基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ ４ アルケニル基であって、（１）と（２）のシクロアルキル、アリール及びヘテ
    ロアリール基は１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    キルチオール、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、メチルスル
    フィニル、メチルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜
    Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−Ｃ
    Ｆ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、 請求項４に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  6. 【請求項６】 Ｒ１が（１）１〜３個の−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ
    （Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル又は
    ヘテロシクリル基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基であ
    るか、（２）任意に置換されていてもよい５〜６員環の単環式へテロアリール又
    はヘテロシクリル基（これはフェニル基又は５〜６員環の単環式へテロアリール
    基で任意に置換されていてもよい）で任意に置換されていてもよい、アリール基
    であるか、もしくは（３）任意に置換されていてもよいフェニルもしくは５〜６
    員環の単環式へテロアリール又はへテロサイクリル基（これはフェニル基又は５
    〜６員環の単環式へテロアリール基で任意に置換されていてもよい）で任意に置
    換されていてもよい、ヘテロアリール基であって、（１）、（２）及び（３）の
    フェニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシクリル基は
    １〜３個のヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４ 、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカ
    ルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ６ アルキル又は−ＣＦ３基で任意に置換されていてもよく（ただし、Ｒ１中のフェ
    ニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びヘテロシクリル基の総数
    は０〜２とする）； 各Ｒ３が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリール、ヘテロアリール
    、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル
    基であって、そのアリール及びヘテロアリール基は１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１ 〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、アミノ、アセチルアミノ、メ
    チルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ
    カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、シアノ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ ４ アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく； Ｒ２が水素基であり； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−であって、Ｒ１１は（１）水素、−ＯＲ２０、−ＳＲ２ １ 、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）
    −ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−
    Ｒ３０、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、シクロアルキル、アリール
    又はヘテロアリール基であるか、（２）１〜３個の−ＯＲ２０、−ＳＲ２１、−
    Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ ３０ 、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０ 、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１、アリール又はヘテロアリール基で
    任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又はＣ２〜Ｃ４アルケニル基
    であって、（１）と（２）のシクロアルキル、アリール及びヘテロアリール基は
    １〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、
    メチルスルホニル、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ ３ 基で任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２２が独立してヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、アリールオキシ、ア
    リール−Ｃ１〜Ｃ２−アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ２−アルコキシ又は−ＮＲ２３Ｒ２４基であって、ここに各Ｒ２３は独立
    して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、アリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、
    ヘテロアリール又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル基であり、かつ各Ｒ ２４ が独立して水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であるか、もしくは−ＮＲ２３Ｒ ２４ がヘテロシクリル又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３及び−ＮＲ ２３ Ｒ２４のヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜２個のヒド
    ロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、ハロ、アジド、
    Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく
    ； 各Ｂが独立して、 （１）結合であるか、 （２）（ａ）１個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２アルキ
    ル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボ
    ニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、及び／又は（ｂ）１〜２個
    のハロ基、及び／又は（ｃ）１〜２個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ
    （Ｃ１〜Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４ アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルスルホニルアミノ、ヒドロ
    キシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルチオ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アル
    キル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、１個のヘテロ
    シクリル、アリール又はヘテロアリール基、で任意に置換されていてもよいＣ１ 〜Ｃ４アルキル基であるか、 （３）ヘテロシクリル基であるか、 （４）１〜２個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アル
    コキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルチオ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−
    ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、アリール又はヘテロアリール基であ
    り； 各Ａが独立して、 （１）水素基であるか、 （２）ハロ基であるか、 （３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ３１、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３ １ 又は−Ｃ（ＮＲ３２）−ＮＲ３２Ｒ３１基であるか、 （４）−ＯＲ３１基であるか、 （５）−ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０又は−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基
    であるか、 （６）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ
    ）−ＯＲ３０、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ） ２ −Ｒ３０又は−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基であり； 各Ｒ３０が独立して、 （１）１〜２個の−ＣＯ２Ｒ３４、アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ １ 〜Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アル
    コキシ）カルボニルアミノ、Ｎ−（（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニル）−Ｎ
    −（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）アミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、又はア
    リール−Ｃ１〜Ｃ２−アルコキシ、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリー
    ル基（ここで、そのヘテロシクリル、アリール及びヘテロアリール基は１〜３個
    のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル）アミノ、Ｃ１ 〜Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルアミノ、Ｃ１ 〜Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ、Ｃ１ 〜Ｃ４アルコキシ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任
    意に置換されていてもよい）で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキ
    ル又は−ＣＦ３基であるか、 （２）１〜２個の（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ又はＣ１〜
    Ｃ４アルキル基で任意に置換されていてもよい、ヘテロシクリル基であるか、 （３）１〜２個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ
    、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されてい
    てもよい、アリール又はヘテロアリール基であり； 各Ｒ３１が独立して水素基又はＲ３０であり； シクロアルキルは、任意に部分不飽和又はベンゾ縮合型であってもよい３〜６
    員環の単環式の炭素環式アルキル基であり；ヘテロシクリルは、環１個につき５
    〜８員環の単環式の飽和ヘテロ環式環構造の基であって、１〜３員環が酸素、イ
    オウ又は窒素ヘテロ原子であり、任意に部分不飽和又はベンゾ縮合型であっても
    よいと共に、１〜２個のオキソ又はチオオキソ基で任意に置換されていてもよい
    、 請求項５に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  7. 【請求項７】 Ｒ１が（１）１〜２個の−ＯＨ、−ＯＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、
    アリール又はヘテロアリール基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アル
    キル基であるか、（２）５〜６員環の単環式へテロアリール基で任意に置換され
    ていてもよいアリール基であるか、もしくは（３）フェニル基で任意に置換され
    ていてもよいヘテロアリール基であって、（１）、（２）及び（３）のフェニル
    、アリール及びヘテロアリール基は１〜２個のヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３ 、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニ
    ルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカル
    ボニル、ハロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又は−ＣＦ３基で任意に置換されていてもよ
    く（ただし、Ｒ１中のフェニル、アリール及びヘテロアリール基の総数は０〜２
    とする）； 各Ｒ３が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリール、ヘテロアリール
    、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル
    基であって、そのアリール及びヘテロアリール基は１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１ 〜Ｃ２アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルチオール、アミノ、アセチルアミノ、メ
    チルスルホニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ
    カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、ハロ、Ｃ１〜Ｃ２アルキ
    ル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−であって、Ｒ１１は（１）水素、−ＯＲ２０、−ＮＲ３ ３ −Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、シクロアルキル、ア
    リール又はヘテロアリール基であるか、（２）１〜２個の−ＯＲ２０、−ＳＲ２ １ 、−Ｃ（Ｏ）Ｒ２２、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ） ２ −Ｒ３０、アリール又はヘテロアリール基で任意に置換されていてもよい、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル又はＣ２〜Ｃ４アルケニル基であって、（１）と（２）のシク
    ロアルキル、アリール及びヘテロアリール基は１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ ２ アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルチオール、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ２アルキ
    ル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２０が独立して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル−Ｃ（Ｏ
    ）Ｒ２２、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１ 〜Ｃ２−アルキル、ヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル又はＣ１〜Ｃ４アル
    カノイル基であって、そのアリール及びヘテロアリール基は１〜２個のヒドロキ
    シ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール、ハロ、アジド、Ｃ１ 〜Ｃ２アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２１が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２ ２ 、アリール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル又はヘテロア
    リール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル基であって、そのアリール及びヘテロアリール基
    は１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオール
    、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換
    されていてもよく； 各Ｒ２２が独立してヒドロキシ又は−ＮＲ２３Ｒ２４基であって、ここに各Ｒ ２３ は独立して水素、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、アリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−
    アルキル、ヘテロアリール又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル基であり
    、かつ各Ｒ２４が独立して水素又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であるか、もしくは−
    ＮＲ２３Ｒ２４がヘテロアリール基を表し、Ｒ２２、Ｒ２３及び−ＮＲ２３Ｒ２ ４ のアリール及びヘテロアリール基は１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコ
    キシ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルチオール、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、−Ｃ
    Ｆ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく； 各Ｂが独立して、 （１）結合であるか、 （２）Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であるか、 （３）１個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル）ア
    ミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニルア
    ミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキ
    シ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルチオ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣ
    Ｆ３基で任意に置換されていてもよい、アリール又はヘテロアリール基であり； 各Ａが独立して、 （１）水素基であるか、 （２）ハロ基であるか、 （３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１又は−Ｃ（ＮＲ３２）
    −ＮＲ３２Ｒ３１基であるか、 （４）−ＯＲ３１であるか、 （５）−ＳＲ３１、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０又は−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ３２Ｒ３１基
    であるか、 （６）−ＮＲ３２Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１又は−ＮＲ３３−Ｓ（
    Ｏ）２−Ｒ３０基であり； 各Ｒ３０が独立して、 （１）１〜２個の（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボニル、ヒドロキシ又はＣ１〜
    Ｃ４アルキルで任意に置換されていてもよい、ヘテロシクリル基であるか、 （２）１〜２個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ
    、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されてい
    てもよい、ヘテロアリール基であり； 各Ｒ３１が独立して水素基であるか、 （１）１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ又はアリール−Ｃ１〜Ｃ２ −アルコキシ、アリール又はヘテロアリール基（ここで、そのアリール及びヘテ
    ロアリール基は１〜２個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２ アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）
    カルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ５アルカノイル、（Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）カルボ
    ニル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ ３ 又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよい）で任意に置換されていても
    よい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又は−ＣＦ３基であるか、 （２）１〜２個のアミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル
    ）アミノ、Ｃ１〜Ｃ２アルカノイルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ
    、ハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されてい
    てもよい、アリール又はヘテロアリール基である、 請求項６に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  8. 【請求項８】 Ｒ１が１〜２個のヒドロキシ、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−Ｓ（
    Ｏ）２Ｒ３、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ
    、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル、
    ハロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又は−ＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、アリ
    ール又はヘテロアリール基であり（ただし、Ｒ１中のアリール及びヘテロアリー
    ル基の総数は１〜２とする）； 各Ｒ３が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、アリール、ヘテロアリール
    、アリールメチル又はヘテロアリールメチル基であり； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−であって、Ｒ１１は（１）水素、−ＯＲ２０、−ＮＲ３ ３ −Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、シクロアルキル、ア
    リール又はヘテロアリール基であるか、（２）１〜２個の−ＯＲ２０、−ＮＲ３ ３ −Ｃ（Ｏ）−Ｒ３１、−ＮＲ３３−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ３０、アリール又はヘテロ
    アリール基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又はＣ２〜Ｃ４ アルケニル基であって、（１）と（２）のシクロアルキル、アリール及びヘテロ
    アリール基は１〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルキ
    ルチオール、ハロ、アジド、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で
    任意に置換されていてもよく； 各Ｒ２０が独立して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、アリ
    ール、ヘテロアリール、アリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ２−アルキル又はＣ１〜Ｃ４アルカノイル基であり； 各Ｂが独立して、 （１）結合であるか、 （２）Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であるか、 （３）アリール又はヘテロアリール基であり； 各Ａが独立して、 （１）水素基であるか、 （２）ハロ基であるか、 （３）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ３０又は−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ３２Ｒ３１基であり； 各Ｒ３０が独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキルで任意に置換されていてもよいヘテ
    ロシクリル基であり； 各Ｒ３１が独立して水素基であるか、 （１）１〜２個のアリール又はヘテロアリール基で任意に置換されていてもよい
    、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又は−ＣＦ３基であるか、 （２）アリール又はヘテロアリール基であり、 各Ｒ３２が独立して水素又はメチル基である、 請求項７に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  9. 【請求項９】 Ｒ１が１〜２個のヒドロキシ、−ＯＲ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３ 、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ハロ、Ｃ １ 〜Ｃ４アルキル又は−ＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、アリール基（
    ただし、Ｒ１中のアリール及びヘテロアリール基の総数は１〜２とする）であり
    ； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−であって、Ｒ１１は（１）水素、−ＯＲ２０、アリール
    又はヘテロアリール基であるか、（２）１〜２個の−ＯＲ２０、アリール又はヘ
    テロアリール基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又はＣ２〜
    Ｃ４アルケニル基であって、（１）と（２）のアリール及びヘテロアリール基は
    １〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、−
    ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく（ただし、Ｒ１１中のア
    リール及びヘテロアリール基の総数は０〜２とする）； Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０がそれぞれ水素基であるか、ＣＲ５ −ＣＲ６、ＣＲ６−ＣＲ７又はＣＲ７−ＣＲ８の１つがＣ＝Ｃであり； ヘテロシクリルがピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル
    、チアモルホリニル、４−ベンジルピペラジン−１−イル、ピリミジニル、テト
    ラヒドロフリル、ピラゾリドニル、ピラゾリニル、ピリダジノニル、ピロリドニ
    ル、テトラヒドロチエニルもしくはそのスルホキシド又はスルホン誘導体、２，
    ３−ジヒドロインドリル、テトラヒドロキノリニル、１，２，３，４−テトラヒ
    ドロイソキノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−１−オキソ−イソキノリ
    ニル、２，３−ジヒドロベンゾフリル、ベンゾピラニル、メチレンジオキシフェ
    ニル又はエチレンジオキシフェニル基であり；アリールがフェニル、ビフェニル
    又はナフチル基であり；ヘテロアリールがイミダゾリル、ピロリル、ピラゾリル
    、ピリジル、ピラジニル、トリアゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリル、チ
    アゾリル、インドリル、キノリニル、イソキノリニル、５，６，７，８−テトラ
    ヒドロキノリル、５，６，７，８−テトラヒドロイソキノリニル、キノキサリニ
    ル、ベンゾチアゾリル、β−カルボリニル、ベンゾフリル、ベンゾイミダゾリル
    又はベンゾオキサゾリルである、 請求項８に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  10. 【請求項１０】 Ｒ１が１〜２個のヒドロキシ、−ＯＲ３、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ ３ 、−ＮＲ３Ｒ４、アミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ハロ、
    Ｃ１〜Ｃ４アルキル又は−ＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、フェニル基
    （ただし、Ｒ１中のアリール及びヘテロアリール基の総数は１〜２とする）であ
    り； 各Ｒ３が独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、−ＣＦ３、フェニル、ヘテロアリール
    、フェニルメチル又はヘテロアリールメチル基であり； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−であって、Ｒ１１は（１）水素、−ＯＲ２０、フェニル
    又はヘテロアリール基であるか、（２）１〜２個の−ＯＲ２０、フェニル又はヘ
    テロアリール基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又はＣ２〜
    Ｃ４アルケニル基であって、（１）と（２）のフェニル及びヘテロアリール基は
    １〜２個のヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ、ハロ、Ｃ１〜Ｃ２アルキル、−
    ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で任意に置換されていてもよく（ただし、Ｒ１１中のア
    リール及びヘテロアリール基の総数は０〜２とする）； 各Ｒ２０が独立して水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、フェ
    ニル、ヘテロアリール、フェニル−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、ヘテロアリール−Ｃ １ 〜Ｃ２−アルキル基であり； ヘテロシクリルがピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル
    、チアモルホリニル、４−ベンジルピペラジン−１−イル又はピリミジニル基で
    あり；ヘテロアリールがイミダゾリル、ピロリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラ
    ジニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾ
    フリル、ベンゾイミダゾリル又はベンゾオキサゾリルである、 請求項９に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  11. 【請求項１１】 Ｒ１が１〜２個のヒドロキシ、−ＯＲ３、ハロ、メチル又
    は−ＣＦ３基で任意に置換されていてもよい、フェニル基（ただし、Ｒ１中のア
    リール及びヘテロアリール基の総数は１〜２とする）であり； 各Ｒ３が独立してメチル、−ＣＦ３、フェニル、ヘテロアリール、フェニルメ
    チル又はヘテロアリールメチル基であり； Ｖが−ＣＲ８Ｒ１１−であって、Ｒ１１は（１）水素、−ＯＲ２０、フェニル
    又はヘテロアリール基であるか、（２）１〜２個の−ＯＲ２０、フェニル又はヘ
    テロアリール基で任意に置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ４アルキル又はＣ２〜
    Ｃ４アルケニル基であって、（１）と（２）のフェニル及びヘテロアリール基は
    １〜２個のヒドロキシ、メトキシ、ハロ、メチル、−ＣＦ３又は−ＯＣＦ３基で
    任意に置換されていてもよく（ただし、Ｒ１１中のアリール及びヘテロアリール
    基の総数は０〜２とする）； 各Ｒ２０が独立して水素、メチル、プロペニル、フェニル、ヘテロアリール、
    フェニル−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル又はヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル基
    である、 請求項１０に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  12. 【請求項１２】 シス−３−ベンジル−１−（４−メトキシフェニルスルホ
    ニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 トランス−３−ベンジル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン
    −２−ヒドロキサム酸、 トランス−３−フェニル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン
    −２−ヒドロキサム酸、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 酢酸（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）
    −アゼパン−３−イル）メチルエステル、 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−
    ２−ヒドロキサム酸、 ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパ
    ン−２−ヒドロキサム酸、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル−
    アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−３−スチリル−アゼパン−２−ヒド
    ロキサム酸、 ３−（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）
    −アゼパン−３−イル）アクリル酸、 酢酸（２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）
    −２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イル）メチルエステル
    、 ３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−２，３，４
    ，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸、 ３−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−２，３
    ，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−３−フェニルスルファニルメチル−
    ２，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸、 ３−ベンゾフラン−２−イル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−２，
    ３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−２−ヒドロキサム酸、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸２
    −（ヒドロキサミド）３−（フェンメチルアミド）、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸２
    −（ヒドロキサミド）３−（フェネチルアミド）、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸２
    −（ヒドロキサミド）３−（フェンプロピルアミド）、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸２
    −（ヒドロキサミド）３−（４−フェノキシ−２−エチルアミド）、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸２
    −（ヒドロキサミド）３−（フェニルメチルスルファニルエチルアミド）、 １−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−２，３−ジカルボン酸２
    −（ヒドロキサミド）３−（４−フェノキシフェネチルアミド）、 シス−３−（４−フェニルベンジル）−１−（４−メトキシフェニルスルホニル
    ）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 トランス−３−（４−フェニルベンジル）−１−（４−メトキシフェニルスルホ
    ニル）−アゼパン−２−ヒドロキサム酸、 トランス−３−メチル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−アゼパン−
    ２−ヒドロキサム酸、又は （２−ヒドロキシカルバモイル−１−（４−メトキシフェニルスルホニル）−２
    ，３，４，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−３−イル）−カルバミン酸ベン
    ジルエステル、 である請求項１に記載の化合物又は薬学上許容できるその塩。
  13. 【請求項１３】 請求項１に記載の化合物と薬学上許容できる担体とを含む
    医薬組成物。
  14. 【請求項１４】 有効量の請求項１に記載の化合物を投与することからなる
    炎症の予防又は治療方法。
  15. 【請求項１５】 有効量の請求項１３に記載の組成物を投与することからな
    る炎症の予防又は治療方法。
  16. 【請求項１６】 有効量の請求項１に記載の化合物を投与することからなる
    結合組織崩壊の予防又は治療方法。
  17. 【請求項１７】 有効量の請求項１３に記載の組成物を投与することからな
    る結合組織崩壊の予防又は治療方法。
  18. 【請求項１８】 有効量の請求項１に記載の化合物を投与することからなる
    、慢性関節リウマチ、変形性関節症、リウマチ様脊椎炎、痛風性関節炎、炎症性
    腸疾患、成人型呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）、乾癬、クローン病、アレルギー性
    鼻炎、潰瘍性大腸炎、アナフィラキシー、接触皮膚炎、喘息、ＨＩＶ感染症、サ
    イトメガロウイルス（ＣＭＶ）感染症、インフルエンザ、アデノウイルス感染症
    、ヘルペスウイルス感染症、帯状ヘルペス、筋変性、悪液質、ライター症候群、
    ＩＩ型糖尿病、骨吸収疾患、移植片対宿主反応、虚血再灌流障害、アテローム硬
    化症、脳外傷、アルツハイマー病、多発性硬化症、大脳マラリア、敗血症、敗血
    症性ショック、毒素ショック症候群、もしくは感染による発熱又は筋肉痛の治療
    方法。
  19. 【請求項１９】 有効量の請求項１３に記載の組成物を投与することからな
    る、慢性関節リウマチ、変形性関節症、リウマチ様脊椎炎、痛風性関節炎、炎症
    性腸疾患、成人型呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）、乾癬、クローン病、アレルギー
    性鼻炎、潰瘍性大腸炎、アナフィラキシー、接触皮膚炎、喘息、ＨＩＶ感染症、
    サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）感染症、インフルエンザ、アデノウイルス感染
    症、ヘルペスウイルス感染症、帯状ヘルペス、筋変性、悪液質、ライター症候群
    、ＩＩ型糖尿病、骨吸収疾患、移植片対宿主反応、虚血再灌流障害、アテローム
    硬化症、脳外傷、アルツハイマー病、多発性硬化症、大脳マラリア、敗血症、敗
    血症性ショック、毒素ショック症候群、もしくは感染による発熱又は筋肉痛の治
    療方法。
  20. 【請求項２０】 有効量の請求項１に記載の化合物を投与することからなる
    、ＴＮＦ−αの血漿濃度を低下させる方法。
  21. 【請求項２１】 有効量の請求項１３に記載の組成物を投与することからな
    る、ＴＮＦ−αの血漿濃度を低下させる方法。
  22. 【請求項２２】 有効量の請求項１に記載の化合物を投与することからなる
    、神経炎症性障害又は血管形成依存性疾患の治療方法。
  23. 【請求項２３】 有効量の請求項１３に記載の組成物を投与することからな
    る、神経炎症性障害又は血管形成依存性疾患の治療方法。
  24. 【請求項２４】 有効量の請求項１に記載の化合物を投与することからなる
    、慢性関節リウマチ、変形性関節症、オステオペニア、歯周炎、歯肉炎、角膜潰
    瘍形成、表皮潰瘍形成、胃潰瘍形成、腫瘍転移、腫瘍浸潤、腫瘍成長、ミエリン
    分解、癌、乾癬、増殖性網膜症、血管新生緑内障、眼の腫瘍、線維性血管腫、血
    管腫、腎炎、肺炎又は再狭窄の治療方法。
  25. 【請求項２５】 有効量の請求項１３に記載の組成物を投与することからな
    る、慢性関節リウマチ、変形性関節症、オステオペニア、歯周炎、歯肉炎、角膜
    潰瘍形成、表皮潰瘍形成、胃潰瘍形成、腫瘍転移、腫瘍浸潤、腫瘍成長、ミエリ
    ン分解、癌、乾癬、増殖性網膜症、血管新生緑内障、眼の腫瘍、線維性血管腫、
    血管腫、腎炎、肺炎又は再狭窄の治療方法。
  26. 【請求項２６】 炎症の予防又は治療用の組成物を製造するための請求項１
    〜１２に記載の化合物の使用。
  27. 【請求項２７】 結合組織崩壊の予防又は治療用の組成物を製造するための
    請求項１〜１２に記載の化合物の使用。
  28. 【請求項２８】 慢性関節リウマチ、変形性関節症、リウマチ様脊椎炎、痛
    風性関節炎、炎症性腸疾患、成人型呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）、乾癬、クロー
    ン病、アレルギー性鼻炎、潰瘍性大腸炎、アナフィラキシー、接触皮膚炎、喘息
    、ＨＩＶ感染症、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）感染症、インフルエンザ、ア
    デノウイルス感染症、ヘルペスウイルス感染症、帯状ヘルペス、筋変性、悪液質
    、ライター症候群、ＩＩ型糖尿病、骨吸収疾患、移植片対宿主反応、虚血再灌流
    障害、アテローム硬化症、脳外傷、アルツハイマー病、多発性硬化症、大脳マラ
    リア、敗血症、敗血症性ショック、毒素ショック症候群、もしくは感染による発
    熱又は筋肉痛の治療用の組成物を製造するための請求項１〜１２に記載の化合物
    の使用。
  29. 【請求項２９】 ＴＮＦ−αの血漿濃度を低下させるための組成物を製造す
    るための請求項１〜１２に記載の化合物の使用。
  30. 【請求項３０】 神経炎症性障害又は血管形成依存性疾患の治療用の組成物
    を製造するための請求項１〜１２に記載の化合物の使用。
  31. 【請求項３１】 慢性関節リウマチ、変形性関節症、オステオペニア、歯周
    炎、歯肉炎、角膜潰瘍形成、表皮潰瘍形成、胃潰瘍形成、腫瘍転移、腫瘍浸潤、
    腫瘍成長、ミエリン分解、癌、乾癬、増殖性網膜症、血管新生緑内障、眼の腫瘍
    、線維性血管腫、血管腫、腎炎、肺炎又は再狭窄の治療用の組成物を製造するた
    めの請求項１〜１２に記載の化合物の使用。
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