JP2001524933A - １―アルキル―３―メチルピペリドン―２及び１―アルキル―５―メチルピペリドン―２の調製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は２−メチルグルタロニトリルから１−アルキル−３−メチルピペリドン−２及び１−アルキル−５−メチルピペリドン−２を調製する方法で、その方法におけるビス−１,５−(メチルアミド)−３−メチルペンタンの選択率が８％未満であるように改良された方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 １−アルキル−３−メチルピペリドン−２及び１−アルキル−５−メチルピペリ ドン−２の調製方法 本発明は、係属中の、１９９６年９月６日出願で出願番号０８／７９８，９９ ９の一部継続出願である。 本発明は、２−メチルグルタロニトリルから１−アルキル−３−メチルピペリ ドン−２及び１−アルキル−５−メチルピペリドン−２を調製するための改良さ れた方法に関する。 発明の背景 ２−メチルグルタロニトリルはブタジエンをヒドロシアノ化してアジポニトリ ルを生成する際の副生成物である。アジポニトリルは水素添加してナイロン６， ６の成分の１つであるヘキサメチレンジアミンを生成するなど多くの用途がある 。２−メチルグルタロニトリルは工業用にはほとんど用いられないが、バッチプ ロセスで水素添加触媒の存在下、炭素数１から１８の第一級アルキルアミン、水 、水素と共に反応させて、１−アルキル−３−メチルピペリドン−２及び１−ア ルキル−５−メチルピペリドン−２に変換させられることが知られている。１− アルキル−３−メチルピペリドン−２及び１−アルキル−５−メチルピペリドン −２は溶媒として有用であり、それぞれ他のＮ−アルキルラクタムに似た溶媒特 性を持つ。 ２−メチルグルタロニトリルを１−３及び１−５ジアルキルピペリドン−２に 変化させるバッチプロセスはＫｏｓａｋの米国特許第５，４４９，７８０号に示 されている。この反応方法は二相の反応混合物で開始し、全部の水素が反応し終 わると一相となる。Ｋｏｓａｋの反応方法はビス−１，５−（アルキルアミド） −３メチルペンタンへの選択率が１２から４０％と高いことと、他の好ましくな い高沸点物質がかなりの濃度で含まれることが知られている。ビス−１，５−（ アルキルアミド）−３−メチルペンタンの存在は、生成物であるアルキルメチル ピ ペリドン−２の精製の際に問題となり、またビス−１，５−（メチルアミド）− ３−メチルペンタンが蒸留工程で熱により環化して１，３−ジメチルグルタルイ ミドを生成するため、ジメチルピペリドン−２の精製の際には特に問題となる。 １，３−ジメチルグルタルイミドの生成は真空蒸留操作にメチルアミンの放出に よる影響を与えるだけでなく、それが反応生成物であるジメチルピペリドン−２ と共に蒸留されて反応生成物ジメチルピペリドン−２の純粋な流れを容易に作る ことを事実上不可能にする。ジメチルピペリドン−２より高級なアルキルメチル ピペリドン−２の場合、合成反応から生じる対応のビス−１，５−（アルキルア ミド）−３メチルペンタンは蒸留中に対応の１−アルキル−３−メチルグルタル イミドを生成し、対応の揮発性のアルキルアミンを放出する。 発明の要約 本発明の連続方法は、水素添加触媒の存在下で水素と、２−メチルグルタロニ トリルと炭素数１から１８の第一級アルキルアミン水溶液と均一化溶媒との単一 相液体反応混合物とを反応させて、１−アルキル−３−メチルピペリドン−２及 び１−アルキル−５−メチルピペリドン−２を調製する方法で以下の段階を含む ものである。 （ａ）反応容器内で水素添加触媒を、単一相液体反応混合物中における均一化 溶媒と第一級アルキルアミン水溶液と２−メチルグルタロニトリルそれぞれの重 量パーセントが図１のＡＢ、ＢＣ、ＡＣの線で区切られた範囲に入る単一相液体 反応混合物と接触させる。 （ｂ）その反応容器に２−メチルグルタロニトリル、アルキルアミン水溶液、 水素を含む反応物の流れをひとつまたはそれ以上供給する。 （ｃ）その反応混合物を約２７ｂａｒｓ（４００ｐｓｉ）超の水素圧下で約１ ５０℃超に熱する。 （ｄ）１，３−及び１，５−アルキルメチルピペリドン−２を含む反応混合物 から生成物の流れを引き出し、同時に、均一化溶媒と第一級アルキルアミン水溶 液と２−メチルグルタロニトリルの単一相液体反応混合物中のそれぞれの重量パ ーセントが図１のＡＢ、ＢＣ、ＡＣの線で区切られた範囲に入る状態が保たれ るように、反応容器に（ｂ）で述べた反応物の流れを供給しつづける。その方法 ではビス−１，５−（アルキルアミド）−３−メチルペンタン生成の選択率が８ ％未満である。 均一化溶媒は反応系の中で反応性がなく、水混和性で、アルキルアミンと２− メチルグルタロニトリルが図１において要求されている限度まで溶解するもので あればどのような溶媒でもよい。 本発明方法はまたバッチプロセスで行うこともできる。 約２７ｂａｒｓ（４００ｐｓｉ）超の圧力と約１５０℃超の温度で行われるバ ッチプロセスでの本発明方法では生成物である１−アルキル−３−メチルピペリ ドン−２と１−アルキル−５−メチルピペリドン−２の選択性が改良されている 。本発明方法における改良は、水素添加触媒を、２−メチルグルタロニトリルと 第一級アルキルアミン水溶液と均一化溶媒との単一相液体混合物においてそれら 成分の濃度が総液体量に対する重量パーセントとして図１のＡＢ、ＢＣ、ＡＣの 線で区切られた範囲に入るものと混合することである。 この反応方法にとって好ましい第一級アルキルアミンはメチルアミンで、好ま しい生成物は１，３−ジメチルピペリドン−２と１，５−ジメチルピペリドン− ２である。 図面の簡単な説明 図１は単一相反応液体混合物の範囲を示し、ＡＢ、ＢＣ、ＡＣの線で区切られ 、本発明の２−メチルグルタロニトリルと第一級アルキルアミン水溶液と均一化 溶媒の濃度が、単一相反応液体混合物の総重量に対する重量パーセントで示され ている。 図２は連続攪拌タンク（ＣＳＴＲ）と連続細流層でのＭＧＮ転化度９０％で２ ００時間以上の反応操作におけるビス−１，５−（メチルアミド）−３−メチル ペンタンの選択率を示す。 発明の詳細な説明 ここにおいて用いられている選択率という用語は生成物の流れに含まれる全生 成物の総重量で特定の生成物の重量を割った値をいう。 Ｋｏｓａｋの米国特許第５，４４９，７８０号（Ｋｏｓａｋ）は２−メチルグ ルタロニトリルを水素添加して１，３−及び１，５−ジアルキルピペリドン−２ を生成するバッチプロセスを教示している。同特許の方法では反応物質即ち２− メチルグルタロニトリル、水、アルキルアミン、水素添加触媒の混合物を反応器 に入れる。次に、反応器を水素でパージ、加圧し、反応に適した条件に加熱する 。 そのＫｏｓａｋの反応条件下では液体反応物質は溶け込んでいる副生成物のア ンモニアと同様、反応過程の大部分において実質的に二相に分かれたままである ことが知られている。２−メチルグルタロニトリルはアミン水溶液にごく限られ た量しか溶解せず、そのアミンは圧倒的に水相に分布している。このようにＫｏ ｓａｋの反応系では、固体触媒相、気相、及び２つの液相が存在する。またＫｏ ｓａｋの方法は高沸点副生成物、特にビス−１，５−（アルキルアミド）−３− メチルペンタンの生成への選択率が高い。メチルアミンと２−メチルグルタロニ トリルとの反応において、Ｋｏｓａｋの方法のビス−１，５−（メチルアミド） −３−メチルペンタンへの選択率は１２から４０％の範囲にある。精製過程で、 この副生成物（およびメチルアミンよりも高級なアミンで合成を実施するときに は、これに類似構造を持つ対応の高級アルキル副生成物）は精製した生成物を生 成する際に深刻な問題を起こす。蒸留条件下で、副生成物のビス−１，５−（メ チルアミド）−３−メチルペンタン（及びそれに対応する高級アルキル化合物で 、Ｋｏｓａｋの方法での１−アルキル−３−メチルピペリドン−２あるいは１− アルキル−５−メチルピペリドン−２の合成において生成されるもの）は下記の 反応で環化される。 本発明の連続式単一液相反応方法では、連続的な生成物の除去と反応物質の連 続的な供給が組み合わされていて、図１に示すように反応が単一液相で行われる ため、高沸点副生成物、特にビス−１，５−（アルキルアミド）−３−メチルペ ンタンの生成への選択率が低い結果となる。この単一相反応は平衡と反応速度の 見地から従来技術の教える方法よりも有利であると思われる。 本発明の単一液相反応は、均一化溶媒を反応物質と触媒との混合物に加えるこ とで達成される。反応全体を通じて、本発明の方法では、アルキルアミン水溶液 、均一化溶媒、２−メチルグルタロニトリルの濃度（液相反応物質の混合物総重 量に対する重量パーセント）が単一相領域、即ち図１のＡ、Ｂ、Ｃの３点をつな ぐ線で区切られた範囲に連続して維持される。 均一化溶媒は、反応環境下で反応性がなく、水混和性で、図１に示された限界 までアルキルアミンと２−メチルグルタロニトリルが溶解するものであればなん でもよい。好ましい溶媒としては、ジオキサン、Ｎ−メチルピロリドン、１，３ −または１，５−アルキルメチルピペリドン−２あるいは１，３−と１，５−ア ルキルメチルピペリドン−２もしくは水混和性とアルキルアミンと２−メチルグ ルタロニトリルの溶解性について必要な特性をそなえている他のＮ−メチルまた はより高級なＮ−アルキルラクタムとの混合物である。特に１，３−と１，５− ジメチルピペリドン−２もしくはＮ−メチルピロリドンとの混合物が均一化溶媒 として好ましい。 本発明の方法では、生成物である１，３−と１，５−アルキルメチルピペリド ン−２が溶解するような均一化溶媒が好ましいが、生成物の１，３−と１，５− アルキルメチルピペリドン−２が連続した均一な生成物の流れとして流出させう るのであれば、そのような均一化溶媒である必要はない。 連続方法では、図１の濃度限界は、反応物質（アルキルアミンの水溶液と２− メチルグルタロニトリル）の供給と生成物の採取の比率を図１に定義された単一 相混合物の比率の範囲に調整することで維持される。例えば図１に示された本発 明の方法に従えば、２−メチルグルタロニトリルの濃度が２５重量％のとき、ア ルキルアミン水溶液の濃度は４０重量％で、均一化溶媒の濃度は３５重量％でな ければならない。図１はまた２−メチルグルタロニトリルの濃度が非常に低いか 、水の割合が非常に高い場合には、均一化溶媒の割合はおそらくゼロであろうこ とも示している。 第一級アルキルアミン水溶液の濃度は、反応条件下でそのアルキルアミンが完 全に水溶性であるどのような濃度でもよい。この値は反応物質として用いられて いるアルキルアミンの種類によって様々である。一般的にメチルアミンの場合、 好ましい濃度は４０重量％で、それはメチルアミンの室温、常圧下における溶解 度にほぼ等しいが、温度と圧力の条件が許す限り、それよりも低いかわずかに高 くてもよい。 反応物質混合物中の均一化溶媒の存在は、これまで知られていたバッチプロセ スから連続プロセスへの単なる変更にまさる利点をもたらす。本発明の発明人ら は、均一化溶媒を加えることによって水素添加反応が若干速く行われ、また１， ３−及び１，５−アルキルメチルピペリドン−２の選択率が驚くほど増加し、高 沸点副生成物、特にビス−１，５−（アルキルアミド）−３−メチルペンタンの 生成が減少することを発見した。本発明は従来技術が教えるものよりももっと利 点の多い反応生成混合物を見込んでいる。本発明の有利な選択率は、バッチプロ セスで行うか連続プロセスで行うかに左右されない。この選択率はまた本発明の 方法に使用される連続反応器の種類にも左右されない。 従来市販されている水素添加触媒は本発明の反応方法に有用である。このよう な触媒は黒鉛、炭素、アルミナ、炭化ストロンチウムまたは炭化カルシウム、シ リカ、珪藻土、チタニアあるいはジルコニアのような基体に支持された第VIII族 の金属である。パラジウムが好ましい第VIII族の触媒である。使用する触媒の分 量は用いられる触媒金属の種類、基体上の金属の濃度、反応器の種類、反応条件 によって変わる。 白金、レニウム、すず、ルテニウムなど反応促進剤またはそれらの混合物を触 媒と共に使用できる。反応促進剤の濃度は触媒中の金属の約０．５重量％〜約５ 重量％である。 この方法は約１５０℃超で約２７ｂａｒｓ（４００ｐｓｉ）超の圧力下で行う のが好ましい。 水素は反応器中に少なくとも化学量論量で存在せねばならない。化学量論量と いうのは、存在する水素の量が少なくともニトリルをアルキルアミンとアンモニ アに変換させるのに十分な量を意味する。 本発明の連続方法は連続固定層反応器、連続攪拌タンク反応器、バブルカラム 、あるいは外部ループ反応器のいずれで行ってもよい。 実施例 実施例１ 本実施例は、本発明の方法に従って連続固定層で２−メチルグルタロニトリル に水素添加して１，３−及び１，５−ジメチルピペリドン−２を生成する方法を 説明する。 ２重量％のパラジウムが炭素に担持された４×６粉砕粒状の触媒１８．３グラ ム（６０ｃｃ）を連続操作用に設計した３６インチ（９１．４ｃｍ）×０．７５ インチ（１．９ｃｍ）径のHastelloy Cオイルジャケット式細流層反応器に仕込 んだ。水素添加生成物の再循環流（生成物である１，３−及び１，５−ジメチル ピペリドン−２、他の有機物質、第一級アルキルアミンの水溶液、及びアミン） は本方法において溶媒希釈物として使用した。アミンを４０重量％含むメチルア ミンの水溶液は、最初に、１８０℃、３４ｂａｒｓの水素圧下において、１００ ｍｌ／時の流量で水素添加触媒上に再循環された。 ２つの流れが一緒に反応器に供給された。片方の流れは２−メチルグルタロニ トリル（濃度９９．５重量％、デラウェア州ウィルミントンのE．I．DuPont de Nemours and Company，Inc.,より入手）で、もう一方はメチルアミンの４０重量 ％水溶液であった。供給速度は２−メチルグルタロニトリルが７．４ｍｌ／時で 、アミン水溶液が８．２ｍｌ／時であった。再循環比は６．４対１であった。水 素の流量は４９８ｃｃ／分であった。第一級アルキルアミン水溶液、２−メチル グルタロニトリル、１，３−及び１，５−ジメチルピペリドン−２の均一化溶媒 それぞれの濃度は図１で必要とされている重量％の範囲にあった。 生成物の流れを１５ｃｃ／分の速度で反応器の混合物から取り出し、２リット ルのステンレス製セパレータに移し、０．３４ｂａｒ（５ｐｓｉ）下に放置して 、 生成物から水素とアンモニアを分離した。生成物から分離された水素とアンモニ アは窒素の排気パージ流に排出された。生成物の採取速度と反応物質の供給速度 は第一級アルキルアミン水溶液、２−メチルグルタロニトリル、１，３−及び１ ，５−ジメチルピペリドン−２の均一化溶媒それぞれの濃度が図１で必要とされ ている重量％の範囲にあるように調節した。 定常状態での反応操作が２４時間行われた。 ４５時間の連続操作後における生成物のガスクロマトグラフ分析は、２−メチ ルグルタロニトリルの９５％が変換されていることを示した。１，３−及び１， ５−ジメチルピペリドン−２の選択率は６８％であった。副生成物の選択率は、 １，３−ジメチルピペリジンが１２％、ビス−１，５−（メチルアミド）−３− メチルペンタンが１％、３及び５ジメチルピペリドン−２が２．２％、他の高沸 点物質が１１％であった。実施例２ 本実施例は本発明の方法に従って連続攪拌タンク反応器で２−メチルグルタロ ニトリルに水素添加して１，３−及び１，５−ジメチルピペリドン−２を生成す る方法を説明する。 ４０重量％のメチルアミン溶液１００ｍｌと炭素粉末に担持された５重量％の パラジウム触媒を５０重量％含む湿潤物３グラムを３００ｃｃのステンレス製オ ートクレーブに仕込んだ。そのオートクレーブには、マガドライブ（magadorive ）、攪拌器、冷却コイル、熱電対及び生成物を取り出すためのディップチューブ が装備されていた。オートクレーブへの仕込みが終わったら、反応器を密封し、 水素で３回パージした。 密封し、パージしたオートクレーブを１８０℃に加熱し、水素で３４ｂａｒｓ まで加圧した。それから１０００ｒｐｍの攪拌が開始された。 ９９．５重量％の２−メチルグルタロニトリル（デラウェア州ウィルミントン のE．I．DuPont de Nemours and Company，Inc.,より入手）をオートクレーブに １０ｍｌ／時の速度で流し込み、４０％のメチルアミン水溶液もオートクレーブ に８．８ｍｌ／時の速度で流し込んだ。ホールドアップ時間は５時間であった。 水素の流量は２５０ｃｃ／分であった。 生成物の流れを、次に実施例１にあるように１７．６ｍｌ／時の速度で引き出 し、２リットルのステンレス製ポットに移した。実施例１に述べたように反応開 始時の混合物中の第一級アルキルアミン水溶液、２−メチルグルタロニトリル、 １，３−及び１，５−ジメチルピペリドン−２の均一化溶媒それぞれの濃度は図 １で必要とされている重量％の範囲にあった。 定常状態での操作が４０時間つづけられた。 生成物の採取も含め１６１時間の作業の後、オートクレーブ内の圧力は５４． ４ｂａｒｓ（８００ｐｓｉ）まで上昇した。 実施例１と同様に、生成物の採取の際には、採取の速度と反応物質の供給速度 の均衡を図ったので、第一級アルキルアミン水溶液、２−メチルグルタロニトリ ル、１，３−及び１，５−ジメチルピペリドン−２の均一化溶媒それぞれの濃度 は図１で必要とされている重量％の範囲にあった。 ３０４時間の流れの後での生成物のガスクロマトグラフ分析は、２−メチルグ ルタロニトリルの９２％が変換されていることを示した。１，３−及び１，５− ジメチルピペリドン−２の選択率は６８．７％であった。副生成物の選択率は、 １，３−ジメチルピペリジン９．５％、ビス−１，５−（メチルアミド）−３− メチルペンタンが３．５％、３−及び５−メチルピペリドン−２が９．０％、他 の高沸点物質が１３．３％であった。実施例３ 本実施例は、Ｎ−メチルピロリドンを均一化溶媒として用い、バッチでの水素 添加によって２−メチルグルタロニトリルから１，３−及び１，５−ジメチルピ ペリドン−２を生成する方法を説明する。 ３００ｍｌのステンレス製オートクレーブに３８グラムの２−メチルグルタロ ニトリルと４９ｍｌの４０％メチルアミン水溶液、２．３グラムの水、６０グラ ムのＮ−メチルピロリドン、炭素に担持された５％のパラジウム触媒１．５グラ ム（２−メチルグルタロニトリルの４％に相当する触媒の添加）を仕込んだ。 この混合物は３成分の均一溶液となった。 反応器を閉じ、窒素と水素でそれぞれ２回パージし、それから室温下で水素を 用いて１００ｐｓｉｇまで加圧した。 内容物を１８０℃まで加熱し、水素で３４ｂａｒｓ（５００ｐｓｉｇ）まで加 圧し、攪拌器を１１００ｒｐｍの速度で回転させた。 水素の取り込みは記録計に接続されたトランスデューサで監視した。還元反応 は１２０分を要した。その後、水素の取り込みは観察されなかった。 反応物のガスクロマトグラフ分析では２−メチルグルタロニトリルが完全に変 換されたことが判った。１，３−及び１，５−ジメチルピペリドン−２の選択率 は５６．７％であった。副生成物の選択率は、１，３−ジメチルピペリジンが７ ％、ビス−１，５−（メチルアミド）−３−メチルペンタンが２．４％、３−及 び５−メチルピペリドン−２が１．７％、他の高沸点物質が２９．９％であった実施例４ 本実施例は、均一化溶媒を用いずに、２−メチルグルタロニトリルから１，３ −及び１，５−ジメチルピペリドン−２を水素添加によって生成する方法を説明 する。 攪拌器が装備された３００ｍｌのステンレス製オートクレーブに、６０グラム の２−メチルグルタロニトリルと８０．３ｍｌの３７．８％メチルアミン水溶液 、炭素に担持された５％のパラジウム触媒４．８グラム（２−メチルグルタロニ トリルの４％に相当する触媒の添加）を仕込んだ。 反応物質の混合物は２つに分かれた液相を含んでいた。 反応器を閉じ、窒素と水素で２度パージし、それから室温で水素を用いて１０ ０ｐｓｉｇまで加圧した。内容物を１８０℃まで加熱し、水素で３４ｂａｒｓ（ ５００ｐｓｉｇ）まで加圧し、攪拌器を１１００ｒｐｍの速度で回転させた。水 素の取り込みは記録計に接続されたトランスデューサで監視した。 還元反応は２４０分を要した。その後水素の取り込みは観察されなかった。 反応物のガスクロマトグラフ分析では２−メチルグルタロニトリルが完全に変 換されたことが判った。１，３−及び１，５−ジメチルピペリドン−２の選択率 は４３．５％であった。副生成物の選択率は、１，３−ジメチルピペリジンが１ ． ０％、ビス−１，５−（メチルアミド）−３−メチルペンタンが４２．１％、３ 及び５−ジメチルピペリドン−２が２．０％、他の高沸点物質が１５％であった 。 下記の表１は従来技術と本発明における選択率の比較を示す。反応条件も表中 に示している。本発明の反応条件は表中の９から１２に示す。 表において ＭＧＮ変換は９５％超、ＮＭＰはｎ−メチルピロリドン、ＤＭＰＤはジメチル ピペリドン−２、分子量１７２は副生成物の分子量でビス−１，５−（メチルア ミド）−３−メチルペンタンをあらわす。 図２は連続攪拌タンク（ＣＳＴＲ）と連続細流層反応器それぞれにおいて２０ ０時間以上反応を行い、ＭＧＮ変換が９０％であるときのビス−１，５−（メチ ルアミド）−３−メチルペンタンの選択率を示す。本発明の連続反応方法におい ては均一化溶媒を必要としない従来技術のバッチ反応に比べてビス−１,５−(メ チルアミド)−３−メチルペンタンの選択率が低い。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＡ，ＣＮ，ＪＰ，Ｋ Ｒ，ＳＧ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．水素添加触媒の存在下で、水素及び２−メチルグルタロニトリルと炭素数１ から１８の第一級アルキルアミン水溶液と均一化溶媒の単一相液体反応混合物か ら１−アルキル−３−メチルピペリドン−２と１−アルキル−５−メチルピペリ ドン−２を調製する連続方法であって、その方法におけるビス−１，５−（メチ ルアミド）−３−メチルペンタンの選択率が８％未満であり、 （ａ）反応容器内で、水素添加触媒を、均一化溶媒と第一級アルキルアミン水 溶液と２−メチルグルタロニトリルのそれぞれの単一相液体反応混合物中におけ る重量パーセントが図１のＡＢ、ＢＣ、ＡＣの線で区切られた範囲に入っている 単一相液体反応混合物と接触させるステップと、 （ｂ）その反応容器に、２−メチルグルタロニトリル、アルキルアミン水溶液 、水素を含む反応物質の流れをひとつまたはそれ以上供給するステップと、 （ｃ）その反応混合物を約２７ｂａｒｓ（４００ｐｓｉ）超の水素圧下で約１ ５０℃超に加熱するステップと、 （ｄ）１−アルキル−３−メチルピペリドン−２及び１−アルキル−５−メチ ルピペリドン−２を含む反応混合物から生成物の流れを引き出し、同時に、均一 化溶媒と第一級アルキルアミンの水溶液と２−メチルグルタロニトリルの単一相 液体反応混合物中の重量パーセントが図１のＡＢ、ＢＣ、ＡＣの線で区切られた 範囲に入っている状態が保たれるように、反応容器に（ｂ）に述べた反応物質の 流れを供給しつづけるステップと を含むことを特徴とする方法。 ２．均一化溶媒がジオキサン、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチルピペリ ドン−２、１，５−ジメチルピペリドン−２、及び１，３−及び１，５−ジメチ ルピペリドン−２との混合物、及び水混合性とアルキルアミンと２−メチルグル タロニトリルに対する溶解性の特性を有するＮ−メチルまたはより高級Ｎ−アル キルラクタムからなるグループから選択されることを特徴とする請求項１に記載 の方法。 ３．第一級アルキルアミンがメチルアミンで、生成物が１，３−ジメチルピペリ ドン−２と１，５−ジメチルピペリドン−２であることを特徴とする請求項１に 記載の方法。 ４．水素添加触媒の存在下、約２７ｂａｒｓ（４００ｐｓｉ）超の水素圧下、約 １５０℃超で、２−メチルグルタロニトリルと炭素数１から１８の第一級アルキ ルアミンの水溶液と水素から１−アルキル−３−メチルピペリドン−２と１−ア ルキル−５−メチルピペリドン−２を調製する改良バッチプロセスであって、改 良点が、２−メチルグルタロニトリルと第一級アルキルアミンの水溶液と均一化 溶媒の単一相液体混合物であり、各成分の濃度が図１のＡＢ、ＢＣ、ＡＣの線で 区切られた範囲にはいる前記単一相液体混合物に水素添加触媒を混合することと 、その方法におけるビス−１，５−（メチルアミド）−３−メチルペンタンの選 択率が８％未満であることを特徴とする方法。 ５．均一化溶媒がジオキサン、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチルピペリ ドン−２、１，５−ジメチルピペリドン−２、及び１，３−及び１，５−ジメチ ルピペリドン−２との混合物、及び第一級アルキルアミン水溶液混和性と第一級 アルキルアミンと２−メチルグルタロニトリルに対して溶解性の特性を有するＮ −メチルまたはより高級なＮ−アルキルラクタムからなるグループから選択され ることを特徴とする請求項４に記載の方法。 ６．第一級アルキルアミンがメチルアミンで、生成物が１，３−ジメチルピペリ ドン−２と１，５−ジメチルピペリドン−２であることを特徴とする請求項４に 記載の方法。