JP2001521293A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 前駆物質を解離する亀裂器、蒸着領域、ウェファ保持用に適応され前記蒸着領域内に位置されたチャック、および亀裂器とチャック間に位置された移動可能流れパターン調節器を有する、
ことを特徴とする薄膜製作用輸送蒸着システム（反応器）。
【請求項２】 前駆物質を解離する亀裂器、蒸着領域、ウェファ保持用に適応され前記蒸着領域内に位置されたチャック、および亀裂器とチャック間に位置された拡散プレートを有する、
ことを特徴とする薄膜製作用輸送蒸着システム。
【請求項３】 前駆物質を解離する亀裂器、蒸着領域、ウェファ保持用に適応され前記蒸着領域内に位置されたチャック、および流れパターン調節器、および拡散プレートを有し、ここでチャック、流れパターン調節器、および拡散プレートの少なくとも二つは移動可能である、
ことを特徴とする薄膜製作用輸送蒸着システム。
【請求項４】 亀裂器を囲む非金属性の透明な外側シェル、反応性中間物を発生するように前駆物質を解離するため亀裂器に放射エネルギーを与える光源、亀裂器内に前駆物質を導入する入口ポート、および亀裂器から製品を除去する出口ポートを有する、
ことを特徴とする輸送重合用反応チャンバー。
【請求項５】 亀裂器は更に亀裂器を少なくとも部分的に囲む水素膜を有する、
ことを特徴とする請求項４に記載の反応チャンバー。
【請求項６】 亀裂器を囲む外側シェル、反応性中間物を発生するように前駆物質を解離するため亀裂器に放射エネルギーを与えるエネルギー源、亀裂器内に前駆物質を導入する入口ポート、および亀裂器から製品を除去する出口ポートを有する、
ことを特徴とする輸送重合用反応チャンバー。
【請求項７】 前駆物質源、
前駆物質を処理するように適応された亀裂器、
前駆物質を解離するために亀裂器と関連するエネルギー源、ここでエネルギー源は赤外線放射、紫外線放射、真空紫外線放射、無線周波発生器およびマイクロ波発生器の一つを含み、および
ウェファを支持するように適応されたチャックを有する、
ことを特徴とする弗化ポリマー薄膜製作用に使用される反応器。
【請求項８】 流れパターン調節器、および解離された前駆物質のウェファ上への分布を制御する拡散プレートの少なくとも一つを有する、
ことを特徴とする請求項７に記載の反応器。
【請求項９】 赤外線放射、紫外線放射、および真空紫外線放射の一つのソースは前駆物質のフローストリーム内に置かれた透明管の内部に封じ込まれる、
ことを特徴とする請求項１に記載の反応器。
【請求項１０】 更に亀裂器とチャック間に置かれたダイマーフィルターを有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の反応器。
【請求項１１】 亀裂器、チャック、および亀裂器とチャック間の粉末フィルターを有する、
ことを特徴とする輸送重合用反応器。
【請求項１２】 亀裂器、チャック、および亀裂器とチャック間に置かれた円錐形ガイドを有する、
ことを特徴とする輸送重合用反応器。
【請求項１３】 亀裂器、少なくとも亀裂器を部分的に囲む水素膜、チャック、および亀裂器とチャック間に置かれたガイドを有する、
ことを特徴とする輸送重合用反応器。
【請求項１４】 ウェファプレクリーナーはチャックと関連する、
ことを特徴とする請求項１に記載の反応器。
【請求項１５】 亀裂器は触媒を包含する、
ことを特徴とする請求項１に記載の反応器。
【請求項１６】 Arは弗化芳香族成分、およびYは脱離基として、弗化ポリマーの合成用前記前駆物質は次の構造の化合物を有する、
F₂C-Ar-CF₂
｜ ｜
Y Y
ことを特徴とする請求項１に記載の反応器。
【請求項１７】 チャンバー、
チャンバーと関連するガス注入器、
チャンバー内に置かれ、ガス注入器から離隔されたチャック、
ガス注入器に隣接して置かれたエネルギー源、および
排出ガスを分解するためにチャンバー壁と関連する放射源を有する、
ことを特徴とする輸送重合または化学気相成長法用反応器。