JP2001513524A - フルオロビニルオキシフェニル残基を有する殺菌化合物およびその製造方法 - Google Patents
フルオロビニルオキシフェニル残基を有する殺菌化合物およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
フルオロビニルオキシフェニル残基を有する下記一般式（Ｉ）の殺菌性化合物およびその立体異性体は細菌による病害から農作物を保護することに有用である：（式中、ＸはＣＨまたはＮであり、ＹはＯまたはＳであり、ＺはＯまたはＮＨであり、Ｒ１は水素またはＣＦ3であり、Ｒ2は水素、Ｃ１−１０アルキル、ナフチル、チオフェニル、または任意にＣ１−６アルキル、ハロゲン−置換されたＣ １−６アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、フェノキシ、ハロゲンまたはメチレンジオキシラジカルからなる群から選ばれる一つまたは複数の置換基を含有するフェニル基である）。
Description
【０００１】
本発明は、フルオロビニルオキシフェニル残基を有する新規な殺菌化合物、そ
の製造方法およびそれを活性成分として含む殺菌剤組成物に関する。
の製造方法およびそれを活性成分として含む殺菌剤組成物に関する。
【０００２】
多くの殺菌性化合物は、様々な病原菌から農作物を保護するに実用されており
、これらは類似な構造的特性によって幾つかの菌に分類され得る。しかし、殺菌
剤を長期間繰り返して用いることは特定の殺菌剤のみならず、通常の構造的特徴 を有する関連殺菌剤に対しても耐性を有する新しい菌株を出現させる。このよう
な理由で、新しい構造を有する殺菌剤を開発するための努力が続いてきた。
、これらは類似な構造的特性によって幾つかの菌に分類され得る。しかし、殺菌
剤を長期間繰り返して用いることは特定の殺菌剤のみならず、通常の構造的特徴 を有する関連殺菌剤に対しても耐性を有する新しい菌株を出現させる。このよう
な理由で、新しい構造を有する殺菌剤を開発するための努力が続いてきた。
【０００３】 そのような努力によって、新しい殺菌剤、たとえば、ストロビルリンから誘導
されたプロペン酸エステルが開発された(Ｓｔｒｏｂｉｌｕｒｉｎ、米国特許第 ４，９９４，４９５号；ＷＯ９４／１９３３１号；および米国特許第５，００３
，１０１号)。このプロペン酸エステル誘導体は制限された殺菌活性の問題を有 する。
されたプロペン酸エステルが開発された(Ｓｔｒｏｂｉｌｕｒｉｎ、米国特許第 ４，９９４，４９５号；ＷＯ９４／１９３３１号；および米国特許第５，００３
，１０１号)。このプロペン酸エステル誘導体は制限された殺菌活性の問題を有 する。
【０００４】
したがって、本発明の主な目的は、広範囲なスペクトルの植物病原性細菌に対
して優れた殺菌活性を有する新規な化合物を提供することである。
して優れた殺菌活性を有する新規な化合物を提供することである。
【０００５】 本発明の他の目的は、前記化合物の製造方法を提供することである。
【０００６】 本発明のまた他の目的は、前記化合物を含有する殺菌剤組成物を提供すること
である。
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】 本発明の一態様によれば、下記一般式（I）の新規な化合物およびその立体異 性体が提供される：
【化５】 （式中、ＸはＣＨまたはＮであり、ＹはＯまたはＳであり、ＺはＯまたはＮＨで
あり、Ｒ１は水素またはＣＦ3であり、Ｒ2は水素、Ｃ１−１０アルキル、ナフチ
ル、チオフェニル、または任意にＣ１−６アルキル、ハロゲン−置換されたＣ１ −６ アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、フェノキシ、ハロゲンまたはメチレンジオ
キシラジカルからなる群から選ばれる一つまたは複数で置換されるフェニル基で
ある）。
あり、Ｒ１は水素またはＣＦ3であり、Ｒ2は水素、Ｃ１−１０アルキル、ナフチ
ル、チオフェニル、または任意にＣ１−６アルキル、ハロゲン−置換されたＣ１ −６ アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、フェノキシ、ハロゲンまたはメチレンジオ
キシラジカルからなる群から選ばれる一つまたは複数で置換されるフェニル基で
ある）。
【０００８】
本発明の一般式（I）の化合物の構造はフルオロビニルオキシフェノキシ残基 と特徴付けられるが、ＸがＣＨであるか、Ｎであるかによってプロペン酸誘導体
（Ｘ＝ＣＨ）またはイミノフェニル酢酸誘導体（Ｘ＝Ｎ）に分類され得る。
（Ｘ＝ＣＨ）またはイミノフェニル酢酸誘導体（Ｘ＝Ｎ）に分類され得る。
【０００９】 本発明の化合物は、二つの非対称的に置換された二重結合によって四つの立体
異性体を有し、カン−インゴルド−プレログ（Ｃａｈｎ−Ｉｎｇｏｌｄ−Ｐｒｅ
ｌｏｇ）システム（文献［Ｊ．Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，３ｒｄ Ｅｄ，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ］
参照）によれば、これらの四つの立体異性体は（Ｅ,Ｅ）、(Ｅ,Ｚ)、(Ｚ,Ｅ)お よび（Ｚ,Ｚ）と示すことができ、これらも本発明の範疇に含まれる。
異性体を有し、カン−インゴルド−プレログ（Ｃａｈｎ−Ｉｎｇｏｌｄ−Ｐｒｅ
ｌｏｇ）システム（文献［Ｊ．Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，３ｒｄ Ｅｄ，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ］
参照）によれば、これらの四つの立体異性体は（Ｅ,Ｅ）、(Ｅ,Ｚ)、(Ｚ,Ｅ)お よび（Ｚ,Ｚ）と示すことができ、これらも本発明の範疇に含まれる。
【００１０】 本発明の化合物のうち好ましい化合物は、ＹがＯであり、ＺがＯであり、Ｒ1 が水素であり、Ｒ2がナフチルまたは任意にメチル、メトキシまたはハロゲンで 置換されるフェニル基であるもの；およびＹがＯであり、Ｒ1がＣＦ3であり、Ｒ 2 が任意にメチル、メトキシまたはハロゲンで置換されるフェニル基であるもの である。
【００１１】 本発明の化合物は、下記反応式Ａに示すように、（ａ）塩基の存在下で式（II
）の化合物と３−ヒドロキシフェノール（レゾルシノール）を反応させて式（II
I）の化合物を得る段階、および（ｂ）塩基の存在下で式（III）の化合物を、式
（IV）の化合物と反応させる段階によって製造され得る： 反応式Ａ
）の化合物と３−ヒドロキシフェノール（レゾルシノール）を反応させて式（II
I）の化合物を得る段階、および（ｂ）塩基の存在下で式（III）の化合物を、式
（IV）の化合物と反応させる段階によって製造され得る： 反応式Ａ
【化６】 (式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ1およびＲ2は各々前記式（I）で定義した通りである)。
【００１２】 代表的な式（II）の化合物は下記の式（II−ａ）（Ｘ＝ＣＨ、Ｙ=Ｏ、Ｚ=Ｏ）
、式（II−ｂ）（Ｘ＝Ｎ、Ｙ＝Ｏ、Ｚ＝Ｏ）および式（II−ｃ）（Ｘ＝ＣＨ、Ｙ ＝Ｓ、Ｚ＝Ｏ）の化合物である：
、式（II−ｂ）（Ｘ＝Ｎ、Ｙ＝Ｏ、Ｚ＝Ｏ）および式（II−ｃ）（Ｘ＝ＣＨ、Ｙ ＝Ｓ、Ｚ＝Ｏ）の化合物である：
【化７】
【化８】
【化９】
【００１３】 前記構造式（ＩＩ−ａ）の化合物は、下記反応式Ｂに示すように、通常の方法
に従ってｏ−トリル酢酸のエステル化、ホルミル化、メチル化および臭素化反応
によって製造され得る（文献［Ｙａｍａｄａ，Ｋ．等，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．，２７４５(１９７３)］；[Ｖｙａｓ，Ｇ．Ｎ．等，Ｏｒｇ．Ｓｙ ｎ．Ｃｏｌｌ．，Ｖｏｌ．４. ８３６(１９６３)]；および[Ｋａｌｉｒ，Ａ． ，Ｏｒｇ. Ｓｙｎ．Ｃｏｌｌ．，Ｖｏｌ．５, ８２５(１９７３)］参照）。 反応式Ｂ
に従ってｏ−トリル酢酸のエステル化、ホルミル化、メチル化および臭素化反応
によって製造され得る（文献［Ｙａｍａｄａ，Ｋ．等，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．，２７４５(１９７３)］；[Ｖｙａｓ，Ｇ．Ｎ．等，Ｏｒｇ．Ｓｙ ｎ．Ｃｏｌｌ．，Ｖｏｌ．４. ８３６(１９６３)]；および[Ｋａｌｉｒ，Ａ． ，Ｏｒｇ. Ｓｙｎ．Ｃｏｌｌ．，Ｖｏｌ．５, ８２５(１９７３)］参照）。 反応式Ｂ
【化１０】
【００１４】 前記式（II−ｂ）の化合物は、下記反応式Cに示すように、通常の方法に従っ てo−ブロモトルエンのグリニャール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）反応、シュウ酸化、 縮合および臭素化反応によって合成し得る（文献［Ｒａｍｂａｕｄ，Ｍ．等，Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ，５６４（１９８８）］；韓国特許第８８６７３号；およびＰ
ＣＴ／ＫＲ９５／０００２０参照）。 反応式Ｃ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ，５６４（１９８８）］；韓国特許第８８６７３号；およびＰ
ＣＴ／ＫＲ９５／０００２０参照）。 反応式Ｃ
【化１１】
【００１５】 式（II−ｃ）の化合物は、下記反応式Ｄに示すように、通常の方法に従ってメ
チル３−ヒドロキシ−２−(２’−メチル)フェニル−２−プロペン酸エステルの
スルホニル化、親核性置換反応および臭素化反応を通じて合成することができる
（韓国特許出願第９５−３７５５９号参照）。 反応式Ｄ
チル３−ヒドロキシ−２−(２’−メチル)フェニル−２−プロペン酸エステルの
スルホニル化、親核性置換反応および臭素化反応を通じて合成することができる
（韓国特許出願第９５−３７５５９号参照）。 反応式Ｄ
【化１２】 (式中、ＭｓＯはメタンスルホニルオキシ基を示す)。
【００１６】 代表的な式（III）の化合物は、下記の（III−ａ）（Ｘ＝ＣＨ、Ｙ＝Ｏ、Ｚ＝
Ｏ）、式（III−ｂ）（Ｘ＝Ｎ、Ｙ＝Ｏ、Ｚ＝Ｏ）および式（III−ｃ）（Ｘ＝Ｃ
Ｈ、Ｙ＝Ｓ、Ｚ＝Ｏ）の化合物である：
Ｏ）、式（III−ｂ）（Ｘ＝Ｎ、Ｙ＝Ｏ、Ｚ＝Ｏ）および式（III−ｃ）（Ｘ＝Ｃ
Ｈ、Ｙ＝Ｓ、Ｚ＝Ｏ）の化合物である：
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【００１７】 式（II）の化合物と３−ヒドロキシフェノールを塩基の存在下で反応させて式
（III）の化合物を製造する。式（II）の化合物と３−ヒドロキシフェノールは 等モル量で用いられ得、塩基はこれらの化合物の２モル当量の量で用いられ得る
。塩基は無機塩基、たとえば、水素化ナトリウム、ｔ−ブトキシ化カリウム、炭
酸ナトリウムまたは炭酸カリウム；または有機塩基、たとえば、トリエチルアミ
ンまたはピリジンであり得る。前記反応に使用される溶媒としては、アセトン、
ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタンま
たはジメチルホルムアミドがあり、前記反応は室温ないし１００℃の範囲の温度
で行い得る。前記反応の進行は、薄膜クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で式（II）
の化合物の消滅を測定することによって便利に確認する。
（III）の化合物を製造する。式（II）の化合物と３−ヒドロキシフェノールは 等モル量で用いられ得、塩基はこれらの化合物の２モル当量の量で用いられ得る
。塩基は無機塩基、たとえば、水素化ナトリウム、ｔ−ブトキシ化カリウム、炭
酸ナトリウムまたは炭酸カリウム；または有機塩基、たとえば、トリエチルアミ
ンまたはピリジンであり得る。前記反応に使用される溶媒としては、アセトン、
ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタンま
たはジメチルホルムアミドがあり、前記反応は室温ないし１００℃の範囲の温度
で行い得る。前記反応の進行は、薄膜クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で式（II）
の化合物の消滅を測定することによって便利に確認する。
【００１８】 反応式Ａでのように、式（IV）の化合物を式（III）の化合物と反応させて式 （I）の化合物を製造する。
【００１９】 式（ＩＶ−ａ）の化合物、すなわち、Ｒ1が水素である式（ＩＶ）の化合物は 、下記反応式Ｅに示すように、通常の方法に従って、Ｒ２のハロゲン化物のグリ
ニャール反応、還元、ハロゲン化、脱ハロゲン化反応によって合成することがで
きる（文献［Ｈｅｒｋｅｓ，Ｆ．Ｅ．等，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３２, １３
１１(１９６７)］；および文献［Ｎｅｍｅｔｈ，Ｇ．等，Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ
Ｃｈｅｍ．，７６, ９１(１９９６)］参照）： 反応式Ｅ
ニャール反応、還元、ハロゲン化、脱ハロゲン化反応によって合成することがで
きる（文献［Ｈｅｒｋｅｓ，Ｆ．Ｅ．等，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３２, １３
１１(１９６７)］；および文献［Ｎｅｍｅｔｈ，Ｇ．等，Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ
Ｃｈｅｍ．，７６, ９１(１９９６)］参照）： 反応式Ｅ
【化１６】 （式中、Ｒ２は前記式（I）で定義したような同じ意味を有し、Ｗはハロゲンを 示す）。
【００２０】 式（IV−ｂ）の化合物、すなわち、Ｒ1がＣＦ3である式（IV）の化合物は、下
記反応式Ｆに示すように、通常の方法に従って、Ｒ２のハロゲン化物のグリニャ
ール反応およびウィッティッヒ反応によって合成することができる（文献［Ｈｅ
ｒｋｅｓ，Ｆ．Ｅ．等，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３２, １３１１(１９６７)］
；および文献［Ｗｈｅａｔｍａｎ，Ｇ．Ａ．等，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４８
，９１７(１９８３)］参照）： 反応式Ｆ
記反応式Ｆに示すように、通常の方法に従って、Ｒ２のハロゲン化物のグリニャ
ール反応およびウィッティッヒ反応によって合成することができる（文献［Ｈｅ
ｒｋｅｓ，Ｆ．Ｅ．等，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３２, １３１１(１９６７)］
；および文献［Ｗｈｅａｔｍａｎ，Ｇ．Ａ．等，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４８
，９１７(１９８３)］参照）： 反応式Ｆ
【化１７】 (式中、Ｒ２およびＷは前記と同じ意味を有する)。
【００２１】 本発明の化合物は、式（III）の化合物と式（IV）の化合物を塩基の存在下で 反応させることによって製造することができる。式（III）の化合物と式（IV） の化合物は等モル量で用いることができ、塩基は１ないし２当量で使用され得る
。塩基は無機塩基、たとえば、水素化ナトリウム、ｔ−ブトキシ化カリウム、炭
酸ナトリウムまたは炭酸カリウム；または有機塩基、たとえば、トリエチルアミ
ンまたはピリジンであり得る。前記反応に使用され得る溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはジメ
チルホルムアミドがあり、反応温度は室温ないし１００℃範囲である。
。塩基は無機塩基、たとえば、水素化ナトリウム、ｔ−ブトキシ化カリウム、炭
酸ナトリウムまたは炭酸カリウム；または有機塩基、たとえば、トリエチルアミ
ンまたはピリジンであり得る。前記反応に使用され得る溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはジメ
チルホルムアミドがあり、反応温度は室温ないし１００℃範囲である。
【００２２】 式（II−ａ−４）、式（II−ｂ−３）または式（II−ｃ−３）の化合物のＥま
たはＺ異性体の混合物を前記反応（反応式Ａ）に用いる場合、本発明の化合物は
（Ｅ,Ｅ）および（Ｅ,Ｚ）異性体が主要量であり、（Ｚ,Ｅ）および（Ｚ,Ｚ）異
性体が少量である、四つの異性体の混合物として得られる。本発明の化合物の前
記四つの立体異性体の構造は下記に示す。
たはＺ異性体の混合物を前記反応（反応式Ａ）に用いる場合、本発明の化合物は
（Ｅ,Ｅ）および（Ｅ,Ｚ）異性体が主要量であり、（Ｚ,Ｅ）および（Ｚ,Ｚ）異
性体が少量である、四つの異性体の混合物として得られる。本発明の化合物の前
記四つの立体異性体の構造は下記に示す。
【００２３】 Ｒ１が水素である場合
【化１８】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【００２４】 Ｒ１がＣＦ３である場合
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】 (式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１およびＲ２は前記式（I）で定義したような同じ意味 を有する)。
【００２５】 式（II−ａ−４）、式（II−ｂ−３）または式（II−ｃ−３）の化合物のＥ異
性体のみを用いる場合、本発明の化合物は（Ｅ,Ｅ）および（Ｅ,Ｚ）異性体の混
合物として得られ、これは１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲ分析法で確認され
る。
性体のみを用いる場合、本発明の化合物は（Ｅ,Ｅ）および（Ｅ,Ｚ）異性体の混
合物として得られ、これは１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲ分析法で確認され
る。
【００２６】 Ｒ１が水素である本発明の化合物の１Ｈ−ＮＭＲ分析（基準化合物、ＴＭＳ）
によれば、（Ｅ,Ｅ）異性体のビニル基の水素は５．５ないし５．８ｐｐｍにお いて５ないし６Ｈｚのカップリング常数を有する二重線として示され、（Ｅ,Ｚ ）異性体の場合は５．０ないし５．４ｐｐｍにおいて３０Ｈｚのカップリング常
数を有する二重線と示される。（Ｅ,Ｅ）異性体と（Ｅ,Ｚ）異性体の比率は約３
．５：１であり、これは１Ｈ−ＮＭＲ分光光度計上における積分値から算出する
ことができる。
によれば、（Ｅ,Ｅ）異性体のビニル基の水素は５．５ないし５．８ｐｐｍにお いて５ないし６Ｈｚのカップリング常数を有する二重線として示され、（Ｅ,Ｚ ）異性体の場合は５．０ないし５．４ｐｐｍにおいて３０Ｈｚのカップリング常
数を有する二重線と示される。（Ｅ,Ｅ）異性体と（Ｅ,Ｚ）異性体の比率は約３
．５：１であり、これは１Ｈ−ＮＭＲ分光光度計上における積分値から算出する
ことができる。
【００２７】 Ｒ１がＣＦ３である本発明の化合物の１９Ｆ−ＮＭＲ分析データによれば、（
Ｅ,Ｚ）異性体のビニル基のフッ素置換体およびＣＦ３のフッ素は、各々、−７ ５．９ｐｐｍ位置において２３．４Ｈｚのカップリング常数を有する四重線、お
よび−５８．５ｐｐｍ位置において２３．７Ｈｚのカップリング常数を有する二
重線と表される。反面、（Ｅ,Ｅ）異性体は、各々、−７５．３ｐｐｍの位置に おいて１２．６Ｈｚのカップリング常数を有する四重線および−５８．７ｐｐｍ
位置において１２．６Ｈｚのカップリング常数を有する二重線と表される。（Ｅ
,Ｚ）異性体と（Ｅ,Ｅ）異性体の比率は約２：１であって、１９Ｆ−ＮＭＲ分光
光度計上の積分値から計算することができる。
Ｅ,Ｚ）異性体のビニル基のフッ素置換体およびＣＦ３のフッ素は、各々、−７ ５．９ｐｐｍ位置において２３．４Ｈｚのカップリング常数を有する四重線、お
よび−５８．５ｐｐｍ位置において２３．７Ｈｚのカップリング常数を有する二
重線と表される。反面、（Ｅ,Ｅ）異性体は、各々、−７５．３ｐｐｍの位置に おいて１２．６Ｈｚのカップリング常数を有する四重線および−５８．７ｐｐｍ
位置において１２．６Ｈｚのカップリング常数を有する二重線と表される。（Ｅ
,Ｚ）異性体と（Ｅ,Ｅ）異性体の比率は約２：１であって、１９Ｆ−ＮＭＲ分光
光度計上の積分値から計算することができる。
【００２８】 ＺがＮＨである本発明の化合物（本発明のプロペンアミド誘導体またはイミノ
フェニルアセトアミド誘導体）は、有機溶媒、たとえば、メタノールのようなア
ルコール、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはジメチルホルムアミド中で、
対応する本発明のプロペン酸エステル誘導体またはイミノフェニル酢酸誘導体を
過量のメチルアミンと反応させることによって製造することができる。
フェニルアセトアミド誘導体）は、有機溶媒、たとえば、メタノールのようなア
ルコール、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはジメチルホルムアミド中で、
対応する本発明のプロペン酸エステル誘導体またはイミノフェニル酢酸誘導体を
過量のメチルアミンと反応させることによって製造することができる。
【００２９】 本発明の化合物は、様々な植物性病原菌、たとえば、稲熱病を誘発するピリキ
ュラリア・オリゼ・カルバラ（Pyricularia oryzae Cavara）ＫＡ３０１、紋枯 病を誘発するライゾックトニア・ソラニ（Rhizoctonia solani）ＡＧ−１、キュ
ウリ灰色黴病を誘発するボトリチス・シネレア（Botrytis cinerea）、トマト疫
病を起こす疫病菌（Phytophthora infestans）、コムギ赤さび病を起こすプック
シニア・レコンジタ（Puccinia recondita）およびムギウドンコ病を起こすエリ
シプ・グラミニス（Erysiphe graminis）に対して広範囲なスペクトルの殺菌活 性を有する。
ュラリア・オリゼ・カルバラ（Pyricularia oryzae Cavara）ＫＡ３０１、紋枯 病を誘発するライゾックトニア・ソラニ（Rhizoctonia solani）ＡＧ−１、キュ
ウリ灰色黴病を誘発するボトリチス・シネレア（Botrytis cinerea）、トマト疫
病を起こす疫病菌（Phytophthora infestans）、コムギ赤さび病を起こすプック
シニア・レコンジタ（Puccinia recondita）およびムギウドンコ病を起こすエリ
シプ・グラミニス（Erysiphe graminis）に対して広範囲なスペクトルの殺菌活 性を有する。
【００３０】 したがって、本発明は、活性成分として式（I）の化合物またはその立体異性 体の一つ以上を、殺菌剤に許容可能な担体とともに含む殺菌剤組成物を範囲内に
含む。
含む。
【００３１】 本発明の殺菌剤組成物は、エマルジョン、水性分散液、粉末および顆粒状のよ
うな種々の形態に剤形化され得、これらは通常の添加剤を含有することもできる
。式（Ｉ）の化合物は、エマルジョンまたは水性分散液を基準として１０ないし
９０重量％の量、または顆粒を基準として０．１ないし１０重量％の量で使用さ
れ得る。
うな種々の形態に剤形化され得、これらは通常の添加剤を含有することもできる
。式（Ｉ）の化合物は、エマルジョンまたは水性分散液を基準として１０ないし
９０重量％の量、または顆粒を基準として０．１ないし１０重量％の量で使用さ
れ得る。
【００３２】 本発明に使用され得る、殺菌剤に許容可能な担体としては、液体担体、たとえ
ば、水、アルコール類（エタノール、エチレングリコール、グリセリン）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、セロソルブ）、脂肪族炭化水素類（ガソリン、ケロセン）、ハロゲン
化炭化水素類（クロロホルム、四塩化炭素）、アミド類（ジメチルホルムアミド
）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、脂肪酸グリセリンエステル）および
アセトニトリル；および固体担体、たとえば、鉱物性粒子（カオリン、粘土、ベ
ントナイト、ドロマイト、タルク、シリカ、砂）および植物性粉末（低木）があ
る。
ば、水、アルコール類（エタノール、エチレングリコール、グリセリン）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、セロソルブ）、脂肪族炭化水素類（ガソリン、ケロセン）、ハロゲン
化炭化水素類（クロロホルム、四塩化炭素）、アミド類（ジメチルホルムアミド
）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、脂肪酸グリセリンエステル）および
アセトニトリル；および固体担体、たとえば、鉱物性粒子（カオリン、粘土、ベ
ントナイト、ドロマイト、タルク、シリカ、砂）および植物性粉末（低木）があ
る。
【００３３】 また、本発明の殺菌剤組成物に使用され得る添加剤としては、乳化剤、接着剤
、分散剤または浸潤剤が含まれるが、例としては非イオン性、陰イオン性または
陽イオン性界面活性剤（脂肪酸ソーダ、ポリオキシアルキルエステル類、スルホ
ン酸アルキルエステル類）がある。また、本発明の組成物には農化学的活性成分
、たとえば、殺虫剤、除草剤、植物成長調節剤、殺菌剤および肥料を加えること
もできる。
、分散剤または浸潤剤が含まれるが、例としては非イオン性、陰イオン性または
陽イオン性界面活性剤（脂肪酸ソーダ、ポリオキシアルキルエステル類、スルホ
ン酸アルキルエステル類）がある。また、本発明の組成物には農化学的活性成分
、たとえば、殺虫剤、除草剤、植物成長調節剤、殺菌剤および肥料を加えること
もできる。
【００３４】
下記製造例および実施例は本発明を例示するのみであり、本発明の範囲を制限
しない。
しない。
【００３５】 製造例１：メチル(２Ｅ)−３−メトキシ−２−(２’−ブロモメチル)フェニル
−２−プロペン酸エステルの製造 段階１：メチルo−トリルアセテートの製造 ｏ−トリル酢酸３０．０ｇ(０．２モル)をメタノール１００ｍｌに溶かした後
、これに濃い硫酸５ｍｌを加え、生成溶液を６ないし１２時間加熱して攪拌した
。生成した溶液を冷却した後、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を
水で２回洗浄した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾
燥した後、減圧下で溶媒を除去した。このようにして得られた残渣を、溶離剤と
してｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてカラムクロマトグラ
フィーして標題化合物３２．１５ｇ（収率９８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．２１−７．０１（ｍ，４Ｈ），３
．６１（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，２Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１６４（Ｍ＋，４２），１３３（１００），３１（８２）。
−２−プロペン酸エステルの製造 段階１：メチルo−トリルアセテートの製造 ｏ−トリル酢酸３０．０ｇ(０．２モル)をメタノール１００ｍｌに溶かした後
、これに濃い硫酸５ｍｌを加え、生成溶液を６ないし１２時間加熱して攪拌した
。生成した溶液を冷却した後、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を
水で２回洗浄した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾
燥した後、減圧下で溶媒を除去した。このようにして得られた残渣を、溶離剤と
してｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてカラムクロマトグラ
フィーして標題化合物３２．１５ｇ（収率９８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．２１−７．０１（ｍ，４Ｈ），３
．６１（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，２Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１６４（Ｍ＋，４２），１３３（１００），３１（８２）。
【００３６】 段階２：メチル３−ヒドロキシ−２−(２’−メチル)フェニル−２−プロペン
酸エステルの製造 段階１で得られた化合物２４．６ｇ（０．１５モル）およびメトキシ化ナトリ
ウム２４．３ｇ（０．４５モル）をトルエン３００ｍｌに加え、冷却および攪拌
しながらこれにギ酸メチル２７ｇ（０．４５モル）を１時間にわたって滴下した
。生成した溶液を室温で１２時間攪拌した後、水で２または３回抽出した。合わ
せた水層を濃い硫酸で酸性化した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤
としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（９：１）の混合物を用いてカラムクロマトグ
ラフィーして標題化合物２７．３６ｇ（収率９５％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１１．９２（ｄ，１Ｈ），７．３２−
７．０１（ｍ，４Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），２．２１（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１９２（Ｍ＋，２６），１６０（５２），１３２（４８），８４
（１００）。
酸エステルの製造 段階１で得られた化合物２４．６ｇ（０．１５モル）およびメトキシ化ナトリ
ウム２４．３ｇ（０．４５モル）をトルエン３００ｍｌに加え、冷却および攪拌
しながらこれにギ酸メチル２７ｇ（０．４５モル）を１時間にわたって滴下した
。生成した溶液を室温で１２時間攪拌した後、水で２または３回抽出した。合わ
せた水層を濃い硫酸で酸性化した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤
としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（９：１）の混合物を用いてカラムクロマトグ
ラフィーして標題化合物２７．３６ｇ（収率９５％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１１．９２（ｄ，１Ｈ），７．３２−
７．０１（ｍ，４Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），２．２１（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１９２（Ｍ＋，２６），１６０（５２），１３２（４８），８４
（１００）。
【００３７】 段階３：メチル３−メトキシ−２−(２’−メチル)フェニル−２−プロペン酸
エステルの製造 前記段階２で得られた化合物１９．２ｇ（０．１モル）、硫酸ジメチル１５．
１２ｇ（０．１２モル）および炭酸カリウム１３．８２ｇ（０．１モル）をアセ
トン２００ｍｌに加え、生成した溶液を加熱しながら１２時間攪拌した。溶媒を
減圧下で除去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウム上で有機層を
乾燥した後、溶媒を減圧下で除去して残渣を得た。この残渣を、ｎ−ヘキサンと
酢酸エチル（４：１）の混合物を溶離剤として用いてカラムクロマトグラフィー
して標題化合物１７．１ｇ（収率８３％）を無色液体として得た。
エステルの製造 前記段階２で得られた化合物１９．２ｇ（０．１モル）、硫酸ジメチル１５．
１２ｇ（０．１２モル）および炭酸カリウム１３．８２ｇ（０．１モル）をアセ
トン２００ｍｌに加え、生成した溶液を加熱しながら１２時間攪拌した。溶媒を
減圧下で除去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウム上で有機層を
乾燥した後、溶媒を減圧下で除去して残渣を得た。この残渣を、ｎ−ヘキサンと
酢酸エチル（４：１）の混合物を溶離剤として用いてカラムクロマトグラフィー
して標題化合物１７．１ｇ（収率８３％）を無色液体として得た。
【００３８】 このように得られた標題化合物はＥ異性体８２％とＺ異性体１８％からなった
。
。
【００３９】 Ｅ異性体（upper spot）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．５１（s，１Ｈ），７．３５−６ ．９８（ｍ，４Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），３．６８（ｓ，３Ｈ），２．２１
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０６（Ｍ＋，１０），１７６（７３），１１７（１００），７
７（５７）。
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０６（Ｍ＋，１０），１７６（７３），１１７（１００），７
７（５７）。
【００４０】 Ｚ異性体（down spot）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．３４−６．９８（ｍ，４Ｈ），６
．５０（ｓ，１Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．６８（ｓ，３Ｈ），２．２１
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０６（Ｍ＋，８），１７６（１００），１１７（９２），７７
（３０）。
．５０（ｓ，１Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．６８（ｓ，３Ｈ），２．２１
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０６（Ｍ＋，８），１７６（１００），１１７（９２），７７
（３０）。
【００４１】 これらの異性体を分離してＥ異性体を次の段階で用いた。
【００４２】 段階４：メチル(２Ｅ)−３−メトキシ−２−(２’−ブロモメチル)フェニル−
２−プロペン酸エステルの製造 前記段階３で得られたメチル(２Ｅ)−３−メトキシ−２−(２’−メチル)フェ
ニル−２−プロペン酸エステル１８．５４ｇ（０．０９モル）とＮ−ブロモコハ
ク酸イミド１６．０ｇ（０．０９モル）を四塩化炭素１００ｍｌに加えた。次い
で、これに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１６ｇ（１ミリモル）を
加え、生成溶液を加熱しながら１２時間攪拌した。生成溶液を冷却し、濾過して
コハク酸イミドを除去した。減圧下で溶媒を除去し、得られた油状残渣を、溶離
剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてカラムクロマト
グラフィーして標題化合物２１．７３ｇ（収率８５％）を無色固体として得た。 融点：６４−６５℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６３（ｓ，１Ｈ），７．５１−７
．０９（ｍ，４Ｈ），４．４０（ｓ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．６９
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２８４（Ｍ＋，１０），２５３（１２），２０５（２１），１７
３（３８），１４５（１００）。
２−プロペン酸エステルの製造 前記段階３で得られたメチル(２Ｅ)−３−メトキシ−２−(２’−メチル)フェ
ニル−２−プロペン酸エステル１８．５４ｇ（０．０９モル）とＮ−ブロモコハ
ク酸イミド１６．０ｇ（０．０９モル）を四塩化炭素１００ｍｌに加えた。次い
で、これに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１６ｇ（１ミリモル）を
加え、生成溶液を加熱しながら１２時間攪拌した。生成溶液を冷却し、濾過して
コハク酸イミドを除去した。減圧下で溶媒を除去し、得られた油状残渣を、溶離
剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてカラムクロマト
グラフィーして標題化合物２１．７３ｇ（収率８５％）を無色固体として得た。 融点：６４−６５℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６３（ｓ，１Ｈ），７．５１−７
．０９（ｍ，４Ｈ），４．４０（ｓ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．６９
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２８４（Ｍ＋，１０），２５３（１２），２０５（２１），１７
３（３８），１４５（１００）。
【００４３】 製造例２：メチル（２Ｅ）−２−メトキシイミノ−２−(２’−ブロモメチル)
フェニルアセテートの製造 段階１：メチルo−メチルベンゾイルホルメートの製造 窒素雰囲気下で、無水エーテル３００ｍｌにマグネシウム５．１ｇ（０．２１
モル）を入れ、これにo−ブロモトルエン３４．１８ｇ（０．２モル）を滴下し てグリニャール試薬を製造した。このグリニャール試薬を−７８℃に冷却し、こ
れにシュウ酸ジメチル２３．６ｇ（０．２モル）を滴下した。生成溶液を３０分
間攪拌し、粉砕した氷と混合し、２０％塩酸で酸性化した後、エーテルで抽出し
た。有機層を水で３回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒を減圧下
で除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（
９：１）の混合物を用いてカラムクロマトラフィーして標題化合物２４．２ｇ（
収率６８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．８８−７．０１（ｍ，４Ｈ），３
．９８（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１７８（Ｍ＋，２１），１１９（１００），９１（７１），６５
（３７）。
フェニルアセテートの製造 段階１：メチルo−メチルベンゾイルホルメートの製造 窒素雰囲気下で、無水エーテル３００ｍｌにマグネシウム５．１ｇ（０．２１
モル）を入れ、これにo−ブロモトルエン３４．１８ｇ（０．２モル）を滴下し てグリニャール試薬を製造した。このグリニャール試薬を−７８℃に冷却し、こ
れにシュウ酸ジメチル２３．６ｇ（０．２モル）を滴下した。生成溶液を３０分
間攪拌し、粉砕した氷と混合し、２０％塩酸で酸性化した後、エーテルで抽出し
た。有機層を水で３回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒を減圧下
で除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（
９：１）の混合物を用いてカラムクロマトラフィーして標題化合物２４．２ｇ（
収率６８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．８８−７．０１（ｍ，４Ｈ），３
．９８（ｓ，３Ｈ），２．６５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１７８（Ｍ＋，２１），１１９（１００），９１（７１），６５
（３７）。
【００４４】 段階２：メチル２−メトキシイミノ−２−(２’−メチル)フェニルアセテート
の製造 o−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩８．３５ｇ（０．１モル）とピリジン８ ．１ｍｌ（０．１モル）をメタノール１００ｍｌに加えた後、これに、前記段階
１で得られた化合物１７．８ｇ（０．１モル）を加えた。生成溶液を１２時間加
熱しながら攪拌し、減圧下で濃縮した。生成溶液を水と混合し、酢酸エチルで抽
出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を除去して残
渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混
合物を用いてカラムクロマトグラフィーして標題化合物１９．０４ｇ（収率９２
％）を無色液体として得た。
の製造 o−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩８．３５ｇ（０．１モル）とピリジン８ ．１ｍｌ（０．１モル）をメタノール１００ｍｌに加えた後、これに、前記段階
１で得られた化合物１７．８ｇ（０．１モル）を加えた。生成溶液を１２時間加
熱しながら攪拌し、減圧下で濃縮した。生成溶液を水と混合し、酢酸エチルで抽
出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を除去して残
渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混
合物を用いてカラムクロマトグラフィーして標題化合物１９．０４ｇ（収率９２
％）を無色液体として得た。
【００４５】 このように得られた標題化合物はＺ異性体５０％とＥ異性体５０％からなった
。Ｚ異性体は液状であり、Ｅ異性体はｎ−ヘキサンで再結晶して得られた固体で
あった。Ｅ異性体の構造はX−線結晶法で確認した。
。Ｚ異性体は液状であり、Ｅ異性体はｎ−ヘキサンで再結晶して得られた固体で
あった。Ｅ異性体の構造はX−線結晶法で確認した。
【００４６】 Ｚ異性体（upper spot）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．４１−７．１５（ｍ，４Ｈ），４
．０１（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０７（Ｍ＋，８），１７６（４１），１１６（１００），８９
（６２）。
．０１（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０７（Ｍ＋，８），１７６（４１），１１６（１００），８９
（６２）。
【００４７】 Ｅ異性体（down spot） 融点６３−６４℃１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．３８−７．０５（ｍ，４Ｈ），４
．０４（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），２．１９（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０７（Ｍ＋，１１），１７６（８２），１１６（１００），８
９（７０）。
．０４（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），２．１９（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０７（Ｍ＋，１１），１７６（８２），１１６（１００），８
９（７０）。
【００４８】 Ｅ異性体を次の段階で用いた。
【００４９】 段階３：メチル(２Ｅ)−２−メトキシイミノ−２−(２’−ブロモメチル)フェ
ニルアセテートの製造 前記段階２で得られたメチル(２Ｅ)−２−メトキシイミノ−２−(２’−メチ ル)フェニルアセテート９．０ｇ（０．０４３５モル）とＮ−ブロモコハク酸イ ミド７．７４ｇ（０．０４３５モル）を四塩化炭素５０ｍｌに加えた後、これに
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１６ｇ（１ミリモル）を加えた。生
成溶液を加熱しながら１２時間攪拌し、減圧下で溶媒を除去して油状残渣を得、
これを、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物１１．０８ｇ（収率９０％）
を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−７．０１（ｍ，４Ｈ），４
．３９（ｓ，２Ｈ），４．０４（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２８５（Ｍ＋，４６），２５２（３５），１７５（１００），１
４６（９４），１１６（７８）。
ニルアセテートの製造 前記段階２で得られたメチル(２Ｅ)−２−メトキシイミノ−２−(２’−メチ ル)フェニルアセテート９．０ｇ（０．０４３５モル）とＮ−ブロモコハク酸イ ミド７．７４ｇ（０．０４３５モル）を四塩化炭素５０ｍｌに加えた後、これに
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１６ｇ（１ミリモル）を加えた。生
成溶液を加熱しながら１２時間攪拌し、減圧下で溶媒を除去して油状残渣を得、
これを、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物１１．０８ｇ（収率９０％）
を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−７．０１（ｍ，４Ｈ），４
．３９（ｓ，２Ｈ），４．０４（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２８５（Ｍ＋，４６），２５２（３５），１７５（１００），１
４６（９４），１１６（７８）。
【００５０】 製造例３：メチル(２Ｅ)−３−チオメトキシ−２−(２’−ブロモメチル)フェ
ニル−２−プロペン酸エステルの製造 段階１：メチル３−メタンスルホニルオキシ−２−(２’−メチル)フェニル−
２−プロペン酸エステルの製造 窒素雰囲気下で、前記製造例１の段階２で得られた化合物１７ｇ（０．０８９
モル）を無水酢酸エチル４００ｍｌに溶かした後、これにトリエチルアミン１４
ｍｌ(０．１モル)を加えた。生成溶液に攪拌しながら塩化メタンスルホニル７．
７４ｍｌ（０．１モル）を室温で３０分にわたって滴下した。生成溶液を１ない
し３時間攪拌し、水で３回洗浄した後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下
で溶媒を除去し、残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の
混合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物２１．３４
ｇ（収率８８．８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：８．０１（ｓ，１Ｈ），７．４９−７
．０１（ｍ，４Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．０９（ｓ，３Ｈ），２．２３
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２７０（Ｍ＋，５１），１７４（１００），１５９（９６），１
０３（８９）。
ニル−２−プロペン酸エステルの製造 段階１：メチル３−メタンスルホニルオキシ−２−(２’−メチル)フェニル−
２−プロペン酸エステルの製造 窒素雰囲気下で、前記製造例１の段階２で得られた化合物１７ｇ（０．０８９
モル）を無水酢酸エチル４００ｍｌに溶かした後、これにトリエチルアミン１４
ｍｌ(０．１モル)を加えた。生成溶液に攪拌しながら塩化メタンスルホニル７．
７４ｍｌ（０．１モル）を室温で３０分にわたって滴下した。生成溶液を１ない
し３時間攪拌し、水で３回洗浄した後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下
で溶媒を除去し、残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の
混合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物２１．３４
ｇ（収率８８．８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：８．０１（ｓ，１Ｈ），７．４９−７
．０１（ｍ，４Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．０９（ｓ，３Ｈ），２．２３
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２７０（Ｍ＋，５１），１７４（１００），１５９（９６），１
０３（８９）。
【００５１】 段階２：メチル３−チオメトキシ−２−(２’−メチル)フェニル−２−プロペ
ン酸エステルの製造 前記段階１で得られた化合物１６．２ｇ（０．０６モル）をメタノール１５０
ｍｌに溶かした後、これにチオメトキシ化ナトリウム４．９ｇ（０．０７モル）
を加えた。生成溶液を室温で４時間攪拌し、減圧下で濃縮し、水と混合した後、
酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下で溶
媒を除去した。残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（９：１）の混
合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物１０．３ｇ（
収率７７．３％）を無色液体として得た。
ン酸エステルの製造 前記段階１で得られた化合物１６．２ｇ（０．０６モル）をメタノール１５０
ｍｌに溶かした後、これにチオメトキシ化ナトリウム４．９ｇ（０．０７モル）
を加えた。生成溶液を室温で４時間攪拌し、減圧下で濃縮し、水と混合した後、
酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下で溶
媒を除去した。残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチル（９：１）の混
合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物１０．３ｇ（
収率７７．３％）を無色液体として得た。
【００５２】 得られた標題化合物はＥ異性体９２％とＺ異性体８％からなった。
【００５３】 Ｅ異性体（upper spot）１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．８５（ｓ，１Ｈ），７．３８−６
．９１（ｍ，４Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），２．１６
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２２２（Ｍ＋，２０），１７５（２１），１４７（３６），１１
５（１００）。
．９１（ｍ，４Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），２．１６
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２２２（Ｍ＋，２０），１７５（２１），１４７（３６），１１
５（１００）。
【００５４】 Ｅ異性体を分離して次の段階で用いた。
【００５５】 段階３：メチル(２Ｅ)−３−チオメトキシ−２−(２’−ブロモメチル)フェニ
ル−２−プロペン酸エステルの製造 前記段階２で得られたメチル(２Ｅ)−３−チオメトキシ−２−(２’−メチル)
フェニル−２−プロペン酸エステル１０．２ｇ（０．０４６モル）とＮ−ブロモ
コハク酸イミド９．２５ｇ（０．０５２モル）を四塩化炭素１５０ｍｌに加えた
後、これに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１６ｇ（１ミリモル）を
加えた。生成溶液を加熱しながら１２時間攪拌し、冷却し、濾過してコハク酸イ
ミドを除去した。減圧下で溶媒を除去し、残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと
酢酸エチル（９：１）の混合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーし
て標題化合物８．５８ｇ（収率６２．０％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．９８（ｓ，１Ｈ），７．６９−７
．０１（ｍ，４Ｈ），４．４５（ｓ，２Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），２．４５
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３００（Ｍ＋，１４），１６１（１００），１４５（３０），１
１５（７９）。
ル−２−プロペン酸エステルの製造 前記段階２で得られたメチル(２Ｅ)−３−チオメトキシ−２−(２’−メチル)
フェニル−２−プロペン酸エステル１０．２ｇ（０．０４６モル）とＮ−ブロモ
コハク酸イミド９．２５ｇ（０．０５２モル）を四塩化炭素１５０ｍｌに加えた
後、これに２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１６ｇ（１ミリモル）を
加えた。生成溶液を加熱しながら１２時間攪拌し、冷却し、濾過してコハク酸イ
ミドを除去した。減圧下で溶媒を除去し、残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサンと
酢酸エチル（９：１）の混合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーし
て標題化合物８．５８ｇ（収率６２．０％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．９８（ｓ，１Ｈ），７．６９−７
．０１（ｍ，４Ｈ），４．４５（ｓ，２Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），２．４５
（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３００（Ｍ＋，１４），１６１（１００），１４５（３０），１
１５（７９）。
【００５６】 製造例４：メチル(２Ｅ)−３−メトキシ−２−[２’−(３"−ヒドロキシ)フェ
ノキシメチル]フェニル−２−プロペン酸エステルの製造 製造例１で得られた化合物５．７ｇ（０．０２モル）を３−ヒドロキシフェノ
ール２．２ｇ（レゾルシノール、０．０２モル）および炭酸カリウム２．７６ｇ
（０．０２モル）をアセトン100mlに加え、混合物を２４時間加熱環流した。溶 媒を除去し、生成した混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤と
してｎ−ヘキサンと酢酸エチル（２：１）の混合物を用いてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーして標題化合物４．５２ｇ（収率７２％）を無色液体として得
た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６７（ｓ，１Ｈ），７．６５−６
．２１（ｍ，８Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．６５
(ｓ，３Ｈ)，２．５０（ｂｒｓ，１Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３１４（Ｍ＋，２１），２０５（９８），１７４（２８），１４
５（１００）。
ノキシメチル]フェニル−２−プロペン酸エステルの製造 製造例１で得られた化合物５．７ｇ（０．０２モル）を３−ヒドロキシフェノ
ール２．２ｇ（レゾルシノール、０．０２モル）および炭酸カリウム２．７６ｇ
（０．０２モル）をアセトン100mlに加え、混合物を２４時間加熱環流した。溶 媒を除去し、生成した混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤と
してｎ−ヘキサンと酢酸エチル（２：１）の混合物を用いてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーして標題化合物４．５２ｇ（収率７２％）を無色液体として得
た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６７（ｓ，１Ｈ），７．６５−６
．２１（ｍ，８Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．６５
(ｓ，３Ｈ)，２．５０（ｂｒｓ，１Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３１４（Ｍ＋，２１），２０５（９８），１７４（２８），１４
５（１００）。
【００５７】 製造例５：メチル(２E)−２−メトキシイミノ−２−[２’−(３"−ヒドロキシ
)フェノキシメチル]フェニルアセテートの製造 製造例１で得られた化合物の代わりに製造例２で得られた化合物５．６６ｇ（
０．０２モル）を用いたことを除いては、前記製造例４の工程を繰り返して標題
化合物４．９２ｇ（収率７８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．５４−７．０１（ｍ，９Ｈ），４
．８９（ｓ，２Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３１５（Ｍ＋，２８），２８４（５１），２０６（８６），１３
２（１００），１１６（８９）。
)フェノキシメチル]フェニルアセテートの製造 製造例１で得られた化合物の代わりに製造例２で得られた化合物５．６６ｇ（
０．０２モル）を用いたことを除いては、前記製造例４の工程を繰り返して標題
化合物４．９２ｇ（収率７８％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．５４−７．０１（ｍ，９Ｈ），４
．８９（ｓ，２Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３１５（Ｍ＋，２８），２８４（５１），２０６（８６），１３
２（１００），１１６（８９）。
【００５８】 製造例６：メチル(２Ｅ)−３−チオメトキシ−２−[２’−(３"−ヒドロキシ)
フェノキシメチル]フェニル−２−プロペン酸エステルの製造 製造例１で得られた化合物の代わりに製造例３で得られた化合物６．０ｇ（０
．０２モル）を用いたことを除いては、前記製造例４の工程を繰り返して標題化
合物３．２３ｇ（収率４９％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．９８（ｓ，１Ｈ），７．７１−６
．２８（ｍ，８Ｈ），５．８１（ｂｒｓ，１Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），３．
７８（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３３０（Ｍ＋，５１），２２１（７７），１６１（１００），１
４５（２２），１１５（５４）。
フェノキシメチル]フェニル−２−プロペン酸エステルの製造 製造例１で得られた化合物の代わりに製造例３で得られた化合物６．０ｇ（０
．０２モル）を用いたことを除いては、前記製造例４の工程を繰り返して標題化
合物３．２３ｇ（収率４９％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．９８（ｓ，１Ｈ），７．７１−６
．２８（ｍ，８Ｈ），５．８１（ｂｒｓ，１Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），３．
７８（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：３３０（Ｍ＋，５１），２２１（７７），１６１（１００），１
４５（２２），１１５（５４）。
【００５９】 製造例７：２，２−ジフルオロ−４’−メトキシスチレンの製造 段階１：トリフルオルメチル−４’−メトキシフェニルケトンの製造 窒素雰囲気下で、無水ジエチルエーテル３００ｍｌにマグネシウム５．１ｇ（
０．２１モル）を入れ、これにｐ−ブロモアニソール３７．４ｇ（０．２モル）
を滴下してグリニャール試薬を製造した。このグリニャール試薬を−７８℃に冷
却し、これにトリフルオロ酢酸エチル２８．３g（０．２モル）を滴下した。生 成溶液を１時間攪拌し、粉砕した氷と混合し、２０％塩酸で酸性化した後、ジエ
チルエーテルで３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒
を減圧下で除去して残渣を得た。この残渣を、７２ないし７３℃／２０ｍｍＨｇ
で蒸留して標題化合物３５．０９ｇ（収率８６%）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−６．８１（ｍ，４Ｈ），３
．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０４（Ｍ＋，５６），１３５（１００），１０７（８６），９
２（６６），７７（９２）。
０．２１モル）を入れ、これにｐ−ブロモアニソール３７．４ｇ（０．２モル）
を滴下してグリニャール試薬を製造した。このグリニャール試薬を−７８℃に冷
却し、これにトリフルオロ酢酸エチル２８．３g（０．２モル）を滴下した。生 成溶液を１時間攪拌し、粉砕した氷と混合し、２０％塩酸で酸性化した後、ジエ
チルエーテルで３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒
を減圧下で除去して残渣を得た。この残渣を、７２ないし７３℃／２０ｍｍＨｇ
で蒸留して標題化合物３５．０９ｇ（収率８６%）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−６．８１（ｍ，４Ｈ），３
．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０４（Ｍ＋，５６），１３５（１００），１０７（８６），９
２（６６），７７（９２）。
【００６０】 段階２：１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４’−メトキシ
ベンゼンの製造 前記段階１で得られた化合物１４．２８ｇ（１５０ｍｌ）をメタノール１５０
ｍｌに溶かし、これにホウ水素化ナトリウム１．３２ｇ（０．０３５モル）を３
０分間滴下した。生成溶液を室温で２時間攪拌した後、溶媒を除去した。これに
酢酸エチルを加え、生成溶液を水で３回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上
で乾燥し、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−
ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーして標題化合物１４ｇ（収率９７％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−６．７８（ｍ，４Ｈ），４
．２９（ｑ，１Ｈ），３．９４（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０６（Ｍ＋，４２），１９１（６２），１３７（１００），１
０７（２６），６９（５６）。
ベンゼンの製造 前記段階１で得られた化合物１４．２８ｇ（１５０ｍｌ）をメタノール１５０
ｍｌに溶かし、これにホウ水素化ナトリウム１．３２ｇ（０．０３５モル）を３
０分間滴下した。生成溶液を室温で２時間攪拌した後、溶媒を除去した。これに
酢酸エチルを加え、生成溶液を水で３回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上
で乾燥し、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−
ヘキサンと酢酸エチル（４：１）の混合物を用いてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーして標題化合物１４ｇ（収率９７％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−６．７８（ｍ，４Ｈ），４
．２９（ｑ，１Ｈ），３．９４（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２０６（Ｍ＋，４２），１９１（６２），１３７（１００），１
０７（２６），６９（５６）。
【００６１】 段階３：１−クロロ−２，２，２−トリフルオロエチル−４’−メトキシベン
ゼンの製造 前記段階２で得られた化合物１４ｇ（０．０６８モル）と塩化チオニル５０ｇ
(０．７モル)をトルエン１００ｍｌに加え、混合物を加熱しながら１２時間攪拌
した。生成溶液を冷却し、水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し
、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサン
を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物１２ｇ（収率７９
％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−６．８１（ｍ，４Ｈ），５
．０１（ｑ，１Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２２４（Ｍ＋，２３），１８９（１００），１５８（７９），１
２０（５６），６９（４３）。
ゼンの製造 前記段階２で得られた化合物１４ｇ（０．０６８モル）と塩化チオニル５０ｇ
(０．７モル)をトルエン１００ｍｌに加え、混合物を加熱しながら１２時間攪拌
した。生成溶液を冷却し、水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し
、減圧下で溶媒を除去して残渣を得た。この残渣を、溶離剤としてｎ−ヘキサン
を用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化合物１２ｇ（収率７９
％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２−６．８１（ｍ，４Ｈ），５
．０１（ｑ，１Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２２４（Ｍ＋，２３），１８９（１００），１５８（７９），１
２０（５６），６９（４３）。
【００６２】 段階４：２，２−ジフルオロ−４’−メトキシスチレンの製造 前記段階３で得られた化合物１１．２ｇ（０．００５モル）を無水テトラヒド
ロフラン５０ｍｌに溶解し、これに活性化された亜鉛３．２７ｇ（０．０５モル
）を加えた。生成溶液を１２時間加熱および攪拌しながら環流した。生成溶液を
冷却し、濾過して沈澱した塩を除去した。減圧下で溶媒を除去し、残渣を、溶離
剤としてｎ−ヘキサンを用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化
合物６．８ｇ（収率８０％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．５１−６．６９（ｍ，４Ｈ），５
．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２６Ｈｚ，Ｊ＝４Ｈｚ），３．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１７０（Ｍ＋，１００），１５５（６８），１２７（９２），８
４（２１）。
ロフラン５０ｍｌに溶解し、これに活性化された亜鉛３．２７ｇ（０．０５モル
）を加えた。生成溶液を１２時間加熱および攪拌しながら環流した。生成溶液を
冷却し、濾過して沈澱した塩を除去した。減圧下で溶媒を除去し、残渣を、溶離
剤としてｎ−ヘキサンを用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーして標題化
合物６．８ｇ（収率８０％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．５１−６．６９（ｍ，４Ｈ），５
．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２６Ｈｚ，Ｊ＝４Ｈｚ），３．８６（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：１７０（Ｍ＋，１００），１５５（６８），１２７（９２），８
４（２１）。
【００６３】 製造例８ないし２０ 前記製造例７の手順を繰り返して、下記表１ａ、１ｂ、１ｃおよび１ｄに示す
種々のＲ２基を有する式（IV−ａ−1）、（IV−ａ−２）、（IV−ａ−３）およ び（IV−ａ）の中間体化合物を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよびＭＳ
分析データを各表にまた示す。
種々のＲ２基を有する式（IV−ａ−1）、（IV−ａ−２）、（IV−ａ−３）およ び（IV−ａ）の中間体化合物を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよびＭＳ
分析データを各表にまた示す。
【００６４】
【表１】
【００６５】
【表２】
【００６６】
【表３】
【００６７】
【表４】
【００６８】 製造例２１：２，２−ジフルオロ−１−トリフルオロメチル−４’−メトキシ
スチレンの製造 窒素雰囲気下、１０℃以下の温度で、トリフェニルホスフィン２６．２ｇ（０
．１モル）を無水トリグリム２５０ｍｌに溶解し、これにジブロモジフルオロメ
タン２５．２ｇ（０．１２モル）を滴下した。生成溶液に、製造例７の段階１で
得られた化合物１０．２ｇ（０．０５モル）を加えた。生成溶液を１００℃で加
熱しながら１２時間攪拌し、冷却した後減圧下で蒸留した。得られた油を再蒸留
して１０ｍｍＨｇで７２ないし７４℃の沸点を有する標題化合物９．３９ｇを無
色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．４８−６．７９（ｍ，４Ｈ），３
．７９（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２３８（Ｍ＋，６９），１９５（１４），１４５（３５），７４
（３３），５９（１００）。
スチレンの製造 窒素雰囲気下、１０℃以下の温度で、トリフェニルホスフィン２６．２ｇ（０
．１モル）を無水トリグリム２５０ｍｌに溶解し、これにジブロモジフルオロメ
タン２５．２ｇ（０．１２モル）を滴下した。生成溶液に、製造例７の段階１で
得られた化合物１０．２ｇ（０．０５モル）を加えた。生成溶液を１００℃で加
熱しながら１２時間攪拌し、冷却した後減圧下で蒸留した。得られた油を再蒸留
して１０ｍｍＨｇで７２ないし７４℃の沸点を有する標題化合物９．３９ｇを無
色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．４８−６．７９（ｍ，４Ｈ），３
．７９（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：２３８（Ｍ＋，６９），１９５（１４），１４５（３５），７４
（３３），５９（１００）。
【００６９】 製造例２２ないし４０ 表１ａおよび２ａに示す式（IV−ａ−１）の化合物各々を用いて前記製造例２
１の手順を繰り返して、下記表２ｂに示す種々のＲ２基を有する式（IV−ｂ）の
化合物を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよびＭＳ分析データを表２ｂに
また示す。
１の手順を繰り返して、下記表２ｂに示す種々のＲ２基を有する式（IV−ｂ）の
化合物を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよびＭＳ分析データを表２ｂに
また示す。
【００７０】
【表５】
【００７１】
【表６】
【００７２】 実施例１：メチル(２Ｅ)−３−メトキシ−２−{２’−{３’’−(２’’’− フルオロスチリル)−２’’’−オキシ}フェノキシメチル}フェニル−２−プロ ペン酸エステル（化合物１）の製造 窒素雰囲気下で、前記製造例４で得られた化合物３１４ｍｇ（１ミリモル）を
アセトニトリル１０ｍｌに加え、これに鉱油（６０％）に分散した水素化ナトリ
ウム４０ｍｇ（１モル）を加えた。生成溶液を３０分間攪拌した後、これに、前
記製造例８で得られた化合物１４０ｍｇ（１ミリモル）を徐々に加えた。生成溶
液を加熱しながら４時間攪拌し、水と混合して酢酸エチルで抽出した。有機層を
硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を除去した。残渣を、溶離剤と
してｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物（４：１）を用いてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーして標題化合物４００ｍｇ（収率９２％）を無色液体として得
た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６８（ｓ，１H），７．６２−６ ．６２（ｍ，１３Ｈ），５．６８（ｄ，１Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），３．７
８（ｓ，３Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：４３４（Ｍ＋，１３），２０５（８７），１４５（１００）。
アセトニトリル１０ｍｌに加え、これに鉱油（６０％）に分散した水素化ナトリ
ウム４０ｍｇ（１モル）を加えた。生成溶液を３０分間攪拌した後、これに、前
記製造例８で得られた化合物１４０ｍｇ（１ミリモル）を徐々に加えた。生成溶
液を加熱しながら４時間攪拌し、水と混合して酢酸エチルで抽出した。有機層を
硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下で溶媒を除去した。残渣を、溶離剤と
してｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物（４：１）を用いてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーして標題化合物４００ｍｇ（収率９２％）を無色液体として得
た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６８（ｓ，１H），７．６２−６ ．６２（ｍ，１３Ｈ），５．６８（ｄ，１Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），３．７
８（ｓ，３Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：４３４（Ｍ＋，１３），２０５（８７），１４５（１００）。
【００７３】 実施例２：(２Ｅ)−Ｎ−メチル−３−メトキシ−２−{２’−{３’’−(２’ ’’−フルオロスチリル)−２’’’−オキシ}フェノキシメチル}フェニル−２ −プロペンアミド（化合物２）の製造 前記実施例１で得られた化合物２１７ｍｇ（０．５ミリモル）をメタノール５
ｍｌに溶解した後、これに４０％メチルアミン水溶液２ｍｌを加えた。生成溶液
を１２時間攪拌した後、減圧下で溶媒を除去した。生成溶液を酢酸エチルで抽出
し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を、
溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物（４：１）を用いてシリカゲル
カラムクロマトグラフィーして標題化合物２０６ｍｇ（収率９５％）を無色液体
として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：８．１２（ｂｒ，１Ｈ），７．６２−
６．５８（ｍ，１４Ｈ），５．６２（ｄ，１Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），３．
６９（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｄ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：４３３（Ｍ＋，６），２０４（４１），１４４（１００），１０
３（２４）。
ｍｌに溶解した後、これに４０％メチルアミン水溶液２ｍｌを加えた。生成溶液
を１２時間攪拌した後、減圧下で溶媒を除去した。生成溶液を酢酸エチルで抽出
し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を、
溶離剤としてｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物（４：１）を用いてシリカゲル
カラムクロマトグラフィーして標題化合物２０６ｍｇ（収率９５％）を無色液体
として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：８．１２（ｂｒ，１Ｈ），７．６２−
６．５８（ｍ，１４Ｈ），５．６２（ｄ，１Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），３．
６９（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｄ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：４３３（Ｍ＋，６），２０４（４１），１４４（１００），１０
３（２４）。
【００７４】 実施例３ないし４４ 前記製造例４ないし２０で製造した化合物を用いて前記実施例１または２の手
順を繰り返して、下記表３に示す種々のR2基を有する本発明の式（Ｉ）の化合物
４２個（化合物３ないし４４）を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよびＭ
Ｓ分析データを表３にまた示す。
順を繰り返して、下記表３に示す種々のR2基を有する本発明の式（Ｉ）の化合物
４２個（化合物３ないし４４）を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよびＭ
Ｓ分析データを表３にまた示す。
【００７５】
【表７】
【００７６】
【表８】
【００７７】
【表９】
【００７８】
【表１０】
【００７９】
【表１１】
【００８０】 実施例４５：メチル(２Ｅ)−３−メトキシ−２−{２’−{３’’−(２’’’ −フルオロ−１’’’−トリフルオロメチルスチリル)−２’’’−オキシ}フェ
ノキシメチル}フェニル−２−プロペン酸エステル（化合物４５）の製造 製造例７で得られた化合物の代わりに製造例２２で得られた化合物２０８ｍｇ
（１ミリモル）を用いたことを除いては、前記実施例１の手順を繰り返して標題
化合物４６２ｍｇ（収率９２％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２（ｓ，１Ｈ），７．５８−６
．５２（ｍ，１３Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．６
２（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：５０２（Ｍ＋，７），２０５（９８），１４５（１００）。
ノキシメチル}フェニル−２−プロペン酸エステル（化合物４５）の製造 製造例７で得られた化合物の代わりに製造例２２で得られた化合物２０８ｍｇ
（１ミリモル）を用いたことを除いては、前記実施例１の手順を繰り返して標題
化合物４６２ｍｇ（収率９２％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．６２（ｓ，１Ｈ），７．５８−６
．５２（ｍ，１３Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．６
２（ｓ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：５０２（Ｍ＋，７），２０５（９８），１４５（１００）。
【００８１】 実施例４６：(２Ｅ)−Ｎ−メチル−３−メトキシ−２−{２’−{３"−（２’ ’’−フルオロ−１’’’−トリフルオロメチルスチリル）−２’’’−オキシ
}フェノキシメチル}フェニル−２−プロペノアミド（化合物４６）の製造 前記実施例１で得られた化合物１の代わりに実施例４５で得られた化合物４５
２５１ｍｇ（０．５ミリモル）を用いたことを除いては、前記実施例２の手順
を繰り返して標題化合物２１３ｍｇ（収率８５％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：８．０２（ｂｒ，１Ｈ），７．７２−
６．５３（ｍ，１４Ｈ），４．９２（ｓ，２Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），２．
８５（ｄ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：５０１（Ｍ＋，１３），２０４（４１），１４５（１００）。
}フェノキシメチル}フェニル−２−プロペノアミド（化合物４６）の製造 前記実施例１で得られた化合物１の代わりに実施例４５で得られた化合物４５
２５１ｍｇ（０．５ミリモル）を用いたことを除いては、前記実施例２の手順
を繰り返して標題化合物２１３ｍｇ（収率８５％）を無色液体として得た。１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：８．０２（ｂｒ，１Ｈ），７．７２−
６．５３（ｍ，１４Ｈ），４．９２（ｓ，２Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），２．
８５（ｄ，３Ｈ） ＭＳ(ｍ／ｅ)：５０１（Ｍ＋，１３），２０４（４１），１４５（１００）。
【００８２】 実施例４７ないし１０７ 前記製造例４ないし４０で得られた化合物を用い、前記実施例１または２の手
順を繰り返して、下記表４に示す種々のR２基を有する本発明の式（I）の化合物
６１個（化合物４７ないし１０７）を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよ
びＭＳ分析データを表４にまた示す。
順を繰り返して、下記表４に示す種々のR２基を有する本発明の式（I）の化合物
６１個（化合物４７ないし１０７）を得た。これらの化合物の１Ｈ−ＮＭＲおよ
びＭＳ分析データを表４にまた示す。
【００８３】
【表１２】
【００８４】
【表１３】
【００８５】
【表１４】
【００８６】
【表１５】
【００８７】
【表１６】
【００８８】
【表１７】
【００８９】
【表１８】
【００９０】 殺菌活性試験 本発明の化合物の殺菌活性を調査するために、表３および４に示す化合物の各
々を１０％アセトンに２５０ｐｐｍの濃度で溶かした後、これにツイーン２０を
２５０ｐｐｍまたは５００ｐｐｍの濃度で加えた。生成溶液５０ｍｌをホスト（
Host）植物の葉に噴霧した。この植物を室温で２４時間放置して溶媒を蒸発させ
た後、病原菌を接種した。この植物を２４時間湿室（Humidity chamber）で保持
し、２０ないし２７℃および相対湿度６０ないし８０に保たれた植物成長室に移
して疾病を誘発させた。次いで、病原菌によって攻撃された移病面積率（lesion
area；Ｌ．Ａ．）を、チョ（Ｃｈｏ）の方法（文献［Ｃｈｏ，Ｋ．Ｙ．，韓国 化学研究所の調査報告書(１９８９)参照］に従って測定した。各試験ごとにこの
過程を２回繰り返した。ツイーン２０ ２５０ｐｐｍを含有する１０％アセトン 溶液をコントロール（control）として用いた。
々を１０％アセトンに２５０ｐｐｍの濃度で溶かした後、これにツイーン２０を
２５０ｐｐｍまたは５００ｐｐｍの濃度で加えた。生成溶液５０ｍｌをホスト（
Host）植物の葉に噴霧した。この植物を室温で２４時間放置して溶媒を蒸発させ
た後、病原菌を接種した。この植物を２４時間湿室（Humidity chamber）で保持
し、２０ないし２７℃および相対湿度６０ないし８０に保たれた植物成長室に移
して疾病を誘発させた。次いで、病原菌によって攻撃された移病面積率（lesion
area；Ｌ．Ａ．）を、チョ（Ｃｈｏ）の方法（文献［Ｃｈｏ，Ｋ．Ｙ．，韓国 化学研究所の調査報告書(１９８９)参照］に従って測定した。各試験ごとにこの
過程を２回繰り返した。ツイーン２０ ２５０ｐｐｍを含有する１０％アセトン 溶液をコントロール（control）として用いた。
【００９１】 本発明の化合物の殺菌活性は下記数式によって求められる防除値（control va
lue；Ｃ．Ｖ．）として表される。
lue；Ｃ．Ｖ．）として表される。
【００９２】 コントロールの移病面積率−試験化合物の移病面積率 防除値(C.V.)(％)＝――――――――――――――――――――――――X100 コントロールの移病面積率。
【００９３】 試験例：稲熱病（Rice Blast, RCB）に対する殺菌活性 ピリキュラリア・オリゼ・カルバラ（Pyricularia oryzae Carvara）ＫＡ３０
１菌株をヌカ寒天培地（ヌカ２０ｇ、デキストロース１０ｇ、寒天１５ｇおよび
蒸留水１ｌ）に接種し、２６℃で一週間培養した。培地の表面をラバーポリスマ
ン（rubber polishman）で掻いて気中菌糸（aerial mycelia）を除去し、蛍光 下で４８時間培養して胞子を形成させた。胞子を滅菌水に ２／３ １ｘ１０６個
胞子／ｍｌの濃度で懸濁した。稲熱病に敏感なナックドン（Nakdong）稲３−４ 葉期に前記胞子懸濁液を流れるほどに充分に噴霧した。このイネを湿った暗室で
２４時間置いた後、２４ないし２８℃および相対湿度８０％以上のインキュベー
ターに移し、５日間置いて稲熱病を誘発させた。最上葉直下の完全展開された葉
に形成された移病面積率を調査して防除値を算出した。
１菌株をヌカ寒天培地（ヌカ２０ｇ、デキストロース１０ｇ、寒天１５ｇおよび
蒸留水１ｌ）に接種し、２６℃で一週間培養した。培地の表面をラバーポリスマ
ン（rubber polishman）で掻いて気中菌糸（aerial mycelia）を除去し、蛍光 下で４８時間培養して胞子を形成させた。胞子を滅菌水に ２／３ １ｘ１０６個
胞子／ｍｌの濃度で懸濁した。稲熱病に敏感なナックドン（Nakdong）稲３−４ 葉期に前記胞子懸濁液を流れるほどに充分に噴霧した。このイネを湿った暗室で
２４時間置いた後、２４ないし２８℃および相対湿度８０％以上のインキュベー
ターに移し、５日間置いて稲熱病を誘発させた。最上葉直下の完全展開された葉
に形成された移病面積率を調査して防除値を算出した。
【００９４】 試験例２：紋枯病（Rice Sheath Blight, RSB）に対する殺菌活性 ＰＤＡ培地（ジャガイモ２００ｇ、デキストロース２０ｇ、寒天２０ｇおよび
蒸留水１ｌ）上でライゾックトニア・ソラニ（Rhizoctonia solani）ＡＧ−１を
３日間培養した後、１ｌの瓶で滅菌されたフスマ培地上に前記寒天ディスク（ag
ar disc）(０．６ｃｍの直径)を接種した後、２６ないし２８℃で７日間培養し た。ホモゲナイザ(homogenizer)で菌糸塊を粉砕して、２または３葉期の５ｃｍ 成長したナックドン稲のあるポットの土壌に均一に接種し、ポリビニル湿室で５
日間維持して紋枯病を誘発させた。葉鞘上の移病面積率を測定して防除値を算出
した。
蒸留水１ｌ）上でライゾックトニア・ソラニ（Rhizoctonia solani）ＡＧ−１を
３日間培養した後、１ｌの瓶で滅菌されたフスマ培地上に前記寒天ディスク（ag
ar disc）(０．６ｃｍの直径)を接種した後、２６ないし２８℃で７日間培養し た。ホモゲナイザ(homogenizer)で菌糸塊を粉砕して、２または３葉期の５ｃｍ 成長したナックドン稲のあるポットの土壌に均一に接種し、ポリビニル湿室で５
日間維持して紋枯病を誘発させた。葉鞘上の移病面積率を測定して防除値を算出
した。
【００９５】 試験例３：キュウリ灰色黴病（Cucumber Gray Mold Rot, CGM）に対する殺菌 活性 感染されたキュウリから分離したボトリチス・シネレア（Botrytis cinerea）
をＰＤＡ寒天培地に接種し、２５℃で１５日間１２Ｌ／１２Ｄサイクルで培養し
て胞子を形成した。胞子を掻き集めてガーゼに通して濾過した後ジャガイモデキ
ストロース液体培地に１ｘ１０６個胞子／ｍｌの濃度で懸濁した。この胞子懸濁
液を１葉期キュウリに噴霧した。接種されたキュウリを２０℃湿室で３日間保持
した。葉に形成された移病面積率を測定して防除値を算出した。
をＰＤＡ寒天培地に接種し、２５℃で１５日間１２Ｌ／１２Ｄサイクルで培養し
て胞子を形成した。胞子を掻き集めてガーゼに通して濾過した後ジャガイモデキ
ストロース液体培地に１ｘ１０６個胞子／ｍｌの濃度で懸濁した。この胞子懸濁
液を１葉期キュウリに噴霧した。接種されたキュウリを２０℃湿室で３日間保持
した。葉に形成された移病面積率を測定して防除値を算出した。
【００９６】 試験例４：トマト疫病（Tomato Late Blight, TLB）に対する殺菌活性 疫病菌（Phytophthora infestans）をジュース寒天培地（Ｖ−８ジュース２０
０ｍｌ、ＣａＣＯ３ ４．５ｇ、寒天１５ｇおよび蒸留水８００ｍｌ）上、２０
℃で１６Ｌ／８Ｄサイクルで１４日間培養した。これに滅菌水を加えた後、容器
を振湯して遊走子嚢（free zoospore sacs）を菌塊（fungus mass）から剥した 後、４重ガーゼを用いてこの遊走子嚢を取り集めた。１ｘ１０5個胞子／ｍｌ濃 度の遊走子嚢懸濁液をトマト幼い苗に噴霧した。このトマト幼い苗を２０℃湿室
で２４時間保持した後、温度２０℃および相対湿度８０％以上のインキュベータ
に移して４日間保持し、培養して、トマト疫病を発病させた。第１葉と第２葉上
の移病面積率を測定して防除値を算出した。
０ｍｌ、ＣａＣＯ３ ４．５ｇ、寒天１５ｇおよび蒸留水８００ｍｌ）上、２０
℃で１６Ｌ／８Ｄサイクルで１４日間培養した。これに滅菌水を加えた後、容器
を振湯して遊走子嚢（free zoospore sacs）を菌塊（fungus mass）から剥した 後、４重ガーゼを用いてこの遊走子嚢を取り集めた。１ｘ１０5個胞子／ｍｌ濃 度の遊走子嚢懸濁液をトマト幼い苗に噴霧した。このトマト幼い苗を２０℃湿室
で２４時間保持した後、温度２０℃および相対湿度８０％以上のインキュベータ
に移して４日間保持し、培養して、トマト疫病を発病させた。第１葉と第２葉上
の移病面積率を測定して防除値を算出した。
【００９７】 試験例５：コムギ赤さび病（Wheat Leaf Rust, WLR）に対する殺菌活性 プックシニア・レコンジタ（Puccinia recondita）を実験室でコムギ上に継代
培養した。ポット（直径６．５ｃｍ）にコムギ種子１５ｇを播種し、温室で７日
間栽培して第１葉のみを有するコムギを得た。このコムギを、感染させた他のコ
ムギの胞子で接種した。接種したコムギを２０℃の湿室で２４時間保持した後、
温度２０℃および相対湿度７０％のインキュベータに移して１０日間培養してコ
ムギ赤さび病を誘発させた。第１葉上の移病面積率を測定して防除値を算出した
。
培養した。ポット（直径６．５ｃｍ）にコムギ種子１５ｇを播種し、温室で７日
間栽培して第１葉のみを有するコムギを得た。このコムギを、感染させた他のコ
ムギの胞子で接種した。接種したコムギを２０℃の湿室で２４時間保持した後、
温度２０℃および相対湿度７０％のインキュベータに移して１０日間培養してコ
ムギ赤さび病を誘発させた。第１葉上の移病面積率を測定して防除値を算出した
。
【００９８】 試験例６：ムギウドンコ病（Barley Powdery Mildew, BPM）に対する活性試験 エリシプ・グラミニス（Erysiphe graminis）を実験室で植物体上に継代培養 した。ポット（直径６．５ｃｍ）にムギ種子１５ｇを播種し、温室で７日間栽培
して第１葉期のみを有するムギを得た。ムギウドンコ病に感染された他のムギの
胞子を払ってこのムギに接種した。接種したムギを、温度２２ないし２４℃およ
び相対湿度５０％に保たれたインキュベータで７日間保持してムギウドンコ病を
誘発させた。葉に形成された移病面積率を測定して防除値を算出した。
して第１葉期のみを有するムギを得た。ムギウドンコ病に感染された他のムギの
胞子を払ってこのムギに接種した。接種したムギを、温度２２ないし２４℃およ
び相対湿度５０％に保たれたインキュベータで７日間保持してムギウドンコ病を
誘発させた。葉に形成された移病面積率を測定して防除値を算出した。
【００９９】 本発明の化合物を２５０ｐｐｍの濃度で試験例１ないし６に適用した結果、大
部分の場合９０％以上であった。
部分の場合９０％以上であった。
【０１００】 したがって、９０％以上の防除値を有するこれらの化合物を５０ｐｐｍの減少
された濃度水準でまた他の一連の試験に適用し、その結果を下記表５に示す。
された濃度水準でまた他の一連の試験に適用し、その結果を下記表５に示す。
【０１０１】
【表１９】
【０１０２】
【表２０】
【０１０３】
【表２１】
【０１０４】
【表２２】
【０１０５】 表５から分かるように、本発明の化合物は稲熱病、紋枯病、コムギ赤さび病お
よびムギウドンコ病に対して広い殺菌活性スペクトルを有する。
よびムギウドンコ病に対して広い殺菌活性スペクトルを有する。
【０１０６】 ５０ｐｐｍの水準で９０％以上の防除値（C.V.）を有する化合物に対して１０
ｐｐｍの濃度水準で試験例１、２、５および６を再度行い、その結果を表６、７
、８および９に各々示す。
ｐｐｍの濃度水準で試験例１、２、５および６を再度行い、その結果を表６、７
、８および９に各々示す。
【０１０７】
【表２３】
【０１０８】
【表２４】
【０１０９】
【表２５】
【０１１０】
【表２６】
【０１１１】 表６ないし９から分かるように、本発明の化合物は１０ｐｐｍの濃度でさえ殺
菌性植物病害を阻害するに非常に効果的である。
菌性植物病害を阻害するに非常に効果的である。
【０１１２】 本発明を前記特定態様と関連させて記述したが、添付した特許請求範囲によっ
て定義される本発明の範囲内で、当該分野の熟練者が本発明を多様に変形および
変化させ得ると認識しなければならない。
て定義される本発明の範囲内で、当該分野の熟練者が本発明を多様に変形および
変化させ得ると認識しなければならない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 313/28 Ｃ０７Ｃ 313/28 323/56 323/56 323/60 323/60 (72)発明者 キム、ブン − タエ 大韓民国、デジョン 301−120、ジュン −グ、オリュ − ドン、ナンバー 175 − １、サムスン・アパートメント 15 − 806 (72)発明者 パク、ノ・キュン 大韓民国、デジョン 302−162、ソ−グ、 ドマ ２− ドン、ナンバー 409、キュ ンナム・アパートメント 111 − 302 (72)発明者 チョイ、ギュン・ジャ 大韓民国、デジョン 305−333、 ユソン −グ、オウン − ドン、ナンバー 99、ハンビット・アパートメント 128 − 1108 (72)発明者 キム、フン − タエ 大韓民国、デジョン 302−173、ソ−グ、 ドゥンサン − ドン、ナンバー 912、 ドゥンジ・アパートメント 111 − 1403 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AA03 AB03 AC43 BJ50 BM71 BP10 GN32 GP03 4H011 AA01 AA03 BB06 BC03 BC06 BC20 DA02 DA13 DA14 DA16
Claims (5)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）の化合物またはその立体異性体： 【化１】 （式中、ＸはＣＨまたはＮであり、ＹはＯまたはＳであり、ＺはＯまたはＮＨで
あり、Ｒ１は水素またはＣＦ3であり、Ｒ2は水素、Ｃ１−１０アルキル、ナフチ
ル、チオフェニル、または任意にＣ１−６アルキル、ハロゲン−置換されたＣ１ −６ アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、フェノキシ、ハロゲンまたはメチレンジオ
キシラジカルからなる群から選ばれる一つまたは複数で置換されるフェニル基で
ある）。 - 【請求項２】 ＹがＯであり、ＺがＯであり、Ｒ１が水素であり、Ｒ２がナ
フチル、または任意にメチル、メトキシまたはハロゲンで置換されるフェニル基
である請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 ＹがＯであり、Ｒ１がＣＦ３であり、Ｒ２が任意にメチル、
メトキシまたはハロゲンで置換されるフェニル基である請求項１記載の化合物。 - 【請求項４】 （ａ）塩基の存在下で式（II）の化合物と３−ヒドロキシフ
ェノールを反応させて式（III）の化合物を得；（ｂ）塩基の存在下で式（III）
の化合物を式（IV）の化合物と反応させることを含む請求項１記載の化合物の製
造方法： 【化２】 【化３】 【化４】 （式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１およびＲ２は請求項１で定義した通りである）。 - 【請求項５】 活性成分としての請求項１に記載の化合物の殺菌効果量およ
び不活性担体を含む殺菌剤組成物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970038087A KR100240198B1 (ko) | 1997-08-09 | 1997-08-09 | 트리플루오프메틸기가 치환된 알케닐기를 갖는 신규의 프로페노 익 에스테르 및 아미드 유도체 |
| KR1997/38087 | 1997-08-09 | ||
| PCT/KR1998/000245 WO1999007665A1 (en) | 1997-08-09 | 1998-08-08 | Fungicidal compounds having a fluorovinyloxyphenyl moiety and process for the preparation thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP3280373B2 JP3280373B2 (ja) | 2002-05-13 |
Family
ID=19517184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000507202A Expired - Fee Related JP3280373B2 (ja) | 1997-08-09 | 1998-08-08 | フルオロビニルオキシフェニル残基を有する殺菌化合物およびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1003709B1 (ja) |
| JP (1) | JP3280373B2 (ja) |
| KR (1) | KR100240198B1 (ja) |
| DE (1) | DE69803776T2 (ja) |
| WO (1) | WO1999007665A1 (ja) |
Cited By (1)
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